JP3019944U - Fluorescent display tube - Google Patents

Fluorescent display tube

Info

Publication number
JP3019944U
JP3019944U JP1995006470U JP647095U JP3019944U JP 3019944 U JP3019944 U JP 3019944U JP 1995006470 U JP1995006470 U JP 1995006470U JP 647095 U JP647095 U JP 647095U JP 3019944 U JP3019944 U JP 3019944U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
insulating layer
insulating
phosphor
fluorescent display
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP1995006470U
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
裕 三浦
光明 森川
Original Assignee
伊勢電子工業株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 伊勢電子工業株式会社 filed Critical 伊勢電子工業株式会社
Priority to JP1995006470U priority Critical patent/JP3019944U/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3019944U publication Critical patent/JP3019944U/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 絶縁層のスルーホール位置合わせを不要とす
るとともに位置精度が良く、形状の良い蛍光体層を得
る。 【構成】 蛍光体層8の形成領域には第1の絶縁層13
の1層構造とし、金属電極10の形成領域には第1の絶
縁層13および第2の絶縁層15からなる2層構造と
し、第2の絶縁層15は、第1の絶縁層13のスルーホ
ール12aの開口よりも開口径の大きい開口部14aを
有して形成されている。
(57) [Abstract] [Purpose] To obtain a phosphor layer that does not require through-hole alignment of the insulating layer and has good positional accuracy and good shape. [Structure] The first insulating layer 13 is formed in the formation region of the phosphor layer 8.
Of the first insulating layer 13 and the second insulating layer 15 is a through layer of the first insulating layer 13 in the formation region of the metal electrode 10. It is formed with an opening 14a having an opening diameter larger than that of the hole 12a.

Description

【考案の詳細な説明】[Detailed description of the device]

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】[Industrial applications]

本考案は、絶縁性基板上に配線パターン,絶縁層および蛍光体層が形成された 陽極基板構造を有する蛍光表示管に係わり、特に絶縁層の積層構造に関するもの である。 The present invention relates to a fluorescent display tube having an anode substrate structure in which a wiring pattern, an insulating layer and a phosphor layer are formed on an insulating substrate, and more particularly to a laminated structure of insulating layers.

【0002】[0002]

【従来の技術】[Prior art]

図2は、従来の蛍光表示管に適用される陽極基板の構成を示す要部拡大断面図 である。図2において、ガラス基板1の表面には、薄膜状の各電極引き出し用配 線パターン2および陽極パターン3が選択的に被着形成されている。そして、こ のガラス基板1上の配線パターン2および陽極パターン3を含む表面全域には、 配線パターン2および陽極パターン3に対応する位置にそれぞれスルーホール4 a,4bを有する第1の絶縁層5およびスルーホール6a,6bを有する第2の 絶縁層7がそれぞれ上下方向のスルーホールを連通させて順次積層形成されてい る。 FIG. 2 is an enlarged sectional view of an essential part showing the structure of an anode substrate applied to a conventional fluorescent display tube. In FIG. 2, thin film electrode wiring patterns 2 and anode patterns 3 are selectively deposited on the surface of a glass substrate 1. The first insulating layer 5 having through holes 4 a and 4 b at positions corresponding to the wiring pattern 2 and the anode pattern 3 is formed on the entire surface of the glass substrate 1 including the wiring pattern 2 and the anode pattern 3. Also, the second insulating layer 7 having the through holes 6a and 6b is sequentially laminated by connecting the vertical through holes.

【0003】 また、陽極パターン3に対応する連通したスルーホール4b,6b上には蛍光 体層8が被着形成されて陽極基板9が構成されている。また、この陽極基板9の 配線パターン2に対応する連通するスルーホール4a,6a上には、例えばフィ ラメントサポートまたはグリッドなどの金属電極10が導電性ペースト11によ り接着配置されて電気的に接続されている。Further, a phosphor layer 8 is deposited on the communicating through holes 4 b and 6 b corresponding to the anode pattern 3 to form an anode substrate 9. Further, a metal electrode 10 such as a filament support or a grid is bonded and arranged by a conductive paste 11 on the through holes 4a and 6a communicating with each other corresponding to the wiring pattern 2 of the anode substrate 9 and electrically connected. It is connected.

【0004】 なお、この場合、ガラス基板1上に第1の絶縁層5および第2の絶縁層7を積 層形成する絶縁層を2層構造(または3層構造以上でも良いが)とするのは、配 線が高密度となったときに配線パターン2と接続するための連通するスルーホー ル4a,6a内に注入する導電性ペースト11が、絶縁層の全体膜厚が厚くなる とともに、ホールの深さが深くなるので、ホールの外部に余分にはみ出し、隣接 する図示しない他の配線パターンなどと接触して短絡が発生するのを防止する。In this case, the insulating layer for stacking the first insulating layer 5 and the second insulating layer 7 on the glass substrate 1 has a two-layer structure (or a three-layer structure or more). The conductive paste 11 injected into the through holes 4a and 6a communicating with each other for connection with the wiring pattern 2 when the wiring density becomes high increases the total thickness of the insulating layer and increases the thickness of the holes. Since the depth becomes deeper, it is prevented from protruding outside the hole and coming into contact with another wiring pattern (not shown) adjacent to the hole or the like to cause a short circuit.

【0005】[0005]

【考案が解決しようとする課題】[Problems to be solved by the device]

しかしながら、このように構成された陽極基板9は、絶縁層が2層以上の積層 構造で構成されるため、以下に説明するような問題があった。 第1の絶縁層5と第2の絶縁層7との積層体にそれぞれ連通して形成される 各スルーホールの上下方向の位置合わせ精度が必要であることから、製造工程が 複雑となる。 蛍光体層8の形成時、第1の絶縁層5および第2の絶縁層7の全体の膜厚が 厚いため、連通するスルーホール4b,6b内に蛍光体が十分に入らず、蛍光体 層8の形状不良を引き起こす。 However, since the anode substrate 9 configured in this way has a laminated structure of two or more insulating layers, it has the following problems. Since the vertical alignment accuracy of each through hole formed in communication with the stacked body of the first insulating layer 5 and the second insulating layer 7 is required, the manufacturing process becomes complicated. When the phosphor layer 8 is formed, the entire thickness of the first insulating layer 5 and the second insulating layer 7 is large, so the phosphor does not sufficiently enter the through holes 4b and 6b that communicate with each other, and the phosphor layer 8 causes a defective shape.

【0006】 したがって本考案は、前述した従来の課題を解決するためになされたものであ り、その目的は、絶縁層のスルーホール位置合わせを不要とするとともに位置精 度が良く、形状の良い蛍光体層が得られる蛍光表示管を提供することにある。Therefore, the present invention has been made in order to solve the above-mentioned conventional problems, and the purpose thereof is to eliminate the need for through-hole alignment of the insulating layer, and to improve the positional accuracy and shape. It is to provide a fluorescent display tube in which a phosphor layer is obtained.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】[Means for Solving the Problems]

このような目的を達成するために本考案は、絶縁性基板上に形成する絶縁層を 2層構造とし、第1層は絶縁性基板上のほぼ全面を被覆し、第2層は蛍光体層の 形成領域部以外の部分を被覆するようにしたものである。 In order to achieve such an object, the present invention has a two-layer structure of an insulating layer formed on an insulating substrate, the first layer covers almost the entire surface of the insulating substrate, and the second layer is a phosphor layer. The coating is applied to the portion other than the formation area of the.

【0008】[0008]

【作用】[Action]

本考案においては、蛍光体層の形成領域部は絶縁層が1層となるので、位置合 わせが不要となるので、蛍光体層の形状不良がなくなる。 In the present invention, since the phosphor layer forming region has only one insulating layer, no alignment is required, so that the phosphor layer does not have a defective shape.

【0009】[0009]

【実施例】【Example】

以下、図面を用いて本考案の実施例を詳細に説明する。 図1は、本考案による蛍光表示管の一実施例による構成を製造方法に基づいて 説明する陽極基板の要部断面図であり、前述した図2と同一部分には同一符号を 付してある。図1において、30×120×1.2t(m/m)に切断,洗浄さ れたガラス基板1上には、スパッタリング法にてAl薄膜を1.2μmの厚さに 成膜し、フォトエッチング法にて所定寸法の配線パターン2および陽極パターン 3が形成されている。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a sectional view of an essential part of an anode substrate for explaining a structure of an embodiment of a fluorescent display tube according to the present invention based on a manufacturing method. The same parts as those in FIG. 2 described above are designated by the same reference numerals. . In FIG. 1, an Al thin film having a thickness of 1.2 μm is formed by a sputtering method on the glass substrate 1 cut and washed to 30 × 120 × 1.2 t (m / m), and photoetching The wiring pattern 2 and the anode pattern 3 having predetermined dimensions are formed by the method.

【0010】 また、このガラス基板1上には、低融点フリットガラスと感光性液状体とを主 成分とする絶縁ペーストを全面に塗布し、乾燥した後、配線パターン2および陽 極パターン3に対応する位置にそれぞれ所定のパターンを露光,現像および焼成 を行ってスルーホール12a,12bを有する第1の絶縁層13が形成されてい る。Further, on the glass substrate 1, an insulating paste containing a low melting point frit glass and a photosensitive liquid as main components is applied over the entire surface, dried, and then applied to the wiring pattern 2 and the positive electrode pattern 3. A predetermined pattern is exposed, developed, and baked at the respective positions to form the first insulating layer 13 having the through holes 12a and 12b.

【0011】 また、第1の絶縁層13上の蛍光体層8の形成領域を除く部分で例えばフィラ メントサポートまたはグリッドなどの金属電極10の形成領域には、第1の絶縁 層13と同様な方法によりスルーホール12aに対応する位置にこのスルーホー ル12aよりも開口径の大きい開口部14aを有する第2の絶縁層15がスルー ホール12aに開口部14aを連通させて額縁状に形成されている。なお、この 開口部14aを有する第2の絶縁層15は、例えばスクリーン印刷法などにより 形成しても良い。Similar to the first insulating layer 13, the first insulating layer 13 has a region other than the region where the phosphor layer 8 is formed in a region where the metal electrode 10 such as a filament support or a grid is formed. The second insulating layer 15 having an opening 14a having a larger opening diameter than the through hole 12a is formed in a frame shape by communicating the opening 14a with the through hole 12a. . The second insulating layer 15 having the opening 14a may be formed by, for example, a screen printing method.

【0012】 また、第1の絶縁層13に形成されたスルーホール12b内に蛍光体層8の形 成を行って陽極基板9Aが構成されている。また、この陽極基板9A上の連通す るスルーホール12a,開口部14aには、例えばフィラメントサポートまたは グリッドなどの金属電極10が導電性ペースト11により接着配置され、電気的 接続されている。Further, the phosphor layer 8 is formed in the through hole 12 b formed in the first insulating layer 13 to form the anode substrate 9 A. Further, a metal electrode 10 such as a filament support or a grid is bonded and arranged by a conductive paste 11 to the through hole 12a and the opening 14a which are communicated with each other on the anode substrate 9A, and they are electrically connected.

【0013】 このような構成において、蛍光体層8の周辺部は、第1の絶縁層13のみが形 成され、その膜厚が薄くなっており、段差が小さいので、スルーホール12b内 に蛍光体が十分に進入でき、したがって蛍光体層8の形成が容易となり、形状の 良好な蛍光面が形成できる。In such a configuration, only the first insulating layer 13 is formed in the peripheral portion of the phosphor layer 8 and the thickness thereof is thin, and the step difference is small. The body can sufficiently enter, therefore the phosphor layer 8 can be easily formed, and a phosphor screen having a good shape can be formed.

【0014】 ここで、第1の絶縁層13は、焼成後、約8μm程度の厚みとなり、従来の絶 縁層の厚さ(第1の絶縁層5と第2の絶縁層7との厚さの加算値)約15μm以 上に比較して約半分に薄く形成できるので、蛍光体層8の形成が容易となり、そ の形状も良好であった。Here, the first insulating layer 13 has a thickness of about 8 μm after firing, and has a thickness of a conventional insulating layer (thickness of the first insulating layer 5 and the second insulating layer 7). (Added value) of about 15 μm or more, the phosphor layer 8 can be easily formed, and its shape is also good.

【0015】 また、このような構成において、第1の絶縁層13のスルーホール12aに連 通する第2の絶縁層15の開口部14aは、その開口径がスルーホール12aの 開口径よりも大きく形成されているので、導電性ペースト11が外部にはみ出し 難くなり、隣接する図示しない他の配線パターンなどと接触による短絡の発生を 防止することができる。Further, in such a configuration, the opening 14a of the second insulating layer 15 communicating with the through hole 12a of the first insulating layer 13 has an opening diameter larger than that of the through hole 12a. Since the conductive paste 11 is formed, it is difficult for the conductive paste 11 to protrude to the outside, and it is possible to prevent the occurrence of a short circuit due to contact with another adjacent wiring pattern (not shown).

【0016】[0016]

【考案の効果】[Effect of device]

以上、説明したように本考案によれば、蛍光体層形成領域の絶縁層の膜厚が薄 くなるので、位置精度が良く、しかも形状の良い蛍光体層が形成可能となるとい う極めて優れた効果が得られる。 また、蛍光体層の周辺部の絶縁層が1層となるので、従来のように位置合わせ が不要となり、製造工程が簡単となるなどの極めて優れた効果が得られる。 As described above, according to the present invention, since the thickness of the insulating layer in the phosphor layer forming region becomes thin, it is possible to form a phosphor layer having good positional accuracy and good shape, which is extremely excellent. The effect is obtained. Further, since the insulating layer in the peripheral portion of the phosphor layer is one layer, there is no need for alignment as in the conventional case, and extremely excellent effects such as simplification of the manufacturing process can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本考案による蛍光表示管の陽極基板の構成を
示す要部拡大断面図である。
FIG. 1 is an enlarged sectional view of an essential part showing a structure of an anode substrate of a fluorescent display tube according to the present invention.

【図2】 従来の蛍光表示管の陽極基板の構成を示す要
部拡大断面図である。
FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view of a main part showing a configuration of an anode substrate of a conventional fluorescent display tube.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…ガラス基板、2…配線パターン、3…陽極パター
ン、8…蛍光体層、9A…陽極基板、10…金属電極、
11…導電性ペースト、12a,12b…スルーホー
ル、13…第1の絶縁層、14a…開口部、15…第2
の絶縁層。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Glass substrate, 2 ... Wiring pattern, 3 ... Anode pattern, 8 ... Phosphor layer, 9A ... Anode substrate, 10 ... Metal electrode,
11 ... Conductive paste, 12a, 12b ... Through hole, 13 ... First insulating layer, 14a ... Opening, 15 ... Second
Insulation layer.

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] 【請求項1】 絶縁性基板上に配線パターン,絶縁層お
よび蛍光体層が形成された陽極基板構造を有する蛍光表
示管において、 前記絶縁層を第1層および第2層からなる2層構造と
し、前記絶縁層の第1層は前記絶縁性基板上のほぼ全面
を被覆し、前記絶縁層の第2層は前記蛍光体層の形成領
域部以外の部分を被覆することを特徴とする蛍光表示
管。
1. A fluorescent display tube having an anode substrate structure in which a wiring pattern, an insulating layer and a phosphor layer are formed on an insulating substrate, wherein the insulating layer has a two-layer structure consisting of a first layer and a second layer. A first layer of the insulating layer covers substantially the entire surface of the insulating substrate, and a second layer of the insulating layer covers a portion other than a region where the phosphor layer is formed. tube.
JP1995006470U 1995-06-28 1995-06-28 Fluorescent display tube Expired - Lifetime JP3019944U (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1995006470U JP3019944U (en) 1995-06-28 1995-06-28 Fluorescent display tube

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1995006470U JP3019944U (en) 1995-06-28 1995-06-28 Fluorescent display tube

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP3019944U true JP3019944U (en) 1996-01-12

Family

ID=43155337

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1995006470U Expired - Lifetime JP3019944U (en) 1995-06-28 1995-06-28 Fluorescent display tube

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3019944U (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3054205B2 (en) Electron-emitting device integrated substrate
CN105789218A (en) Base plate and manufacturing method thereof and display device
JP2001234385A (en) Metal mask and its producing method
JPH06260368A (en) Capacitor and shield case
JP3019944U (en) Fluorescent display tube
KR100334168B1 (en) Flat display panel
US4160310A (en) Metal-dielectric electron beam scanning stack
JP3807114B2 (en) Method for manufacturing light emitting device
JP3081528B2 (en) Photoelectric conversion device
JP3062637B2 (en) Method of manufacturing fluorescent display tube
JP3056017B2 (en) Fluorescent display tube
JP3481152B2 (en) Method of manufacturing double-sided fluorescent display tube
JP2571016B2 (en) Method of manufacturing gas discharge display panel
JPH04363092A (en) Formation of conductive layer on substrate
JP3003119B2 (en) Electrode plate for display element and method of manufacturing the same
JPH11297471A (en) Manufacture of electroluminescence element
JPS6338521Y2 (en)
JPH0620626A (en) Fluorescent character display tube
JP3436288B2 (en) Method of forming electrode structure
JP2007287426A (en) Image display device and its manufacturing method
JPS6347952A (en) Semiconductor device
JPH03104190A (en) Multi-layer wiring board and manufacture thereof
JPH09214083A (en) Printed part, and its manufacture
JPH05275010A (en) Manufacture of fluorescent display panel
JPH05251022A (en) Fluorescent character display tube