JP2999317B2 - Reflective color liquid crystal display - Google Patents

Reflective color liquid crystal display

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JP2999317B2
JP2999317B2 JP3343581A JP34358191A JP2999317B2 JP 2999317 B2 JP2999317 B2 JP 2999317B2 JP 3343581 A JP3343581 A JP 3343581A JP 34358191 A JP34358191 A JP 34358191A JP 2999317 B2 JP2999317 B2 JP 2999317B2
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伸一 小川
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、反射型カラー液晶表示
装置に関し、特に蛍光色素を添加した透明樹脂から成る
蛍光層を反射電極上に形成した反射型カラー液晶表示装
置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a reflection type color liquid crystal display, and more particularly to a reflection type color liquid crystal display in which a fluorescent layer made of a transparent resin to which a fluorescent dye is added is formed on a reflection electrode.

【0002】[0002]

【従来の技術】最近、ワードプロセッサ、ラップトップ
型パーソナルコンピュータなどのOA機器やポケットテ
レビなどへの液晶表示装置の応用が急速に進展してい
る。特に、周囲光を利用して新たにバックライトを用い
ない反射型液晶表示装置は消費電力が少なく、薄型・軽
量化の可能性があるということから注目されてきてい
る。
2. Description of the Related Art In recent years, applications of liquid crystal display devices to OA equipment such as word processors and laptop personal computers and pocket televisions have been rapidly advancing. In particular, a reflection type liquid crystal display device that uses ambient light and does not newly use a backlight has attracted attention because of its low power consumption and the possibility of reduction in thickness and weight.

【0003】従来から反射型液晶表示装置には、ツイス
テッドネマティック(TN)方式およびスーパーツイス
テッドネマティック(STN)方式が採用されている
が、これらの方式では偏光板を使用することによって偏
光板で入射光の約半分がカットされ、これが有効に表示
に寄与しないことになり、表示が暗くなるという問題が
ある。
Conventionally, a reflection type liquid crystal display device employs a twisted nematic (TN) system and a super twisted nematic (STN) system. In these systems, a polarizing plate is used so that incident light is incident on the polarizing plate. Is cut off, which does not effectively contribute to the display, and there is a problem that the display becomes dark.

【0004】このような問題に対して偏光板を用いるこ
となく入射光のすべてを有効に利用しようとする表示モ
ードが提案されている。このようなモードの例として相
転移型ゲストホスト・モードがある(D.L.White and G.
N.Taylor:J.Appl.Phys.,45.P.4718,1974)。このモード
では電界によるコレステリック・ネマティック相転移現
象が利用されている。
To solve such a problem, there has been proposed a display mode in which all incident light is effectively used without using a polarizing plate. An example of such a mode is the phase-transition guest-host mode (DL White and G.
N. Taylor: J. Appl. Phys., 45.P. 4718, 1974). In this mode, a cholesteric-nematic phase transition phenomenon caused by an electric field is used.

【0005】さらにこの方式にマイクロカラーフィルタ
を組合わせた反射型マルチカラーフィルタ液晶表示装置
もある(T.Ucida et al:Japan Display,P.312,1986)。
これは図5に示すように、一方基板9はガラス基板8と
透明電極19とカラーフィルタ12とから成り、TFT
(薄膜トランジスタ)が形成される他方基板10はガラ
ス基板1と第1絶縁層3と凹凸を有する第2絶縁層17
と反射電極18とから成る。また両基板9,10間には
液晶15が封入されている。
[0005] There is also a reflection type multi-color filter liquid crystal display device in which a micro color filter is combined with this method (T. Ucida et al: Japan Display, P.312, 1986).
As shown in FIG. 5, the substrate 9 comprises a glass substrate 8, a transparent electrode 19 and a color filter 12, and a TFT
The other substrate 10 on which the (thin film transistor) is formed is a glass substrate 1, a first insulating layer 3, and a second insulating layer 17 having irregularities.
And the reflection electrode 18. A liquid crystal 15 is sealed between the substrates 9 and 10.

【0006】この方式では、カラーフィルタ12と反射
電極18とを別々の基板(図5ではカラーフィルタ12
を一方基板9、反射電極18をTFT側基板10)に設
け、反射電極18に凹凸を形成することによって、カラ
ーフィルタ12での散乱を減少させ垂直方向への光の強
度を増加し、表示面をより明るくするというものであ
る。
In this method, the color filter 12 and the reflection electrode 18 are provided on separate substrates (in FIG.
The substrate 9 and the reflective electrode 18 are provided on the TFT-side substrate 10), and irregularities are formed on the reflective electrode 18 to reduce scattering on the color filter 12, increase the intensity of light in the vertical direction, and increase the display surface. Is to make it brighter.

【0007】またTFT11は、ゲート電極2、第1絶
縁層3、非晶質シリコンから成る半導体層4、その上に
2分割して形成されるリンをドープしたシリコンから成
るコンタクト電極5、さらにその上に積層されたソース
電極6およびドレイン電極7から構成され、スイッチン
グ素子の機能を有する。
The TFT 11 has a gate electrode 2, a first insulating layer 3, a semiconductor layer 4 made of amorphous silicon, a contact electrode 5 made of phosphorus-doped silicon formed on the semiconductor layer 4, and furthermore, It is composed of a source electrode 6 and a drain electrode 7 stacked on each other, and has a function of a switching element.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述の
図5に示される構造では、バックライトを用いない反射
型カラー液晶表示装置としてはまだ表示が暗く、さらに
明るくするための手段として反射板の材料や反射板の表
面形状の改良、カラーフィルタと反射板との相互位置関
係の改善、ガラス基板表面での反射を少なくするための
ガラス基板表面に反射防止膜を形成するなどされてきた
が、これらによってもまだ十分ではない。
However, in the structure shown in FIG. 5 described above, the display is still dark as a reflection type color liquid crystal display device using no backlight, and the material of the reflection plate is used as a means for further increasing the brightness. And the surface shape of the reflection plate, the mutual positional relationship between the color filter and the reflection plate, and the formation of an anti-reflection film on the glass substrate surface to reduce the reflection on the glass substrate surface, etc. Is still not enough.

【0009】本発明の目的は、上述の問題を解決し、表
示面の明るい反射型カラー液晶表示装置を提供すること
である。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems and to provide a reflective color liquid crystal display device having a bright display surface.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明は、液晶層を介在
して対向配置される一対の透明基板のうち、一方の基板
の液晶層側に、他方の基板側からの入射光を反射する反
射電極が形成された反射型カラー液晶表示装置におい
て、透明な樹脂中に蛍光色素が添加された透明な蛍光層
を前記反射電極上に形成し、前記蛍光色素は紫外域の光
を吸収し、可視域の蛍光を発することを特徴とする反射
型カラー液晶表示装置である。
According to the present invention, of a pair of transparent substrates disposed to face each other with a liquid crystal layer interposed therebetween, one of the substrates reflects an incident light from the other substrate side to the liquid crystal layer side. In a reflective color liquid crystal display device in which a reflective electrode is formed, a transparent fluorescent layer in which a fluorescent dye is added to a transparent resin is formed on the reflective electrode, and the fluorescent dye absorbs ultraviolet light. A reflective type color liquid crystal display device that emits fluorescent light in a visible region.

【0011】[0011]

【0012】また本発明は、前記液晶表示装置がその各
々の絵素に薄膜トランジスタなどの非線形素子が付加さ
れたアクティブマトリックス型であることを特徴とす
る。
The present invention is also characterized in that the liquid crystal display device is an active matrix type in which a non-linear element such as a thin film transistor is added to each picture element.

【0013】また本発明は、前記一方の基板上の前記反
射電極上に、前記蛍光層が形成され、それに対向する前
記他方の基板上に赤、緑、青から成るモザイクカラーフ
ィルタが形成されることを特徴とする。
In the present invention, the fluorescent layer is formed on the reflective electrode on the one substrate, and a mosaic color filter made of red, green, and blue is formed on the other substrate opposed to the fluorescent layer. It is characterized by the following.

【0014】また本発明は、前記非線形素子は、薄膜ト
ランジスタであり、前記一方基板上で、ドレイン電極を
含む前記非線形素子上およびその非線形素子が形成され
ていない残余の領域上にわたる全面に絶縁層が形成さ
れ、この絶縁層に設けられるスルーホールを介して絵素
電極である反射電極とドレイン電極とが接続されること
を特徴とする。
Further, according to the present invention, the nonlinear element is a thin film transistor, and an insulating layer is formed on the entire surface of the one substrate over the nonlinear element including a drain electrode and over a remaining region where the nonlinear element is not formed. The reflective electrode, which is a picture element electrode, is connected to the drain electrode through a through hole provided in the insulating layer.

【0015】[0015]

【作用】本発明に従えば、反射型カラー液晶表示装置に
おいて、反射電極上に蛍光層を形成することによって、
これまで表示に寄与しなかった紫外域の光を可視域の蛍
光に変えて有効に利用し、さらにTFTなどのアクティ
ブ素子と組合わせることによって、明るく表示コントラ
ストの優れた反射型カラー液晶表示素子を得ることがで
きる。
According to the present invention, in a reflective type color liquid crystal display device, by forming a fluorescent layer on a reflective electrode,
By effectively converting ultraviolet light that has not contributed to display to visible light in the visible region and combining it with an active device such as a TFT, a reflective color liquid crystal display device with excellent display contrast is obtained. Obtainable.

【0016】[0016]

【実施例】以下実施例でもって、本発明に係る反射型カ
ラー液晶表示装置をより具体的に説明する。
EXAMPLES The reflective color liquid crystal display device according to the present invention will be described more specifically with reference to the following examples.

【0017】実施例1 図1は本発明の一実施例である反射型カラー液晶表位装
置30の断面図であり、図2は図1に示されるTFT側
基板26の反射電極43の一部と蛍光層44を除去した
平面図である。本実施例では、TFT側基板26の1つ
1つの絵素にTFTなどのアクティブマトリックス素子
が付加されており、それに対向する対向側基板27との
間に液晶49が封入されている。ガラスなどから成る絶
縁性の基板31上に、クロム、タンタル等から成る複数
のゲートバス配線32が互いに平行に設けられ、ゲート
バス配線32からはゲート電極33が分岐している。ゲ
ートバス配線32は走査線として機能している。
Embodiment 1 FIG. 1 is a sectional view of a reflective type color liquid crystal display device 30 according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a part of a reflective electrode 43 of the TFT-side substrate 26 shown in FIG. FIG. 4 is a plan view in which the fluorescent layer 44 is removed. In this embodiment, an active matrix element such as a TFT is added to each picture element of the TFT-side substrate 26, and a liquid crystal 49 is sealed between the TFT and the opposing substrate 27. A plurality of gate bus lines 32 made of chromium, tantalum, or the like are provided in parallel on an insulating substrate 31 made of glass or the like, and a gate electrode 33 branches from the gate bus line 32. The gate bus wiring 32 functions as a scanning line.

【0018】ゲート電極3を覆って基板31上の全面
に、窒化シリコン(SiNx)、酸化シリコン(Si
x)等から成るゲート絶縁膜34が形成されている。
ゲート電極33の上方のゲートバス絶縁膜34上には、
非晶質シリコン(a−Si)から成る半導体層35が形
成されている。半導体層35の上方にはエッチストッパ
(ES)層42を挟んでリンをドープした非晶質シリコ
ンから成るコンタクト電極41が形成されている。一方
のコンタクト電極41上にはチタン、モリブデン、アル
ミニウム等から成るソース電極36が重畳形成され、他
方のコンタクト電極41上には、ソース電極36と同様
にチタン、モリブデン、アルミニウム等から成るドレイ
ン電極37が重畳形成されている。
The silicon nitride (SiN x ), silicon oxide (Si)
The gate insulating film 34 consisting of O x) or the like is formed.
On the gate bus insulating film 34 above the gate electrode 33,
A semiconductor layer 35 made of amorphous silicon (a-Si) is formed. Above the semiconductor layer 35, a contact electrode 41 made of phosphorus-doped amorphous silicon is formed with an etch stopper (ES) layer 42 interposed therebetween. On one contact electrode 41, a source electrode 36 made of titanium, molybdenum, aluminum, or the like is superposed, and on the other contact electrode 41, a drain electrode 37 made of titanium, molybdenum, aluminum, or the like is formed, similarly to the source electrode 36. Are superimposed.

【0019】図2に示すようにソース電極36には、ゲ
ートバス配線32に前述のゲート絶縁膜34を挟んで交
差するソースバス配線39が接続されている。ソースバ
ス配線39は、信号線として機能している。ソースバス
配線39も、ソース電極36と同様の金属で形成されて
いる。ゲート電極33、ゲート絶縁膜34、半導体層3
5、ES層42、ソース電極36およびドレイン電極3
7はTFT40を構成し、該TFT40は、スイッチン
グ素子の機能を有する。
As shown in FIG. 2, the source electrode 36 is connected to a source bus line 39 which intersects the gate bus line 32 with the gate insulating film 34 interposed therebetween. The source bus wiring 39 functions as a signal line. The source bus wiring 39 is also formed of the same metal as the source electrode 36. Gate electrode 33, gate insulating film 34, semiconductor layer 3
5, ES layer 42, source electrode 36 and drain electrode 3
Reference numeral 7 denotes a TFT 40, which has a function of a switching element.

【0020】アルミニウム、銀などから成る反射電極4
3は、1つ1つの絵素に相当する領域38上に形成され
絵素電極を兼ね、さらにその表面は、ゲートバス配線3
2、ソースバス配線39およびES層42上も含めて、
蛍光色素が添加された透明樹脂から成る蛍光層44で覆
われる。
Reflective electrode 4 made of aluminum, silver, etc.
3 is formed on a region 38 corresponding to each picture element and also serves as a picture element electrode.
2. Including the source bus wiring 39 and the ES layer 42,
It is covered with a fluorescent layer 44 made of a transparent resin to which a fluorescent dye has been added.

【0021】液晶49を挟んで対向する対向側基板27
は、ガラスなどから成る透明基板45、その表面のほぼ
全面に形成されるインジウム−スズ酸化物(ITO)か
ら成る透明な対向電極47、さらにその表面に形成され
るカラーフィルタ46から構成される。
The opposing substrate 27 opposing the liquid crystal 49 therebetween.
Comprises a transparent substrate 45 made of glass or the like, a transparent counter electrode 47 made of indium-tin oxide (ITO) formed on almost the entire surface thereof, and a color filter 46 formed on the surface thereof.

【0022】入射光20は対向側基板27から入射し
て、ガラス基板45、対向電極47、カラーフィルタ4
6、液晶49を通過して、TFT側基板26に到達す
る。ここでは、先ず蛍光層44によって、紫外光の一部
が吸収される。蛍光層44で吸収されなかった光は反射
電極43で反射され、さらに蛍光層44で紫外光の一部
が吸収される。入射時と反射時に蛍光層44で吸収され
た紫外光は可視光に変換されて、反射光21とともに、
液晶49、カラーフィルタ46、対向電極47、ガラス
基板45を通過して表示面に出射する。
The incident light 20 enters from the opposing substrate 27, and the glass substrate 45, the opposing electrode 47, the color filter 4
6. The light passes through the liquid crystal 49 and reaches the TFT-side substrate 26. Here, first, a part of the ultraviolet light is absorbed by the fluorescent layer 44. Light not absorbed by the fluorescent layer 44 is reflected by the reflective electrode 43, and a part of the ultraviolet light is absorbed by the fluorescent layer 44. The ultraviolet light absorbed by the fluorescent layer 44 at the time of incidence and reflection is converted into visible light, and together with the reflected light 21,
The light passes through the liquid crystal 49, the color filter 46, the counter electrode 47, and the glass substrate 45, and is emitted to the display surface.

【0023】蛍光色素としてはチオフラビン、ブリリア
ントスルホフラビン、ブリリアントイエロー、フルオロ
ールグリーンゴールド、ローダミンB、ローダミン6G
CP、フルオレッセイン、エオシンなどを単独であるい
はこれらを数種類組合わせて用いる。
As fluorescent dyes, thioflavin, brilliant sulfoflavin, brilliant yellow, fluorol green gold, rhodamine B, rhodamine 6G
CP, fluorescein, eosin and the like are used alone or in combination of several kinds.

【0024】次に本実施例の反射型カラー液晶表示装置
の製造方法について簡単に説明する。TFT側基板26
上に従来技術で用いている方法で、ソース電極36とド
レイン電極37までを形成する。その上に領域38上に
反射電極43を形成する。反射電極43は絵素電極を兼
用しているので、反射電極43には高反射率のアルミニ
ウムや銀が用いられる。本実施例ではアルミニウムを用
いた。反射電極43の上には、ゲートバス配線32、ソ
ースバス配線39およびES層42上も含めて蛍光層4
4を形成する。蛍光層に用いる蛍光色素として本実施例
では「PCホワイト3P」(日本化薬(株)製)を0.
1〜1重量%、熱硬化性樹脂「OCMX−2」(日本化
薬(株)製)に溶解させ、反射電極43上にスピンナを
用いて膜厚2〜3μmに塗布した後、170℃で2時間
焼成した。
Next, a brief description will be given of a method of manufacturing the reflection type color liquid crystal display device of this embodiment. TFT side substrate 26
The source electrode 36 and the drain electrode 37 are formed by the method used in the prior art. The reflective electrode 43 is formed on the region 38 thereon. Since the reflection electrode 43 also serves as a pixel electrode, aluminum or silver having high reflectivity is used for the reflection electrode 43. In this embodiment, aluminum was used. On the reflection electrode 43, the fluorescent layer 4 including the gate bus wiring 32, the source bus wiring 39, and the ES layer 42 is formed.
4 is formed. In this embodiment, "PC White 3P" (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) is used as a fluorescent dye used in the fluorescent layer.
1 to 1% by weight, dissolved in a thermosetting resin "OCMX-2" (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), applied to the reflective electrode 43 to a thickness of 2 to 3 [mu] m using a spinner, and then heated at 170 [deg.] C. It was baked for 2 hours.

【0025】また対向側基板27は、ガラス基板45上
に従来技術で用いられている方法で対向電極47を形成
した後、1つ1つの絵素領域に対応して、赤、緑、青か
ら成るモザイクカラーフィルタ46を形成する。カラー
フィルタの形成方法としては、ゼラチン染色法、顔料分
散法、電着法、印刷法または蒸着法が上げられる。本実
施例ではゼラチン染色法を用いた。反射型カラー液晶表
示装置の場合は、明るさの点からカラーフィルタの色を
薄くし、色濃度を下げる必要がある。上記によって製造
したTFT側基板26と対向側基板27との上にポリイ
ミドなどの配向膜(図示せず)を形成し、ラビング処理
した後、これを貼合わせ、液晶49を注入し、反射型カ
ラー液晶表示装置を完成する。
After forming the counter electrode 47 on the glass substrate 45 by the method used in the prior art on the glass substrate 45, the counter substrate 27 is changed from red, green and blue to correspond to each picture element region. Is formed. Examples of a method for forming a color filter include a gelatin dyeing method, a pigment dispersion method, an electrodeposition method, a printing method, and a vapor deposition method. In this example, a gelatin staining method was used. In the case of a reflection type color liquid crystal display device, it is necessary to reduce the color density and the color density of the color filter in terms of brightness. An alignment film (not shown) of polyimide or the like is formed on the TFT-side substrate 26 and the opposite-side substrate 27 manufactured as described above. Complete the liquid crystal display device.

【0026】以上のように本実施例によれば、従来では
表示に寄与しなかった紫外光を可視光に変換して表示光
として利用することができ、バックライトを用いること
なく、明るい表示を実施することができる。
As described above, according to the present embodiment, ultraviolet light, which has not conventionally contributed to display, can be converted into visible light and used as display light, and bright display can be achieved without using a backlight. Can be implemented.

【0027】実施例2 図3は本発明の他の実施例である反射型カラー液晶表示
装置50の断面図である。
Embodiment 2 FIG. 3 is a sectional view of a reflection type color liquid crystal display device 50 according to another embodiment of the present invention.

【0028】本実施例ではTFT側基板51のガラス基
板58上に透明な絵素電極54、その上にカラーフィル
タ53を形成し、対向側基板52のガラス基板59上に
反射電極55、その上に蛍光層56を形成する。TFT
40の構成は、実施例1の構成に類似し、対応する部分
には同一の参照符を付す。絵素電極54の上に、カラー
フィルタ53を形成するのは、反射電極55上にカラー
フィルタ53を形成するとカラーフィルタ表面での散乱
が大きくなるからであり、このためにカラーフィルタと
反射電極とを別々の基板上に設ける必要がある。本実施
例ではTFTのドレイン電極37に接続された透明な絵
素電極54上に、赤、緑、青から成るモザイクカラーフ
ィルタ53を形成する。
In this embodiment, a transparent picture element electrode 54 is formed on a glass substrate 58 of a TFT side substrate 51 and a color filter 53 is formed thereon, and a reflection electrode 55 is formed on a glass substrate 59 of an opposite side substrate 52. Next, a fluorescent layer 56 is formed. TFT
The configuration of 40 is similar to the configuration of the first embodiment, and corresponding parts are denoted by the same reference numerals. The color filter 53 is formed on the pixel electrode 54 because the scattering on the color filter surface increases when the color filter 53 is formed on the reflective electrode 55. Must be provided on separate substrates. In this embodiment, a mosaic color filter 53 composed of red, green and blue is formed on a transparent picture element electrode 54 connected to the drain electrode 37 of the TFT.

【0029】一方、対向基板52のガラス基板59上に
は、本実施例ではアルミニウムから成る反射電極55を
形成し、その上に蛍光物質の一種である「ローダミン6
GCP」を熱硬化性樹脂の中に均一に分散させ、スピン
ナによって塗布して焼成硬化して蛍光層56を形成し
た。
On the other hand, a reflective electrode 55 made of aluminum in this embodiment is formed on a glass substrate 59 of the opposing substrate 52, and "rhodamine 6" which is a kind of fluorescent substance is formed thereon.
“GCP” was uniformly dispersed in a thermosetting resin, applied by a spinner, baked and cured to form a fluorescent layer 56.

【0030】入射光20は、TFT側基板51から入射
して、ガラス基板58、ゲート絶縁膜34、絵素電極5
4、カラーフィル53、液晶49を通過して、対向側基
板52に到達する。ここでは先ず蛍光層56によって紫
外線の一部が吸収される。蛍光層56で吸収されなかっ
た光は反射電極55で反射され、さらに蛍光層56で紫
外光の一部が吸収される。入射時と反射時に蛍光層56
で吸収された紫外光は、可視光に変換されて、液晶4
9、カラーフィルタ53、絵素電極54、ゲート絶縁膜
34、ガラス基板58を通過して反射光21に混ざって
表示面に出射する。
The incident light 20 enters from the TFT-side substrate 51, and the glass substrate 58, the gate insulating film 34, the pixel electrode 5
4. The light passes through the color filter 53 and the liquid crystal 49 and reaches the opposing substrate 52. Here, first, a part of the ultraviolet light is absorbed by the fluorescent layer 56. Light not absorbed by the fluorescent layer 56 is reflected by the reflective electrode 55, and a part of the ultraviolet light is absorbed by the fluorescent layer 56. The fluorescent layer 56 at the time of incidence and reflection
The ultraviolet light absorbed by the liquid crystal is converted into visible light,
9, the light passes through the color filter 53, the pixel electrode 54, the gate insulating film 34, and the glass substrate 58, and is mixed with the reflected light 21 and emitted to the display surface.

【0031】実施例3 図4は本発明のさらに他の実施例である反射型カラー液
晶表示装置60の断面図である。
Embodiment 3 FIG. 4 is a sectional view of a reflection type color liquid crystal display device 60 according to still another embodiment of the present invention.

【0032】本実施例では、実施例1と同じくTFT側
基板61のガラス基板68上に反射電極65、その上に
蛍光層66を形成し、対向側基板62のガラス板69上
に透明な対向電極64、その上にカラーフィルタ63を
形成する。TFT40の構成は、実施例1の構成に類似
し、対応する部分には同一の参照符を付す。
In this embodiment, as in the first embodiment, a reflective electrode 65 is formed on a glass substrate 68 of a TFT-side substrate 61, and a fluorescent layer 66 is formed thereon, and a transparent counter electrode is formed on a glass plate 69 of a counter-side substrate 62. An electrode 64 and a color filter 63 are formed thereon. The configuration of the TFT 40 is similar to the configuration of the first embodiment, and corresponding portions are denoted by the same reference numerals.

【0033】本実施例では、絶縁膜67でTFT40が
形成された上面を全部覆い、こうしてドレイン電極37
を含むTFT40上およびそのTFT40が形成されて
いない残余の領域上にわたる全面に絶縁膜67が形成さ
れる。この絶縁膜67の膜厚は5000〜8000Åで
あり、材質は酸化膜などの無機材料またはポリイミド樹
脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂などの有機材料がよ
い。特にアクリル樹脂が好ましい。絶縁膜67の一部に
ドライエッチまたはウェットエッチによってスルーホー
ル70を穿ち、スルーホール70によってドレイン電極
37の一部を露出させる。その後、アルミニウムなどの
反射電極65の層を全面に形成して、スルーホール部分
によって反射電極65とドレイン電極37とを接続し、
反射電極65を絵素電極としてのパターン化を行う。さ
らに反射電極65の上に、蛍光色素の一種である「チオ
フラビン」を熱硬化性樹脂中に均一に分散させスピンナ
によって塗布して焼成硬化して、蛍光層66を形成し
た。
In this embodiment, the insulating film 67 covers the entire upper surface on which the TFT 40 is formed, and thus the drain electrode 37 is formed.
The insulating film 67 is formed over the entire surface over the TFT 40 including the TFT and over the remaining region where the TFT 40 is not formed. The thickness of the insulating film 67 is 5000 to 8000 °, and the material is preferably an inorganic material such as an oxide film or an organic material such as a polyimide resin, an acrylic resin, or an epoxy resin. Particularly, an acrylic resin is preferable. A through hole 70 is formed in a part of the insulating film 67 by dry etching or wet etching, and a part of the drain electrode 37 is exposed by the through hole 70. After that, a layer of the reflective electrode 65 such as aluminum is formed on the entire surface, and the reflective electrode 65 and the drain electrode 37 are connected by a through hole portion.
The reflective electrode 65 is patterned as a picture element electrode. Further, on the reflective electrode 65, “thioflavin”, which is a kind of fluorescent dye, was uniformly dispersed in a thermosetting resin, applied by a spinner, and baked and cured to form a fluorescent layer 66.

【0034】本実施例ではTFT40、ソース電極36
およびドレイン電極37が形成される面と絵素電極を兼
ねる反射電極65が形成される面とが絶縁層67を介し
て別の面にあることによって、絵素電極65が広くで
き、実施例1に比較してパネル開口率が大きくとれる。
In this embodiment, the TFT 40 and the source electrode 36
Since the surface on which the drain electrode 37 is formed and the surface on which the reflective electrode 65 also serving as a pixel electrode is formed are located on different surfaces via the insulating layer 67, the pixel electrode 65 can be widened. Panel aperture ratio can be made larger than that of

【0035】[0035]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、反射電極
上に蛍光色素が添加された透明樹脂から成る蛍光層を形
成し、これによって紫外光を可視光に変換することがで
き、バックライトを用いないでも表示の明るい反射型カ
ラー液晶表示装置を得ることができる。さらに本発明に
よれば、蛍光層は、透明であり、したがって入射光は蛍
光層によって紫外光の一部が吸収されて可視光に変換さ
れるとともに、蛍光層で吸収されなかった光は、その蛍
光層を透過し、反射電極で反射され、その反射光に含ま
れる紫外光の一部が蛍光層で吸収されて可視光に変換さ
れる。こうして蛍光層によって効率よく紫外光が可視光
に変換されることになり、反射電極によってそのまま表
示に利用される可視光とともに、表示面を上述のように
明るくすることができる。薄膜トランジスタなどの非線
形素子が付加されたアクティブマトリックス型で構成さ
れ、特に反射電極上に蛍光層が形成され、モザイクカラ
ーフィルタは反射電極上には形成されず、これによって
カラーフィルタ表面での散乱が大きくなることを防ぐこ
とができ、また、薄膜トランジスタのドレイン電極は、
絶縁層に設けられたスルーホールを介して反射電極に接
続され、したがってこの絶縁層上の反射電極を絵素電極
として記録することができ、パネル開口率を大きくする
ことができ、これによって明るい表示面を得ることがで
きる。
As described above, according to the present invention, a fluorescent layer made of a transparent resin to which a fluorescent dye is added is formed on a reflective electrode, whereby ultraviolet light can be converted to visible light. A reflective color liquid crystal display device with a bright display can be obtained without using a light. Furthermore, according to the present invention, the fluorescent layer is transparent, so that the incident light is converted into visible light by absorbing a part of the ultraviolet light by the fluorescent layer, and the light not absorbed by the fluorescent layer is The light passes through the fluorescent layer, is reflected by the reflective electrode, and a part of the ultraviolet light included in the reflected light is absorbed by the fluorescent layer and converted into visible light. In this way, the fluorescent layer efficiently converts the ultraviolet light into visible light, and the display surface can be brightened as described above together with the visible light used for display as it is by the reflective electrode. It is composed of an active matrix type to which a non-linear element such as a thin film transistor is added. In particular, a fluorescent layer is formed on a reflective electrode, and a mosaic color filter is not formed on a reflective electrode. Can be prevented, and the drain electrode of the thin film transistor
The reflective electrode is connected to the reflective electrode via a through hole provided in the insulating layer, so that the reflective electrode on the insulating layer can be recorded as a pixel electrode, and the panel aperture ratio can be increased, thereby providing a bright display. Face can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例の断面図である。FIG. 1 is a sectional view of one embodiment of the present invention.

【図2】図1に示される一実施例のTFT側基板26の
平面図である。
FIG. 2 is a plan view of the TFT-side substrate 26 of the embodiment shown in FIG.

【図3】本発明の他の実施例の断面図である。FIG. 3 is a sectional view of another embodiment of the present invention.

【図4】本発明のさらに他の実施例の断面図である。FIG. 4 is a sectional view of still another embodiment of the present invention.

【図5】従来技術を説明するための断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view for explaining a conventional technique.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

20 入射光 21 反射光 30,50,60 反射型カラー液晶表示装置 40 TFT(薄膜トランジスタ) 43,65 絵素電極を兼ねる反射電極 44,56,66 蛍光層 46,53,63 カラーフィルタ 47,64 対向電極 49 液晶 54 透明な絵素電極 55 反射電極 Reference Signs List 20 incident light 21 reflected light 30, 50, 60 reflective color liquid crystal display device 40 TFT (thin film transistor) 43, 65 reflective electrode 44, 56, 66 serving also as pixel electrode fluorescent layer 46, 53, 63 color filter 47, 64 Electrode 49 Liquid crystal 54 Transparent picture element electrode 55 Reflection electrode

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平3−75686(JP,A) 特開 昭59−171928(JP,A) 特開 平3−228022(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02F 1/1335 G09F 9/30 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-3-75686 (JP, A) JP-A-59-171928 (JP, A) JP-A-3-228022 (JP, A) (58) Field (Int.Cl. 7 , DB name) G02F 1/1335 G09F 9/30

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 液晶層を介在して対向配置される一対の
透明基板のうち、一方の基板の液晶層側に、他方の基板
側からの入射光を反射する反射電極が形成された反射型
カラー液晶表示装置において、 透明な樹脂中に蛍光色素が添加された透明な蛍光層を前
記反射電極上に形成し、 前記蛍光色素は紫外域の光を吸収し、可視域の蛍光を発
することを特徴とする反射型カラー液晶表示装置。
1. A reflective type in which, of a pair of transparent substrates disposed to face each other with a liquid crystal layer interposed therebetween, a reflective electrode for reflecting incident light from the other substrate is formed on one of the substrates on the liquid crystal layer side. In a color liquid crystal display device, a transparent fluorescent layer in which a fluorescent dye is added in a transparent resin is formed on the reflective electrode, and the fluorescent dye absorbs ultraviolet light and emits visible light. Characteristic reflective color liquid crystal display device.
【請求項2】 前記液晶表示装置がその各々の絵素に薄
膜トランジスタなどの非線形素子が付加されたアクティ
ブマトリックス型であることを特徴とする請求項1記載
の反射型カラー液晶表示装置。
2. The reflection type color liquid crystal display device according to claim 1, wherein the liquid crystal display device is an active matrix type in which a non-linear element such as a thin film transistor is added to each picture element.
【請求項3】 前記一方の基板上の前記反射電極上に、
前記蛍光層が形成され、それに対向する前記他方の基板
上に赤、緑、青から成るモザイクカラーフィルタが形成
されることを特徴とする請求項2記載の反射型カラー液
晶表示装置。
3. The method according to claim 1, wherein the reflecting electrode on the one substrate is
The reflective color liquid crystal display device according to claim 2, wherein the fluorescent layer is formed, and a mosaic color filter made of red, green, and blue is formed on the other substrate facing the fluorescent layer.
【請求項4】 前記非線形素子は、薄膜トランジスタで
あり、 前記一方基板上で、ドレイン電極を含む前記非線形素子
上およびその非線形素子が形成されていない残余の領域
上にわたる全面に絶縁層が形成され、 この絶縁層に設けられるスルーホールを介して絵素電極
である反射電極とドレイン電極とが接続されることを特
徴とする請求項3記載の反射型カラー液晶表示装置。
4. The non-linear element is a thin film transistor, and an insulating layer is formed on the entire surface of the one substrate over the non-linear element including a drain electrode and over a remaining region where the non-linear element is not formed, 4. The reflective color liquid crystal display device according to claim 3, wherein the reflective electrode serving as a picture element electrode and the drain electrode are connected through a through hole provided in the insulating layer.
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