JP2987144B2 - Semiconductor storage device - Google Patents

Semiconductor storage device

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JP2987144B2
JP2987144B2 JP10349199A JP34919998A JP2987144B2 JP 2987144 B2 JP2987144 B2 JP 2987144B2 JP 10349199 A JP10349199 A JP 10349199A JP 34919998 A JP34919998 A JP 34919998A JP 2987144 B2 JP2987144 B2 JP 2987144B2
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circuit
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体記憶装置、
特に微細素子で構成された大容量の半導体記憶装置に関
するものである。
The present invention relates to a semiconductor memory device,
In particular, the present invention relates to a large-capacity semiconductor memory device composed of fine elements.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、DRAMは、3年で4倍のペース
で大容量化の道を進んできている。この大容量化によ
り、DRAMの記憶容量は、現在、市場レベルで16M
ビットのものがその供給量においてピークを迎えようと
しており、64Mビットのものも市場に現れつつある。
また、研究開発のレベルでは、256Mビットから1G
ビットのDRAMが開発される段階まで来ている。
2. Description of the Related Art In recent years, the capacity of DRAM has been increasing four times in three years. Due to this increase in storage capacity, the storage capacity of DRAM is currently 16M at the market level.
Bits are about to peak in supply, and 64 Mbits are appearing on the market.
At the research and development level, 256 Mbits to 1G
The stage has come to the point where bit DRAMs are developed.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】DRAMが大容量とな
っても、DRAMが良品か否かを判定する試験は重要で
ある。
Even if the DRAM has a large capacity, a test for determining whether or not the DRAM is good is important.

【0004】大容量のDRAMを試験する場合、特に、
下記およびに示す問題が生じる。
When testing a large-capacity DRAM,
The following problems occur.

【0005】 試験モード時間の短縮 DRAMが大記憶容量になると、記憶容量の増加にとも
ない、試験モード時間も増加する。このため、試験モー
ド時間の短縮が求められる。
Shortening of test mode time When the DRAM has a large storage capacity, the test mode time increases as the storage capacity increases. Therefore, it is required to reduce the test mode time.

【0006】 試験の精度の向上 DRAMの試験として、たとえば、並列試験などが考案
されている(「92.9日立ICメモリデータブックP.6
39 内蔵16ビット並列試験機能」および「超大容量
メモリに適した並列試験技術 松村他 ICD87-7
5pp.41-46」や「A45ns64Mb DRAM wit
h a Merged Match-line Test Architecture Shige
ru, Mori., et al., 1991IEEEISSCC pp.
110-111」)。
Improvement of Test Accuracy As a DRAM test, for example, a parallel test has been devised (see “92.9 Hitachi IC Memory Data Book P.6”).
39 Built-in 16-bit parallel test function "and" Parallel test technology suitable for ultra-large capacity memory "Matsumura et al. ICD87-7
5pp.41-46 "and" A45ns64Mb DRAM wit
ha Merged Match-line Test Architecture Shige
ru, Mori., et al., 1991 IEEE ISSCC pp.
110-111 ").

【0007】並列試験では、たとえば、DRAMの同じ
ワード線に接続される複数のメモリセルに同じデータを
書き込み、複数のメモリセルに対応する複数のビット線
から出力される値が全て同じか否かを試験する。その試
験を行う回路としては、EXOR回路が考えられ、複数
のビット線から出力される値をEXOR回路に通すこと
により、求められる。このため、同じワード線に接続さ
れる複数のメモリセルに「1」が書き込まれたとして
も、全てが「0」出力された場合、そのDRAMが良品
と判定されてしまう。
In the parallel test, for example, the same data is written to a plurality of memory cells connected to the same word line of a DRAM, and whether or not all values output from a plurality of bit lines corresponding to the plurality of memory cells are the same. To test. An EXOR circuit is conceivable as a circuit for performing the test, and is obtained by passing values output from a plurality of bit lines through the EXOR circuit. Therefore, even if "1" is written to a plurality of memory cells connected to the same word line, if all "0" are output, the DRAM is determined to be non-defective.

【0008】上述した並列試験は、スクリーニング試験
として用いることはできるが、精度の高い試験とはいえ
ない。
The above-described parallel test can be used as a screening test, but cannot be said to be a highly accurate test.

【0009】本発明は、上記問題を鑑み、半導体記憶装
置の試験モード時間の短縮と、さらに試験の精度の向上
を目的とする。
The present invention has been made in consideration of the above problems, and has as its object to reduce the test mode time of a semiconductor memory device and further improve the test accuracy.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体記憶装置
は、複数のメモリセルを有するメモリブロックと、前記
メモリブロックをテストするための少なくとも1つのテ
ストパターンを生成するテストパターン生成回路とをワ
ンチップ上に備えた半導体記憶装置であって、前記メモ
リブロックと前記テストパターン生成回路を接続する第
1バスラインの幅が、前記半導体記憶装置の外部と前記
メモリブロックを接続する第2バスラインの幅より大き
く、そのことにより上記目的が達成される。
A semiconductor memory device according to the present invention comprises a memory block having a plurality of memory cells and a test pattern generating circuit for generating at least one test pattern for testing the memory block. A semiconductor memory device provided on a chip, wherein a width of a first bus line connecting the memory block and the test pattern generation circuit is equal to a width of a second bus line connecting the outside of the semiconductor memory device and the memory block. Greater than the width, thereby achieving the above objectives.

【0011】本発明は、ワンチップ上のメモリブロック
に対してテストを行う際、ワンチップ上のテストパター
ン生成回路で生成されたテストパターンをメモリブロッ
クに書き込む方法であり、第1バスラインの幅が第2バ
スラインの幅より大きいため、第1バスラインを用いた
方が、ワンチップの外部から入力されるテストパターン
をメモリブロックに書き込む方法、つまり、第2バスラ
インを用いてテストパターンを書き込むことよりも、高
速にテストパターンをメモリブロックに書き込むことが
できる。
The present invention is a method for writing a test pattern generated by a test pattern generation circuit on a one-chip to a memory block when a test is performed on the memory block on the one-chip. Is larger than the width of the second bus line. Therefore, using the first bus line is a method of writing a test pattern input from outside of one chip into a memory block, that is, using the second bus line to write the test pattern. The test pattern can be written to the memory block faster than writing.

【0012】前記テストパターン生成回路は、複数のテ
ストパターンを記憶する記憶部を有し、前記複数のテス
トパターンのうちの1つが、前記テストパターン生成回
路が受け取るアドレス信号に応じて、出力されてもよ
い。
The test pattern generation circuit has a storage unit for storing a plurality of test patterns, and one of the plurality of test patterns is output according to an address signal received by the test pattern generation circuit. Is also good.

【0013】記憶部には複数のテストパターンが記録さ
れており、テストパターン生成回路は、アドレス信号に
応じて異なるテストパターンを出力することが可能であ
る。このため、メモリブロックに対して、多くのテスト
を行うことができる。
A plurality of test patterns are recorded in the storage section, and the test pattern generation circuit can output different test patterns according to the address signal. Therefore, many tests can be performed on the memory block.

【0014】前記半導体記憶装置が、前記メモリブロッ
クから読み出されたテストパターンと、前記テストパタ
ーン生成回路が生成したテストパターンとを比較する比
較器を備えてもよい。
The semiconductor memory device may include a comparator for comparing a test pattern read from the memory block with a test pattern generated by the test pattern generation circuit.

【0015】テストパターン生成回路が生成したテスト
パターンがメモリブロックに書き込まれ、その後、メモ
リブロックに記憶されているテストパターンが読み出さ
れる。比較器は、メモリブロックから読み出されたテス
トパターンと、テストパターン生成回路が生成したテス
トパターンとを比較する。このため、メモリブロックの
複数のメモリセルが正常であるか否かが正確に検出され
る。
The test pattern generated by the test pattern generation circuit is written to the memory block, and thereafter, the test pattern stored in the memory block is read. The comparator compares the test pattern read from the memory block with the test pattern generated by the test pattern generation circuit. Therefore, it is accurately detected whether or not a plurality of memory cells in the memory block are normal.

【0016】前記テストパターン生成回路によって生成
されたテストパターンを前記メモリブロックまたは前記
比較器に出力することが可能な切り換えスイッチを備え
てもよい。
A switch may be provided for outputting the test pattern generated by the test pattern generation circuit to the memory block or the comparator.

【0017】前記半導体記憶装置が、前記メモリブロッ
クにデータを入出力する複数の端子を備え、前記テスト
パターン生成回路が、前記複数の端子を介して入力され
る前記アドレス信号に応じて、複数のテストパターンを
生成してもよい。
The semiconductor memory device has a plurality of terminals for inputting / outputting data to / from the memory block, and the test pattern generation circuit generates a plurality of terminals in accordance with the address signals input through the plurality of terminals. A test pattern may be generated.

【0018】複数の端子が、メモリブロックにデータを
入出力するために使用され、さらに、テストパターン生
成回路がテストパターンを生成するのに必要なアドレス
信号を受け取るために使用される。このため、前記半導
体記憶装置は、データを入出力するための端子とアドレ
ス信号を受け取るための端子とを別々に備えたものよ
り、端子の数を減らすことができる。
A plurality of terminals are used for inputting / outputting data to / from the memory block, and further used for receiving an address signal required for the test pattern generation circuit to generate a test pattern. For this reason, the number of terminals of the semiconductor memory device can be reduced as compared with a case where a terminal for inputting and outputting data and a terminal for receiving an address signal are separately provided.

【0019】前記半導体記憶装置が、前記メモリブロッ
クにデータを入出力する複数の端子を備え、前記複数の
端子のうちの少なくとも1つが、前記比較器が、前記メ
モリブロックから読み出されたテストパターンと、前記
テストパターン生成回路が生成したテストパターンとを
比較した結果を出力してもよい。
The semiconductor memory device includes a plurality of terminals for inputting / outputting data to / from the memory block, and at least one of the plurality of terminals includes a test pattern read from the memory block by the comparator. And a result obtained by comparing the test pattern with the test pattern generated by the test pattern generation circuit.

【0020】複数の端子が、メモリブロックにデータを
入出力するために使用され、さらに、その複数の端子の
少なくとも1つが、比較器が比較した結果を出力するた
めに使用される。このため、前記半導体記憶装置は、デ
ータを入出力するための端子と比較器が比較した結果を
出力する端子とを別々に備えたものより、端子の数を減
らすことができる。
A plurality of terminals are used for inputting / outputting data to / from the memory block, and at least one of the plurality of terminals is used for outputting a result compared by the comparator. For this reason, the number of terminals can be reduced in the semiconductor memory device as compared with a device having separate terminals for inputting and outputting data and terminals for outputting the result of comparison by the comparator.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を添付図
面を参照して説明する。 (実施形態1)図1は、本発明の第1の実施形態におけ
る半導体記憶装置100を示すブロック図である。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. (Embodiment 1) FIG. 1 is a block diagram showing a semiconductor memory device 100 according to a first embodiment of the present invention.

【0022】図1に示す半導体記憶装置100は、ワン
チップ上に、複数のメモリセルを有するメモリブロック
MBと、メモリブロックMBをテストするための少なく
とも1つのテストパターンを生成するテストパターン生
成回路PAMとを備えている。
The semiconductor memory device 100 shown in FIG. 1 has a memory block MB having a plurality of memory cells and a test pattern generation circuit PAM for generating at least one test pattern for testing the memory block MB on one chip. And

【0023】テストパターン生成回路PAMは、第1バ
スラインFBLを介してメモリブロックMBと接続さ
れ、メモリブロックMBは、第2バスラインSBLを介
して半導体記憶装置100の外部と接続される。第1バ
スラインFBLのバス幅は、第2バスラインSBLのバ
ス幅より広い。たとえば、第1のバスラインFBLのバ
ス幅が64ビットであり、第2のバスラインSBLのバ
ス幅が8ビットである。
The test pattern generation circuit PAM is connected to a memory block MB via a first bus line FBL, and the memory block MB is connected to the outside of the semiconductor memory device 100 via a second bus line SBL. The bus width of the first bus line FBL is wider than the bus width of the second bus line SBL. For example, the bus width of first bus line FBL is 64 bits, and the bus width of second bus line SBL is 8 bits.

【0024】テストパターン生成回路PAMで生成され
たテストパターンが、第1バスラインFBLを介して、
メモリブロックMBに書き込まれる。このため、第1バ
スラインより狭いバス幅である第2バスラインSBLを
用いてテストパターンがメモリブロックMBに書き込ま
れることに比べて、半導体記憶装置100はテストパタ
ーンを高速にメモリブロックMBに書き込むことができ
る。
The test pattern generated by the test pattern generation circuit PAM is transmitted through the first bus line FBL.
The data is written to the memory block MB. For this reason, the semiconductor memory device 100 writes the test pattern to the memory block MB at a higher speed than when the test pattern is written to the memory block MB using the second bus line SBL having a bus width narrower than the first bus line. be able to.

【0025】テストパターン生成回路PAMは、半導体
記憶装置100の外部から入力される信号、たとえばア
ドレス信号に基づいて、メモリブロックMBをテストす
るための少なくとも1つのテストパターンを生成する。
Test pattern generation circuit PAM generates at least one test pattern for testing memory block MB based on a signal input from outside semiconductor memory device 100, for example, an address signal.

【0026】たとえば、テストパターン生成回路PAM
は、複数のテストパターンを記憶する記憶部(図示せ
ず)を有し、入力ラインILを介して、半導体記憶装置
100の外部から入力される信号(アドレス信号)に応
じて、少なくとも1つのテストパターンを出力してもよ
い。記憶部には複数のテストパターンが記録されてお
り、テストパターン生成回路PAMは、アドレス信号に
応じて異なるテストパターンを出力することが可能であ
る。
For example, test pattern generation circuit PAM
Has a storage unit (not shown) for storing a plurality of test patterns, and performs at least one test according to a signal (address signal) input from outside the semiconductor memory device 100 via the input line IL. A pattern may be output. A plurality of test patterns are recorded in the storage unit, and the test pattern generation circuit PAM can output different test patterns according to the address signal.

【0027】あるいは、テストパターン生成回路PAM
は、擬似乱数発生器(図示せず)を有し、入力ラインI
Lを介して、半導体記憶装置100の外部から入力され
る信号に基づいて、少なくとも1つのテストパターンを
生成してもよい。擬似乱数発生器が複数のテストパター
ンを生成するため、メモリブロックMBに対して異なる
テストを行うことができる。
Alternatively, a test pattern generation circuit PAM
Has a pseudo-random number generator (not shown) and has an input line I
At least one test pattern may be generated based on a signal input from outside the semiconductor memory device 100 via L. Since the pseudo random number generator generates a plurality of test patterns, different tests can be performed on the memory block MB.

【0028】上述したように、テストパターン生成回路
PAMは、メモリブロックMBに対して、多くのテスト
を行うことができる。このため、テストの精度が向上す
る。なお、入力ラインILのライン幅は、1ビット以上
であればよい。
As described above, the test pattern generation circuit PAM can perform many tests on the memory block MB. Therefore, the accuracy of the test is improved. Note that the line width of the input line IL may be 1 bit or more.

【0029】(実施形態2)図2は、第2の実施形態に
おける半導体記憶装置200を示すブロック図である。
(Embodiment 2) FIG. 2 is a block diagram showing a semiconductor memory device 200 according to a second embodiment.

【0030】半導体記憶装置200は、ワンチップ上
に、メモリアレイMA、メモリブロックをテストするた
めの少なくとも1つのテストパターンを生成するテスト
パターン生成回路PAM、およびメモリアレイMAから
読み出されたテストパターンとテストパターン生成回路
PAMが生成したテストパターンとを比較する比較回路
COMPを備えている。
The semiconductor memory device 200 includes, on one chip, a memory array MA, a test pattern generation circuit PAM for generating at least one test pattern for testing a memory block, and a test pattern read from the memory array MA. And a comparison circuit COMP for comparing the test pattern with the test pattern generated by the test pattern generation circuit PAM.

【0031】比較回路COMPが、テストパターン生成
回路PAMが生成したテストパターンがメモリアレイM
Aに書き込まれメモリアレイMAから読み出されたテス
トパターンと、テストパターン生成回路PAMが生成し
たテストパターン(メモリアレイMAに書き込まれたテ
ストパターン)とを比較するため、メモリアレイMAの
複数のメモリセルが正常であるか否かが正確に検出され
る。
The test pattern generated by the test pattern generation circuit PAM is stored in the memory array M.
In order to compare the test pattern written in A and read from the memory array MA with the test pattern generated by the test pattern generation circuit PAM (the test pattern written in the memory array MA), the plurality of memories in the memory array MA are compared. It is correctly detected whether the cell is normal.

【0032】半導体記憶装置200は切り換え回路PS
Wを備え、その切り換え回路PSWが、テストパターン
生成回路PAMによって生成されたテストパターンをメ
モリアレイMAまたは比較回路COMPに出力すること
が可能である。
The semiconductor memory device 200 includes a switching circuit PS
W, and the switching circuit PSW can output the test pattern generated by the test pattern generation circuit PAM to the memory array MA or the comparison circuit COMP.

【0033】以下に、半導体記憶装置200の詳細な構
成を説明する。
Hereinafter, the detailed configuration of the semiconductor memory device 200 will be described.

【0034】半導体記憶装置200は、メモリアレイM
Aにアドレス信号を入力するためのアドレス入力回路A
DB、メモリアレイMAにデータを入出力するためのデ
ータ入出力回路I/O、タイミング発生回路TG、テス
トパターン生成回路PAMにアドレス信号を入力するた
めのアドレス入力回路RADB、およびタイミング発生
回路RTGを備えている。
The semiconductor memory device 200 has a memory array M
Address input circuit A for inputting an address signal to A
DB, a data input / output circuit I / O for inputting / outputting data to / from the memory array MA, a timing generation circuit TG, an address input circuit RADB for inputting an address signal to the test pattern generation circuit PAM, and a timing generation circuit RTG. Have.

【0035】タイミング発生回路TGは、ロウアドレス
ストローブ信号/RAS、コラムアドレスストローブ信
号/CAS、テストイネーブル信号TE、ライトイネー
ブル信号/WE、およびアウトプットイネーブル信号/
OEを受け取る。タイミング発生回路TGは、それらの
信号に応じて、メモリアレイMAがデータを入出力する
タイミングを制御する制御信号TGMA、データ入出力
回路I/Oを制御する制御信号TGIO、アドレス入力
回路ADBを制御する制御信号TGAD、およびデータ
の書き込みまたは読み出しを制御するための制御信号T
RWのうちの少なくとも1つを発生する。
The timing generation circuit TG includes a row address strobe signal / RAS, a column address strobe signal / CAS, a test enable signal TE, a write enable signal / WE, and an output enable signal / RAS.
Receive OE. In response to these signals, the timing generation circuit TG controls a control signal TGMA for controlling the timing at which the memory array MA inputs and outputs data, a control signal TGIO for controlling the data input / output circuit I / O, and an address input circuit ADB. Control signal TGAD for controlling writing and reading of data and a control signal T for controlling writing or reading of data.
Generate at least one of the RWs.

【0036】また、タイミング発生回路RTGは、ロウ
アドレスストローブ信号/RAS、コラムアドレススト
ローブ信号/CAS、テストイネーブル信号TE、およ
びライトイネーブル信号/WEを受け取る。タイミング
発生回路RTGは、それらの信号に応じて、テストパタ
ーン生成回路PAMがテストパターンを発生するタイミ
ングを制御する制御信号TGPAM、アドレス入力回路
RADBを制御するための制御信号TGRA、比較回路
COMPを制御するための制御信号TGCP、制御信号
TGMI、および制御信号TGCPIのうちの少なくと
も1つを発生する。
The timing generation circuit RTG receives a row address strobe signal / RAS, a column address strobe signal / CAS, a test enable signal TE, and a write enable signal / WE. The timing generation circuit RTG controls a control signal TGPAM for controlling the timing at which the test pattern generation circuit PAM generates a test pattern, a control signal TGRA for controlling the address input circuit RADB, and a comparison circuit COMP according to the signals. To generate at least one of a control signal TGCP, a control signal TGMI, and a control signal TGCPI.

【0037】メモリアレイMAは、内部アドレスバスI
ADを介してアドレス入力回路ADBと接続されてい
る。アドレス入力回路ADBはアドレス端子A00〜A
10を有しており、メモリアレイMAは、アドレス端子
A00〜A10から入力されるアドレス信号を受け取
る。
The memory array MA has an internal address bus I
It is connected to the address input circuit ADB via AD. The address input circuit ADB has address terminals A00 to A
10, and the memory array MA receives an address signal input from address terminals A00 to A10.

【0038】メモリアレイMAは、内部データバスMD
を介して、データ入出力回路I/Oと接続されている。
データ入出力回路I/Oは、データ入出力端子I/O0
〜I/O7を有しており、データ入出力回路I/Oとワ
ンチップである半導体記憶装置200の外部との間で、
データを入出力することができる。また、メモリアレイ
MAは、テストパターン出力バスTMOを介して比較回
路COMPと接続されている。
The memory array MA has an internal data bus MD
Through the data input / output circuit I / O.
The data input / output circuit I / O has a data input / output terminal I / O0.
, And between the data input / output circuit I / O and the outside of the one-chip semiconductor memory device 200.
Data can be input and output. Further, the memory array MA is connected to a comparison circuit COMP via a test pattern output bus TMO.

【0039】パターン発生回路PAMは、内部アドレス
バスIRADを介して、アドレス入力回路RADBと接
続されている。アドレス入力回路RADBは、アドレス
端子RA00〜RA07を有しており、パターン発生回
路PAMは、アドレス端子RA00〜RA07から入力
されるアドレス信号を受け取る。パターン発生回路PA
Mは、アドレス信号に応じて、少なくとも1つのテスト
パターンを生成する。生成されたテストパターンは、内
部バスTPDを介して切り換え回路PSWに出力され
る。
The pattern generation circuit PAM is connected to an address input circuit RADB via an internal address bus IRAD. The address input circuit RADB has address terminals RA00 to RA07, and the pattern generation circuit PAM receives an address signal input from the address terminals RA00 to RA07. Pattern generation circuit PA
M generates at least one test pattern according to the address signal. The generated test pattern is output to the switching circuit PSW via the internal bus TPD.

【0040】切り換え回路PSWは、内部バスTMIを
介してメモリアレイMAと接続され、内部バスCMPI
を介して比較回路COMPと接続されている。切り換え
回路PSWは、制御信号TGMIまたはTGCPIを受
け取り、制御信号TGMIまたはTGCPIに応じて、
パターン発生回路PAMが生成したテストパターンを、
メモリアレイMAまたは比較回路COMPに送出する。
The switching circuit PSW is connected to the memory array MA via the internal bus TMI,
Is connected to the comparison circuit COMP via the. The switching circuit PSW receives the control signal TGMI or TGCPI, and according to the control signal TGMI or TGCPI,
The test pattern generated by the pattern generation circuit PAM is
The data is sent to the memory array MA or the comparison circuit COMP.

【0041】比較回路COMPは、メモリアレイMAか
ら読み出されたテストパターンと、テストパターン生成
回路PAMが生成したテストパターンとを比較する。そ
の比較結果は、出力端子TOから出力される。
The comparison circuit COMP compares the test pattern read from the memory array MA with the test pattern generated by the test pattern generation circuit PAM. The comparison result is output from the output terminal TO.

【0042】なお、ワンチップ上の領域TBをテスト回
路ブロックと呼び、同じワンチップ上の領域MBをメモ
リブロックと呼ぶ。メモリブロックMBには、一般的な
半導体記憶装置と同等のメモリブロックが用いられる。
メモリブロックMBは、メモリアレイMA、アドレス入
力回路ADB、データ入出力回路I/Oおよびタイミン
グ発生回路TG等を備えている。また、テスト回路ブロ
ックTBは、テストパターン生成回路PAMおよび比較
回路COMP等を備えている。
The area TB on one chip is called a test circuit block, and the area MB on the same chip is called a memory block. As the memory block MB, a memory block equivalent to a general semiconductor memory device is used.
The memory block MB includes a memory array MA, an address input circuit ADB, a data input / output circuit I / O, a timing generation circuit TG, and the like. The test circuit block TB includes a test pattern generation circuit PAM, a comparison circuit COMP, and the like.

【0043】以下に、半導体記憶装置200の動作を説
明する。
The operation of semiconductor memory device 200 will be described below.

【0044】試験モード時において、テスト回路ブロッ
クTB内のテストパターン生成回路PAMが発生したテ
ストパターンが、アドレス入力回路ADBのアドレス端
子A00〜A10を介して入力されたアドレス信号が指
示するアドレスにメモリブロックMBのメモリアレイM
Aに書き込まれる。
In the test mode, the test pattern generated by the test pattern generation circuit PAM in the test circuit block TB stores the test pattern in the address indicated by the address signal input through the address terminals A00 to A10 of the address input circuit ADB. Memory array M of block MB
A is written.

【0045】テストパターン生成回路PAMには、複数
のテストパターンのそれぞれがアドレスと対応して記憶
されており、外部から、アドレス入力回路RADBのア
ドレス端子RA00〜RA07を介してアドレス信号が
入力されると、アドレス信号に対応するテストパターン
が発生する。
Each of the plurality of test patterns is stored in the test pattern generation circuit PAM in correspondence with an address, and an address signal is externally input via the address terminals RA00 to RA07 of the address input circuit RADB. Then, a test pattern corresponding to the address signal is generated.

【0046】切り換え回路PSWは、発生したテストパ
ターンをメモリアレイMAに転送し、次に、そのテスト
パターンを比較回路COMPに転送することが好まし
い。
The switching circuit PSW preferably transfers the generated test pattern to the memory array MA, and then transfers the test pattern to the comparison circuit COMP.

【0047】メモリアレイMAから、書き込まれたテス
トパターンが読み出され、メモリアレイMAに書き込ま
れたテストパターンと同じテストパターンが、テストパ
ターン生成回路PAMによって発生させられる。なお、
切り換え回路PSWがテストパターンを記憶している場
合、テストパターン生成回路PAMがもう一度同じテス
トパターンを発生する必要はない。
The written test pattern is read from the memory array MA, and the same test pattern as the test pattern written in the memory array MA is generated by the test pattern generation circuit PAM. In addition,
When the switching circuit PSW stores the test pattern, the test pattern generation circuit PAM does not need to generate the same test pattern again.

【0048】メモリアレイMAからのテストパターンと
テストパターン生成回路PAMからのテストパターンが
比較回路COMPによって比較され、それらのテストパ
ターンが一致していれば、比較回路COMPは、半導体
記憶装置200が良品であることを示す信号を出力し、
半導体記憶装置200が不良品であることを示す信号を
出力端子TOから出力する。
The test pattern from the memory array MA and the test pattern from the test pattern generation circuit PAM are compared by the comparison circuit COMP, and if the test patterns match, the comparison circuit COMP indicates that the semiconductor storage device 200 is a non-defective product. Output a signal indicating that
A signal indicating that semiconductor memory device 200 is defective is output from output terminal TO.

【0049】上述したように、半導体記憶装置200で
は、一度に、データ入出力端子I/O0〜I/O7から
8ビットのデータをメモリアレイMAに入力することが
可能である。
As described above, in the semiconductor memory device 200, it is possible to input 8-bit data from the data input / output terminals I / O0 to I / O7 to the memory array MA at one time.

【0050】仮に、これらのデータ入出力端子I/O0
〜I/O7から、8ビットのテストパターンを一度に入
力することが可能であっても、一度に試験し得るメモリ
セルの数は8つである。
It is assumed that these data input / output terminals I / O0
Even though it is possible to input an 8-bit test pattern at a time from .about.I / O7, the number of memory cells that can be tested at one time is eight.

【0051】アドレス入力回路RADBのアドレス端子
RA00〜RA07から、8ビットのアドレス信号が入
力されたとしても、テストパターン生成回路PAMが、
8ビットのアドレス信号に応じて、たとえば、64ビッ
トのテストパターンを発生することが可能である。言い
換えると、テストパターン生成回路PAMが発生するテ
ストパターンのビット数は、メモリアレイMAがデータ
入出力端子から受け取るデータのビット数より大きい。
Even if an 8-bit address signal is input from address terminals RA00 to RA07 of address input circuit RADB, test pattern generation circuit PAM is
For example, a 64-bit test pattern can be generated according to an 8-bit address signal. In other words, the number of bits of the test pattern generated by the test pattern generation circuit PAM is larger than the number of bits of data that the memory array MA receives from the data input / output terminal.

【0052】64ビットのテストパターンが発生するた
め、一度に試験し得るメモリセルの数は64個となる。
Since a 64-bit test pattern is generated, the number of memory cells that can be tested at one time is 64.

【0053】また、テストパターン生成回路PAMは、
外部からのアドレス信号に応じて、テストパターンを選
択的に発生するので、テストパターンを任意の順番で発
生させることができる。たとえば、8ビットのアドレス
信号が入力された場合、テストパターン生成回路PAM
は28のテストパターンを発生することが可能である。
このため、半導体記憶装置200では、テストパターン
の種類が多く、テストパターンが発生する順序の自由度
が高くなるため、細かな試験が可能となる。
The test pattern generation circuit PAM
Since test patterns are selectively generated according to an external address signal, test patterns can be generated in an arbitrary order. For example, when an 8-bit address signal is input, test pattern generation circuit PAM
Is capable of generating a test pattern of 2 8.
For this reason, in the semiconductor memory device 200, since there are many types of test patterns and the degree of freedom in the order in which the test patterns are generated increases, a detailed test can be performed.

【0054】以下に、テストパターン生成回路PAMの
具体例を図3および図4を用いて説明する。
A specific example of the test pattern generation circuit PAM will be described below with reference to FIGS.

【0055】図3は、テストパターン生成回路PAMの
一構成例を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a configuration example of the test pattern generation circuit PAM.

【0056】図3に示すテストパターン生成回路PAM
は、マトリクス配列されたワード線WL000〜WL2
55を有するメモリ部WL、ロウデコーダ回路RRDE
C、センスアンプ/出力回路RSA00〜RSA63、
およびテストパターンの出力端子TPD00〜TPD6
3等を備えている。
Test pattern generation circuit PAM shown in FIG.
Are the word lines WL000 to WL2 arranged in a matrix.
55 having a memory section WL and a row decoder circuit RRDE
C, sense amplifier / output circuits RSA00 to RSA63,
And test pattern output terminals TPD00 to TPD6
3 and so on.

【0057】上述したように、テスト回路ブロックTB
のアドレス端子RA00〜RA07から8ビットのアド
レス信号が入力されるため、テストパターン生成回路P
AMは、28=256種類のテストパターンを発生する
ことができる。テストパターン生成回路PAMは256
種類のテストパターンを発生するために256本のワー
ド線を有している。
As described above, the test circuit block TB
Since an 8-bit address signal is input from address terminals RA00 to RA07 of test pattern generation circuit P,
The AM can generate 2 8 = 256 types of test patterns. The test pattern generation circuit PAM is 256
It has 256 word lines to generate different types of test patterns.

【0058】ワード線毎に、64ビット分のメモリセル
が設けられ、パターン発生回路PAMは64ビットのテ
ストパターンを一度に並列に出力することが可能であ
る。
A memory cell for 64 bits is provided for each word line, and the pattern generation circuit PAM can output a 64-bit test pattern at a time in parallel.

【0059】テスト回路ブロックTBのアドレス端子R
A00〜RA07から8ビットのアドレス信号が入力さ
れると、このアドレス信号がロウデコーダ回路RRDE
Cに入力される。ロウデコーダ回路RRDECは、タイ
ミング発生回路RTGからの制御信号TGPAMに応答
して、アドレス信号に対応するワード線を選択して活性
化する。選択されたワード線に接続されているメモリセ
ルが記憶しているデータを出力する。選択されたワード
線に接続されているメモリセルから出力されたデータ
は、センスアンプ/出力回路RSA00〜RSA63に
よって増幅される。その後、増幅されたデータは、内部
バスTPD(出力端子TPD00〜TPD63)を介し
て、切り換え回路PSWに出力される。
Address terminal R of test circuit block TB
When an 8-bit address signal is input from A00 to RA07, this address signal is applied to the row decoder circuit RRDE.
Input to C. Row decoder circuit RRDEC selects and activates a word line corresponding to the address signal in response to control signal TGPAM from timing generation circuit RTG. Outputs data stored in a memory cell connected to the selected word line. Data output from a memory cell connected to the selected word line is amplified by sense amplifier / output circuits RSA00 to RSA63. Thereafter, the amplified data is output to the switching circuit PSW via the internal bus TPD (output terminals TPD00 to TPD63).

【0060】メモリ部WLは、どのようなタイプのメモ
リでもよいが、電源を切ってからもデータを保持し得る
ROMタイプのものが好ましく、図3に示すメモリ部W
Lは、マスクROMタイプのものを想定している。
The memory unit WL may be any type of memory, but is preferably a ROM type that can hold data even after the power is turned off.
L is assumed to be a mask ROM type.

【0061】また、メモリ部WLに記憶されているテス
トパターンを書き換えたいという要望がある場合、メモ
リ部WLとして、EEPROMやSRAMなどが適用さ
れてもよい。そのような場合、EEPROMでは、昇圧
回路が必要になることや、データの記憶プロセスが複雑
になる。また、SRAMでは、電源を切るとデータ保持
ができなくなる。メモリ部WLとしてEEPROMやS
RAMを適用する場合、これらの点を考慮すべきであ
る。
When there is a request to rewrite the test pattern stored in the memory unit WL, an EEPROM, an SRAM or the like may be applied as the memory unit WL. In such a case, the EEPROM requires a booster circuit and complicates the data storage process. In the SRAM, when the power is turned off, data cannot be held. EEPROM or S as the memory unit WL
These considerations should be taken into account when applying RAM.

【0062】以下に、メモリ部WLとして、EEPRO
MやSRAMなどを適用した場合におけるテストパター
ン生成回路PAMを図4を用いて説明する。
Hereinafter, EEPRO will be used as the memory section WL.
A test pattern generation circuit PAM in a case where M, SRAM, or the like is applied will be described with reference to FIG.

【0063】図4は、テストパターンを書き換えること
ができるテストパターン生成回路PAMの一構成例を示
す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a configuration example of a test pattern generation circuit PAM capable of rewriting a test pattern.

【0064】図4に示すテストパターン生成回路PAM
は、図3に示すテストパターン生成回路PAMに、64
ビットのシフトレジスタ回路SR、および書き込みスイ
ッチSWを有する書き込み部WRを付加したものであ
る。書き込み部WRは、半導体記憶装置200と同じワ
ンチップ上に位置する。
Test pattern generation circuit PAM shown in FIG.
Are 64 in the test pattern generation circuit PAM shown in FIG.
It is provided with a bit shift register circuit SR and a write unit WR having a write switch SW. The writing unit WR is located on the same one chip as the semiconductor storage device 200.

【0065】シフトレジスタ回路SRは、制御クロック
信号CLKに同期して、シリアルに入力される64ビッ
トのテストパターンを記憶する。シリアルに入力される
64ビットのテストパターンは、入力端子INから入力
される。
The shift register circuit SR stores a 64-bit test pattern serially input in synchronization with the control clock signal CLK. The 64-bit test pattern input serially is input from the input terminal IN.

【0066】この後、書き込みスイッチSWは、書き込
み制御信号CNTに応答して、シフトレジスタ回路SR
内の64ビットのテストパターンをパラレルでメモリ部
WLに出力する。このとき、ロウデコーダ回路RRDE
Cは、アドレス端子RA00〜RA07からアドレス信
号を受け取り、タイミング発生回路RTGからの制御信
号TGPAMに応答して、アドレス信号に対応するメモ
リ部WLのワード線を選択して活性化する。このワード
線に接続されているメモリセルは、シフトレジスタ回路
SRからの64ビットのテストパターンを記憶する。
Thereafter, the write switch SW turns on the shift register circuit SR in response to the write control signal CNT.
Are output in parallel to the memory unit WL. At this time, the row decoder circuit RRDE
C receives an address signal from address terminals RA00-RA07, and responds to a control signal TGPAM from timing generation circuit RTG to select and activate a word line of memory portion WL corresponding to the address signal. The memory cells connected to this word line store the 64-bit test pattern from the shift register circuit SR.

【0067】ロウデコーダ回路RRDECに入力される
8ビットのアドレスによって、256本のワード線のう
ちの1つを順次指定し、ワード線が指定されるごとに、
64ビットのテストパターンがシフトレジスタ回路SR
から入力される。そのような方法によって、メモリ部W
Lに256種類のテストパターンを記憶することができ
る。
One of 256 word lines is sequentially designated by an 8-bit address input to the row decoder circuit RRDEC, and each time a word line is designated,
The 64-bit test pattern is stored in the shift register circuit SR.
Is entered from By such a method, the memory unit W
L can store 256 types of test patterns.

【0068】このように、テストパターン生成回路PA
M内のテストパターンを容易に書き換えることができれ
ば、テストパターンを多様化して、高精度な試験を行う
ことができる。
As described above, the test pattern generation circuit PA
If the test pattern in M can be easily rewritten, the test pattern can be diversified and a highly accurate test can be performed.

【0069】上述したようなシフトレジスタ回路SRを
用いている場合、テストパターンがシリアルで入力さ
れ、入力されたテストパターンがパラレルで出力される
ため、テストパターンを入力するための端子が1つで済
む。シフトレジスタ回路SRを用いた場合、半導体記憶
装置200の外部端子の構成が複雑になることはない。
When the above-described shift register circuit SR is used, the test pattern is input serially and the input test pattern is output in parallel, so that only one terminal is required for inputting the test pattern. I'm done. When the shift register circuit SR is used, the configuration of the external terminals of the semiconductor memory device 200 does not become complicated.

【0070】なお、テストパターンをシフトレジスタ回
路SRにシリアルで入力することができれば、シフトレ
ジスタ回路SRにどのような手順でテストパターンを書
き込んでもよい。
Note that as long as the test pattern can be serially input to the shift register circuit SR, the test pattern may be written to the shift register circuit SR by any procedure.

【0071】このようなテストパターンの書き込み動作
が、いつ行われてもよい。ユーザーに試験モードを公開
する場合、書き込み部WRを有する半導体記憶装置20
0のチップを用いているシステムを初期化する際に、テ
ストパターンを書き込んでもよい。一般に、ユーザー側
での試験は、システムを初期化する際に行われるからで
ある。
Such a test pattern write operation may be performed at any time. When exposing the test mode to the user, the semiconductor memory device 20 having the writing unit WR
A test pattern may be written when a system using a zero chip is initialized. This is because the test on the user side is generally performed when the system is initialized.

【0072】図5は、図3または図4に示すメモリ部W
Lに記憶される256通りのテストパターンの一例を示
す図である。
FIG. 5 shows the memory section W shown in FIG. 3 or FIG.
FIG. 9 is a diagram showing an example of 256 test patterns stored in L.

【0073】図3または図4に示すメモリ部WLは、2
56×64のメモリセルと、256本のワード線とを有
しているため、256×64の値を記憶することができ
る。1本のワード線に接続されるメモリセルには、64
ビットのテストパターンが記憶される。
The memory section WL shown in FIG. 3 or FIG.
Since it has 56 × 64 memory cells and 256 word lines, 256 × 64 values can be stored. 64 memory cells are connected to one word line.
A bit test pattern is stored.

【0074】図5に示す1つの丸が1つのメモリセルに
対応し、白丸は“L”レベルを示し、黒丸は“H”レベ
ルを示している。たとえば、ワード線WL000に接続
されるメモリセルのレベルは、全て“L”であり、ワー
ド線WL065に接続されるメモリセルのレベルは、全
て“H”である。
One circle shown in FIG. 5 corresponds to one memory cell, white circles indicate “L” level, and black circles indicate “H” level. For example, the levels of the memory cells connected to word line WL000 are all “L”, and the levels of the memory cells connected to word line WL065 are all “H”.

【0075】ワード線WL000を活性化して、“L”
レベルであるテストパターンがテストパターン生成回路
PAMから出力され、そのテストパターンが切り換え回
路PSWを介してメモリアレイMAに出力されている状
態で、アドレス入力回路ADBによって指定されるメモ
リアレイMAのアドレスが順次変更されれば、メモリア
レイMA内の全てのメモリセルの状態を“L”レベルに
書き換えることができる。
The word line WL000 is activated to set “L”
When the test pattern of the level is output from the test pattern generation circuit PAM, and the test pattern is output to the memory array MA via the switching circuit PSW, the address of the memory array MA specified by the address input circuit ADB is changed. If the states are sequentially changed, the states of all the memory cells in the memory array MA can be rewritten to the “L” level.

【0076】同様に、ワード線WL065を活性化し
て、“H”レベルであるテストパターンがテストパター
ン生成回路PAMから出力され、そのテストパターンが
切り換え回路PSWを介してメモリアレイMAに出力さ
れている状態で、アドレス入力回路ADBによって指定
されるメモリアレイMAのアドレスが順次変更されれ
ば、メモリアレイMA内の全てのメモリセルの状態を
“H”レベルに書き換えることができる。
Similarly, word line WL065 is activated, a test pattern at "H" level is output from test pattern generation circuit PAM, and the test pattern is output to memory array MA via switching circuit PSW. In this state, if the address of the memory array MA specified by the address input circuit ADB is sequentially changed, the state of all the memory cells in the memory array MA can be rewritten to the “H” level.

【0077】このような一括消去および一括書き込み
は、試験モード時以外で用いられてもよい。
Such batch erasing and batch writing may be used other than in the test mode.

【0078】なお、256通りのテストパターンで足り
ない場合には、ワード線の本数を増やせばよい。ワード
線の本数を増やす場合には、アドレス信号のビット数並
びにアドレス端子の本数を増やす必要がある。
If 256 test patterns are not enough, the number of word lines may be increased. When increasing the number of word lines, it is necessary to increase the number of bits of the address signal and the number of address terminals.

【0079】以下に、メモリアレイMAの構成を図6〜
図8を用いて説明する。
The configuration of the memory array MA will be described below with reference to FIGS.
This will be described with reference to FIG.

【0080】図6はメモリアレイMAの一構成例を示す
図である。
FIG. 6 is a diagram showing a configuration example of the memory array MA.

【0081】図6に示すメモリアレイMAは、メモリ部
MCA、ロウデコーダ回路RDEC、コラムデコーダ回
路CDEC、コラムスイッチ回路CSW、およびデータ
線DL00〜DL63を備えている。本実施形態では、
メモリ部MCAとしてDRAMが用いられるが、メモリ
部MCAとして書き換え可能なメモリ、たとえば、SR
AM、EEPROMが用いられてもよい。
The memory array MA shown in FIG. 6 includes a memory section MCA, a row decoder circuit RDEC, a column decoder circuit CDEC, a column switch circuit CSW, and data lines DL00 to DL63. In this embodiment,
Although a DRAM is used as the memory unit MCA, a rewritable memory such as SR
AM and EEPROM may be used.

【0082】ロウデコーダ回路RDECおよびコラムデ
コーダ回路CDECは、アドレス信号の一部を受け取
り、アドレス信号の一部に応じてメモリアレイMAのメ
モリセルを指示する。
The row decoder circuit RDEC and the column decoder circuit CDEC receive a part of the address signal, and indicate a memory cell of the memory array MA according to the part of the address signal.

【0083】コラムスイッチ回路CSWには、内部デー
タバスMD、内部バスTMI、テストパターン出力バス
TMOが接続されている。さらに、コラムスイッチ回路
CSWは、メモリアレイMAをテストする際のデータの
書き込みまたは読み出しを制御するための制御信号TR
W、タイミング信号TGMAを受け取る。さらに、コラ
ムスイッチ回路CSWは、アドレス信号の一部を受け取
る。
The column switch circuit CSW is connected to an internal data bus MD, an internal bus TMI, and a test pattern output bus TMO. Further, the column switch circuit CSW includes a control signal TR for controlling writing or reading of data when testing the memory array MA.
W, receives the timing signal TGMA. Further, the column switch circuit CSW receives a part of the address signal.

【0084】図7は、図6に示すメモリアレイMAのメ
モリ部MCAの一部を示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing a part of the memory section MCA of the memory array MA shown in FIG.

【0085】図7に示すメモリ部MCAは、複数のメモ
リブロックBLK0、BLK1、複数のセンスアンプS
A、複数のリードアンプRA、複数のスイッチSW、複
数のデータ線対DL、/DL、複数のビット線対BL、
/BL、複数のメモリセル(図示せず)および複数のワ
ード線(図示せず)を備えている。選択されたセンスア
ンプ回路SAによって増幅された一対のビット線BL、
/BL間の電位差が1ビットとして出力される。
The memory section MCA shown in FIG. 7 includes a plurality of memory blocks BLK0, BLK1, a plurality of sense amplifiers S
A, a plurality of read amplifiers RA, a plurality of switches SW, a plurality of data line pairs DL, / DL, a plurality of bit line pairs BL,
/ BL, a plurality of memory cells (not shown), and a plurality of word lines (not shown). A pair of bit lines BL amplified by the selected sense amplifier circuit SA,
The potential difference between / BL is output as one bit.

【0086】メモリブロックBLK0では、複数のセン
スアンプSAおよび複数のビット線対BL、/BLが、
たとえば64個のグループG1〜G64に分けられる。
図6に示すロウデコーダ回路RDECによって、1本の
ワード線(図示せず)が活性化される。複数のビット線
対BL、/BLには、活性化されたワード線に接続され
たメモリセルのデータが読み出される。図6に示すコラ
ムデコーダ回路CDECは、各グループG1〜G64の
中の複数のセンスアンプSAのうちの1つを活性化す
る。なお、コラムデコーダ回路CDECは、アドレス信
号に基づいてどのスイッチSWを活性化するかをも決定
する。活性化されたセンスアンプSAを通ったデータ
は、活性化されたスイッチSWおよびリードアンプRA
を介してコラムスイッチ回路CSWに出力される。
In memory block BLK0, a plurality of sense amplifiers SA and a plurality of bit line pairs BL and / BL are
For example, it is divided into 64 groups G1 to G64.
One word line (not shown) is activated by the row decoder circuit RDEC shown in FIG. The data of the memory cell connected to the activated word line is read out to the plurality of bit line pairs BL and / BL. The column decoder circuit CDEC shown in FIG. 6 activates one of the plurality of sense amplifiers SA in each of the groups G1 to G64. Note that the column decoder circuit CDEC also determines which switch SW is to be activated based on the address signal. Data passed through the activated sense amplifier SA is transmitted to the activated switch SW and read amplifier RA.
Is output to the column switch circuit CSW via the

【0087】図8は、図6および図7に示すコラムスイ
ッチ回路CSWの詳細を示す図である。
FIG. 8 is a diagram showing details of the column switch circuit CSW shown in FIGS. 6 and 7.

【0088】コラムスイッチ回路CSWは、コラムスイ
ッチブロックCSWB0〜CSWB7を有している。コ
ラムスイッチブロックCSWBは、複数のスイッチ、た
とえば複数のN型MOSトランジスタを有している。
The column switch circuit CSW has column switch blocks CSWB0 to CSWB7. The column switch block CSWB has a plurality of switches, for example, a plurality of N-type MOS transistors.

【0089】コラムスイッチ回路CSWは、データ線D
L00〜DL63を介して出力されるデータを内部デー
タバスMDまたはテストパターン出力バスTMOに出力
する。
The column switch circuit CSW is connected to the data line D
Data output via L00 to DL63 is output to internal data bus MD or test pattern output bus TMO.

【0090】データ線DL00〜DL63を介して出力
されるデータが内部データバスMDに出力される場合、
データ線DL00〜DL63を介して出力されるデータ
は、コラムスイッチ回路CSWによって間引かれる。つ
まり、コラムスイッチ回路CSWは、アドレス信号に基
づいて、データ線DL00〜DL63を介して出力され
るデータを間引く。内部データバスMDにデータを出力
するために、アドレス信号IAn、IAn+1、IAn+2
応じて各コラムスイッチブロックCSWB0〜CSWB
7の複数のスイッチS1のうちの1つが選択される。な
お、この場合、タイミング信号TGMAによって、各コ
ラムスイッチブロックCSWB0〜CSWB7の全ての
スイッチS2、S3は、オフ状態になる。
When data output via data lines DL00-DL63 is output to internal data bus MD,
Data output via data lines DL00 to DL63 is thinned out by column switch circuit CSW. That is, the column switch circuit CSW thins out the data output via the data lines DL00 to DL63 based on the address signal. In order to output data to the internal data bus MD, each of the column switch blocks CSWB0 to CSWB according to the address signals IA n , IA n + 1 , IA n + 2.
One of the seven switches S1 is selected. In this case, all the switches S2 and S3 of each of the column switch blocks CSWB0 to CSWB7 are turned off by the timing signal TGMA.

【0091】たとえば、コラムスイッチブロックCSW
B0では、データ線DL00に接続されるスイッチS1
が選択されると、データ線DL00を介して出力された
データが、内部バスMD0に送られる。
For example, column switch block CSW
In B0, the switch S1 connected to the data line DL00
Is selected, the data output via the data line DL00 is sent to the internal bus MD0.

【0092】コラムスイッチ回路CSWが、データ線D
L00〜DL63を介して出力されるデータをテストパ
ターン出力バスTMOに出力する場合、全てのデータが
コラムスイッチブロックCSWB0〜CSWB7のステ
イッチS3を介してテストパターン出力バスTMOに出
力される。なお、この場合、テストパターンを読み出す
ことを指示する制御信号TRWとタイミング信号TGM
Aによって、各コラムスイッチブロックCSWB0〜C
SWB7の全てのスイッチS3はオン状態となり、テス
トパターンを読み出すことを指示する制御信号TRWに
よって、各コラムスイッチブロックCSWB0〜CSW
B7の全てのスイッチS2はオフ状態となる。
The column switch circuit CSW is connected to the data line D
When data output through L00 to DL63 is output to the test pattern output bus TMO, all data is output to the test pattern output bus TMO via the stitch S3 of the column switch blocks CSWB0 to CSWB7. In this case, the control signal TRW instructing to read the test pattern and the timing signal TGM
By A, each column switch block CSWB0-C
All the switches S3 of SWB7 are turned on, and each of the column switch blocks CSWB0 to CSWB is controlled by a control signal TRW instructing to read a test pattern.
All switches S2 of B7 are turned off.

【0093】さらに、コラムスイッチ回路CSWは、内
部データバスMDまたは内部バスTMIから出力される
データをデータ線DL00〜DL63の一部/全てを介
してメモリ部MCAに出力する。
Further, column switch circuit CSW outputs data output from internal data bus MD or internal bus TMI to memory portion MCA via a part / all of data lines DL00-DL63.

【0094】内部データバスMDから出力されるデータ
がデータ線DL00〜DL63の一部を介してメモリ部
MCAに出力される場合、各コラムスイッチブロックC
SWB0〜CSWB7の複数のスイッチS1のうちの1
つがアドレス信号IAn、IAn+1、IAn+2に応じて選
択される。この場合、なお、各コラムスイッチブロック
CSWB0〜CSWB7の全てのスイッチS2、S3
は、タイミング信号TGMAに応じてオフ状態となる。
When data output from internal data bus MD is output to memory section MCA via a part of data lines DL00 to DL63, each column switch block C
One of the switches S1 of SWB0 to CSWB7
One is selected according to the address signals IA n , IA n + 1 , and IA n + 2 . In this case, all the switches S2 and S3 of each of the column switch blocks CSWB0 to CSWB7.
Is turned off in response to the timing signal TGMA.

【0095】たとえば、コラムスイッチブロックCSW
B0では、データ線DL00に接続されるスイッチS1
が選択されると、内部バスMD0から出力されるデータ
は、データ線DL00を介してメモリ部MCAに送られ
る。
For example, column switch block CSW
In B0, the switch S1 connected to the data line DL00
Is selected, the data output from the internal bus MD0 is sent to the memory unit MCA via the data line DL00.

【0096】内部バスTMIから出力されるデータがデ
ータ線DL00〜DL63の全部を介してメモリ部MC
Aに出力される場合、各コラムスイッチブロックCSW
B0〜CSWB7の複数のスイッチS2の全てが選択さ
れる。この場合、なお、テストパターンを書き込むこと
を指示する制御信号TRWとタイミング信号TGMAに
よって、各コラムスイッチブロックCSWB0〜CSW
B7の全てのスイッチS2はオン状態となり、テストパ
ターンを書き込むことを指示する制御信号TRWによっ
て各コラムスイッチブロックCSWB0〜CSWB7の
全てのスイッチS3はオフ状態となる。
Data output from internal bus TMI is supplied to memory unit MC via all data lines DL00-DL63.
A, each column switch block CSW
All of the plurality of switches S2 of B0 to CSWB7 are selected. In this case, each of the column switch blocks CSWB0 to CSWB is controlled by a control signal TRW instructing to write a test pattern and a timing signal TGMA.
All switches S2 of B7 are turned on, and all switches S3 of each of the column switch blocks CSWB0 to CSWB7 are turned off by a control signal TRW instructing to write a test pattern.

【0097】たとえば、コラムスイッチブロックCSW
B0では、データ線DL00〜DL07に接続されるス
イッチS2が選択され、内部バスTMI00〜TMI0
7から出力されるデータは、データ線DL00〜DL0
7を介してメモリ部MCAに送られる。
For example, a column switch block CSW
In B0, the switch S2 connected to the data lines DL00 to DL07 is selected, and the internal buses TMI00 to TMI0 are selected.
7 output data lines DL00-DL0.
7 to the memory unit MCA.

【0098】以下に、比較回路COMPの構成を図9を
用いて説明する。
The configuration of the comparison circuit COMP will be described below with reference to FIG.

【0099】図9は、比較回路COMPを示す図であ
る。比較回路COMPは、64個の排他的論理和回路E
X−NORと、1つの、65入力のアンド回路ANDを
備えている。
FIG. 9 is a diagram showing the comparison circuit COMP. The comparison circuit COMP includes 64 exclusive OR circuits E
An X-NOR and one AND circuit AND with 65 inputs are provided.

【0100】各排他的論理和回路EX−NORには、メ
モリアレイMAから読み出された64ビットのテストパ
ターンと、テストパターン生成回路PAMから出力切り
換え回路PSWを介して伝送されてきた64ビットのテ
ストパターンが入力される。両者のテストパターンが、
1ビットでも一致しなかった場合は、“L”レベルの信
号がアンド回路ANDから出力端子TOに出力され、両
者のテストパターンが全てのビットについて一致した場
合は、“H”レベルの信号がアンド回路ANDから出力
端子TOに出力される。
Each exclusive OR circuit EX-NOR has a 64-bit test pattern read from the memory array MA and a 64-bit test pattern transmitted from the test pattern generation circuit PAM via the output switching circuit PSW. A test pattern is input. Both test patterns are
If even one bit does not match, an “L” level signal is output from the AND circuit AND to the output terminal TO. If both test patterns match for all bits, an “H” level signal is output. The signal is output from the circuit AND to the output terminal TO.

【0101】なお、アンド回路ANDは、比較回路CO
MPの制御信号TGCPに応答して、開閉される。制御
信号TGCPは、タイミング発生回路RTGで発生され
る。
The AND circuit AND is connected to the comparison circuit CO
It is opened and closed in response to the control signal TGCP of the MP. Control signal TGCP is generated by timing generation circuit RTG.

【0102】以下に、図2に示す半導体記憶装置200
の試験モードのタイミングの一例を説明する。
Hereinafter, the semiconductor memory device 200 shown in FIG.
An example of the test mode timing will be described.

【0103】図10は、図2に示す半導体記憶装置20
0の試験モードのタイミングチャートを示す図である。
FIG. 10 shows the semiconductor memory device 20 shown in FIG.
FIG. 9 is a diagram showing a timing chart of a test mode of 0.

【0104】試験モードは、テストパターンがメモリア
レイMAに書き込まれるサイクル(書き込み)と、メモ
リアレイMAに記憶されているデータが読み出され、読
み出されたデータがテストパターン生成回路PAMから
のテストパターンと比較されるサイクル(比較)の2サ
イクルで行われる。
In the test mode, a cycle (write) in which a test pattern is written to the memory array MA, data stored in the memory array MA are read, and the read data is tested by the test pattern generation circuit PAM. This is performed in two cycles of a cycle (comparison) to be compared with the pattern.

【0105】試験モードは、テストイネーブル信号TE
の立ち上がりに同期して開始されている。これに限ら
ず、半導体記憶装置200が試験モードになりさえすれ
ば、どのような信号を用いてもよいし、信号の立ち上が
りを使用せずとも構わない。
In the test mode, the test enable signal TE
It is started in synchronization with the rise of. The present invention is not limited to this, and any signal may be used as long as the semiconductor memory device 200 is in the test mode, and the rising edge of the signal may not be used.

【0106】試験モードに入ると、テストパターンがメ
モリアレイMAに書き込まれる。タイミング発生回路T
Gは、ロウアドレスストローブ信号/RASの立ち下が
りで、制御信号TGADを立ち上げ、アドレス入力回路
ADBは、制御信号TGADの立ち上がりによって、ア
ドレス信号A1〜Anを取り込む。アドレス入力回路AD
Bは、アドレス信号A1〜Anを内部アドレス信号IAD
1〜IADnに変換してもよい。アドレス入力回路ADB
は、アドレス信号A1〜Anまたは内部アドレス信号IA
1〜IADnに基づくメモリアレイMAのメモリセルへ
のアクセスを開始する。
In the test mode, a test pattern is written to memory array MA. Timing generation circuit T
G is the falling of the row address strobe signal / RAS, raises the control signal TGAD, the address input circuit ADB is the rise of the control signal TGAD, fetches the address signal A 1 to A n. Address input circuit AD
B converts the address signals A 1 to An into the internal address signal IAD.
It may be converted to 1 ~IAD n. Address input circuit ADB
Are the address signals A 1 to An or the internal address signal IA.
D starts accessing the memory cells of the memory array MA based on 1 ~IAD n.

【0107】メモリアレイMAのアドレスを指示するア
ドレス信号が、タイミング発生回路TGが発生する制御
信号TGADと同期して取り込まれる。なお、図10に
示すタイミングチャートでは、タイミング発生回路TG
はロウアドレスストローブ信号/RASに応じて発生す
るが、制御信号TGADをコラムアドレスストローブ信
号/CASに応じて発生してもよい。
An address signal designating the address of memory array MA is taken in synchronization with control signal TGAD generated by timing generation circuit TG. In the timing chart shown in FIG. 10, the timing generation circuit TG
Is generated in response to a row address strobe signal / RAS, but the control signal TGAD may be generated in response to a column address strobe signal / CAS.

【0108】試験モードでは、メモリアレイMAのアド
レスだけでなく、テストパターン生成回路PAM内のテ
ストパターンを示すアドレスの取り込みを行うために、
タイミング発生回路TGRは、ロウアドレスストローブ
信号/RASの立ち下がりで、制御信号TGRAを立ち
上げる。これによってテストパターンのアドレス信号R
1〜RAmがアドレス入力回路RADBに取り込まれ
る。アドレス入力回路RADBは、アドレス信号RA1
〜RAmを内部アドレス信号IRAD1〜IRADmに変
換してもよい。アドレス信号RA1〜RAmまたは内部ア
ドレス信号IRAD 1〜IRADmによって示されるテス
トパターンがテストパターン生成回路PAMから読み出
される。
In the test mode, the address of the memory array MA is
Of the test pattern generation circuit PAM.
In order to capture the address indicating the test pattern,
The timing generation circuit TGR has a row address strobe.
The control signal TGRA rises at the fall of the signal / RAS.
increase. Thus, the test pattern address signal R
A1~ RAmIs taken into the address input circuit RADB.
You. Address input circuit RADB is provided with address signal RA.1
~ RAmTo the internal address signal IRAD1~ IRADmStrange
It may be replaced. Address signal RA1~ RAmOr internal
Dress signal IRAD 1~ IRADmTess indicated by
Pattern is read from the test pattern generation circuit PAM
Is done.

【0109】出力切換回路PSWは、制御信号TGMI
が“H”レベルのときに、テストパターン生成回路PA
Mからのテストパターンを内部バスTMIを介してメモ
リアレイMAに転送する。メモリアレイMAは、先のア
ドレス信号A1〜Anまたは内部アドレス信号IAD1
IADnによって示されるメモリセルに、このテストパ
ターンを記憶する。
Output switching circuit PSW outputs control signal TGMI.
Is at "H" level, the test pattern generation circuit PA
The test pattern from M is transferred to the memory array MA via the internal bus TMI. The memory array MA receives the previous address signals A 1 to An or the internal address signals IAD 1 to IAD 1 to An.
A memory cell indicated by the IAD n, and stores the test pattern.

【0110】テストパターンの書き込み制御信号TGM
Iは、テストイネーブル信号TEが“H”レベルであっ
て、試験モードになっているときに、ロウアドレススト
ローブ信号/RASおよびライトイネーブル信号/WE
の立ち下がりに応答して、タイミング発生回路TGRに
よって生成される。
Test pattern write control signal TGM
I indicates that when the test enable signal TE is at the “H” level and the test mode is set, the row address strobe signal / RAS and the write enable signal / WE
Is generated by the timing generation circuit TGR.

【0111】タイミング発生回路TGは、ロウアドレス
ストローブ信号/RASの立ち下がりで、制御信号TG
ADを立ち上げる。アドレス入力回路ADBは、制御信
号TGADの立ち上りに応じて、アドレス信号A1〜An
を取り込む。アドレス入力回路ADBは、アドレス信号
1〜Anを内部アドレス信号IAD1〜IADnに変換し
てもよい。
The timing generation circuit TG controls the control signal TG at the fall of the row address strobe signal / RAS.
Launch AD. The address input circuit ADB responds to the rise of the control signal TGAD, and outputs the address signals A 1 to An.
Take in. The address input circuit ADB may convert the address signals A 1 to An into internal address signals IAD 1 to IAD n .

【0112】アドレス信号A1〜Anまたは内部アドレス
信号IAD1〜IADnに基づきメモリアレイMAのメモ
リセルがアクセスされ、メモリアレイMAに記憶されて
いるテストパターンが読み出され、読み出されたテスト
パターンが比較回路COMPに転送される。
The memory cells of the memory array MA are accessed based on the address signals A 1 to An or the internal address signals IAD 1 to IAD n , and the test pattern stored in the memory array MA is read. The test pattern is transferred to the comparison circuit COMP.

【0113】一方、タイミング発生回路TGRは、ロウ
アドレスストローブ信号/RASの立ち下がりで、制御
信号TGRAを立ち上げる。
On the other hand, timing generation circuit TGR raises control signal TGRA at the fall of row address strobe signal / RAS.

【0114】アドレス入力回路RADBは、制御信号T
GRAの立ち上りに応じて、アドレス信号RA1〜RAm
をに取り込む。アドレス入力回路RADBは、アドレス
信号RA1〜RAmを内部アドレス信号IRAD1〜IR
ADmに変換してもよい。アドレス信号RA1〜RAm
たは内部アドレス信号IRAD1〜IRADmによって示
されるテストパターンがテストパターン生成回路PAM
から読み出され、出力切換回路PSWに送られる。
Address input circuit RADB provides control signal T
Address signals RA 1 to RA m in response to the rise of GRA
Take in to. Address input circuit RADB converts address signals RA 1 -RA m to internal address signals IRAD 1 -IRAD.
It may be converted to AD m . A test pattern indicated by address signals RA 1 to RA m or internal address signals IRAD 1 to IRAD m is used as a test pattern generation circuit PAM.
And is sent to the output switching circuit PSW.

【0115】出力切換回路PSWは、制御信号TGCP
Iが“H”レベルのときに、テストパターン生成回路P
AMからのテストパターンを比較回路COMPに転送す
る。
The output switching circuit PSW outputs the control signal TGCP
When I is at “H” level, the test pattern generation circuit P
The test pattern from the AM is transferred to the comparison circuit COMP.

【0116】テストパターンを比較するタイミングを制
御する制御信号TGCPIは、テストイネーブル信号T
Eが“H”レベルで、かつライトイネーブル信号/WE
が“H”レベルのときに、ロウアドレスストローブ信号
/RASの立ち下がりに応答して、タイミング発生回路
TGRによって生成される。
The control signal TGCPI for controlling the timing for comparing the test patterns is the test enable signal T
E is at “H” level and the write enable signal / WE
Is at "H" level, it is generated by the timing generation circuit TGR in response to the fall of the row address strobe signal / RAS.

【0117】制御信号TGCPIおよび上述した制御信
号TGMIは、共に、試験モード時にテストパターンの
書き込みおよび比較を行うものであるから、これらが行
われさえすれば、他のどのような方法によって生成され
ても構わない。
Since the control signal TGCPI and the above-described control signal TGMI both write and compare test patterns in the test mode, they can be generated by any other method as long as they are performed. No problem.

【0118】比較回路COMPは、制御信号TGCPに
応答して、メモリアレイMAから読み出されたテストパ
ターンとテストパターン生成回路PAMから出力切換回
路PSWを介して出力されたテストパターンを比較す
る。両者のテストパターンが一致すると、“H”レベル
の信号を出力端子TOに出力し、両者のテストパターン
が一致しなければ、“L”レベルの信号を出力端子TO
に出力する。出力端子TOのレベルが“H”の場合、そ
の半導体記憶装置200はその試験に合格し、出力端子
TOのレベルが“L”の場合、その半導体記憶装置20
0はその試験に不合格となる。
In response to control signal TGCP, comparison circuit COMP compares a test pattern read from memory array MA with a test pattern output from test pattern generation circuit PAM via output switching circuit PSW. If the two test patterns match, an "H" level signal is output to the output terminal TO. If the two test patterns do not match, an "L" level signal is output to the output terminal TO.
Output to When the level of the output terminal TO is “H”, the semiconductor memory device 200 passes the test, and when the level of the output terminal TO is “L”, the semiconductor memory device 20
0 fails the test.

【0119】本実施形態による半導体記憶装置200は
ワンチップであり、その内部でテストパターンが生成さ
れ、生成されたテストパターンがメモリアレイMAに記
憶される。テストパターン生成回路PAMで生成された
テストパターンと、メモリアレイMAから読み出された
テストパターンが比較される。このため、メモリアレイ
MAの複数のメモリセルが正常であるか否かが正確に検
出される。
The semiconductor memory device 200 according to the present embodiment is a one-chip, in which a test pattern is generated, and the generated test pattern is stored in the memory array MA. The test pattern generated by the test pattern generation circuit PAM is compared with the test pattern read from the memory array MA. Therefore, it is accurately detected whether or not a plurality of memory cells of the memory array MA are normal.

【0120】また、テストパターン生成回路PAMに
は、複数のアドレス信号に対応する複数のテストパター
ンが記録されており、テストパターン生成回路PAM
は、アドレス信号に応じて異なるテストパターンを出力
することが可能である。このため、メモリブロックに対
して、多くのテストを行うことができる。
A plurality of test patterns corresponding to a plurality of address signals are recorded in the test pattern generation circuit PAM.
Can output different test patterns depending on the address signal. Therefore, many tests can be performed on the memory block.

【0121】(実施形態3)以下に、第3の実施形態に
おける半導体記憶装置300を図11および図12を用
いて説明する。なお、半導体記憶装置300において、
第2の実施形態の半導体記憶装置200の構成と同じ構
成には、同じ番号を付し、基本的に説明を省略する。
Embodiment 3 Hereinafter, a semiconductor memory device 300 according to a third embodiment will be described with reference to FIGS. In the semiconductor memory device 300,
The same components as those of the semiconductor memory device 200 of the second embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description is basically omitted.

【0122】図11は、第3の実施形態における半導体
記憶装置300を示すブロック図である。
FIG. 11 is a block diagram showing a semiconductor memory device 300 according to the third embodiment.

【0123】第3の実施形態の半導体記憶装置300で
は、半導体記憶装置200のテストパターン生成回路P
AM用のアドレス端子RA00〜RA07を省略し、そ
の代わりに、メモリアレイMA用の入出力端子I/O0
〜I/O7をメモリアレイMAとテストパターン生成回
路PAMとで共用している。このため、半導体記憶装置
300の入出力回路I/OTの構成は、半導体記憶装置
200のデータ入出力回路I/Oの構成と異なる。
In the semiconductor memory device 300 of the third embodiment, the test pattern generation circuit P of the semiconductor memory device 200
The address terminals RA00 to RA07 for AM are omitted, and instead, the input / output terminals I / O0 for memory array MA are used.
To I / O7 are shared by the memory array MA and the test pattern generation circuit PAM. Therefore, the configuration of the input / output circuit I / OT of the semiconductor storage device 300 is different from the configuration of the data input / output circuit I / O of the semiconductor storage device 200.

【0124】半導体記憶装置200のデータ入出力端子
I/O0〜I/O7は、試験モード時には使用されな
い。このため、試験モード時に、テストパターン生成回
路PAMにアドレス信号を入力するために用いられても
よい。その結果、半導体記憶装置300では、アドレス
端子RA00〜RA07を設けることなく、テストパタ
ーン生成回路PAMにアドレス信号を入力することが可
能となる。
Data input / output terminals I / O0 to I / O7 of semiconductor memory device 200 are not used in the test mode. Therefore, it may be used to input an address signal to the test pattern generation circuit PAM in the test mode. As a result, in the semiconductor memory device 300, an address signal can be input to the test pattern generation circuit PAM without providing the address terminals RA00 to RA07.

【0125】図12は、図11に示す入出力回路I/O
Tを示す図である。
FIG. 12 shows the input / output circuit I / O shown in FIG.
FIG.

【0126】入出力回路I/OTは、入出力ブロックB
0〜B7を備えている。入出力ブロックB0〜B7のそ
れぞれは、入力バッファ回路Ib、出力バッファ回路I
o、インバータ回路INV、およびN型MOSトランジ
スタMN1、MN2を備えている。
The input / output circuit I / OT includes an input / output block B
0 to B7. Each of the input / output blocks B0 to B7 includes an input buffer circuit Ib and an output buffer circuit Ib.
o, an inverter circuit INV, and N-type MOS transistors MN1 and MN2.

【0127】入出力回路I/OTは、入出力制御信号T
GIOおよび/またはテストイネーブル信号TEによっ
て制御される。通常動作(試験モード以外)時では、入
出力回路I/OTが、データ入出力回路として動作し、
内部データバスMDを介してメモリアレイMAとの間で
データを授受する。試験モード時では、入出力回路I/
OTが、受け取ったデータ、つまり、アドレス信号を内
部バスRADを介してアドレス入力回路RADBに出力
する。
The input / output circuit I / OT has an input / output control signal T
Controlled by GIO and / or test enable signal TE. During normal operation (other than the test mode), the input / output circuit I / OT operates as a data input / output circuit,
Data is exchanged with the memory array MA via the internal data bus MD. In the test mode, the input / output circuit I /
The OT outputs the received data, that is, the address signal to the address input circuit RADB via the internal bus RAD.

【0128】出力バッファIoは、制御信号TGIOに
よって制御される。データがメモリアレイMAに出力さ
れるときと、およびアドレス信号がテストパターン生成
回路PAMに出力されるときには、出力バッファIo
は、制御信号TGIOに応答して、出力バッファIoの
出力側のインピーダンスを高くする。このため、データ
やアドレス信号は、入出力端子I/O0〜I/O7に逆
流しない。
The output buffer Io is controlled by a control signal TGIO. When data is output to memory array MA and when an address signal is output to test pattern generation circuit PAM, output buffer Io
Increases the impedance on the output side of the output buffer Io in response to the control signal TGIO. Therefore, data and address signals do not flow back to the input / output terminals I / O0 to I / O7.

【0129】通常動作時には、テストイネーブル信号T
Eが“L”レベルであるから、トランジスタMN1がオ
ンとなり、制御信号TGIOに応答し、たとえば、メモ
リアレイMAからのデータが入出力端子I/O0へと転
送される。また、テストイネーブル信号TEおよび制御
信号TGIOに応答し、その逆にもデータが転送され
る。
In normal operation, test enable signal T
Since E is at the “L” level, the transistor MN1 is turned on, and in response to the control signal TGIO, for example, data from the memory array MA is transferred to the input / output terminal I / O0. In addition, data is transferred in response to test enable signal TE and control signal TGIO, and vice versa.

【0130】試験モード時には、テストイネーブル信号
TEが“H”レベルであるから、トランジスタMN2が
オンとなり、たとえば、入力端子I/O0からのアドレ
ス信号がアドレス入力回路RADBへと転送される。
In the test mode, test enable signal TE is at "H" level, so that transistor MN2 is turned on, and, for example, an address signal from input terminal I / O0 is transferred to address input circuit RADB.

【0131】なお、上述したような動作が実現できるの
であれば、回路の構成や、制御信号などはどのような形
態をとってもかまわない。
Note that the circuit configuration and control signal may take any form as long as the above-described operation can be realized.

【0132】また、上述した例では、メモリアレイMA
またはテストパターン生成回路PAMがデータまたはア
ドレス信号を受け取るために、メモリアレイMA用の入
出力端子I/O0〜I/O7がメモリアレイMAとテス
トパターン生成回路PAMとで共用されたが、メモリア
レイMA用のアドレス端子A00〜A10の一部が、メ
モリアレイMAとテストパターン生成回路PAMとで共
用されてもよい。
In the above example, the memory array MA
Alternatively, the input / output terminals I / O0 to I / O7 for the memory array MA are shared by the memory array MA and the test pattern generation circuit PAM because the test pattern generation circuit PAM receives data or address signals. Some of the address terminals A00 to A10 for MA may be shared by the memory array MA and the test pattern generation circuit PAM.

【0133】なお、メモリアレイMA用のアドレス端子
A00〜A10の全てを用いて、テストパターン生成回
路PAMが受け取るためのアドレス信号が入力されても
よい。この場合、テストパターン発生回路PAMをアク
セスするためのアドレスのビット数が多くなるため、新
たな端子を設けることなく、テストパターンの種類を更
に増加させることが可能になる。
Note that an address signal to be received by the test pattern generation circuit PAM may be input using all of the address terminals A00 to A10 for the memory array MA. In this case, the number of bits of the address for accessing the test pattern generation circuit PAM increases, so that it is possible to further increase the types of test patterns without providing a new terminal.

【0134】試験モード時において使用する端子を通常
動作時に使用する端子と共用させることによって、ワン
チップの外部からテストパターン発生回路RAMにアド
レス信号を入力するための新たな端子を必要としない。
By sharing the terminal used in the test mode with the terminal used in the normal operation, a new terminal for inputting an address signal to the test pattern generation circuit RAM from outside the one chip is not required.

【0135】(実施形態4)以下に、第4の実施形態に
おける半導体記憶装置400を図13および図14を用
いて説明する。第4の実施形態では、第3の実施形態と
同様に、半導体記憶装置の端子の数を減らすことを目的
とする。
(Embodiment 4) Hereinafter, a semiconductor memory device 400 according to a fourth embodiment will be described with reference to FIGS. The fourth embodiment aims to reduce the number of terminals of a semiconductor memory device, as in the third embodiment.

【0136】なお、半導体記憶装置400において、第
2の実施形態の半導体記憶装置200の構成と同じ構成
には、同じ番号を付し、基本的に説明を省略する。
In the semiconductor memory device 400, the same components as those of the semiconductor memory device 200 of the second embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description is basically omitted.

【0137】図13は、第4の実施形態における半導体
記憶装置400を示すブロック図である。
FIG. 13 is a block diagram showing a semiconductor memory device 400 according to the fourth embodiment.

【0138】半導体記憶装置400では、半導体記憶装
置200のような出力端子TO(試験結果の出力端子)
を独立して設ける代わりに、半導体記憶装置400のあ
る端子、たとえばメモリアレイMA用の入出力端子I/
O0〜I/O7の1つを出力端子TOとして共用する。
In the semiconductor memory device 400, the output terminal TO (output terminal of the test result) as in the semiconductor memory device 200
Instead of being provided independently, a terminal of semiconductor memory device 400, for example, input / output terminal I /
One of O0 to I / O7 is shared as output terminal TO.

【0139】図14は、図13に示す半導体記憶装置4
00における入出力回路I/OUを示す図である。
FIG. 14 shows the semiconductor memory device 4 shown in FIG.
FIG. 2 is a diagram showing an input / output circuit I / OU at 00.

【0140】入出力回路I/OUは、入出力ブロックB
B0〜BB7を備えている。たとえば、入出力ブロック
BB0の入出力端子I/O0が、出力端子TOとして用
いられているとする。
The input / output circuit I / OU includes an input / output block B
B0 to BB7 are provided. For example, it is assumed that the input / output terminal I / O0 of the input / output block BB0 is used as the output terminal TO.

【0141】入出力ブロックBB0は、入力バッファ回
路Ib、出力バッファ回路Io、インバータ回路IN
V、およびN型MOSトランジスタMN1、MN2を備
え、入出力ブロックBB1〜BB7のそれぞれは、入力
バッファ回路Ib、出力バッファ回路Io、インバータ
回路INV、およびN型MOSトランジスタMN1を備
えている。
The input / output block BB0 includes an input buffer circuit Ib, an output buffer circuit Io, and an inverter circuit IN
V and N-type MOS transistors MN1 and MN2. Each of the input / output blocks BB1 to BB7 includes an input buffer circuit Ib, an output buffer circuit Io, an inverter circuit INV, and an N-type MOS transistor MN1.

【0142】入出力ブロックBB0は、図12に示す入
出力ブロックB0と同様に、テストイネーブル信号TE
によって、通常の動作と試験モード時での動作とが切り
換えられる。
The input / output block BB0, like the input / output block B0 shown in FIG.
Thus, the normal operation and the operation in the test mode are switched.

【0143】入出力ブロックBB0では、出力バッファ
IoがメモリアレイMAにデータを出力するときに、制
御信号TGIOに応答して、出力側のインピーダンスを
高くする。
In the input / output block BB0, when the output buffer Io outputs data to the memory array MA, the output side impedance is increased in response to the control signal TGIO.

【0144】通常動作時には、テストイネーブル信号T
Eが“L”レベルであるから、トランジスタMN1がオ
ンとなり、制御信号TGIOに応答し、たとえば、メモ
リアレイMAからのデータが入出力端子I/O0へと転
送される。また、制御信号TGIOに応答し、その逆に
もデータが転送される。
In normal operation, test enable signal T
Since E is at the “L” level, the transistor MN1 is turned on, and in response to the control signal TGIO, for example, data from the memory array MA is transferred to the input / output terminal I / O0. Data is transferred in response to the control signal TGIO and vice versa.

【0145】試験モード時には、テストイネーブル信号
TEが“H”レベルであるから、トランジスタMN2が
オンとなり、比較回路COMPからの信号が、入出力端
子I/O0へと転送される。
In the test mode, since the test enable signal TE is at the “H” level, the transistor MN2 is turned on, and the signal from the comparison circuit COMP is transferred to the input / output terminal I / O0.

【0146】なお、本実施形態が、第3の実施形態と組
み合わされてもよい。
This embodiment may be combined with the third embodiment.

【0147】試験モード時において使用する端子を通常
動作時に使用する端子と共用させることによって、比較
回路COMPからの試験の結果を示す信号を出力する新
たな出力端子TOを必要としない。
By sharing the terminal used in the test mode with the terminal used in the normal operation, there is no need for a new output terminal TO for outputting a signal indicating the result of the test from the comparison circuit COMP.

【0148】[0148]

【発明の効果】本発明の半導体記憶装置では、メモリブ
ロックとテストパターン生成回路を接続する第1バスラ
インの幅が、半導体記憶装置の外部とメモリブロックを
接続する第2バスラインの幅より大きい。このため、本
発明の半導体記憶装置では、第1バスラインを用いた方
が、ワンチップの外部から入力されるテストパターンを
メモリブロックに書き込む方法、つまり、第2バスライ
ンを用いてテストパターンを書き込むことよりも、高速
にテストパターンをメモリブロックに書き込むことがで
きる。
According to the semiconductor memory device of the present invention, the width of the first bus line connecting the memory block and the test pattern generation circuit is larger than the width of the second bus line connecting the outside of the semiconductor memory device and the memory block. . For this reason, in the semiconductor memory device of the present invention, using the first bus line is a method of writing a test pattern input from outside of one chip into the memory block, that is, using the second bus line to write the test pattern. The test pattern can be written to the memory block faster than writing.

【0149】本発明の他の半導体記憶装置は比較器を有
している。テストパターン生成回路が生成したテストパ
ターンがメモリブロックに書き込まれ、その後、メモリ
ブロックに記憶されているテストパターンが読み出され
る。比較器は、メモリブロックから読み出されたテスト
パターンと、テストパターン生成回路が生成したテスト
パターンとを比較する。このため、メモリブロックの複
数のメモリセルが正常であるか否かが正確に検出され
る。
Another semiconductor memory device of the present invention has a comparator. The test pattern generated by the test pattern generation circuit is written to the memory block, and thereafter, the test pattern stored in the memory block is read. The comparator compares the test pattern read from the memory block with the test pattern generated by the test pattern generation circuit. Therefore, it is accurately detected whether or not a plurality of memory cells in the memory block are normal.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】第1の実施形態における半導体記憶装置100
を示すブロック図である。
FIG. 1 is a semiconductor memory device 100 according to a first embodiment;
FIG.

【図2】第2の実施形態における半導体記憶装置200
を示すブロック図である。
FIG. 2 shows a semiconductor memory device 200 according to a second embodiment;
FIG.

【図3】テストパターン生成回路PAMの一構成例を示
す図である。
FIG. 3 is a diagram illustrating a configuration example of a test pattern generation circuit PAM.

【図4】テストパターンを書き換えることができるテス
トパターン生成回路PAMの一構成例を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a configuration example of a test pattern generation circuit PAM capable of rewriting a test pattern.

【図5】図3または図4に示すメモリ部WLに記憶され
る256通りのテストパターンの一例を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing an example of 256 test patterns stored in the memory unit WL shown in FIG. 3 or FIG.

【図6】メモリアレイMAの一構成例を示す図である。FIG. 6 is a diagram illustrating a configuration example of a memory array MA.

【図7】図6に示すメモリアレイMAのメモリ部MCA
の一部を示す図である。
FIG. 7 shows a memory section MCA of the memory array MA shown in FIG.
It is a figure which shows a part of.

【図8】図6および図7に示すコラムスイッチ回路CS
Wの詳細を示す図である。
FIG. 8 shows a column switch circuit CS shown in FIGS. 6 and 7;
FIG. 4 is a diagram showing details of W.

【図9】比較回路COMPを示す図である。FIG. 9 is a diagram illustrating a comparison circuit COMP.

【図10】図2に示す半導体記憶装置200の試験モー
ドのタイミングチャートを示す図である。
10 is a diagram showing a timing chart of a test mode of the semiconductor memory device 200 shown in FIG.

【図11】第3の実施形態における半導体記憶装置30
0を示すブロック図である。
FIG. 11 shows a semiconductor memory device 30 according to a third embodiment.
FIG.

【図12】図11に示す入出力回路I/OTを示す図で
ある。
12 is a diagram showing an input / output circuit I / OT shown in FIG.

【図13】第4の実施形態における半導体記憶装置40
0を示すブロック図である。
FIG. 13 shows a semiconductor memory device 40 according to a fourth embodiment.
FIG.

【図14】図13に示す半導体記憶装置400における
入出力回路I/OUを示す図である。
14 is a diagram showing an input / output circuit I / OU in the semiconductor memory device 400 shown in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

MA メモリアレイ ADB アドレス入力回路 I/O データ入出力回路 TG タイミング発生回路 PAM テストパターン発生回路 RADB アドレス入力回路 PSW 出力切り換え回路 RTG タイミング発生回路 COMP 比較回路 /RAS ロウアドレスストローブ信号 /CAS コラムアドレスストローブ信号 TE テストイネーブル信号 /WE ライトイネーブル信号 /OE アウトプットイネーブル信号 A00〜A10 アドレス信号端子 RA00〜RA07 アドレス信号端子 I/O0〜I/O7 データ入出力端子 TGIO,TGMA,TGAD,TGRA,TGPA
M,TGMI,TGCPI,TGCP,CMPI 制御
信号 IAD 内部アドレスバス IRAD パターン発生回路PAMの内部アドレスバス TMI テストパターン入力バス TMO テストパターン出力バス TO 出力端子 MB メモリブロック TB テスト回路ブロック TPD テストパターン発生回路の出力 MD0〜MD7 データバス
MA memory array ADB address input circuit I / O data input / output circuit TG timing generation circuit PAM test pattern generation circuit RADB address input circuit PSW output switching circuit RTG timing generation circuit COMP comparison circuit / RAS row address strobe signal / CAS column address strobe signal TE test enable signal / WE write enable signal / OE output enable signal A00-A10 Address signal terminal RA00-RA07 Address signal terminal I / O0-I / O7 Data input / output terminal TGIO, TGMA, TGAD, TGRA, TGPA
M, TGMI, TGCPI, TGCP, CMPI Control signal IAD Internal address bus IRAD Internal address bus of pattern generation circuit PAM TMI test pattern input bus TMO test pattern output bus TO output terminal MB memory block TB test circuit block TPD test pattern generation circuit Output MD0-MD7 Data bus

フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI G11C 11/34 371A (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G11C 29/00 G11C 11/401 G01R 31/28 G01R 31/3183 Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 identification code FI G11C 11/34 371A (58) Investigated field (Int.Cl. 6 , DB name) G11C 29/00 G11C 11/401 G01R 31/28 G01R 31 / 3183

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 複数のメモリセルを有するメモリブロッ
クと、前記メモリブロックをテストするための少なくと
も1つのテストパターンを生成するテストパターン生成
回路とをワンチップ上に備えた半導体記憶装置であっ
て、 前記メモリブロックと前記テストパターン生成回路を接
続する第1バスラインの幅が、前記半導体記憶装置の外
部と前記メモリブロックを接続する第2バスラインの幅
より大きい半導体記憶装置。
1. A semiconductor memory device comprising: a memory block having a plurality of memory cells; and a test pattern generation circuit for generating at least one test pattern for testing the memory block on a single chip, A semiconductor memory device wherein a width of a first bus line connecting the memory block and the test pattern generation circuit is larger than a width of a second bus line connecting the outside of the semiconductor memory device and the memory block.
【請求項2】 前記テストパターン生成回路は、複数の
テストパターンを記憶する記憶部を有し、前記複数のテ
ストパターンのうちの1つが、前記テストパターン生成
回路が受け取るアドレス信号に応じて、出力される請求
項1に記載の半導体記憶装置。
2. The test pattern generation circuit has a storage unit for storing a plurality of test patterns, and one of the plurality of test patterns is output according to an address signal received by the test pattern generation circuit. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein:
【請求項3】 前記半導体記憶装置が、前記メモリブロ
ックから読み出されたテストパターンと、前記テストパ
ターン生成回路が生成したテストパターンとを比較する
比較器を備えた請求項1または2に記載の半導体記憶装
置。
3. The semiconductor memory device according to claim 1, further comprising a comparator for comparing a test pattern read from the memory block with a test pattern generated by the test pattern generation circuit. Semiconductor storage device.
【請求項4】 前記テストパターン生成回路によって生
成されたテストパターンを前記メモリブロックまたは前
記比較器に出力することが可能な切り換えスイッチを備
えた請求項3に記載の半導体記憶装置。
4. The semiconductor memory device according to claim 3, further comprising a changeover switch capable of outputting a test pattern generated by said test pattern generation circuit to said memory block or said comparator.
【請求項5】 前記半導体記憶装置が、前記メモリブロ
ックにデータを入出力する複数の端子を備え、 前記テストパターン生成回路が、前記複数の端子を介し
て入力される前記アドレス信号に応じて、複数のテスト
パターンを生成する請求項1に記載の半導体記憶装置。
5. The semiconductor memory device includes a plurality of terminals for inputting / outputting data to / from the memory block, and the test pattern generation circuit responds to the address signal input through the plurality of terminals. 2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein a plurality of test patterns are generated.
【請求項6】 前記半導体記憶装置が、前記メモリブロ
ックにデータを入出力する複数の端子を備え、 前記複数の端子のうちの少なくとも1つが、前記比較器
が、前記メモリブロックから読み出されたテストパター
ンと、前記テストパターン生成回路が生成したテストパ
ターンとを比較した結果を出力する請求項3に記載の半
導体記憶装置。
6. The semiconductor memory device includes a plurality of terminals for inputting / outputting data to / from the memory block, and at least one of the plurality of terminals is read by the comparator from the memory block. 4. The semiconductor memory device according to claim 3, wherein a result of comparing a test pattern with a test pattern generated by the test pattern generation circuit is output.
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