JP3019524B2 - EL - Google Patents

EL

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JP3019524B2
JP3019524B2 JP3225877A JP22587791A JP3019524B2 JP 3019524 B2 JP3019524 B2 JP 3019524B2 JP 3225877 A JP3225877 A JP 3225877A JP 22587791 A JP22587791 A JP 22587791A JP 3019524 B2 JP3019524 B2 JP 3019524B2
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metal substrate
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昭彦 吉田
章良 服部
正樹 池田
将浩 平賀
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、粉末蛍光体や蒸着蛍光
体を用いたELに関するものであり、その基板としてい
わゆるメタルコア基板を用いたもので薄型,高輝度,省
電力、であるのみならず、高強度,曲面などの種々の形
状を特徴とする平面光源に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an EL using a powdered fluorescent substance or a vapor-deposited fluorescent substance, and uses a so-called metal core substrate as its substrate. The present invention relates to a flat light source characterized by various shapes such as high intensity and a curved surface.

【0002】[0002]

【従来の技術】面光源としてのELは省電力,薄型など
の特徴を活かして種々の構成のものが考案されている。
大別すると分散型ELと薄膜ELに分類される。
2. Description of the Related Art Various types of ELs have been devised as surface light sources, taking advantage of features such as power saving and thinness.
It is roughly classified into a dispersion type EL and a thin film EL.

【0003】分散型ELは、図7の構造を有する。ガラ
ス基板や樹脂フィルム基板40とこの上のITOなどの
透明導電電極41、ZnSなどの発光体層42,誘電体
層43,銀ペーストなどの背面電極層44,樹脂カバー
45、および接着層46から構成される。分散型ELは
比較的面積の大きな面光源として非常灯やインテリア照
明など種々の分野で用いられつつある。
The dispersion type EL has a structure shown in FIG. From a glass substrate or a resin film substrate 40 and a transparent conductive electrode 41 such as ITO thereon, a light emitting layer 42 such as ZnS, a dielectric layer 43, a back electrode layer 44 such as a silver paste, a resin cover 45, and an adhesive layer 46. Be composed. Distributed EL is being used as a surface light source having a relatively large area in various fields such as an emergency light and interior lighting.

【0004】薄型ELは、ガラス基板の上に分散型EL
と同じ様な積層構造を真空蒸着法やスパッタリング法に
よって形成するもので、現在種々のディスプレイデバイ
スとして開発が進められている。
[0004] Thin EL is a dispersion type EL on a glass substrate.
A laminate structure similar to that described above is formed by a vacuum evaporation method or a sputtering method, and is currently being developed as various display devices.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】上に述べた従来のEL
は、いずれも基板にガラスや樹脂のフィルムを用いてい
るためにELデバイス単体としての機械的な強度が弱
く、用途が限られていた。耐衝撃性を保つためには補強
のために枠体やカバーを配置して用いられていた。
SUMMARY OF THE INVENTION The conventional EL described above
In each case, since the glass or resin film is used for the substrate, the mechanical strength of the EL device alone is weak, and its use is limited. In order to maintain impact resistance, a frame or a cover was used for reinforcement.

【0006】また、従来のELは、基板に平面基板を用
いるために形状がフラットなものに制限されていた。こ
のために適用範囲や面光源としての応用分野が限られた
ものであった。
In addition, the conventional EL is limited to a flat shape because a flat substrate is used as the substrate. For this reason, the applicable range and the field of application as a surface light source are limited.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記問題を解決するため
本発明におけるELは、金属基材、金属基材の上のSi
O2−B2O3−MgO−CaOの組成のガラス層、ガ
ラス層の上の発光層および発光層の上の透明導電層と透
明被覆層とから構成され、前記金属基材と前記透明導電
層とを電極としているものである。
In order to solve the above-mentioned problems, an EL according to the present invention comprises a metal substrate and a Si substrate on the metal substrate.
A glass layer having a composition of O2-B2O3-MgO-CaO, a light-emitting layer on the glass layer, a transparent conductive layer on the light-emitting layer, and a transparent covering layer, wherein the metal base and the transparent conductive layer are electrodes It is what it is.

【0008】[0008]

【作用】本発明によれば、基材に金属体を用いるために
ELデバイス単体の機械的な強度が著しく向上する。ま
たこの金属基材の形状を平面だけでなくいろいろ加工す
ることによって、単にフラットな発光面を有するEL面
光源だけでなく、曲面,球面,楕円面,波面など種々の
形状の薄型面発光光源を、その機械的な強度を保持しな
がら得ることができ、広い分野で応用が可能になる。
According to the present invention, the mechanical strength of a single EL device is significantly improved because a metal body is used for the substrate. By processing the shape of the metal substrate in addition to a flat surface, not only an EL surface light source having a flat light emitting surface but also a thin surface light source having various shapes such as a curved surface, a spherical surface, an elliptical surface, and a wave surface can be obtained. , While maintaining its mechanical strength, and can be applied in a wide range of fields.

【0009】[0009]

【実施例】以下に本発明の具体的な実施例を図面に従っ
て説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A specific embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0010】(実施例1)図1に示すような、半円面で
厚さ0.8mmのステンレス基材1の片面にガラス層2
(厚さ50μm)を形成する。ガラス層2の形成は、S
iO2−B23−MgO−CaO系のガラスの粉末をイ
ソプロピルアルコールに分散したスラリーを用いて電気
泳動電着法によってステンレス基材の表面にガラス粉末
を析出させ、引き続いて900℃で焼成することによっ
て行う。ガラス層2の表面にZnS微粉末とセルロース
とからなるペーストの曲面印刷と乾燥焼成によりZnS
層3を形成する。続いて硝酸インジウム,2エチルヘキ
サン酸スズ,アセトンの混合液の塗布焼成によってZn
S層3の上にITO層4を形成する。最後に全体をポリ
エステルフィルム5で覆い、このフィルム5とガラス層
2の端面同志を変性ポリエステル層6で接着する。ステ
ンレス基材1の端部7とITO層4からのリード部8を
電極とする。
(Example 1) As shown in FIG. 1, a glass layer 2 was formed on one surface of a stainless steel substrate 1 having a semicircular surface and a thickness of 0.8 mm.
(Thickness: 50 μm). The glass layer 2 is formed by S
iO 2 -B 2 O 3 -MgO- CaO -based powder was dispersed in isopropyl alcohol slurry of the glass to precipitate glass powder on the surface of the stainless steel substrate by electrophoretic deposition using the subsequently fired at 900 ° C. Do by doing. Cured surface printing of a paste composed of ZnS fine powder and cellulose on the surface of the glass layer 2 and drying and firing
The layer 3 is formed. Subsequently, a mixture of indium nitrate, tin 2-ethylhexanoate, and acetone was applied and baked to obtain Zn.
An ITO layer 4 is formed on the S layer 3. Finally, the whole is covered with a polyester film 5, and this film 5 and the end faces of the glass layer 2 are bonded with a modified polyester layer 6. The end 7 of the stainless steel base 1 and the lead 8 from the ITO layer 4 are used as electrodes.

【0011】(実施例2)図2に示すように、実施例1
で示したITO層4の上にガラスペーストの印刷焼成に
よって透明のオーバーコート層9を形成する。10は片
方の電極リードである。
(Embodiment 2) As shown in FIG.
A transparent overcoat layer 9 is formed on the ITO layer 4 shown by the above by printing and baking a glass paste. Reference numeral 10 denotes one electrode lead.

【0012】(実施例3)実施例1で得たZnS層3ま
での構成の上に図3に示すようにポリエステル樹脂フィ
ルム11にITO透明導電層12を有するものを、透明
導電層12がZnS層3に接触するように重ねる。ガラ
ス層と樹脂フィルムの接着は実施例1と同じ方法で行
う。
(Example 3) In addition to the structure up to the ZnS layer 3 obtained in Example 1, a polyester resin film 11 having an ITO transparent conductive layer 12 as shown in FIG. Layer so that it contacts layer 3. The bonding between the glass layer and the resin film is performed in the same manner as in Example 1.

【0013】(実施例4)図4に示すように、実施例1
で得たZnS層3の上にフッ化ビニリデンのような誘電
率の高い樹脂をバインダと混合したペーストを印刷し、
この樹脂層13が未だ乾燥固化しない内に実施例3で用
いたITO透明導電層12を有するポリエステル樹脂フ
ィルム11を圧着し、しかる後に乾燥する。
(Embodiment 4) As shown in FIG.
A paste in which a resin having a high dielectric constant such as vinylidene fluoride is mixed with a binder is printed on the ZnS layer 3 obtained in
While the resin layer 13 has not been dried and solidified yet, the polyester resin film 11 having the ITO transparent conductive layer 12 used in Example 3 is pressed and then dried.

【0014】(実施例5)図5に示すように、波型の、
ガラス層20を有する金属基材21の片面に真空蒸着法
によってZnS層22(厚さ200nm)を形成する。さ
らにSnO2層23(厚さ300nm)をスパッタリング
法により形成し表面を樹脂とバインダの混合液でコート
乾燥し、透明樹脂コート層24を形成する。25,26
は電極。
(Embodiment 5) As shown in FIG.
A ZnS layer 22 (200 nm thick) is formed on one side of a metal substrate 21 having a glass layer 20 by a vacuum evaporation method. Further, a SnO 2 layer 23 (thickness: 300 nm) is formed by a sputtering method, and the surface is coated with a mixed solution of a resin and a binder and dried to form a transparent resin coat layer 24. 25, 26
Is an electrode.

【0015】(実施例6)図6に示すように、ガラス層
30を有する金属基材31の一部分に印刷焼成法によっ
てZnS層32を形成する。ZnS層32の上に実施例
1と同じ方法でITO層33を形成しさらに印刷焼成法
によってガラスコート層34を形成し、ガラスコート層
34の上に再びITO層35を形成する。本発明者らが
既に出願した方法によってELの電極としての31と3
3、さらにITO層35を回路接続することによって平
板ELタッチパネルスイッチを完成する。
Embodiment 6 As shown in FIG. 6, a ZnS layer 32 is formed on a part of a metal substrate 31 having a glass layer 30 by a printing and firing method. An ITO layer 33 is formed on the ZnS layer 32 by the same method as in the first embodiment, a glass coat layer 34 is formed by a printing and baking method, and an ITO layer 35 is formed on the glass coat layer 34 again. According to the method already filed by the present inventors, 31 and 3 as EL electrodes are used.
3. A flat panel EL touch panel switch is completed by further connecting the ITO layer 35 to the circuit.

【0016】(比較例1)図7に示す構成の平面ガラス
基板を用いる。
Comparative Example 1 A flat glass substrate having the structure shown in FIG. 7 is used.

【0017】なお、実施例1,3,4の樹脂フィルムの
代わりに薄いガラスフィルムを用いてもよい。
It should be noted that a thin glass film may be used instead of the resin films of Examples 1, 3 and 4.

【0018】以上の実施例で作製したELの特性比較し
たものを表1にまとめた。
Table 1 summarizes the characteristics of the ELs manufactured in the above examples.

【0019】[0019]

【表1】 [Table 1]

【0020】本実施例で述べた形状は本発明の一部であ
り、用途に応じて種々の形状の機械的強度に優れた面光
源が可能になる。
The shapes described in this embodiment are a part of the present invention, and various shapes of surface light sources having excellent mechanical strength can be obtained depending on the application.

【0021】[0021]

【発明の効果】本発明によれば、種々の曲面形状の機械
的強度強度に優れた薄型のEL面光源が可能になり、建
築エレクトロニクス,電装品などの分野に広く照明器具
として展開できる。
According to the present invention, a thin EL surface light source of various curved shapes having excellent mechanical strength can be obtained, and can be widely applied as lighting equipment in the fields of architectural electronics and electric components.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例におけるELの構成図FIG. 1 is a configuration diagram of an EL according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一実施例におけるELの構成図FIG. 2 is a configuration diagram of an EL according to an embodiment of the present invention.

【図3】本発明の一実施例におけるELの構成図FIG. 3 is a configuration diagram of an EL according to an embodiment of the present invention.

【図4】本発明の一実施例におけるELの構成図FIG. 4 is a configuration diagram of an EL according to an embodiment of the present invention.

【図5】本発明の一実施例におけるELの構成図FIG. 5 is a configuration diagram of an EL according to an embodiment of the present invention.

【図6】本発明の一実施例におけるELの構成図FIG. 6 is a configuration diagram of an EL according to an embodiment of the present invention.

【図7】従来例におけるELの構成図FIG. 7 is a configuration diagram of an EL in a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ステンレス基材 2 ガラス層 3 ZnS層 4 ITO層 5 フィルム 6 変性ポリエステル層 7 ステンレス基材の端部 8 リード部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Stainless steel base material 2 Glass layer 3 ZnS layer 4 ITO layer 5 Film 6 Modified polyester layer 7 End of stainless steel base material 8 Lead part

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 平賀 将浩 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電 器産業株式会社内 (56)参考文献 特開 平2−276293(JP,A) 特開 平2−227991(JP,A) 特開 平1−187713(JP,A) 実開 昭55−109293(JP,U) 特公 昭47−41273(JP,B1) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H05B 33/00 - 33/28 H05K 3/44 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Masahiro Hiraga 1006 Kazuma, Kadoma, Osaka Prefecture Inside Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. (56) References JP-A-2-276293 (JP, A) JP-A-2 JP-A-227991 (JP, A) JP-A-1-187713 (JP, A) JP-A-55-109293 (JP, U) JP-B-47-41273 (JP, B1) (58) Fields investigated (Int. . 7, DB name) H05B 33/00 - 33/28 H05K 3/44

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 金属基材、金属基材上のSiO2−B2
O3−MgO−CaOの組成のガラス層、ガラス層の上
の発光層、発光層の上の透明導電層と透明被覆層とから
構成され、前記金属基材と前記透明導電層とを電極とす
るEL。
1. A metal substrate, SiO2-B2 on a metal substrate
A glass layer having a composition of O3-MgO-CaO, a light emitting layer on the glass layer, a transparent conductive layer and a transparent coating layer on the light emitting layer, and the metal substrate and the transparent conductive layer are electrodes. EL.
【請求項2】 発光層と透明導電層との間に透明の誘電
層を有することを特徴とする請求項1記載のEL。
2. The EL according to claim 1, further comprising a transparent dielectric layer between the light emitting layer and the transparent conductive layer.
【請求項3】 金属基材が曲面形状であることを特徴と
する請求項1記載のEL。
3. The EL according to claim 1, wherein the metal substrate has a curved shape.
【請求項4】 透明導電層と透明被覆層が有機樹脂フィ
ルムとこの上のITOのような透明導電層とから構成さ
れるものであることを特徴とする請求項1記載のEL。
4. The EL according to claim 1, wherein the transparent conductive layer and the transparent coating layer are each composed of an organic resin film and a transparent conductive layer such as ITO on the organic resin film.
【請求項5】 ガラス層の厚さが50μm以下であるこ
とを特徴とする請求項1記載のEL。
5. The EL according to claim 1, wherein the thickness of the glass layer is 50 μm or less.
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