JP3006065B2 - Silicon dioxide coated plastic molded article and method for producing the same - Google Patents

Silicon dioxide coated plastic molded article and method for producing the same

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JP3006065B2
JP3006065B2 JP2274238A JP27423890A JP3006065B2 JP 3006065 B2 JP3006065 B2 JP 3006065B2 JP 2274238 A JP2274238 A JP 2274238A JP 27423890 A JP27423890 A JP 27423890A JP 3006065 B2 JP3006065 B2 JP 3006065B2
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は表面を耐久性に優れた二酸化珪素被膜で被覆
したプラスチック成形体およびその製造方法に関する。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a plastic molded product whose surface is covered with a silicon dioxide film having excellent durability and a method for producing the same.

[従来の技術] 近年、二酸化珪素成膜方法として、低温成膜が可能
である真空系を必要としないため成膜コストが安価で
ある大面積、大量成膜が可能である等の利点から二酸
化珪素の過飽和状態の珪弗化水素酸水溶液と基材を接触
させて基材表面に二酸化珪素を形成する方法(以後、
「析出法」と略称する)が注目されている(例えば、特
開昭60−33233、特開昭62−20876)。
[Related Art] In recent years, as a silicon dioxide film forming method, there is no need for a vacuum system capable of forming a film at a low temperature. A method of forming silicon dioxide on the surface of a substrate by bringing a substrate into contact with an aqueous solution of hydrosilicofluoric acid in a supersaturated state of silicon (hereinafter, referred to as
Attention has been paid to "precipitation method" (for example, JP-A-60-33233 and JP-A-62-20876).

特にプラスチック成形体に析出法によって二酸化珪素
被膜を形成する方法に関しては、プラスチック成形体に
有機珪素化合物、それらの加水分解物を被覆硬化させて
第1次被膜とした後、析出法で第1次被膜上に二酸化珪
素被膜を形成させる方法が知られている(例えば特開昭
61−12734)。ここでは、有機珪素化合物またはそれら
の加水分解物が、プラスチック表面上に析出法によって
二酸化珪素を密着性良好かつ透明均一な膜として得るた
めのプライマーとして機能することが記載されている。
In particular, regarding a method of forming a silicon dioxide film on a plastic molded product by a deposition method, a plastic molded product is coated with an organosilicon compound or a hydrolyzate thereof and cured to form a primary film, and then a primary method is performed by a deposition method. A method of forming a silicon dioxide film on the film is known (for example,
61-12734). Here, it is described that an organosilicon compound or a hydrolyzate thereof functions as a primer for obtaining silicon dioxide as a transparent and uniform film with good adhesion by a deposition method on a plastic surface.

また、二酸化珪素被膜の密着耐久性を向上するため
に、プラスチック成形体をシリルパーオキサイド化合物
によって被覆処理した後、該シリルパーオキサイド化合
物被覆層上に析出法で二酸化珪素被膜を形成させる方法
が知られている(特開平2−88648)。これは、シリル
パーオキサイドの熱分解によって発生するフリーラジカ
ルの反応によってプライマーを介してプラスチック基板
と二酸化珪素膜の間に化学結合を形成し、二酸化珪素の
密着耐久性を向上させようとするものである。
Further, in order to improve the adhesion durability of the silicon dioxide film, a method is known in which after a plastic molded body is coated with a silyl peroxide compound, a silicon dioxide film is formed on the silyl peroxide compound coating layer by a deposition method. (JP-A-2-88648). This is to improve the adhesion durability of silicon dioxide by forming a chemical bond between the plastic substrate and the silicon dioxide film via a primer by the reaction of free radicals generated by the thermal decomposition of silyl peroxide. is there.

[発明が解決しようとする課題] しかし、上記の二酸化珪素被膜形成後に、シリルパー
オキサイドが熱分解する以上の温度で熱処理する必要が
あるため、二酸化珪素被膜にクラックが発生しやすいと
いう問題点があった。
[Problems to be Solved by the Invention] However, since the heat treatment needs to be performed at a temperature higher than the temperature at which silyl peroxide is thermally decomposed after the formation of the silicon dioxide film, there is a problem that cracks are easily generated in the silicon dioxide film. there were.

また、析出法の条件によっては、二酸化珪素被膜が得
られなかったり、得られても不均一に白濁するなどの問
題点があった。
Further, depending on the conditions of the deposition method, there was a problem that a silicon dioxide film could not be obtained, or even if it was obtained, the film was unevenly clouded.

[課題を解決するための手段] 本発明は、上記従来の問題点を解決し、プラスチック
成形体を、耐久性に優れた均一厚さの二酸化珪素被膜で
覆うことによって、プラスチックとガラスの長所を兼ね
備えた基体を製造する方法を提供するものである。
[Means for Solving the Problems] The present invention solves the above-mentioned conventional problems, and covers the advantages of plastic and glass by covering a plastic molded product with a silicon dioxide film having excellent durability and uniform thickness. It is intended to provide a method for producing a combined substrate.

本発明は、 a)プラスチック成形体、 b)一般式(I)で示されるシリルパーオキサイド化合
物の1種または2種以上の被覆層、 R1 mSi(OOR24-m (I) 式中R1は互いに同一または相異なっていてもよく、炭
素数1〜6の炭化水素基、ビニル基、メタクリロキシ
基、エポキシ基、アミノ基、メルカプト基、フッ素を有
する有機基または塩素を有する有機基を示し、R2は互い
に同一または相異なっていてもよく、アルキル基、アシ
ル基またはアリールアルキル基を示し、mは0〜2の整
数を示す。
The present invention provides: a) a plastic molded body; b) one or more coating layers of a silyl peroxide compound represented by the general formula (I); R 1 m Si (OOR 2 ) 4-m (I) R 1 may be the same or different from each other, and may be a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, a vinyl group, a methacryloxy group, an epoxy group, an amino group, a mercapto group, an organic group having fluorine or an organic group having chlorine. And R 2 may be the same or different from each other, and represents an alkyl group, an acyl group or an arylalkyl group, and m represents an integer of 0 to 2.

c)一般式(II)で示される珪素化合物の1種または2
種以上の部分加水分解物からなる、0.03〜3μmの厚み
を有する被覆層、および R3 nSi(OR44-n (II) 式中R3は互いに同一または相異なっていてもよく、炭
素数1〜6の炭化水素基、ビニル基、メタクリロキシ
基、エポキシ基、アミノ基、メルカプト基、フッ素を有
する有機基または塩素を有する有機基を示し、R4は互い
に同一または相異なっていてもよく、アルキル基、アシ
ル基またはアルコキシアルキル基を示し、nは0または
1である。
c) One or two silicon compounds represented by the general formula (II)
A coating layer composed of at least one kind of partial hydrolysate, having a thickness of 0.03 to 3 μm, and R 3 n Si (OR 4 ) 4-n (II) wherein R 3 may be the same or different from each other; A hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, a vinyl group, a methacryloxy group, an epoxy group, an amino group, a mercapto group, an organic group having fluorine or an organic group having chlorine, and R 4 may be the same or different from each other It often represents an alkyl group, an acyl group or an alkoxyalkyl group, and n is 0 or 1.

d)前記c)層に二酸化珪素の過飽和状態の珪弗化水素
酸水溶液を接触させて形成させた二酸化珪素被膜 をa)、b)、c)およびd)の順に積層してなり、前
記c)層が被覆された後でかつ前記d)層が被覆される
前に、前記シリルパーオキサイド化合物が熱分解する条
件で加熱処理されたものである二酸化珪素被覆プラスチ
ック成形体を要旨とするものである。
d) a silicon dioxide film formed by contacting the layer c) with an aqueous solution of hydrosilicofluoric acid in a supersaturated state of silicon dioxide, laminated in the order of a), b), c) and d); And g) a silicon dioxide-coated plastic molded body which has been heat-treated under the condition that the silyl peroxide compound is thermally decomposed after the layer is coated and before the layer d) is coated. is there.

以下に本発明を詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail.

本発明に使用されるプラスチック成形体としては、特
に限定されないが、例えば、ポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリカーボネー
ト、ポリメチルメタクリレート、ポリアミド、ポリアセ
タール、ポリブチレンテレフタレート、ポリフェニレン
オキサイド、ポリフェニレンスルフィド、ポリスルフォ
ン、芳香族ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリイ
ミド、ポリアクリロニトリル等の代表される熱可塑性樹
脂、エラストマー、およびそれらのポリマーブレンドか
らなる成形体、ポリジエチレングリコールビスアリルカ
ーボネート、フェノール樹脂等に代表される熱硬化性樹
脂成形体である。成形体の形状、大きさは任意である。
The plastic molded body used in the present invention is not particularly limited. Thermosetting resins represented by thermoplastic resins and elastomers represented by sulfones, aromatic polyesters, polyetherketones, polyimides, polyacrylonitriles, etc., and molded products made of polymer blends thereof, polydiethylene glycol bisallyl carbonate, phenol resins, etc. It is a resin molded article. The shape and size of the molded body are arbitrary.

本発明において、b)層の形成に用いられる一般式
(I)で示されるシリルパーオキサイド化合物として
は、ビニルトリス(t−ブチルパーオキシ)シラン、ビ
ニルトリス(キュメンパーオキシ)シラン、ビニルトリ
ス(アセチルパーオキシ)シラン、ビニルトリス(ベン
ゾイルパーオキシ)シアン、ビニルトリス(ラウロイル
パーオキシ)シラン、γ−グリシドキシプロピルトリス
(t−ブチルパーオキシ)シラン、γ−グリシドキシプ
ロピルトリス(キュメンパーオキシ)シラン、γ−グリ
シドキシプロピルトリス(アセチルパーオキシ)シラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリス(ベンゾイルパー
オキシ)シラン、γ−グリシドキシプロピルトリス(ラ
ウロイルパーオキシ)シラン、γ−メタクリロキシプロ
ピルトリス(t−ブチルパーオキシ)シラン、γ−メタ
クリロキシプロピルトリス(キュメンパーオキシ)シラ
ン、γ−メタクリロキシプロピルトリス(アセチルパー
オキシ)シラン、γ−メタクリロキシプロピルトリス
(ベンゾイルパーオキシ)シラン、γ−メタクリロキシ
プロピルトリス(ラウロイルパーオキシ)シラン、等を
挙げることができる。これらの珪素化合物は、1種を単
独で用いても、2種以上を併用してもよい。
In the present invention, the silyl peroxide compound represented by the general formula (I) used for forming the layer b) includes vinyltris (t-butylperoxy) silane, vinyltris (cumeneperoxy) silane, and vinyltris (acetylperoxy). ) Silane, vinyl tris (benzoyl peroxy) cyan, vinyl tris (lauroyl peroxy) silane, γ-glycidoxypropyl tris (t-butyl peroxy) silane, γ-glycidoxypropyl tris (cumene peroxy) silane, γ -Glycidoxypropyltris (acetylperoxy) silane, γ-glycidoxypropyltris (benzoylperoxy) silane, γ-glycidoxypropyltris (lauroylperoxy) silane, γ-methacryloxypropyltris (t- Butyl Perot B) silane, γ-methacryloxypropyltris (cumeneperoxy) silane, γ-methacryloxypropyltris (acetylperoxy) silane, γ-methacryloxypropyltris (benzoylperoxy) silane, γ-methacryloxypropyltris ( Lauroylperoxy) silane, and the like. One of these silicon compounds may be used alone, or two or more thereof may be used in combination.

また、c)層の形成に用いられる一般式(II)で示さ
れる珪素化合物としては、テトラメトキシシラン、テト
ラエトキシシラン、テトラアセトキシシラン、メチルト
リエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ビニ
ルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン、ビニルトリ
メトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−
グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタク
リロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロ
ピルトリエトキシシラン、N−(β−アミノエチル)−
γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−フルオロ
プロピルトリメトキシシラン、等が挙げられる。これら
の加水分解物とは、該一般式(II)で示される珪素化合
物中のアルコキシ基、アルコキシアルコキシ基、アセト
キシ基の一部または全部が水酸基で置換されたもの、更
に、置換された水酸基同志が一部自然に縮合されたもの
を含んでいる。これらの加水分解物は、例えば、水及び
アルコールのような混合溶媒中で酸の存在下加水分解す
ることによって容易に得ることができる。
Examples of the silicon compound represented by the general formula (II) used for forming the layer c) include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraacetoxysilane, methyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, and vinyltris (β-methoxy). Ethoxy) silane, vinyltrimethoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-
Glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N- (β-aminoethyl)-
γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-fluoropropyltrimethoxysilane, and the like. These hydrolysates include those obtained by substituting a part or all of an alkoxy group, an alkoxyalkoxy group, and an acetoxy group in a silicon compound represented by the general formula (II) with a hydroxyl group. Include some of which are naturally condensed. These hydrolysates can be easily obtained by hydrolysis in a mixed solvent such as water and alcohol in the presence of an acid.

これらの加水分解物は、1種を単独で用いても2種以
上を併用してもよいが、2種以上を併用する場合には、
一般式(II)で示される珪素化合物を2種以上混合して
共加水分解したものの使用が好ましい。
These hydrolysates may be used alone or in combination of two or more, but when two or more are used in combination,
It is preferable to use a mixture of two or more silicon compounds represented by the general formula (II) and co-hydrolyzed.

本発明においては、上記一般式(I)で示されるシリ
ルパーオキサイド化合物の1種または2種以上を各種有
機溶剤に溶解して塗布液を作成し、プラスチック成形体
に塗布、乾燥することによりb)層を形成する。シリル
パーオキサイド化合物の濃度は適宜定めることができる
が、溶液調整、塗布作業のしやすさ、所望の厚みのb)
層を得る観点からみて、通常、5〜50重量%の範囲が好
ましい。
In the present invention, a coating solution is prepared by dissolving one or more of the silyl peroxide compounds represented by the above general formula (I) in various organic solvents, applied to a plastic molded product, and dried to obtain b. ) Form a layer. The concentration of the silyl peroxide compound can be determined as appropriate, but it is necessary to adjust the solution, to facilitate the coating operation, and to obtain the desired thickness b).
From the viewpoint of obtaining a layer, usually, the range of 5 to 50% by weight is preferable.

上記b)層を形成させるためのコーティング方法とし
ては、通常行なわれている浸漬法、スピンコート法、フ
ローコート法、バーコーダー法、ドクターブレード法、
噴霧法、リバースロールコーター法、グラビアロールコ
ーター法等いずれも採用可能であり、コーティング後シ
リルパーオキサイド化合物が熱分解しない温度で乾燥し
硬化させる。
As the coating method for forming the above-mentioned b) layer, a commonly used dipping method, spin coating method, flow coating method, bar coder method, doctor blade method,
Any of a spraying method, a reverse roll coater method, a gravure roll coater method and the like can be adopted. After coating, the coating is dried and cured at a temperature at which the silyl peroxide compound does not thermally decompose.

このようにしてプラスチック成形体上に得られるb)
層の厚さは、特に限定されないが、通常、0.1〜10μ
m、好ましくは0.5〜5μm程度である。この被覆層の
厚さが過小であると、析出法によって得られる二酸化珪
素被膜の付着力が低下する傾向が現われるため適当では
ない。逆に過大であると、不経済である。
B) thus obtained on plastic moldings
The thickness of the layer is not particularly limited, but is usually 0.1 to 10 μm.
m, preferably about 0.5 to 5 μm. If the thickness of the coating layer is too small, the adhesion of the silicon dioxide film obtained by the deposition method tends to decrease, which is not appropriate. On the contrary, if it is too large, it is uneconomical.

このようにしてb)層を形成したプラスチック成形体
に前記一般式(II)で示される珪素化合物の1種または
2種以上の部分加水分解物を含む塗布液を塗布、乾燥す
ることによりc)層を形成する。ここで、c)層を形成
するのは、析出法による二酸化珪素被膜の成膜性を向上
するためである。
The coating liquid containing one or more partial hydrolysates of the silicon compound represented by the general formula (II) is applied to the plastic molded body having the layer b) formed in the above-described manner, and dried to obtain c). Form a layer. Here, the layer c) is formed in order to improve the film forming property of the silicon dioxide film by the deposition method.

c)層を形成せずにb)層だけ形成したプラスチック
成形体に析出法で二酸化珪素被覆を行なうと、所望の膜
厚みが得難く膜厚が薄くなる場合があって好ましくな
い。また、b)層のみ形成した状態で、析出法で成膜を
行なうと、二酸化珪素の過飽和状態にある珪弗化水素酸
水溶液の液面近傍に存在する二酸化珪素粒子が基板浸漬
時に基板に付着しやすく、得られる二酸化珪素被膜には
これらの粒子が取り込まれ、不均一に白濁した部分が観
察されたり、二酸化珪素被膜の膜質を低下させる原因と
なる。
When silicon dioxide coating is applied by a deposition method to a plastic molded body having only the layer b) formed without forming the layer c), it is difficult to obtain a desired film thickness and the film thickness may be reduced. Further, when the film is formed by the deposition method in a state where only the layer b) is formed, silicon dioxide particles existing near the liquid surface of the hydrosilicofluoric acid aqueous solution in a supersaturated state of silicon dioxide adhere to the substrate when the substrate is immersed. These particles are taken into the obtained silicon dioxide film, and unevenly clouded portions are observed or cause deterioration in the film quality of the silicon dioxide film.

c)層を形成させることにより、所望の膜厚みが得ら
れやすくなり、また上記の膜質低下の欠点を解決するこ
とができる。このためには上記一般式(II)で示される
珪素化合物を加水分解して使用しない限り効果はない。
By forming the layer c), a desired film thickness can be easily obtained, and the above-mentioned disadvantages of film quality deterioration can be solved. This has no effect unless the silicon compound represented by the general formula (II) is hydrolyzed and used.

また使用される塗布液が一般式(II)で示される珪素
化合物の部分加水分解物をR3 nSiO2−n/2換算にして10
-3mol/未満になると、上記の効果が低下するため適当
ではない。
The coating solution used is a partially hydrolyzed product of the silicon compound represented by the general formula (II) in terms of R 3 n SiO 2 -n / 2,
If the amount is less than -3 mol /, the above effect is reduced, so that it is not appropriate.

上記c)層を形成させるためのコーティング方法とし
ては、通常行なわれている浸漬法、スピンコート法、フ
ローコート法、バーコーダー法、ドクターブレード法、
噴霧法、リバースロールコーター法、グラビアロールコ
ーター法等いずれも採用可能である。
As the coating method for forming the above-mentioned c) layer, a commonly used dipping method, spin coating method, flow coating method, bar coder method, doctor blade method,
Any of a spraying method, a reverse roll coater method, a gravure roll coater method and the like can be employed.

このようにしてプラスチック成形体上のb)層の上に
設けるc)層の厚さは、通常、0.03〜3μm、好ましく
は0.1〜1μm程度である。この被覆層の厚さが過小で
あると、析出法によって得られる二酸化珪素被膜の付着
力が低下する傾向が現われるため適当ではない。逆に過
大であると、不経済である。
The thickness of the layer c) provided on the layer b) on the plastic molded body in this way is usually about 0.03 to 3 μm, preferably about 0.1 to 1 μm. If the thickness of the coating layer is too small, the adhesion of the silicon dioxide film obtained by the deposition method tends to decrease, which is not appropriate. On the contrary, if it is too large, it is uneconomical.

本発明において、上記得られたb)層及びc)層を形
成したプラスチック成形体に熱処理を施す。この熱処理
により、シリルパーオキサイド化合物を分解させてフリ
ーラジカルを発生させ、このフリーラジカルの作用によ
り化学結合を生じさせ、プラスチック成形体表面とc)
層とを強固に密着させる。また、この熱処理は同時に
c)層の硬化を促進させている。
In the present invention, the plastic molded body on which the b) layer and the c) layer obtained above are formed is subjected to a heat treatment. By this heat treatment, the silyl peroxide compound is decomposed to generate free radicals, and due to the action of the free radicals, a chemical bond is generated, and the surface of the plastic molded body is c).
The layer is tightly adhered. This heat treatment also promotes the curing of layer c).

熱処理温度と時間は、使用するプラスチック成形体の
熱変形温度及びシリルパーオキサイド化合物の半減期に
よって決定することができる。例えば、ポリカーボネー
トやポリアクリレートなどの場合は、90〜120℃で1〜
2時間熱処理すればよく、耐熱性の良好なポリエーテル
イミド成形体では、130〜170℃で20〜50分間熱処理すれ
ばよい。一般的には、100℃程度で1〜2時間熱処理す
れば充分である。
The heat treatment temperature and time can be determined by the heat deformation temperature of the plastic molded article used and the half-life of the silyl peroxide compound. For example, in the case of polycarbonate and polyacrylate, etc.
Heat treatment may be performed for 2 hours, and in the case of a polyetherimide molded article having good heat resistance, heat treatment may be performed at 130 to 170 ° C. for 20 to 50 minutes. Generally, heat treatment at about 100 ° C. for 1 to 2 hours is sufficient.

熱処理の方法としては、操作の容易なことから熱風乾
燥機中で加熱することが好ましい。
As a method of the heat treatment, it is preferable to heat in a hot air dryer because of easy operation.

本発明においては、加熱によりb)層及びc)層が強
固に付着したプラスチック成形体を、次いで、二酸化珪
素の過飽和状態の珪弗化水素酸水溶液と接触させて、
c)層上に二酸化珪素被膜を形成する。
In the present invention, the plastic molded body having the b) layer and the c) layer firmly adhered thereto by heating is then brought into contact with a supersaturated aqueous solution of hydrosilicofluoric acid of silicon dioxide,
c) Form a silicon dioxide coating on the layer.

二酸化珪素の過飽和状態の珪弗化水素酸水溶液(以
下、「処理液」と略称する。)としては、珪弗化水素酸
水溶液に二酸化珪素(シリカゲル、アエロジル、シリカ
ガラス、その他二酸化珪素含有物など)を溶解させた
後、水または試薬(ホウ酸、塩化アルミニウム、金属ア
ルミニウム、その他)を添加するか処理液温度を上昇さ
せる等の手段で、二酸化珪素の過飽和状態としたものが
使用される。
As an aqueous solution of hydrosilicofluoric acid in a supersaturated state of silicon dioxide (hereinafter abbreviated as “treatment liquid”), an aqueous solution of hydrosilicofluoric acid is mixed with silicon dioxide (silica gel, Aerosil, silica glass, and other substances containing silicon dioxide). ) Is dissolved, and water or a reagent (boric acid, aluminum chloride, metallic aluminum, etc.) is added, or the temperature of the processing solution is increased to make the silicon dioxide supersaturated.

本発明において、b)層及びc)層を形成したプラス
チック成形体と接触させる処理液の濃度としては、2〜
4mol/が好ましく、特に4mol/より濃い珪弗化水素酸
水溶液に二酸化珪素を飽和させた後、水で希釈して2〜
4mol/の濃度としたものが被膜形成速度が速く、効率
よく被膜形成が行えるので望ましい。
In the present invention, the concentration of the treatment liquid to be brought into contact with the plastic molded body on which the layer b) and the layer c) are formed is from 2 to
4 mol / is preferable, and in particular, after saturating silicon dioxide in an aqueous solution of hydrosilicofluoric acid at a concentration higher than 4 mol /, dilute with water to
A concentration of 4 mol / is desirable because the film formation speed is high and the film can be formed efficiently.

また、該処理液は (イ) 該成形体との接触時においても、連続的にホ
ウ酸や塩化アルミニウム等の添加剤水溶液が添加、混合
されている、アルミニウム等の金属が溶解混合されて
いる、連続的に二酸化珪素の飽和した高濃度の珪弗化
水素酸水溶液と水が添加、混合されている、温度を一
時冷却して二酸化珪素を飽和させ、その後再び温度を上
昇させる等の手段によって常時過飽和度が維持されてい
る処理液であり、 (ロ) 1分間あたり処理液全量の3%以上の処理液が
フィルターでろ過され戻される処理液である、 ことが好ましい。
In addition, the treatment liquid is (a) an additive aqueous solution such as boric acid or aluminum chloride is continuously added and mixed even at the time of contact with the molded body, and a metal such as aluminum is dissolved and mixed. A high-concentration aqueous solution of hydrosilicofluoric acid, which is continuously saturated with silicon dioxide, and water are added and mixed, and the temperature is temporarily cooled to saturate the silicon dioxide, and thereafter, the temperature is increased again. (B) It is preferable that 3% or more of the total processing liquid per minute is filtered and returned by a filter.

ここで、接触時において、連続的にホウ酸等の水溶
液を添加混合したり、アルミニウム等の金属を溶解混
合するのは、被膜の形成速度を向上させるために好まし
い。ホウ酸の場合、その添加量は、処理液中の珪弗化水
素酸1molに対して5×10-4mol/Hr〜1×10-3mol/Hrの範
囲が好ましく、また、金属アルミニウムを溶解させる場
合その溶解量は、処理液中の珪弗化水素酸1molに対して
1×10-3mol/Hr〜4×10-3mol/Hrの範囲が好ましい。
Here, at the time of contact, it is preferable to continuously add and mix an aqueous solution such as boric acid or dissolve and mix a metal such as aluminum in order to improve the film formation speed. In the case of boric acid, its addition amount is preferably in the range of 5 × 10 −4 mol / Hr to 1 × 10 −3 mol / Hr per 1 mol of hydrosilicofluoric acid in the treatment liquid. amount of dissolution when dissolving in the range of 1 × 10 -3 mol / Hr~4 × 10 -3 mol / Hr with respect hydrosilicofluoric acid 1mol in the treatment liquid is preferred.

また、3%以上の処理液を循環させることは均質な被
膜を連続的に得るために効果的であり、フィルターで処
理液をろ過することは凹凸形状のない被膜を得るために
好ましい。
Circulating a treatment liquid of 3% or more is effective for continuously obtaining a uniform coating, and filtering the treatment liquid with a filter is preferable for obtaining a coating having no irregularities.

処理液を浸漬槽に入れて該成形体と接触させる場合に
は、浸漬中の該成形体表面において該処理液が層流とな
って流れるようにすることがムラのない均質な被膜を得
るために効果的である。
When the treatment liquid is put in the immersion tank and brought into contact with the molded body, it is necessary to make the treatment liquid flow as a laminar flow on the surface of the molded body during immersion to obtain a uniform coating without unevenness. It is effective for

本発明において使用した二酸化珪素被膜製造装置の系
統図を第1図に示す。
FIG. 1 is a system diagram of a silicon dioxide film manufacturing apparatus used in the present invention.

第1図において、浸漬槽は外槽1と内槽2からなり内
槽1と外槽2の間には水3が満たしてある。この水は一
定温度になるようにヒーター4で加熱されかつ温度分布
均一化のため攪拌機5で攪拌されている。
In FIG. 1, the immersion tank comprises an outer tank 1 and an inner tank 2, and the space between the inner tank 1 and the outer tank 2 is filled with water 3. The water is heated by a heater 4 so as to have a constant temperature, and is stirred by a stirrer 5 to make the temperature distribution uniform.

内槽2は前部6、中部7、後部8からなり、各部に
は、工業用シリカゲル粉末を二酸化珪素の供給源として
二酸化珪素を溶解飽和させた所定濃度の珪弗化水素酸水
溶液6.5が満たしてある。ここで、三方コック13a、13
a′、13b、13b′を調節し、循環ポンプ12aを作動させ内
槽後部8の反応液を一定量づつくみ出してフィルター11
aでろ過し内槽6へ戻す処理液循環を開始した。
The inner tank 2 is composed of a front part 6, a middle part 7, and a rear part 8, and each part is filled with an aqueous solution of hydrosilicofluoric acid 6.5 having a predetermined concentration obtained by dissolving and saturating silicon dioxide using industrial silica gel powder as a source of silicon dioxide. It is. Here, the three-way cocks 13a, 13
a ', 13b and 13b' are adjusted, and the circulation pump 12a is operated to extract a predetermined amount of the reaction solution in the rear portion 8 of the inner tank, and the filter 11
The treatment liquid circulation which was filtered in a and returned to the inner tank 6 was started.

ここで、フィルター11aのメッシュは1.5μmであり、
反応液循環流量を520ml/分(反応液全量が6.5である
ので循環流量は約8%/分である)と設定した。
Here, the mesh of the filter 11a is 1.5 μm,
The circulation flow rate of the reaction solution was set to 520 ml / min (the circulation flow rate was about 8% / min because the total amount of the reaction solution was 6.5).

その後、縦50mm、横50mm、厚さ3mmのAl板15を3枚、
内槽後部8に浸漬し攪拌機16を作動させAl板の溶解を促
進させた。
After that, three 50 mm long, 50 mm wide, 3 mm thick Al plates 15
It was immersed in the rear part 8 of the inner tank, and the stirrer 16 was operated to accelerate the dissolution of the Al plate.

この状態で16〜30時間保持することによって反応液は
適度な二酸化珪素飽和度を有する(二酸化珪素成膜可能
な)処理液となった。
By maintaining this state for 16 to 30 hours, the reaction solution became a treatment solution having an appropriate degree of saturation of silicon dioxide (a silicon dioxide film can be formed).

反応液が二酸化珪素成膜能力を有するようになると、
反応液中でも二酸化珪素が粒子となって発生し、成長
し、やがてフィルター11aでろ過され、フィルターの目
詰まりの原因となる。Al添加後30〜50時間経過した時点
でこの傾向が見られ循環量の低下を招いた。そこで、配
管及びフィルター11a内の反応液を内槽2に戻した後、
反応液の循環を内槽後部8→フィルター11b→循環ポン
プ12a→内槽前部6となるように三方コック13a、13
a′、13b、13b′を設定し、反応液の循環を再び開始し
たところ、反応液の循環量は再び520ml/分に回復した。
ここで、フィルター11bのメッシュはフィルター11aと同
じく1.5μmである。
When the reaction liquid has the ability to form silicon dioxide,
Even in the reaction liquid, silicon dioxide is generated as particles, grows, and is eventually filtered by the filter 11a, causing clogging of the filter. This tendency was observed 30 to 50 hours after the addition of Al, leading to a decrease in the circulation amount. Therefore, after returning the reaction solution in the pipe and the filter 11a to the inner tank 2,
The three-way cocks 13a and 13 are circulated so that the reaction solution is circulated in the inner tank rear part 8 → the filter 11b → the circulation pump 12a → the inner tank front part 6.
When a ', 13b, and 13b' were set and the circulation of the reaction solution was started again, the circulation amount of the reaction solution was restored to 520 ml / min.
Here, the mesh of the filter 11b is 1.5 μm like the filter 11a.

この状態で循環ポンプ12bを作動させ、5%弗化水素
酸水溶液10が洗浄液槽9→フィルター11a→循環ポンプ1
2b→洗浄液槽9の順で循環することによって目詰まりし
たフィルター11aを洗浄再生した。
In this state, the circulation pump 12b is operated, and the 5% hydrofluoric acid aqueous solution 10 is supplied to the washing liquid tank 9 → the filter 11a → the circulation pump 1
The filter 11a clogged by circulating in the order of 2b → the washing liquid tank 9 was washed and regenerated.

以上の手順に従って、フィルターに目詰まり傾向が認
められた都度三方コック13a、13a′、13b、13b′を調節
してフィルターを切り替える操作を行ないながら、各種
珪素化合物で被覆したプラスチック成形体を内槽中部7
に所定時間浸漬することによってに二酸化珪素被膜を連
続して得ることができた。
According to the above procedure, each time the filter tends to be clogged, the three-way cocks 13a, 13a ', 13b, and 13b' are adjusted and the operation of switching the filter is performed. Chubu 7
, A silicon dioxide film could be continuously obtained.

[実施例] 以下、実施例、比較例及び参考例を挙げて本発明を詳
細に説明するが、本発明はその要旨を越えない限り、以
下の実施例に限定されるものではない。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to Examples, Comparative Examples, and Reference Examples, but the present invention is not limited to the following Examples as long as the gist is not exceeded.

実施例1〜6 ポリカーボネート平板(縦、横各100mm、厚さ1mm)
に、第1表に示す各種シリルパーオキサイド化合物のn
−ヘキサン溶液(濃度10重量%)を浸漬法で塗布し、60
℃で3分間乾燥してb)層を形成した、乾燥後のb)層
の膜厚は、いずれも約1μmであった。
Examples 1 to 6 Polycarbonate flat plate (length, width 100 mm each, thickness 1 mm)
The n of the various silyl peroxide compounds shown in Table 1
Hexane solution (concentration 10% by weight)
The layer b) was formed by drying at a temperature of 3 ° C. for 3 minutes. The thickness of the layer b) after drying was about 1 μm.

次いで、b)層を形成したポリカーボネート平板に、
第1表に示す珪素化合物の加水分解物のイソプロピルア
ルコール溶液を浸漬法で塗布しc)層を形成した後、11
0℃で1時間加熱してシリルパーオキサイド化合物を熱
分解させた。熱分解後のc)層の膜厚はいずれの場合も
約0.1μmであった。
Then, b) on the polycarbonate plate on which the layer was formed,
An isopropyl alcohol solution of a hydrolyzate of a silicon compound shown in Table 1 was applied by an immersion method to form a layer c).
By heating at 0 ° C. for 1 hour, the silyl peroxide compound was thermally decomposed. The thickness of the layer c) after the thermal decomposition was about 0.1 μm in each case.

なお、珪素化合物の加水分解物溶液は、珪素化 合物100g、蒸留水100gおよび0.1規定塩酸0.5mlを混合攪
拌し、得られた均一溶液20gを200mlのイソプロピルアル
コールに希釈して調合した。
The solution of the hydrolyzate of the silicon compound 100 g of the compound, 100 g of distilled water and 0.5 ml of 0.1 N hydrochloric acid were mixed and stirred, and 20 g of the obtained homogeneous solution was diluted with 200 ml of isopropyl alcohol to prepare a mixture.

上記、b)層、c)層をこの順に積層したポリカーボ
ネート平板を第1図に示す二酸化珪素被膜製造装置の内
槽中部7に浸漬後、80分間保持することによって二酸化
珪素被膜を作成した。
A polycarbonate flat plate having the above-mentioned layers b) and c) laminated in this order was immersed in the middle portion 7 of the inner tank of the silicon dioxide film production apparatus shown in FIG. 1 and then held for 80 minutes to form a silicon dioxide film.

なお、二酸化珪素被膜製造装置内を循環する珪弗化水
素酸水溶液の濃度は3.2mol/であり、ヒーター4を調
節して成膜時の温度が35℃となるようにした。
The concentration of the hydrofluoric acid aqueous solution circulating in the silicon dioxide film manufacturing apparatus was 3.2 mol /, and the heater 4 was adjusted so that the temperature at the time of film formation was 35 ° C.

以上のようにしてポリカーボネート平板状に透明均一
性に優れた二酸化珪素被膜が得られた。被膜の膜厚を調
べたところ約0.1μmであった。
As described above, a silicon dioxide film having excellent transparency uniformity was obtained in the form of a polycarbonate plate. When the film thickness of the film was examined, it was about 0.1 μm.

上記二酸化珪素被膜はいずれも、セロハン粘着テープ
を貼り付けて引き剥すテストでは全く剥がれない強固な
付着力を有するものであった。また、沸騰水中に1時間
浸漬したが、付着力に変化はなかった。
All of the above silicon dioxide coatings had a strong adhesive force which was not peeled off at all in a test in which a cellophane adhesive tape was applied and peeled off. Further, when immersed in boiling water for 1 hour, there was no change in the adhesive force.

実施例7〜12 プラスチック成形体としてポリエーテルイミド平板
(縦、横各100mm、厚さ1.6mm)を用い、シリルパーオキ
サイド化合物の熱分解を、150℃で30分間行なった以外
は実施例1〜4と同様にして二酸化珪素被覆ポリエーテ
ルイミド平板を得た。二酸化珪素被膜はいずれも透明均
一性に優れセロハン粘着テープを貼り付けて引き剥すテ
ストでは全く剥がれない強固な付着力を有するものであ
った。
Examples 7 to 12 Except that a polyetherimide flat plate (100 mm in length and width, 1.6 mm in thickness) was used as a plastic molded body, and the pyrolysis of a silyl peroxide compound was performed at 150 ° C. for 30 minutes. In the same manner as in Example 4, a silicon dioxide-coated polyetherimide flat plate was obtained. All of the silicon dioxide coatings were excellent in transparency and uniformity and had a strong adhesive force which was not peeled off at all in a test in which a cellophane adhesive tape was applied and peeled off.

比較例1,2 c)層を形成せず、b)層のみ形成したポリカーボネ
ート平板を用いたこと以外は実施例1〜6と同様にし
て、二酸化珪素被膜を形成した。
Comparative Examples 1 and 2 A silicon dioxide film was formed in the same manner as in Examples 1 to 6, except that a polycarbonate flat plate having only the layer b) without forming the layer c) was used.

しかし、いずれの場合も得られた二酸化珪素被膜は白
濁してムラの多いものであった。
However, in each case, the obtained silicon dioxide film was cloudy and had many irregularities.

実施例1〜6、比較例1,2の結果からc)層の形成
が、析出法による二酸化珪素被膜の均一性に好影響を与
えていることが明白である。
From the results of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 and 2, it is clear that the formation of the layer c) has a favorable effect on the uniformity of the silicon dioxide film formed by the deposition method.

比較例3 二酸化珪素被膜製造装置内を循環する珪弗化水素酸水
溶液の濃度を1.5mol/としたこと以外は、比較例1と
同様にしてb)層のみ形成したポリカーボネート平板上
に0.1μm厚の二酸化珪素被膜を形成した。
Comparative Example 3 The same procedure as in Comparative Example 1 was carried out except that the concentration of the hydrosilicofluoric acid aqueous solution circulating in the silicon dioxide film production apparatus was 1.5 mol / b. Was formed.

得られた二酸化珪素被膜は透明均一性に優れたもので
あったが、b)層を構成するシリルパーオキサイド化合
物を分解するため110℃で1時間加熱したところ、二酸
化珪素被膜全面にクラックが発生した。
Although the obtained silicon dioxide film was excellent in transparency uniformity, b) when heated at 110 ° C. for 1 hour to decompose the silyl peroxide compound constituting the layer, cracks were generated on the entire surface of the silicon dioxide film. did.

[発明の効果] 以上詳述した通り、本発明の二酸化珪素被覆プラスチ
ック成形体の製造方法は、プラスチック成形体表面に一
般式(I)で示されるシリルパーオキサイド化合物の被
覆層(b)層)、その上に一般式(II)で示される珪素
化合物の加水分解物の被覆層(c)層)を形成した後、
上記シリルパーオキサイド化合物を熱分解してb)層を
介してプラスチック基板とc)層間に化学結合を形成
し、更に、その上に該c)層と付着力良好な二酸化珪素
被膜を作成するものであって、本発明の方法によれば、 c)層の形成により析出法による二酸化珪素の成膜
性が向上し、透明で均一性に優れた二酸化珪素被膜が得
られる。
[Effects of the Invention] As described above in detail, the method for producing a silicon dioxide-coated plastic molded article of the present invention provides a method for producing a coating layer (b) of a silyl peroxide compound represented by the general formula (I) on the surface of the plastic molded article. After that, a coating layer (c) layer of a hydrolyzate of a silicon compound represented by the general formula (II) is formed thereon,
By thermally decomposing the silyl peroxide compound to form a chemical bond between the plastic substrate and the c) layer via the b) layer, and further forming a silicon dioxide film having good adhesion with the c) layer thereon. According to the method of the present invention, the formation of the layer c) improves the film forming property of silicon dioxide by the deposition method, and a transparent and uniform silicon dioxide film can be obtained.

二酸化珪素被覆後の熱処理がないので、二酸化珪素
被膜にクラックが発生しない。
Since there is no heat treatment after the silicon dioxide coating, no cracks occur in the silicon dioxide coating.

得られる二酸化珪素被膜は、緻密性に優れプラスチ
ックの持つ諸欠点(例えば、吸水性、ガス透過性、ガス
放出性)を改良することができる。
The obtained silicon dioxide film is excellent in denseness and can improve various drawbacks (for example, water absorption, gas permeability and gas release) of plastic.

等の優れた効果が奏される。And other excellent effects.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は本発明を実施するために使用した二酸化珪素被
膜製造装置の系統説明図である。 1……外槽、2……内槽、 3……水、4……ヒーター 5……攪拌機、6……内槽前部 7……内槽中部、8……内槽後部 9……洗浄液槽、10……5%HF水溶液 11……フィルター、12……循環ポンプ 13……三方コック 14……プラスチック成形体 15……Al板、16……攪拌機
FIG. 1 is a system explanatory diagram of a silicon dioxide film manufacturing apparatus used for carrying out the present invention. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Outer tank, 2 ... Inner tank, 3 ... Water, 4 ... Heater 5 ... Stirrer, 6 ... Inner tank front part 7 ... Inner tank middle part, 8 ... Inner tank rear part 9 ... Cleaning liquid Tank, 10 5% HF aqueous solution 11 Filter, 12 Circulating pump 13 Three-way cock 14 Plastic molded body 15 Al plate, 16 Stirrer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭64−38443(JP,A) 特開 平2−88648(JP,A) 特開 昭61−12734(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C08J 7/00 - 7/18 B05D 7/02 B32B 9/00 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-64-38443 (JP, A) JP-A-2-88648 (JP, A) JP-A-61-12732 (JP, A) (58) Investigation Field (Int.Cl. 7 , DB name) C08J 7 /00-7/18 B05D 7/02 B32B 9/00

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】a)プラスチック成形体、 b)一般式(I)で示されるシリルパーオキサイド化合
物の1種または2種以上の被覆層、 R1 mSi(OOR24-m (I) 式中R1は互いに同一または相異なっていてもよく、炭素
数1〜6の炭化水素基、ビニル基、メタクリロキシ基、
エポキシ基、アミノ基、メルカプト基、フッ素を有する
有機基または塩素を有する有機基を示し、R2は互いに同
一または相異なっていてもよく、アルキル基、アシル基
またはアリールアルキル基を示し、mは0〜2の整数を
示す。 c)一般式(II)で示される珪素化合物の1種または2
種以上の部分加水分解物からなる、0.03〜3μmの厚み
を有する被覆層、および R3 nSi(OR44-n (II) 式中R3は互いに同一または相異なっていてもよく、炭素
数1〜6の炭化水素基、ビニル基、メタクリロキシ基、
エポキシ基、アミノ基、メルカプト基、フッ素を有する
有機基または塩素を有する有機基を示し、R4は互いに同
一または相異なっていてもよく、アルキル基、アシル基
またはアルコキシアルキル基を示し、nは0または1で
ある。 d)前記c)層に二酸化珪素の過飽和状態の珪弗化水素
酸水溶液を接触させて形成させた二酸化珪素被膜 をa)、b)、c)およびd)の順に積層してなり、前
記c)層が被覆された後でかつ前記d)層が被覆される
前に、前記シリルパーオキサイド化合物が熱分解する条
件で加熱処理されたものである二酸化珪素被覆プラスチ
ック成形体。
A) a plastic molded article; b) one or more coating layers of a silyl peroxide compound represented by the general formula (I); R 1 m Si (OOR 2 ) 4-m (I) In the formula, R 1 may be the same or different from each other, and may be a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, a vinyl group, a methacryloxy group,
An epoxy group, an amino group, a mercapto group, an organic group having fluorine or an organic group having chlorine, R 2 may be the same or different from each other, and represents an alkyl group, an acyl group or an arylalkyl group, and m is Shows an integer of 0 to 2. c) One or two silicon compounds represented by the general formula (II)
A coating layer composed of at least one kind of partial hydrolysate, having a thickness of 0.03 to 3 μm, and R 3 n Si (OR 4 ) 4-n (II) wherein R 3 may be the same or different from each other; A hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, a vinyl group, a methacryloxy group,
An epoxy group, an amino group, a mercapto group, an organic group having fluorine or an organic group having chlorine, R 4 may be the same or different from each other, and represents an alkyl group, an acyl group or an alkoxyalkyl group, and n is It is 0 or 1. d) a silicon dioxide film formed by contacting the layer c) with an aqueous solution of hydrosilicofluoric acid in a supersaturated state of silicon dioxide, laminated in the order of a), b), c) and d); A) a silicon dioxide-coated plastic molded body that has been heat-treated under conditions where the silyl peroxide compound is thermally decomposed after the layer is coated and before the layer d) is coated.
【請求項2】a)プラスチック成形体 の表面に b)一般式(I) R1 mSi(OOR24-m (I) 式中R1は互いに同一または相異なっていてもよく、炭素
数1〜6の炭化水素基、ビニル基、メタクリロキシ基、
エポキシ基、アミノ基、メルカプト基、フッ素を有する
有機基または塩素を有する有機基を示し、R2は互いに同
一または相異なっていてもよく、アルキル基、アシル基
またはアリールアルキル基を示し、mは0〜2の整数を
示す。 で示されるシリルパーオキサイド化合物の1種または2
種以上の被覆層を形成し、 c)一般式(II) R3 nSi(OR44-n (II) 式中R3は互いに同一または相異なっていてもよく、炭素
数1〜6の炭化水素基、ビニル基、メタクリロキシ基、
エポキシ基、アミノ基、メルカプト基、フッ素を有する
有機基まは塩素を有する有機基を示し、R4は互いに同一
または相異なっていてもよく、アルキル基、アシル基ま
たはアルコキシアルキル基を示し、nは0または1であ
る。 で示される珪素化合物の1種または2種以上の部分加水
分解物の層を前記b)層上に形成した後、前記シリルパ
ーオキサイド化合物が熱分解する条件で加熱処理し、次
いで d)二酸化珪素が過飽和状態であり、2〜4モル/lの濃
度を有する珪弗化水素酸水溶液を前記c)層に接触させ
て、その上に二酸化珪素被膜を形成することを含む請求
項1記載の二酸化珪素被覆プラスチック成形体を製造す
る方法。
A) on the surface of a plastic molded body; b) R 1 m Si (OOR 2 ) 4-m of the general formula (I) wherein R 1 may be the same or different from each other; A hydrocarbon group of a number 1 to 6, a vinyl group, a methacryloxy group,
An epoxy group, an amino group, a mercapto group, an organic group having fluorine or an organic group having chlorine, R 2 may be the same or different from each other, and represents an alkyl group, an acyl group or an arylalkyl group, and m is Shows an integer of 0 to 2. One or two silyl peroxide compounds represented by
And c) a general formula (II) R 3 n Si (OR 4 ) 4-n (II) wherein R 3 may be the same or different from each other and have 1 to 6 carbon atoms. Hydrocarbon group, vinyl group, methacryloxy group,
An epoxy group, an amino group, a mercapto group, an organic group having fluorine or an organic group having chlorine, R 4 may be the same or different from each other, and represents an alkyl group, an acyl group or an alkoxyalkyl group, and n Is 0 or 1. Forming a layer of one or more partial hydrolysates of a silicon compound represented by the formula (b) on the layer (b), followed by a heat treatment under the condition that the silyl peroxide compound is thermally decomposed; 2. The method of claim 1 wherein said step (c) is supersaturated and comprises contacting said aqueous solution of hydrofluoric acid having a concentration of 2-4 mol / l with said layer c) to form a silicon dioxide coating thereon. A method for producing a silicon-coated plastic molded body.
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