JP2980472B2 - Semiconductor storage device - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 41
- 230000002950 deficient Effects 0.000 claims description 57
- 230000007547 defect Effects 0.000 claims description 32
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 23
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 19
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 6
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 102100022357 GATOR complex protein NPRL3 Human genes 0.000 description 2
- 101150066297 NPR3 gene Proteins 0.000 description 2
- 101150109054 RRD1 gene Proteins 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- 102200091804 rs104894738 Human genes 0.000 description 2
- 102100035248 Alpha-(1,3)-fucosyltransferase 4 Human genes 0.000 description 1
- 101150018759 CG10 gene Proteins 0.000 description 1
- 102100026979 Exocyst complex component 4 Human genes 0.000 description 1
- 101001022185 Homo sapiens Alpha-(1,3)-fucosyltransferase 4 Proteins 0.000 description 1
- 101000911699 Homo sapiens Exocyst complex component 4 Proteins 0.000 description 1
- 101000692872 Homo sapiens Regulator of microtubule dynamics protein 1 Proteins 0.000 description 1
- 101000667643 Homo sapiens Required for meiotic nuclear division protein 1 homolog Proteins 0.000 description 1
- 101000652315 Homo sapiens Synaptosomal-associated protein 25 Proteins 0.000 description 1
- 101000835093 Homo sapiens Transferrin receptor protein 1 Proteins 0.000 description 1
- 102100026432 Regulator of microtubule dynamics protein 1 Human genes 0.000 description 1
- 102100030552 Synaptosomal-associated protein 25 Human genes 0.000 description 1
- 102100026144 Transferrin receptor protein 1 Human genes 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000000116 mitigating effect Effects 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 201000002636 rippling muscle disease 1 Diseases 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C29/00—Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
- G11C29/70—Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring
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-
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- Static Random-Access Memory (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は半導体記憶装置に係わ
り、特に冗長回路を有するものに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a semiconductor memory device having a redundant circuit.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、半導体記憶装置において、大容量
化に伴なう歩留まりの低下を防ぐために冗長構成とする
ことが多く行われている。即ち、製造工程中に発生した
チップ上のビット不良やカラム不良、あるいはロー不良
等による歩留まりの低下を緩和する目的で、チップ上に
予め予備のメモリセルアレイを搭載しておき、検査によ
り発見された不良箇所を予備のセルに置き換えて不良チ
ップを救済する。このような冗長回路を備えた従来の装
置には、例えば1982 IEEE International Solid-State
Cirduit Conference Digest of Technical Paper, “A
64Kb CMOS SRAMs”,S.Konishi.,et al.,pp.258-259.に
記載されたものがある。2. Description of the Related Art In recent years, a semiconductor memory device is often provided with a redundant configuration in order to prevent a decrease in yield due to an increase in capacity. That is, a spare memory cell array is mounted on the chip in advance and found by inspection for the purpose of mitigating a decrease in yield due to a bit defect, a column defect, or a row defect on the chip that occurred during the manufacturing process. A defective chip is replaced by replacing a defective portion with a spare cell. Conventional devices with such redundant circuits include, for example, the 1982 IEEE International Solid-State
Cirduit Conference Digest of Technical Paper, “A
64Kb CMOS SRAMs ", S.Konishi., Et al., Pp. 258-259.
【0003】ここで、冗長構成を活用して不良ビットを
予備セルアレイに置き換えるためには、不良セルを選択
するアドレス信号が外部から入力された場合、予備のセ
ルアレイをアクセスする機構を実現することが必要とな
る。Here, in order to replace a defective bit with a spare cell array by utilizing a redundant configuration, a mechanism for accessing the spare cell array when an address signal for selecting a defective cell is externally input is realized. Required.
【0004】一般には、配線層等を用いてヒューズ素子
を形成しておき、レーザを照射して溶断するレーザブロ
ーを行いこのようなアクセス機構を実現することが行わ
れている。例えば、行(ロー)単位で不良セルを救済す
るSRAMでは、各ワード線とワード線を駆動する回路
との間にヒューズが配置されている。そして、不良行の
ワード線に設けられているヒューズを予めレーザでブロ
ーしておくことで、このワード線を選択するアドレス信
号が入力されても活性化されないようにしている。この
ようなSRAMの従来例として、例えば特開昭60−1
8899号公報、あるいは特開昭60−20397号公
報に開示されたものがある。In general, a fuse element is formed using a wiring layer or the like, and a laser blow for irradiating a laser to blow is performed to realize such an access mechanism. For example, in an SRAM that relieves defective cells in units of rows (rows), fuses are arranged between each word line and a circuit that drives the word line. Then, the fuse provided on the word line of the defective row is blown by a laser in advance, so that even if an address signal for selecting this word line is inputted, it is not activated. A conventional example of such an SRAM is disclosed in, for example,
No. 8899 or JP-A-60-20397.
【0005】このような従来の装置として、1024本
の通常行に8本の予備行が配置されたSRAMの構成を
図12に示す。この装置では、通常のメモリセルMCを
セクション毎に分割して駆動するために、ワード線が2
重に配置されている。FIG. 12 shows a configuration of an SRAM in which eight spare rows are arranged in 1024 normal rows as such a conventional device. In this device, in order to drive a normal memory cell MC by dividing it into sections, two word lines are provided.
Are arranged in layers.
【0006】メモリセルアレイNMA1501の端部に
は、ローメインデコーダRMD1501が配置されてい
る。このローメインデコーダRMD1501には、通常
メインワード線NMW毎に、NAND回路NA150
1、2段のインバータから成るワード線バッファWB1
501、及び不良ローアイソレーション用ヒューズFU
1501が直列に接続されている。ローメインデコーダ
RMD1501には、図13に示されたアドレスデコー
ダAD1601が生成するロープリデコード信号が与え
られる。A row main decoder RMD1501 is arranged at an end of the memory cell array NMA1501. The row main decoder RMD1501 usually includes a NAND circuit NA150 for each main word line NMW.
Word line buffer WB1 composed of one and two stage inverters
501 and fuse FU for defective low isolation
1501 are connected in series. The row predecode signal generated by the address decoder AD1601 shown in FIG. 13 is supplied to the row main decoder RMD1501.
【0007】図13に示されたように、アドレスデコー
ダAD1601には例えば10ビットのアドレス信号が
外部から入力端子Ax0〜Ax9に入力される。アドレス信
号は、ロープリデコーダRPD1601により解読さ
れ、ロープリデコード信号/X0 ・/X1 ,X0 ・/X
1 ,…として出力される。この信号は、後述する予備ロ
ーデコーダRRD1801にも与えられ、予備ロー選択
信号として出力されて予備メモリセルアレイに与えられ
る。As shown in FIG. 13, for example, a 10-bit address signal is externally input to the input terminals Ax0 to Ax9 to the address decoder AD1601. The address signal is decoded by the row predecoder RPD1601, and the row predecode signals / X0 ./X1, X0.
Output as 1, ... This signal is also applied to a spare row decoder RRD1801 described later, output as a spare row selection signal, and applied to a spare memory cell array.
【0008】メモリセルアレイNMA1501の行方向
には、各セクション毎にカラムデコーダCD1501と
セクションデコーダSD1501とが設けられている。In the row direction of the memory cell array NMA1501, a column decoder CD1501 and a section decoder SD1501 are provided for each section.
【0009】図12において、メモリセルMCの行方向
の選択は、次のように行われる。ロープリデコード信号
がローメインデコーダRMD1501に与えられ、10
24本の通常メインワード線NMWのうちのいずれか1
本が選択される。さらに、セクションデコーダSD15
01によりいずれかのセクションが選択され、そのセク
ション内のワード線SWが立ち上がる。In FIG. 12, the selection of the memory cell MC in the row direction is performed as follows. The row predecode signal is supplied to the row main decoder RMD1501,
Any one of the 24 normal main word lines NMW
A book is selected. Further, the section decoder SD15
01 selects any section, and the word line SW in that section rises.
【0010】行方向の選択は、カラムデコーダCD15
01によりいずれか1本のビット線が選択されることで
行われる。The selection in the row direction is performed by the column decoder CD15.
This is performed by selecting any one bit line by 01.
【0011】予備メモリセルアレイRMWには、予備の
メモリセルが8行分配置されている。この予備メモリセ
ルアレイRMWの端部には、予備メインワード線RMW
を選択するための予備ワード線バッファWB1501が
設けられている。予備ワード線バッファWB1501に
は、図14に示され前述した予備ローデコーダRRD1
801が生成した予備ローデコード信号が入力される。In the spare memory cell array RMW, spare memory cells for eight rows are arranged. A spare main word line RMW is provided at an end of the spare memory cell array RMW.
Are provided. A spare word line buffer WB1501 is provided for selecting. The spare row decoder RRD1 shown in FIG.
The spare row decode signal generated by the block 801 is input.
【0012】この図14に示された予備ローデコーダR
RD1801は、特開昭63−168900号公報にも
開示されているもので、上述したロープリデコード信号
/X0 ・/X1 ,X0 ・/X1 ,…が入力される。入力
されたロープリデコード信号は、Pチャネルトランジス
タ及びNチャネルトランジスタが並列に接続されたスイ
ッチ用CMOSトランスミッションゲート回路TGを介
してNAND回路NA1801に入力される。ここで、
スイッチ用CMOSトランスミッションゲート回路TG
内における各ゲートの開閉状態は、2組のヒューズ選択
回路FS1801及びFS1802からの出力信号F,
/Fにより決定される。この信号F,/Fによりいずれ
か一つのゲートが開き、4つのプリデコード信号のうち
のいずれか一つが通過して出力される。The spare row decoder R shown in FIG.
The RD 1801 is also disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-168900, and receives the above-mentioned row predecode signals /X0./X1, X0./X1,. The input row predecode signal is input to a NAND circuit NA1801 via a switching CMOS transmission gate circuit TG in which a P-channel transistor and an N-channel transistor are connected in parallel. here,
CMOS transmission gate circuit TG for switch
The open / closed state of each gate in the output signal F, from the two sets of fuse selection circuits FS1801 and FS1802,
/ F. One of the gates is opened by the signals F and / F, and any one of the four predecode signals passes through and is output.
【0013】スイッチ用CMOSトランスミッションゲ
ート回路TGは複数設けられており、それぞれの出力信
号SP01i 〜SP89i はNAND回路NA1801に入
力される。さらにこのNAND回路NA1801には、
複数の予備ローデコーダRRD1801のうちのいずれ
かを選択するためのスペアイネーブルシグニチャ回路S
ES1701からのスペアイネーブル信号SPEi が入
力される。A plurality of switching CMOS transmission gate circuits TG are provided, and respective output signals SP01i to SP89i are input to a NAND circuit NA1801. Further, this NAND circuit NA1801 has
Spare enable signature circuit S for selecting any of a plurality of spare row decoders RRD1801
The spare enable signal SPEi from the ES 1701 is input.
【0014】この予備ローデコーダRRD1801が選
択されないときは、スペアイネーブル信号SPEi がロ
ウレベルであり、信号SP01i 〜SP89i とは無関係に
ハイレベルの予備ローデコード信号が出力される。スペ
アイネーブル信号SPEi がハイレベルのときは、それ
ぞれのスイッチ用CMOSトランスミッションゲート回
路TGを通過した信号SP01i 〜SP89i に基づいて予
備ローデコード信号のレベルが決定される。When spare row decoder RRD 1801 is not selected, spare enable signal SPEi is at a low level, and a high-level spare row decode signal is output irrespective of signals SP01i to SP89i. When the spare enable signal SPEi is at the high level, the level of the spare row decode signal is determined based on the signals SP01i to SP89i that have passed through the respective switching CMOS transmission gate circuits TG.
【0015】ヒューズ選択回路FSは、図15に示され
るようにヒューズFU1701、インバータIN170
1、容量C1701及びC1702、Nチャネルトラン
ジスタN1701を備えている。そして、ヒューズFU
1701がブローされているか否かにより、信号F及び
/Fのレベルの組み合わせが異なる。ヒューズFU17
01がブローされていない場合は、信号Fはハイレベル
で信号/Fはロウレベルである。ヒューズFU1701
がブローされているときは、逆に信号Fはロウレベルで
信号/Fはハイレベルである。The fuse selection circuit FS includes a fuse FU 1701 and an inverter IN 170 as shown in FIG.
1, capacitors C1701 and C1702, and an N-channel transistor N1701. And fuse FU
The combination of the levels of the signals F and / F differs depending on whether or not the signal 1701 is blown. Fuse FU17
When 01 is not blown, the signal F is at a high level and the signal / F is at a low level. Fuse FU1701
Is blown, the signal F is low and the signal / F is high.
【0016】このような構成を備えた従来のSRAMに
おいて、通常行のいずれかに不良がある場合は、その不
良の存在する行の不良ローアイソレーション用ヒューズ
FU1501をレーザによりブローする。これにより、
この不良行を選択するアドレス信号が入力されても、こ
の不良行はアクセスされない。さらに、各通常メインワ
ード線NMWは、図12に示されるようにノーマリオン
のPチャネルトランジスタP1501によりハイレベル
に固定されるため、フローティング状態とはならず非選
択状態を維持する。In a conventional SRAM having such a configuration, if any of the normal rows has a defect, the defective low isolation fuse FU1501 in the defective row is blown by a laser. This allows
Even if an address signal for selecting the defective row is input, the defective row is not accessed. Further, since each normal main word line NMW is fixed at a high level by a normally-on P-channel transistor P1501 as shown in FIG. 12, it does not enter a floating state but maintains a non-selected state.
【0017】この不良行が選択されたときは、替わりに
いずれかの予備行が自動的に選択される。予備行のうち
いずれかを選択するために、予備ローデコーダRRD1
801のヒューズ選択回路FSに対してもヒューズブロ
ーを行っておく必要がある。図14に示されたように、
1本の予備ローを選択するためには、最大で10本のロ
ープリデコード信号/X0 ・/X1 ,X0 ・/X1 ,
…,X8 ・X9 と、さらに予備ローデコーダRRD18
01を選択するためのスペアイネーブルシグニチャ回路
SES1701の1本を加えた最大で合計11本のブロ
ーが必要である。When this defective row is selected, one of the spare rows is automatically selected instead. To select any of the spare rows, a spare row decoder RRD1
It is necessary to perform fuse blowing on the fuse selection circuit FS 801 as well. As shown in FIG.
In order to select one spare row, a maximum of ten row predecode signals / X0 ./X1, X0.
.., X8 and X9 and a spare row decoder RRD18
A total of 11 blows is required, including a spare enable signature circuit SES1701 for selecting 01.
【0018】このような構成を備えた従来のSRAMの
うち、通常メインワード線NMWと予備メインワード線
RMWの回路構成のみを取り出して図示したものが図1
6である。上述したように、1024行の通常メインワ
ード線NMWには、NAND回路から成るローメインデ
コーダRMD1901、ワード線バッファWB150
1、及びヒューズFU1901が直列に配列されてい
る。8行の予備メインワード線RMWには、ワード線バ
ッファWB1901が配置されている。この通常メイン
ワード線NMW及び予備メインワード線RMWは、ロウ
レベルのときに選択状態になる。FIG. 1 is a circuit diagram of a conventional SRAM having such a configuration, in which only the circuit configuration of the normal main word line NMW and the spare main word line RMW is shown.
6. As described above, the row main decoder RMD1901 composed of a NAND circuit and the word line buffer WB150 are connected to the 1024 rows of normal main word lines NMW.
1 and the fuse FU1901 are arranged in series. A word line buffer WB1901 is arranged for the eight rows of spare main word lines RMW. The normal main word line NMW and the spare main word line RMW are in a selected state when at the low level.
【0019】他の従来のSRAMにおける通常メインワ
ード線NMWと予備メインワード線RMWの構成を図1
7に示す。通常メインワード線NMWの端部に、ローメ
インデコーダRMD2001、インバータIN200
2、ヒューズFU2001、インバータIN2001が
直列に接続されている。図16に示されたものと異な
り、ここではヒューズFU2001はインバータIN2
001とインバータIN2002との間に接続されてい
る。通常メインワード線NMWの負荷容量が大きい場合
には、このように信号線よりも抵抗の大きいヒューズF
Uをワード線バッファWBのインバータIN2001と
IN2002の間に設けることで、充放電の速度を高速
化させることができる。FIG. 1 shows a configuration of a normal main word line NMW and a spare main word line RMW in another conventional SRAM.
FIG. Normally, the row main decoder RMD2001 and the inverter IN200 are connected to the end of the main word line NMW.
2. The fuse FU2001 and the inverter IN2001 are connected in series. Unlike the one shown in FIG. 16, here, the fuse FU2001 is connected to the inverter IN2.
001 and the inverter IN2002. Normally, when the load capacity of the main word line NMW is large, the fuse F
By providing U between the inverters IN2001 and IN2002 of the word line buffer WB, the charge / discharge speed can be increased.
【0020】ここで、インバータIN2001とIN2
002とを接続するノードには、Nチャネルトランジス
タN2001及びN2002のドレインが接続されてい
る。このトランジスタN2001及びN2002のソー
スは接地されている。トランジスタN2001はインバ
ータIN2001の出力ノードにゲートが接続されてお
り、トランジスタN2002はノーマリオン状態にあ
る。トランジスタN2001は、かならずしも必要では
ないが、通常メインワード線NMW2001のレベルを
フィードバックしてインバータIN2001の入力ノー
ドのレベルを安定して保持する役目を持っている。ま
た、トランジスタN2002は、ヒューズFU2001
をブローした場合にインバータIN2001の入力ノー
ドのレベルを確実にロウレベルに保持するために設けら
れており、駆動力はインバータIN2001及び200
2を構成するトランジスタよりは十分に低く設定されて
いる。この通常メインワード線NMWと予備メインワー
ド線RMWは、ロウレベルのとき選択状態になる。Here, inverters IN2001 and IN2
002 is connected to the drains of N-channel transistors N2001 and N2002. The sources of the transistors N2001 and N2002 are grounded. The gate of the transistor N2001 is connected to the output node of the inverter IN2001, and the transistor N2002 is in a normally-on state. Although not necessarily required, the transistor N2001 normally has a function of feeding back the level of the main word line NMW2001 to stably maintain the level of the input node of the inverter IN2001. The transistor N2002 is connected to the fuse FU2001.
Is provided to reliably maintain the level of the input node of the inverter IN2001 at the low level when the inverter IN2001 and the inverter IN2001 are driven.
2 is set sufficiently lower than that of the transistor constituting the second transistor. The normal main word line NMW and the spare main word line RMW are in a selected state when at low level.
【0021】図18に、他のSRAMにおける通常メイ
ンワード線NMWと予備メインワード線RMWの構成を
示す。この通常メインワード線NMW及び予備メインワ
ード線RMWは、図16及び図17に示されたものとは
逆に、ハイレベルのときに選択状態となる。このため、
それぞれのワード線に設けられたインバータの段数が図
16及び図17のものとは異なり1段となっている。通
常メインワード線NMWの端部には、NAND回路から
成るローメインデコーダRMD2101、1つのインバ
ータから成るワード線バッファWB2102、及びヒュ
ーズFU2101が直列に接続されている。予備メイン
ワード線RMWの端部には、一つのインバータから成る
ワード線バッファWB2101が接続されている。FIG. 18 shows a configuration of a normal main word line NMW and a spare main word line RMW in another SRAM. The normal main word line NMW and the spare main word line RMW are in the selected state when they are at the high level, contrary to those shown in FIGS. For this reason,
The number of stages of inverters provided for each word line is one, unlike those of FIGS. A row main decoder RMD2101 composed of a NAND circuit, a word line buffer WB2102 composed of one inverter, and a fuse FU2101 are connected in series to an end of the normal main word line NMW. A word line buffer WB2101 composed of one inverter is connected to an end of the spare main word line RMW.
【0022】図18に示された通常メインワード線NM
W及び予備メインワード線RMWの構成は、図16に示
されたもののインバータの段数を1段にしたものに相当
する。The normal main word line NM shown in FIG.
The configuration of W and the spare main word line RMW corresponds to the configuration shown in FIG. 16 in which the number of inverters is reduced to one.
【0023】図19に示された通常メインワード線NM
W及び予備メインワード線の構成は、図17に示された
もののインバータの段数を1段にしたものに相当する。
この図19に示された通常メインワード線NMW及び予
備メインワード線は、図18に示されたものと同様にハ
イレベルで選択状態になる。The normal main word line NM shown in FIG.
The configuration of W and the spare main word line corresponds to the configuration shown in FIG. 17 in which the number of inverter stages is reduced to one.
The normal main word line NMW and the spare main word line shown in FIG. 19 are in a selected state at the high level similarly to the case shown in FIG.
【0024】上述した冗長回路は、いずれも行(ロー)
方向に設けられたものである。これに対し、列(カラ
ム)方向に冗長回路を設けたものも存在する。このよう
な構成は、ワード線伝播時間の遅延を防止し、動作時の
消費電力を低減する上で有効である。Each of the above-described redundant circuits has a row (low).
It is provided in the direction. On the other hand, there is a type in which a redundant circuit is provided in a column direction. Such a configuration is effective in preventing a delay in the word line propagation time and reducing power consumption during operation.
【0025】従来の列方向の冗長回路の構成には、図2
0に示されるように各セクションSEC91〜SEC9
Nに通常列と予備列を配置したものと、図21に示され
るように通常列のみから成るセクションSEC1001
〜SEC100Nと、予備列のみから成るセクションS
EC100N+1とに分けて配置したものとがある。FIG. 2 shows a configuration of a conventional column-direction redundant circuit.
0, each section SEC91 to SEC9
N in which a normal column and a spare column are arranged, and a section SEC1001 including only normal columns as shown in FIG.
~ SEC100N and section S consisting only of spare columns
EC100N + 1 and EC100N + 1.
【0026】図20に示された回路では、コア領域がN
個のセクションSEC91〜SEC9Nに分割されてお
り、各セクションにはメモリセルアレイMCA91と、
センスアンプ及び書込回路SAW91と、カラムゲート
CG91とが設けられている。In the circuit shown in FIG. 20, the core region is N
Is divided into sections SEC91 to SEC9N. Each section includes a memory cell array MCA91,
A sense amplifier and write circuit SAW91 and a column gate CG91 are provided.
【0027】メモリセルアレイMCA91は、8つのI
/O1〜I/O8で構成されており、それぞれのI/O
はn個の通常列とS個の予備列とを備えている。よっ
て、各I/O毎にs個の通常列を救済することができ
る。SRAM全体としては8・s・N列の予備カラムが
配置されていることになる。The memory cell array MCA91 has eight I
/ O1 to I / O8, and each I / O
Has n normal columns and S spare columns. Therefore, s normal columns can be relieved for each I / O. This means that 8 * s * N spare columns are arranged for the entire SRAM.
【0028】図21に示された回路では、通常のセクシ
ョンSEC1001〜SEC100Nには通常列のみが
配置されており、予備列は予備セクションSEC100
N+1に配置されている。予備セクションSEC100
N+1には、8つのI/O1〜I/O8が構成されてお
り、各I/Oにはs個の予備列が配置されている。In the circuit shown in FIG. 21, only the normal columns are arranged in the normal sections SEC1001 to SEC100N, and the spare columns are arranged in the spare section SEC100.
N + 1. Spare section SEC100
Eight I / O1 to I / O8 are configured in N + 1, and s spare columns are arranged in each I / O.
【0029】そして、図20及び図21にそれぞれ示さ
れた回路では、通常列に不良があった場合のアイソレー
ションはヒューズを用いずに制御信号を用いて行われ
る。制御信号として、ここではセクションを選択するた
めのセクションデコード信号S、列を選択するためのカ
ラムデコード信号C、カラムゲートCG91,CG10
1の開閉を制御するためのカラムゲート信号CG、共通
ビット線を選択するための共通ビット線選択信号CB
L、予備デコーダに与える予備デコード信号SPD、当
該予備列が選択されたことを示す予備ヒット信号SPH
が用いられる。In the circuits shown in FIG. 20 and FIG. 21, respectively, when there is a defect in a normal column, isolation is performed using a control signal without using a fuse. The control signals include a section decode signal S for selecting a section, a column decode signal C for selecting a column, and column gates CG91 and CG10.
1 and a common bit line selection signal CB for selecting a common bit line.
L, a spare decode signal SPD given to the spare decoder, and a spare hit signal SPH indicating that the corresponding spare column has been selected.
Is used.
【0030】これらの制御信号のうち、カラムデコード
信号C、セクションデコード信号S、及び予備ヒット信
号SPHは、図22に示されるような回路により生成さ
れる。カラムアドレス入力バッファCABにm個のカラ
ムアドレス入力信号CAIが入力され、その出力がカラ
ムデコーダCD1101に与えられてH個のカラムデコ
ード信号Cとして出力される。また、カラムアドレス入
力バッファCABの出力はヒューズ選択回路FS110
1にも与えられ、その出力は予備カラムデコーダSCD
1101に与えられる。Among these control signals, the column decode signal C, the section decode signal S, and the preliminary hit signal SPH are generated by a circuit as shown in FIG. M column address input signals CAI are input to the column address input buffer CAB, and the output thereof is applied to the column decoder CD1101 and output as H column decode signals C. The output of the column address input buffer CAB is connected to the fuse selection circuit FS110.
1 and its output is the spare column decoder SCD
1101.
【0031】一方、セクションを選択するためのn個の
セクションアドレス入力信号がセクションアドレス入力
バッファSABに入力され、このバッファSABからの
出力がセクションデコーダSD1101に与えられて、
N個のセクションデコード信号Sが出力される。また、
セクションアドレス入力バッファSABからの出力はヒ
ューズ選択回路FS1102に与えられ、ヒューズ選択
回路FS1102からの出力は予備セクションデコーダ
SSD1101に与えられる。ここで、ヒューズ選択回
路FS1101及びFS1102は、図14に示された
ヒューズ回路FS1801と同様に図15に示されたよ
うな構成を備えている。On the other hand, n section address input signals for selecting a section are input to the section address input buffer SAB, and the output from the buffer SAB is applied to the section decoder SD1101.
N section decode signals S are output. Also,
The output from section address input buffer SAB is provided to fuse selection circuit FS1102, and the output from fuse selection circuit FS1102 is provided to spare section decoder SSD1101. Here, the fuse selection circuits FS1101 and FS1102 have a configuration as shown in FIG. 15 similarly to the fuse circuit FS1801 shown in FIG.
【0032】予備カラムデコーダSCD1101と予備
セクションデコーダSSD1101の出力は、AND回
路1101に与えられ、AND回路1101の出力信号
SPD(1)はOR回路1101に与えられる。OR回
路1101には、このようなAND回路からの出力信号
が、予備カラムの数であるs個分入力され、一つの予備
ヒット信号SPHを出力する。The outputs of spare column decoder SCD1101 and spare section decoder SSD1101 are applied to AND circuit 1101, and output signal SPD (1) of AND circuit 1101 is applied to OR circuit 1101. The OR circuit 1101 receives s output signals from such an AND circuit as the number of spare columns, and outputs one spare hit signal SPH.
【0033】図20に示された回路で冗長回路を持たせ
たことによるメモリセルアレイ領域の増加分と、必要な
予備列のデコーダの数は次のようである。上述したよう
に、予備列の数が8・s・N列であるため、メモリセル
アレイ領域の増加の割合は(8・s・N)/(8・n・
N)=s/nとなる。また、予備列用のデコーダはs・
N個必要となる。The increase in the memory cell array area due to the provision of the redundant circuit in the circuit shown in FIG. 20 and the required number of spare column decoders are as follows. As described above, since the number of spare columns is 8 · s · N columns, the rate of increase in the memory cell array area is (8 · s · N) / (8 · n ·
N) = s / n. The decoder for the spare column is s ·
N pieces are required.
【0034】図21に示された回路では、メモリセルア
レイ領域が増加する割合は1/Nであり、予備列用の列
デコーダはs個必要となる。In the circuit shown in FIG. 21, the rate of increase in the memory cell array area is 1 / N, and s column decoders for spare columns are required.
【0035】上述した従来の装置では、冗長回路を持た
せた場合には持たない装置と比較して、次のような要素
を付加しなければならない。In the above-described conventional device, when a redundant circuit is provided, the following elements must be added as compared with a device having no redundant circuit.
【0036】(1) 予備メモリセルアレイ及びワード線バ
ッファ (2) 不良ローアイソレーション用ヒューズ (3) ヒューズブロー後の通常メインワード線がフローテ
ィング状態にならず常時非選択状態になるように設ける
ノーマリオン状態のトランジスタ (4) 予備ローデコーダ このような要素を付加することで面積が増加する割合を
概算すると、以下のようである。(1) Spare memory cell array and word line buffer (2) Defective low isolation fuse (3) Normally provided so that the normal main word line after fuse blowing is not always in a floating state but always in a non-selected state Transistor in state (4) Spare row decoder The approximate rate of increase in area by adding such elements is as follows.
【0037】(1) 予備メモリセルアレイ及びワード線バ
ッファの付加による面積の増加 通常のメモリセルアレイが1024行設けられており、
これに8行の予備のメモリセルアレイが付加されるとす
ると、1032/1024=1.008より0.8%面
積が増加する。(1) Increase in area due to addition of spare memory cell array and word line buffer 1024 ordinary memory cell arrays are provided.
Assuming that a spare memory cell array of eight rows is added to this, the area is increased by 0.8% from 1032/1024 = 1.008.
【0038】(2) 不良ローアイソレーション用ヒューズ
の付加による面積の増加 通常の1024行と同数の1024個のヒューズを、メ
モリセルアレイとワード線バッファとの間に設ける必要
がある。このヒューズはメモリセルアレイの近傍に配置
しなければならないが、レーザによるブローする際にヒ
ューズとヒューズ素子周囲の回路や配線を損傷しないよ
うに、これらとの間に100μm程度の距離が必要であ
る。この距離の分だけ、面積が増加する。(2) Increase in area due to the addition of defective row isolation fuses It is necessary to provide 1024 fuses, the same number as the normal 1024 rows, between the memory cell array and the word line buffer. This fuse must be arranged near the memory cell array, but a distance of about 100 μm is required between the fuse and the circuit and wiring around the fuse element when blowing with a laser so as not to damage the circuit and wiring. The area increases by this distance.
【0039】(3) ノーマリオン状態のトランジスタの付
加による面積の増加 このトランジスタは、ごく低い駆動力を有するMOS型
トランジスタ、あるいは高抵抗の素子を用いて構成すれ
ばよく、アレイに換算して数カラム程度の増加で足り
る。(3) An increase in area due to the addition of a normally-on transistor This transistor may be formed using a MOS transistor having a very low driving force or a high-resistance element. A column increase is sufficient.
【0040】(4) 予備ローデコーダの付加による面積の
増加 図14に示された予備ローデコーダでは、予備行の数は
11×8であり、88個のヒューズを含んだ9組のデコ
ーダが必要となる。概算として、予備行1に対して必要
な1つの予備ローデコーダの面積は、約20000μm
2 である。よって、8つの予備ローデコーダを設けると
なると、約160000μm2 の面積の増加を招く。(4) Increase of area by adding spare row decoder In the spare row decoder shown in FIG. 14, the number of spare rows is 11 × 8, and nine sets of decoders including 88 fuses are required. Becomes As a rough estimate, the area of one spare row decoder required for spare row 1 is about 20,000 μm
2 Therefore, when eight spare row decoders are provided, an area of about 160000 μm 2 is increased.
【0041】次に、冗長回路構成としたことにより増加
する、ヒューズブロー工程の数について述べる。表1
に、64KビットのSRAMから16MのSRAMにお
いて、予備行に関するヒューズブローの回数を示す。Next, a description will be given of the number of fuse blowing steps which is increased by adopting the redundant circuit configuration. Table 1
7 shows the number of fuse blows for the spare row in the SRAM of 64K bits to the SRAM of 16M.
【0042】[0042]
【表1】 ここで、予備行は通常行128行に1行の割合で設けら
れている。64KビットSRAMを例にとると、通常行
256行につき予備行が2行設けられている。不良行の
ヒューズをブローする数は、最大で2である。この場合
の予備ローデコーダ内において、不良行のアドレスを記
憶するために必要なヒューズブロー数と、予備行イネー
ブル用のヒューズブロー数とを足すと最大で18とな
る。よって、合計するとヒューズブローの数は最大で2
0となる。[Table 1] Here, one spare row is provided for every 128 normal rows. Taking a 64K bit SRAM as an example, two spare rows are provided for every 256 normal rows. The maximum number of blown fuses in a defective row is two. In this case, the number of fuse blows necessary for storing the address of the defective row and the number of fuse blows for enabling the spare row in the spare row decoder are 18 at the maximum. Therefore, the total number of fuse blows is 2 at maximum.
It becomes 0.
【0043】表1から明らかなように、ヒューズブロー
の数の大部分は予備ローデコーダにおける不良ローのア
ドレス記憶用と予備イネーブル用とで占められている。
そして、大容量化に伴いブローの数は大幅に増加してい
く。As apparent from Table 1, most of the number of fuse blows is occupied by the spare row decoder for storing the address of the defective row and for the spare enable.
And the number of blows will increase significantly with the increase in capacity.
【0044】以上、行方向に冗長回路構成としたことに
よる面積及び製造工程数の増加について述べたが、同様
に列方向に冗長回路を持たせた場合の面積及び製造工程
数の増加について説明する。As described above, the increase in the area and the number of manufacturing steps due to the configuration of the redundant circuits in the row direction has been described. Similarly, the increase in the area and the number of manufacturing steps when the redundant circuits are provided in the column direction will be described. .
【0045】上述したように、図20に示された回路構
成では、予備のメモリセルアレイを設けたことによる面
積の増加の割合は、s/nであり、図21に示された回
路構成では1/Nとなる。As described above, in the circuit configuration shown in FIG. 20, the rate of increase in area due to the provision of the spare memory cell array is s / n, and in the circuit configuration shown in FIG. / N.
【0046】不良カラムをアイソレーションするヒュー
ズは用いていないため、この分の面積の増加は零であ
る。同様に、ノーマリオン状態のトランジスタは付加し
ないため、この分の面積の増加はない。Since no fuse for isolating the defective column is used, the increase in area by this amount is zero. Similarly, since a transistor in a normally-on state is not added, the area does not increase by this amount.
【0047】予備カラムデコーダは、図20の構成では
s×N個必要であり、図21の構成ではs個必要であ
る。8I/O構成の1MビットSRAMで、通常列が1
024カラムで、予備列を8カラム設けたとすると、デ
コードに必要なカラムアドレスは7ビットであり1予備
列につき約15000μm2 面積が増加する。よって、
全体では8個の予備カラムデコーダが必要なため、約1
20000μm2 増加する。The configuration shown in FIG. 20 requires s × N spare column decoders, while the configuration shown in FIG. 21 requires s spare column decoders. 1Mbit SRAM with 8 I / O configuration, with 1 normal column
If eight spare columns are provided in 024 columns, the column address required for decoding is 7 bits, and the area of about 15000 μm 2 per spare column increases. Therefore,
Since a total of eight spare column decoders are required, about 1
Increase by 20,000 μm 2 .
【0048】列方向に関して冗長回路を持たせたことに
よるヒューズブロー工程の数を、表2に示す。Table 2 shows the number of fuse blowing steps by providing a redundant circuit in the column direction.
【0049】[0049]
【表2】 表1に示された行方向と同様に、予備列は通常列128
列につき1列の割合で設けられている。この表2から明
らかなように、予備行を設けた場合ほどではないが、大
容量化に伴いブローの数は大幅に増加していく。[Table 2] As with the row direction shown in Table 1, the spare column is the normal column 128
One row is provided for each row. As is evident from Table 2, the number of blows greatly increases with an increase in capacity, although not as much as when a spare row is provided.
【0050】[0050]
【発明が解決しようとする課題】以上説明したように、
従来の半導体記憶装置では冗長回路構成にしたことによ
り面積が増大し製造工程数も大幅に増加していた。これ
により、チップサイズの増大、及び製造時間や製造コス
トの増加を招いていた。As described above,
In a conventional semiconductor memory device, the area is increased and the number of manufacturing steps is greatly increased due to the redundant circuit configuration. This has led to an increase in chip size and an increase in manufacturing time and manufacturing cost.
【0051】本発明は上記事情に鑑みてなされたもの
で、チップ面積の増加を抑制し、また予備行又は予備列
を選択するために必要な情報を記憶する工程を削減し得
る半導体記憶装置を提供することを目的とする。The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides a semiconductor memory device capable of suppressing an increase in chip area and reducing a process of storing information necessary for selecting a spare row or a spare column. The purpose is to provide.
【0052】[0052]
【課題を解決するための手段】本発明の半導体記憶装置
は、複数の通常行と1つの予備行にメモリセルがそれぞ
れ配置された複数のブロックを備え、前記各々のブロッ
クは、前記通常行のいずれかを選択する複数の通常行選
択線と、前記通常行のいずれかに不良がある場合に替わ
りに前記予備行を選択する1つの予備行選択線と、前記
通常行選択線毎に設けられて対応する通常行選択線を駆
動し、対応する当該通常行選択線に不良がある場合に切
断される不良時切断用ヒューズを含む通常行選択制御回
路と、前記予備行選択線に設けられ、この予備行選択線
を駆動する予備行選択制御回路と、を有し、各々の前記
通常行選択制御回路は、行デコーダの出力に基づいて、
当該通常行が選択時には当該通常行選択線を選択状態に
駆動し、当該通常行が非選択時には当該通常行選択線を
非選択状態に駆動する駆動手段と、前記不良時切断用ヒ
ューズが切断されると、切断されたヒューズ端子の電位
を、当該通常行が非選択時に与えられる非選択電位に設
定する第1の電位設定手段と、各々の通常行毎に設けら
れ、当該通常行の前記ヒューズ端子の電位を与えられ
て、各々の通常行に共通に設けられた1つの共通端子
を、当該通常行が選択時には第1の電位に設定する動作
を行い、当該通常行が非選択時には第1の電位に設定す
る動作を行わない第2の電位設定手段と、前記共通端子
に設けられ、この共通端子を常時第2の電位に設定する
動作を行う第3の電位設定手段と、を含み、前記第2の
電位設定手段が前記共通端子を前記第1の電位に設定す
る駆動能力は、前記第3の電位設定手段が前記共通端子
を前記第2の電位に設定する駆動能力より大きく、前記
予備行選択制御回路は、前記ブロックのいずれかを選択
するブロック選択信号と、前記共通端子の電位とを与え
られ、当該ブロックが選択され、かつ前記共通端子が前
記第2の電位である場合にのみ、前記予備行選択線を選
択状態に駆動し、他のいずれかの場合に、前記予備行選
択線を非選択状態に駆動する駆動手段を含む、ことを特
徴としている。また、行に対する上記構成を列に対して
適用した場合も同様である。この場合の本発明の半導体
記憶装置は、複数の通常列と1つの予備列にメモリセル
がそれぞれ配置された複数のブロックを備え、前記各々
のブロックは、前記通常列のいずれかを選択する複数の
通常列選択線と、前記通常列のいずれかに不良がある場
合に替わりに前記予備列を選択する1つの予備列選択線
と、前記通常列選択線毎に設けられて対応する通常列選
択線を駆動し、対応する当該通常列選択線に不良がある
場合に切断される不良時切断用ヒューズを含む通常列選
択制御回路と、前記予備列選択線に設けられ、この予備
列選択線を駆動する予備列選択制御回路と、を有し、各
々の前記通常列選択制御回路は、列デコーダの出力に基
づいて、当該通常列が選択時には当該通常列選択線を選
択状態に駆動し、当該通常列が非選択時には当該通常列
選択線を非選択状態に駆動する駆動手段と、前記不良時
切断用ヒューズが切断されると、切断されたヒューズ端
子の電位を、当該通常列が非選択時に与えられる非選択
電位に設定する第1の電位設定手段と、各々の通常列毎
に設けられ、当該通常列の前記ヒューズ端子の電位を与
えられて、各々の通常列に共通に設けられた1つの共通
端子を、当該通常列が選択時には第1の電位に設定する
動作を行い、当該通常列が非選択時には第1の電位に設
定する動作を行わない第2の電位設定手段と、前記共通
端子に設けられ、この共通端子を常時第2の電位に設定
する動作を行う第3の電位設定手段と、を含み、前記第
2の電位設定手段が前記共通端子を前記第1の電位に設
定する駆動能力は、前記第3の電位設定手段が前記共通
端子を前記第2の電位に設定する駆動能力より大きく、
前記予備列選択制御回路は、前記ブロックのいずれかを
選択するブロック選択信号と、前記共通端子の電位とを
与えられ、当該ブロックが選択され、かつ前記共通端子
が前記第2の電位である場合にのみ、前記予備列選択線
を選択状態に駆動し、他のいずれかの場合に、前記予備
列選択線を非選択状態に駆動する駆動手段を含む、こと
を特徴とする。A semiconductor memory device according to the present invention includes a plurality of normal rows and a plurality of blocks in which memory cells are arranged in one spare row. A plurality of normal row selection lines for selecting any one of the normal rows, one spare row selection line for selecting the spare row in place of a defect in one of the normal rows, and a plurality of normal row selection lines. A normal row selection control circuit including a fuse for disconnection at the time of failure which is cut when there is a defect in the corresponding normal row selection line, and provided in the spare row selection line, A spare row selection control circuit for driving the spare row selection line, wherein each of the normal row selection control circuits is based on an output of a row decoder.
When the normal row is selected, the normal row selection line is driven to a selected state, and when the normal row is not selected, the normal row selection line is driven to a non-selected state. Then, a first potential setting means for setting the potential of the blown fuse terminal to a non-selection potential given when the normal row is not selected, and provided for each normal row, the fuse of the normal row is provided. When the potential of the terminal is applied, one common terminal provided in common to each normal row is set to the first potential when the normal row is selected, and the first potential is set when the normal row is not selected. A second potential setting unit that does not perform an operation of setting the potential of the common terminal, and a third potential setting unit that is provided at the common terminal and that constantly performs an operation of setting the common terminal to the second potential. The second potential setting means is configured to The drive capability of setting a terminal to the first potential is greater than the drive capability of the third potential setting means to set the common terminal to the second potential, and the spare row selection control circuit includes A block selection signal for selecting any one of them and the potential of the common terminal are given, and the spare row selection line is selected only when the block is selected and the common terminal is at the second potential. And a driving unit for driving the spare row selection line to a non-selected state in any other case. The same applies to the case where the above configuration for rows is applied to columns. In this case, the semiconductor memory device of the present invention includes a plurality of normal columns and a plurality of blocks each having a memory cell arranged in one spare column, and each of the plurality of blocks selects one of the normal columns. A normal column selection line, one spare column selection line for selecting the spare column in place of a defect in any of the normal columns, and a corresponding normal column selection line provided for each of the normal column selection lines. A normal column selection control circuit including a defective fuse for cutting when a corresponding corresponding normal column selection line is defective, and a spare column selection line, A spare column selection control circuit to be driven, and each of the normal column selection control circuits drives the normal column selection line to a selected state when the normal column is selected, based on an output of a column decoder. Normal when the column is not selected A drive unit for driving the normal column selection line to a non-selection state, and setting the potential of the cut fuse terminal to a non-selection potential applied when the normal column is not selected when the defective fuse is cut. The first potential setting means, which is provided for each normal column, is supplied with the potential of the fuse terminal of the normal column, and the common terminal provided commonly for each normal column is connected to the normal terminal. A second potential setting means for performing an operation of setting the first potential when the column is selected and not performing an operation of setting the first potential when the normal column is not selected; A third potential setting means for constantly setting a terminal to a second potential; and a driving capability of the second potential setting means for setting the common terminal to the first potential. 3 potential setting means before the common terminal. Greater than the driving ability to set to the second potential,
The spare column selection control circuit is provided with a block selection signal for selecting one of the blocks and the potential of the common terminal, and when the block is selected and the common terminal is at the second potential. And driving means for driving the spare column selection line to a selected state, and in any other case, driving the spare column selection line to a non-selected state.
【0053】または、本発明の半導体記憶装置は、上記
行方向に対して設けられた構成を列方向に同様に備えて
いてもよい。Alternatively, the semiconductor memory device of the present invention may be similarly provided with the configuration provided in the row direction in the column direction.
【0054】[0054]
【作用】各々のブロック内において、通常行のいずれか
に不良がある場合、この通常行に対応する不良時切断用
ヒューズが切断される。第1の電位設定手段が、切断さ
れたヒューズ端子の電位を非選択電位に設定する。駆動
手段が、行デコーダの出力に基づき、不良がない通常行
が選択された場合はこの通常行選択線を選択状態に駆動
する。この場合は、各々の通常行毎に設けられた第2の
電位設定手段のうち、選択された通常行に設けられたも
のが共通端子を第1の電位に設定し、他の非選択の通常
行に設けられたものがこのような設定動作を行わない。
第3の電位設定手段は、共通端子を常時第2の電位に設
定する動作を行っている。しかし、第3の電位設定手段
が共通端子を第2の電位に設定する駆動能力よりも、第
2の電位設定手段が共通端子を第1の電位に設定する駆
動能力の方が大きいので、この場合には共通端子が第1
の電位に設定される。よって、当該ブロックの選択の如
何にかかわらず、共通端子が第1の電位であるため、予
備行選択制御回路が予備行選択線を非選択状態に駆動す
る。不良がある通常行が選択された場合は、この通常行
のヒューズ端子が非選択電位に設定されている。よっ
て、各々の通常行に設けられた全ての第2の電位設定手
段が、共通端子を第1の電位に設定する動作を行わな
い。このため、共通端子は第3の電位設定手段によって
第2の電位に設定される。当該ブロックが選択され、か
つ共通端子が第2の電位にある場合、予備行選択制御回
路が予備行選択線を選択状態に駆動する。このように、
各ブロック毎に複数の通常行と1つの予備行とが設けら
れ、通常行に不良がありこの行が選択された場合は予備
行が自動的に選択される。従って、予備行を選択するた
めの予備行デコーダや、予備行選択用の情報を記憶する
手段が不要であり、チップ面積の縮小が可能である。ま
た、予備行選択情報を書き込む工程も不要である。列方
向に対して同様な構成を備える場合も、同様な作用が生
じる。In each block, if any of the normal rows has a defect, the disconnection fuse for the normal row corresponding to the normal row is cut. First potential setting means sets the potential of the blown fuse terminal to a non-selection potential. When a normal row having no defect is selected based on the output of the row decoder, the driving unit drives the normal row selection line to a selected state. In this case, of the second potential setting means provided for each normal row, the one provided for the selected normal row sets the common terminal to the first potential, and sets the other non-selected normal potentials. Those provided in the row do not perform such a setting operation.
The third potential setting means performs an operation of always setting the common terminal to the second potential. However, the driving ability of the second potential setting means to set the common terminal to the first potential is larger than the driving ability of the third potential setting means to set the common terminal to the second potential. In this case, the common terminal is the first
Is set to the potential of Therefore, regardless of whether the block is selected or not, since the common terminal is at the first potential, the spare row selection control circuit drives the spare row selection line to the non-selected state. When a normal row having a defect is selected, the fuse terminals of the normal row are set to the non-selection potential. Therefore, all the second potential setting means provided in each normal row do not perform the operation of setting the common terminal to the first potential. For this reason, the common terminal is set to the second potential by the third potential setting means. When the block is selected and the common terminal is at the second potential, the spare row selection control circuit drives the spare row selection line to the selected state. in this way,
A plurality of normal rows and one spare row are provided for each block. If the normal row is defective and this row is selected, the spare row is automatically selected. Therefore, a spare row decoder for selecting a spare row and a unit for storing information for selecting a spare row are unnecessary, and the chip area can be reduced. Further, a step of writing the spare row selection information is not required. A similar effect occurs when a similar configuration is provided in the column direction.
【0055】[0055]
【実施例】以下、本発明の一実施例について図面を参照
して説明する。図1に、本発明の第1の実施例による半
導体記憶装置における1ブロック内の行方向の構成を示
す。この第1の実施例は、図16に示された従来の装置
に本発明を適用したものに相当する。An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows a configuration in a row direction in one block in a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention. The first embodiment is equivalent to the case where the present invention is applied to the conventional apparatus shown in FIG.
【0056】各々のブロック内において、128本の通
常メインワード線NMW1〜NMW128と1本の予備
メインワード線RMWが配線されている。In each block, 128 normal main word lines NMW1 to NMW128 and one spare main word line RMW are provided.
【0057】各々の通常メインワード線NMWには、端
部にNAND回路から成るローメインデコーダRMD1
1と、2段のインバータから成るワード線バッファWB
11と、不良ローアイソレイションヒューズFU11と
が直列に接続されている。また、通常メインワード線N
MW1〜NMW128の他方の端部には、駆動力の小さ
いノーマリオンのPチャネルトランジスタP12が設け
られている。Each of the normal main word lines NMW has a row main decoder RMD1 comprising a NAND circuit at its end.
Word line buffer WB comprising 1 and 2 inverters
11 and a defective low isolation fuse FU11 are connected in series. Normally, the main word line N
At the other end of MW1 to NMW128, a normally-on P-channel transistor P12 having a small driving force is provided.
【0058】予備メインワード線RMWの端部には、イ
ンバータIN12、NOR回路NOR11、及びインバ
ータIN11が直列に接続されている。An inverter IN12, a NOR circuit NOR11, and an inverter IN11 are connected in series to an end of the spare main word line RMW.
【0059】また、ワード線とは直交する方向に1本の
共通ブロック線R11が配線されている。この共通ブロ
ック線R11には、各通常メインワード線NMW1〜N
MW128との交点にそれぞれ設けられたPチャネルト
ランジスタP11のドレインと、Nチャネルトランジス
タN11のドレインと、NOR回路NOR11の他方の
入力端子が接続されている。One common block line R11 is provided in a direction orthogonal to the word lines. This common block line R11 has normal main word lines NMW1 to NMW
The drain of the P-channel transistor P11, the drain of the N-channel transistor N11, and the other input terminal of the NOR circuit NOR11 provided at the intersection with the MW128 are connected.
【0060】PチャネルトランジスタP11のソースは
電源電圧VDD端子に接続され、ゲートは通常メインワー
ド線NMWに接続されている。Nチャネルトランジスタ
N11は、ゲートが電源電圧VDD端子に接続されてノー
マリオン状態にあり、ソースは接地されている。このN
チャネルトランジスタN11の駆動能力は、Pチャネル
トランジスタP11と比較して十分に小さく設定されて
いる。The source of the P-channel transistor P11 is connected to the power supply voltage VDD terminal, and the gate is usually connected to the main word line NMW. The N-channel transistor N11 has a gate connected to the power supply voltage VDD terminal, is in a normally-on state, and has a source grounded. This N
The driving capability of the channel transistor N11 is set sufficiently smaller than that of the P-channel transistor P11.
【0061】このような構成を備えた第1の実施例で
は、次のように動作する。通常メインワード線NMW1
〜NMW128に不良が存在しない場合、あるいはいず
れかに不良が存在しても他の通常メインワード線NMW
が選択された場合は、選択された通常メインワード線N
MWのみがロウレベルになる。そして、この選択された
通常メインワード線NMWにゲートが接続されたPチャ
ネルトランジスタP11のみがオンし、予備選択線R1
1を充電する。これにより、NOR回路NOR11にハ
イレベルの信号が入力され、インバータINV12に入
力されるブロック選択信号とは無関係に予備メインワー
ド線RMWはハイレベルに保持され非選択状態を維持す
る。In the first embodiment having such a configuration, the operation is as follows. Normal main word line NMW1
To NMW 128, or even if there is a defect in any of the other normal main word lines NMW.
Is selected, the selected normal main word line N
Only MW goes low. Then, only the P-channel transistor P11 whose gate is connected to the selected normal main word line NMW turns on, and the spare selection line R1
Charge 1. As a result, a high-level signal is input to the NOR circuit NOR11, and the spare main word line RMW is held at the high level and maintains a non-selected state regardless of the block selection signal input to the inverter INV12.
【0062】通常メインワード線NMW1〜NMW12
8に不良が存在し、かつその不良のある通常メインワー
ド線NMWが選択された場合には、次のように動作して
予備メインワード線RMWに置き替わる。Normal main word lines NMW1 to NMW12
In the case where a defective main word line NMW is selected and the defective main word line NMW is selected, the following operation is performed and the spare main word line RMW is replaced.
【0063】例えば、通常メモリセルアレイのうち通常
メインワード線NMW1に不良があり、この不良ローア
イソレーションヒューズFU11がブローされ、かつこ
の通常メインワード線NMW1が選択された場合を考え
る。不良ローアイソレーションヒューズFU11がブロ
ーされると、ワード線バッファ11及びローメインデコ
ーダRMD11と、この通常メインワード線NMW1と
が遮断される。これにより、ローメインデコーダRMD
11に入力されるロープリデコード信号にかかわらず、
通常メインワード線NMW1はPチャネルトランジスタ
P12により充電されてハイレベルに保持される。For example, it is assumed that the normal main word line NMW1 in the normal memory cell array is defective, the defective low isolation fuse FU11 is blown, and the normal main word line NMW1 is selected. When the defective row isolation fuse FU11 is blown, the word line buffer 11 and the row main decoder RMD11 and the normal main word line NMW1 are cut off. Thereby, the low main decoder RMD
Regardless of the low predecode signal input to 11,
Normally, main word line NMW1 is charged by P-channel transistor P12 and held at a high level.
【0064】この状態で通常メインワード線NMW1が
選択された場合は、全ての通常メインワード線NMW1
〜NMW128がハイレベルで非選択状態におかれる。
これにより、全てのPチャネルトランジスタP11がオ
フし、またNチャネルトランジスタN11はノーマリオ
ンであることから、ブロック共通線R11はロウレベル
になる。NOR回路NOR11の一方の入力端子にこの
ロウレベルの信号が入力されるため、インバータIN1
2を介して入力されるブロック選択信号に応じて予備メ
インワード線RMWのレベルが変わる。ハイレベルのブ
ロック選択信号がインバータIN12に入力されたと
き、予備メインワード線RMWがロウレベルになり選択
される。When the normal main word line NMW1 is selected in this state, all the normal main word lines NMW1 are selected.
To NMW128 are in a non-selected state at a high level.
As a result, all the P-channel transistors P11 are turned off, and the N-channel transistor N11 is normally on, so that the block common line R11 goes low. Since this low-level signal is input to one input terminal of the NOR circuit NOR11, the inverter IN1
2, the level of spare main word line RMW changes according to a block selection signal input through the same. When a high-level block selection signal is input to the inverter IN12, the spare main word line RMW goes low and is selected.
【0065】このように、第1の実施例では各ブロック
内において通常メインワード線NMWが選択されたとき
は、ロープリデコード信号に応じていずれか一つの通常
メインワード線NMWが選択される。いずれか一つの通
常メインワード線NMWに不良が存在した場合はその不
良アイソレーションヒューズが溶断され、かつ不良の通
常メインワード線NMWが選択された場合は全ての通常
メインワード線NMWがロープリデコード信号とは無関
係に非選択状態になる。これにより、自動的に予備メイ
ンワード線RMWが選択可能な状態になる。そして、こ
のブロックが選択された場合には予備メインワード線R
MWが選択される。As described above, in the first embodiment, when the normal main word line NMW is selected in each block, any one of the normal main word lines NMW is selected according to the row predecode signal. If any one of the normal main word lines NMW has a defect, the defective isolation fuse is blown, and if the defective normal main word line NMW is selected, all the normal main word lines NMW are row pre-decoded. It becomes a non-selection state irrespective of the signal. Thereby, the spare main word line RMW can be automatically selected. When this block is selected, the spare main word line R
MW is selected.
【0066】図2に、本発明の第2の実施例による半導
体記憶装置の構成を示す。この第2の実施例は、図17
に示された従来の装置に本発明を適用したものに相当す
る。図17における装置と同様に、各通常メインワード
線NMW1〜NMW128の端部に、それぞれローメイ
ンデコーダRMD21、インバータIN22、不良ロー
アイソレーション用ヒューズFU21、インバータIN
21が直列に接続され、さらにNチャネルトランジスタ
N21及びN23が設けられている。FIG. 2 shows a configuration of a semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention. This second embodiment is shown in FIG.
The present invention is applied to the conventional apparatus shown in FIG. 17, the row main decoder RMD21, the inverter IN22, the defective row isolation fuse FU21, and the inverter IN are connected to the ends of the normal main word lines NMW1 to NMW128, respectively.
21 are connected in series, and N-channel transistors N21 and N23 are further provided.
【0067】また、予備メインワード線RMWの端部に
は、NAND回路NA21の出力端子が接続され、一方
の入力端子はブロック選択信号を入力される。The output terminal of NAND circuit NA21 is connected to one end of spare main word line RMW, and one input terminal receives a block selection signal.
【0068】そして、ワード線と直交する方向にブロッ
ク共通線R21が設けられ、その一端はNAND回路N
A21の他方の入力端子に接続されている。このブロッ
ク共通線R21と各通常メインワード線NMW1〜NM
W128とが交差する箇所にNチャネルトランジスタN
22がそれぞれ設けられている。各Nチャネルトランジ
スタN22のドレインがブロック共通線R21に接続さ
れ、ソースが接地され、ゲートがそれぞれのインバータ
IN21の入力端子に接続されている。さらに、駆動能
力がNチャネルトランジスタN22よりも十分に小さく
ノーマリオンのPチャネルトランジスタP21のドレイ
ンが、ブロック共通線R21に接続されている。A block common line R21 is provided in a direction orthogonal to the word line, and one end of the block common line R21 is connected to the NAND circuit N.
A21 is connected to the other input terminal. This block common line R21 and each of the normal main word lines NMW1 to NM
N-channel transistor N
22 are provided. The drain of each N-channel transistor N22 is connected to the block common line R21, the source is grounded, and the gate is connected to the input terminal of each inverter IN21. Further, the drain of a normally-on P-channel transistor P21 whose driving capability is sufficiently smaller than that of the N-channel transistor N22 is connected to the block common line R21.
【0069】通常メインワード線NMW1〜NMW12
8のうち、いずれにも不良が存在しない場合、あるいは
不良箇所が存在しても他のものが選択された場合には、
選択されたローのインバータIN21の入力端子がハイ
レベルに、通常メインワード線NMWがロウレベルにな
る。この選択されたローのインバータIN21の入力端
子にゲートが接続されたNチャネルトランジスタN22
がオンし、ブロック共通線R21を放電する。このブロ
ック共通線R21からロウレベルの入力をNAND回路
NA21が与えられ、予備メインワード線RMWは常時
ハイレベルに保持されて非選択状態におかれる。Normal main word lines NMW1 to NMW12
8, if no defect exists, or if a defect is present but another is selected,
The input terminal of the selected low inverter IN21 goes high, and the main word line NMW normally goes low. An N-channel transistor N22 having a gate connected to the input terminal of the selected low inverter IN21.
Turns on to discharge the block common line R21. The NAND circuit NA21 is supplied with a low-level input from the block common line R21, and the spare main word line RMW is always kept at a high level and is in a non-selected state.
【0070】通常メインワード線NMW1〜NMW12
8のいずれかに不良があった場合は、その不良ローアイ
ソレーションヒューズFU21がブローされ、その通常
メインワード線NMWはNチャネルトランジスタN21
及びN23によってハイレベルに保持され、非選択状態
となる。不良のある通常メインワード線NMWが選択さ
れたときは、全てのNチャネルトランジスタN22がオ
フ状態を保ち、NチャネルトランジスタP21はノーマ
リオンであることから、ブロック共通線R21は充電さ
れてハイレベルになる。このハイレベルの入力をNAN
D回路NA21が与えられ、予備メインワード線RMW
はブロック選択信号に応じてレベルが変り、ハイレベル
のブロック選択信号が入力されたときはロウレベルにな
り選択状態になる。Normal main word lines NMW1 to NMW12
8 is defective, the defective low isolation fuse FU21 is blown, and the normal main word line NMW is connected to the N-channel transistor N21.
, And N23, and is kept at a high level, and becomes a non-selected state. When a defective main word line NMW is selected, all the N-channel transistors N22 are kept off and the N-channel transistors P21 are normally on, so that the block common line R21 is charged to a high level. Become. This high level input is NAN
D circuit NA21 is applied and spare main word line RMW
The level changes according to the block selection signal, and when a high-level block selection signal is input, the level changes to a low level to be in a selected state.
【0071】本発明の第3の実施例による半導体記憶装
置の構成を図3に示す。この実施例の構成は、図1に示
された第1の実施例によるものと類似したものとなって
いる。各通常メインワード線NMW1〜128の端部
に、それぞれローメインデコーダRMD31、不良ロー
アイソレーションヒューズFU31、及び2段のインバ
ータから成るワード線バッファWBが直列に接続され、
さらにワード線バッファWBの入力端子とローメインデ
コーダRMD31の出力端子とを接続するノードと電源
電圧VDD端子との間に、PチャネルトランジスタP31
が接続されている。このPチャネルトランジスタP31
はゲートが接地され、ノーマリオン状態にある。FIG. 3 shows the configuration of the semiconductor memory device according to the third embodiment of the present invention. The configuration of this embodiment is similar to that of the first embodiment shown in FIG. A row main decoder RMD31, a defective row isolation fuse FU31, and a word line buffer WB including a two-stage inverter are connected in series to the ends of the normal main word lines NMW1 to NMW128, respectively.
Further, a P-channel transistor P31 is connected between the node connecting the input terminal of the word line buffer WB and the output terminal of the row main decoder RMD31 and the power supply voltage VDD terminal.
Is connected. This P-channel transistor P31
Is in a normally-on state with its gate grounded.
【0072】また、予備メインワード線RMWの端部に
は、インバータIN32、NOR回路NOR31及びイ
ンバータIN31が直列に接続されている。Further, an inverter IN32, a NOR circuit NOR31, and an inverter IN31 are connected in series to an end of the spare main word line RMW.
【0073】ワード線と直交する方向にブロック共通線
R31が設けられ、一端はNOR回路NOR31の一方
の入力端子に接続されている。A block common line R31 is provided in a direction orthogonal to the word lines, and one end is connected to one input terminal of a NOR circuit NOR31.
【0074】通常メインワード線NMW1〜NMW12
8のうち、いずれにも不良が存在しない場合、あるいは
不良箇所が存在しても他のものが選択された場合には、
選択された通常メインワード線NMWがロウレベルにな
る。この選択されたローのワード線バッファWBの入力
端子にゲートが接続されたPチャネルトランジスタP3
2がゲートにロウレベルを入力されてオンし、ブロック
共通線R31を充電する。このブロック共通線R31か
らハイレベルの入力をNOR回路NOR31が与えら
れ、予備メインワード線RMWは常時ハイレベルに保持
されて非選択状態におかれる。Normal main word lines NMW1 to NMW12
8, if no defect exists, or if a defect is present but another is selected,
The selected normal main word line NMW goes low. A P-channel transistor P3 whose gate is connected to the input terminal of the selected row word line buffer WB
2 is turned on by inputting a low level to the gate, and charges the block common line R31. The NOR circuit NOR31 receives a high-level input from the block common line R31, and the spare main word line RMW is always kept at a high level and is in a non-selected state.
【0075】通常メインワード線NMW1〜NMW12
8のいずれかに不良があった場合は、その不良ローアイ
ソレーションヒューズFUが溶断され、その通常メイン
ワード線NMWはPチャネルトランジスタP31によっ
てハイレベルに保持され、非選択状態となる。不良のあ
る通常メインワード線NMWが選択されたときは、全て
のPチャネルトランジスタP32がオフ状態を保ち、N
チャネルトランジスタN31がノーマリオンであること
から、ブロック共通線R31は放電されてローレベルに
なる。このローレベルの入力をNOR回路NOR31が
与えられ、予備メインワード線RMWはハイレベルのブ
ロック選択信号が入力されたときはロウレベルになり選
択状態になる。Normal main word lines NMW1 to NMW12
In the case where there is a defect in any one of 8, the defective low isolation fuse FU is blown, and the normal main word line NMW is held at a high level by the P-channel transistor P <b> 31 to be in a non-selected state. When a defective main word line NMW is selected, all P-channel transistors P32 are kept off, and N
Since the channel transistor N31 is normally on, the block common line R31 is discharged to a low level. This low-level input is supplied to a NOR circuit NOR31, and when a high-level block selection signal is input, the spare main word line RMW goes to a low level to be in a selected state.
【0076】図4に示された本発明の第4の実施例で
は、上述の第1〜第3の実施例とは逆に各ワード線はハ
イレベルになったときに選択状態になり、図18に示さ
れた従来の装置に本発明を適用したものに相当する。通
常メインワード線NMW1〜NMW128と直交する方
向にブロック共通線R41が設けられ、各交点にNチャ
ネルトランジスタN41が設けられ、さらにこのトラン
ジスタN41よりも駆動能力が十分に低くノーマリオン
のPチャネルトランジスタP41のドレインが接続され
ている。In the fourth embodiment of the present invention shown in FIG. 4, contrary to the above-described first to third embodiments, each word line is in a selected state when it goes high. 18 corresponds to a device in which the present invention is applied to the conventional device shown in FIG. Normally, a block common line R41 is provided in a direction orthogonal to main word lines NMW1 to NMW128, an N-channel transistor N41 is provided at each intersection, and a normally-on P-channel transistor P41 having sufficiently lower driving capability than this transistor N41. Drain is connected.
【0077】通常メインワード線NMW1〜NMW12
8に不良がない場合、あるいは不良が存在しかつ不良箇
所以外が選択された場合は選択された通常メインワード
線NMWがハイレベルになる。この場合には、選択され
た通常メインワード線NMWにゲートが接続されたNチ
ャネルトランジスタN41がオンし、ブロック共通線R
41はロウレベルになり、予備メインワード線RMWは
ロウレベルに保持され非選択状態を維持する。Normal main word lines NMW1 to NMW12
In the case where there is no defect in 8 or when there is a defect and a portion other than the defective portion is selected, the selected normal main word line NMW goes high. In this case, the N-channel transistor N41 whose gate is connected to the selected normal main word line NMW is turned on, and the block common line R
41 is at the low level, and the spare main word line RMW is held at the low level to maintain the non-selected state.
【0078】通常メインワード線NMWに不良があって
そのヒューズFU41がブローされ、かつその不良の通
常メインワード線NMWが選択されたときは、全ての通
常メインワード線NMW1〜NMW128はロウレベル
に保持される。NチャネルトランジスタN41は全てオ
フし、PチャネルトランジスタP41はノーマリーオン
であるためブロック共通線R41がハイレベルになる。
ブロック選択信号がハイレベルでこのブロックが選択さ
れたとき、予備メインワード線RMWはハイレベルにな
り選択状態になる。When the normal main word line NMW is defective and its fuse FU41 is blown and the defective normal main word line NMW is selected, all the normal main word lines NMW1 to NMW128 are held at the low level. You. All the N-channel transistors N41 are turned off, and the P-channel transistor P41 is normally on, so that the block common line R41 goes high.
When the block selection signal is at a high level and this block is selected, the spare main word line RMW goes to a high level to be in a selected state.
【0079】図5に、本発明の第5の実施例による装置
の構成を示す。この第5の実施例も第4の実施例と同様
に各ワード線はハイレベルになったときに選択状態にな
り、図19に示された従来の装置に本発明を適用したも
のに相当する。ブロック共通線R51と通常メインワー
ド線NMW1〜NMW128との各交点にNチャネルト
ランジスタP52が設けられ、このトランジスタP52
よりも駆動能力が十分に低くノーマリオンのNチャネル
トランジスタN51のドレインが接続されている。FIG. 5 shows the configuration of an apparatus according to a fifth embodiment of the present invention. In the fifth embodiment, similarly to the fourth embodiment, each word line becomes a selected state when it goes high, and corresponds to the case where the present invention is applied to the conventional device shown in FIG. . An N-channel transistor P52 is provided at each intersection of the block common line R51 and the normal main word lines NMW1 to NMW128.
The drain of a normally-on N-channel transistor N51 having sufficiently lower driving capability than that of the N-channel transistor N51 is connected.
【0080】通常メインワード線NMW1〜NMW12
8に不良がない場合、あるいは不良が存在しかつ不良箇
所以外が選択された場合、第4の実施例と同様に選択さ
れた通常メインワード線NMWがハイレベルになる。選
択されたローのインバータIN52の入力端子にゲート
が接続されたPチャネルトランジスタP52がオンする
ため、ブロック共通線R51はハイレベルになり、予備
メインワード線RMWはロウレベルに保持され非選択状
態を維持する。Normal main word lines NMW1 to NMW12
In the case where there is no defect in 8 or when there is a defect and a portion other than the defective portion is selected, the selected normal main word line NMW goes high as in the fourth embodiment. Since the P-channel transistor P52 whose gate is connected to the input terminal of the selected low-level inverter IN52 is turned on, the block common line R51 goes high, and the spare main word line RMW is held low and remains unselected. I do.
【0081】通常メインワード線NMWに不良があり、
かつ不良の通常メインワード線NMWが選択されたとき
は、全ての通常メインワード線NMW1〜NMW128
はロウレベルに保持される。PチャネルトランジスタP
52は全てオフし、NチャネルトランジスタN51はオ
ン状態にあるためブロック共通線R51はロウレベルに
なる。ブロック選択信号がロウレベルでこのブロックが
選択されたとき、予備メインワード線RMWはハイレベ
ルになり選択状態になる。Normally, there is a defect in the main word line NMW,
When a defective normal main word line NMW is selected, all the normal main word lines NMW1 to NMW128
Are held at the low level. P-channel transistor P
52 are all off, and the N-channel transistor N51 is in the on state, so that the block common line R51 is at low level. When the block selection signal is low and this block is selected, the spare main word line RMW goes high and enters the selected state.
【0082】図6に示された本発明の第6の実施例は、
第5の実施例で用いられているトランジスタの極性を変
えたものに相当する。即ち、第5の実施例で各通常メイ
ンワード線NMW1〜NMW128に設けられたPチャ
ネルトランジスタP51〜P53と、ブロック共通線R
51に設けられたNチャネルトランジスタN51の替わ
りに、それぞれNチャネルトランジスタN61〜N63
とPチャネルトランジスタP61が設けられている。さ
らに、ブロック共通線R61とNOR回路NOR61の
一方の入力端子との間にインバータIN62が設けられ
ている。この第6の実施例における動作は、第5の実施
例と同様である。通常メインワード線NMW1〜128
のいずれかに不良があり、かつその不良ローが選択され
た場合、全ての通常メインワード線NMW1〜128は
ハイレベルで非選択状態となり、ブロック共通線R61
がPチャネルトランジスタP61で充電される。このブ
ロックが選択された場合は、予備メインワード線RMW
はロウレベルになり選択状態になる。The sixth embodiment of the present invention shown in FIG.
This corresponds to a transistor obtained by changing the polarity of the transistor used in the fifth embodiment. That is, the P-channel transistors P51 to P53 provided in each of the normal main word lines NMW1 to NMW128 in the fifth embodiment and the block common line R
51, N-channel transistors N61 to N63, respectively.
And a P-channel transistor P61. Further, an inverter IN62 is provided between the block common line R61 and one input terminal of the NOR circuit NOR61. The operation of the sixth embodiment is similar to that of the fifth embodiment. Normal main word lines NMW1 to 128
Is defective, and the defective row is selected, all of the normal main word lines NMW1 to NMW128 are in a non-selected state at a high level, and the block common line R61
Is charged by the P-channel transistor P61. When this block is selected, the spare main word line RMW
Becomes low level and becomes selected.
【0083】ここで、上述した第1〜第6の実施例で
は、いずれも正常な通常メインワード線NMWが選択さ
れたときは、この選択されたワード線NMWに接続され
たトランジスタと、ブロック共通線R11〜R61に接
続されたノーマリオンのトランジスタとが同時にオンし
て電源電圧VDD端子から接地電圧Vcc端子へ貫通電流が
流れる。しかし、この貫通電流が流れるのは選択された
1つのブロックに限られるので、装置全体の動作時にお
ける消費電流から見れば影響は十分に小さい。In the first to sixth embodiments, when a normal normal main word line NMW is selected, the transistor connected to the selected word line NMW and the transistor connected to the selected word line NMW share the same block. The normally-on transistors connected to the lines R11 to R61 are simultaneously turned on, and a through current flows from the power supply voltage VDD terminal to the ground voltage Vcc terminal. However, since this through current flows through only one selected block, the influence is sufficiently small in view of the current consumption during the operation of the entire device.
【0084】また、例えば図2に示された第2の実施例
で、ブロック共通線R21をPチャネルトランジスタP
21とNチャネルトランジスタN22とで駆動しようと
すると、遅延時間が長くなることが考えられる。しか
し、このトランジスタP21及びN22の駆動能力を高
く設定すると、上述した貫通電流の増大を招く。そこ
で、予備メインワード線RMWを1段のNAND回路で
駆動するのではなく、図6に示された第6の実施例のよ
うにインバータIN61を設けて段数を増やすことで、
ブロック共通線R61の負荷容量を大幅に低減し高速化
することが可能である。Further, for example, in the second embodiment shown in FIG. 2, the block common line R21 is connected to the P-channel transistor P
If it is attempted to drive with N21 and N-channel transistor N22, the delay time may be long. However, if the driving capabilities of the transistors P21 and N22 are set to be high, the above-described increase in the through current is caused. Therefore, instead of driving the spare main word line RMW with a one-stage NAND circuit, the number of stages is increased by providing an inverter IN61 as in the sixth embodiment shown in FIG.
It is possible to greatly reduce the load capacity of the block common line R61 and increase the speed.
【0085】上述した第1〜第6の実施例では、いずれ
も1つのブロック内の構成を示している。装置全体とし
ては、例えば図7に示されたような構成とすることがで
きる。In each of the first to sixth embodiments, the configuration in one block is shown. The whole apparatus can be configured as shown in FIG. 7, for example.
【0086】1つのブロックB1において、128本の
通常メインワード線NMWと、1本の予備メインワード
線RMWが設けられている。このようなブロックが、全
体で8個設けられており、通常メインワード線NMWの
本数は1024本で予備メインワード線RMWの本数は
8本である。In one block B1, 128 normal main word lines NMW and one spare main word line RMW are provided. Eight such blocks are provided as a whole, and the number of main word lines NMW is usually 1024 and the number of spare main word lines RMW is eight.
【0087】図12に示された従来の装置では、8本の
予備メインワード線RMWと1024本の通常メインワ
ード線NMWとが分離した領域に設けられていたが、図
7に示された装置では上述のように全体が複数のブロッ
クに分かれて各ブロックには1本ずつの予備メインワー
ド線が通常メインワード線NMWと共に配置されてい
る。In the conventional device shown in FIG. 12, eight spare main word lines RMW and 1024 normal main word lines NMW are provided in separate areas, but the device shown in FIG. As described above, the whole is divided into a plurality of blocks, and one spare main word line is arranged in each block together with the normal main word line NMW.
【0088】さらに、従来の装置と異なり、予備メイン
ワード線RMWの端部には予備ワード線バッファの替り
に図1〜図6を用いて述べたような制御を行なう回路
(ノーマル行/予備行制御回路)が配置される。さらに
図12の従来の回路に比べて大きな特徴は、従来必要だ
った予備ローデコード信号およびそれを発生させるため
のアドレス情報をヒューズ等を用いて記憶させるための
予備ローデコードを配置しておく必要がない。Further, unlike the conventional device, a circuit (normal row / spare row) for performing the control described with reference to FIGS. 1 to 6 instead of the spare word line buffer is provided at the end of spare main word line RMW. A control circuit). A further significant feature compared to the conventional circuit of FIG. 12 is that a spare row decode signal for storing a spare row decode signal and address information for generating the spare row decode signal, which is required conventionally, must be arranged using a fuse or the like. There is no.
【0089】以上、行方向に冗長回路を構成した実施例
の回路について説明したが、列方向にも同様に冗長回路
を設けることもできる。The circuit of the embodiment in which the redundant circuit is formed in the row direction has been described above, but the redundant circuit can be similarly provided in the column direction.
【0090】先ず、図8に示されるように、列方向に関
し全体の回路をN個のセクションSEC81〜SEC8
Nに分割し、各セクションSECにM列を設けたとする
と、全体ではM×N個の列が存在することになる。First, as shown in FIG. 8, the entire circuit is divided into N sections SEC81 to SEC8 in the column direction.
If it is divided into N and each section SEC is provided with M columns, there will be M × N columns in total.
【0091】図9に、本発明の第7の実施例による半導
体記憶装置の列方向の構成を示す。図示されていないメ
モリセルアレイが列方向に複数のブロックに分割されて
おり、図9には一つのブロック内の構成が示されてい
る。この第7の実施例では、1つのブロック内には1つ
のI/Oのみが含まれている。FIG. 9 shows a configuration of a semiconductor memory device according to a seventh embodiment of the present invention in the column direction. A memory cell array (not shown) is divided into a plurality of blocks in the column direction, and FIG. 9 shows a configuration in one block. In the seventh embodiment, only one I / O is included in one block.
【0092】メモリセルアレイ領域を列方向に接続する
N列分のビット線対BL,/BLの端部が、N個のカラ
ムゲートCG1201〜CG120Nに接続されてお
り、カラムゲートCG1201〜CG120Nはセンス
アンプ及び書込回路SAW1201に共通ビット線対C
BL,/CBLによって接続されている。共通ビット線
対CBL,/CBLには、カラムゲートCG1201〜
CG120Nの動作状態を制御する通常及び予備カラム
制御バッファNSCB1201が設けられている。The end portions of the bit line pairs BL and / BL for N columns connecting the memory cell array regions in the column direction are connected to N column gates CG1201 to CG120N, and the column gates CG1201 to CG120N are sense amplifiers. And a common bit line pair C to the write circuit SAW1201.
They are connected by BL and / CBL. Column gates CG1201 to CG1201
A normal and spare column control buffer NSCB1201 for controlling the operation state of the CG 120N is provided.
【0093】通常及び予備カラム制御バッファNSCB
1201は、N列に対応して設けられたカラムデコード
線CD1〜CDNのうち、対応するカラムデコード線C
Dからカラムデコード信号を入力され、さらにブロック
を選択するブロックデコード信号を入力されて動作す
る。そして、通常及び予備カラム制御バッファNSCB
1201から出力された制御信号は、カラムゲートCG
1201及びCG120Nに与えられてその開閉状態を
制御する。Normal and spare column control buffer NSCB
Reference numeral 1201 denotes a corresponding column decode line C among column decode lines CD1 to CDN provided corresponding to N columns.
A column decode signal is input from D, and a block decode signal for selecting a block is further input to operate. And a normal and spare column control buffer NSCB
The control signal output from 1201 is the column gate CG
1201 and CG 120N to control the open / close state.
【0094】通常及び予備カラム制御バッファNSCB
1201において、カラムデコード線CD1とカラムゲ
ートCG1201及びCG120Nとを接続するカラム
ゲート制御線CGC1201及びCGC120Nの間に
は、不良カラムアイソレーション用ヒューズFU120
1及びFU120Nが設けられ、またノーマリオンのN
チャネルトランジスタN1201及びN120Nがそれ
ぞれ接続されている。Normal and spare column control buffer NSCB
In 1201, a defective column isolation fuse FU120 is provided between the column decode line CD1 and the column gate control lines CGC1201 and CGC120N connecting the column gates CG1201 and CG120N.
1 and FU120N, and N of normally on
The channel transistors N1201 and N120N are respectively connected.
【0095】ブロックデコード線BDLは、AND回路
AND1201の一方の入力端子に接続されている。A
ND回路AND1201の他方の入力端子には、ゲート
がカラムゲート制御線CGC1201に接続されソース
が接地されたNチャネルトランジスタN1211および
同様にゲートがカラムゲート制御線CGC120Nに接
続されたNチャネントランジスタN121NまでのN個
のNチャネルトランジスタのドレインと、ノーマリオン
のPチャネルトランジスタP1201のドレインとが接
続されている。このAND回路AND1201の出力端
子は、カラムゲートCG1211の制御端子に接続され
ている。このカラムゲートCG1211は、共通ビット
線対CBL,/CBLにそれぞれ入力端子を接続され、
出力端子は予備列のビット線対BL,/BLに接続され
ている。The block decode line BDL is connected to one input terminal of an AND circuit AND1201. A
The other input terminal of the ND circuit AND1201 includes an N-channel transistor N1211 having a gate connected to the column gate control line CGC1201 and a source grounded, and an N-channel transistor N121N also having a gate connected to the column gate control line CGC120N. Are connected to the drains of normally N-channel P-channel transistors P1201. The output terminal of the AND circuit AND1201 is connected to the control terminal of the column gate CG1211. The column gate CG1211 has input terminals connected to the common bit line pair CBL and / CBL, respectively.
The output terminal is connected to the bit line pair BL, / BL in the spare column.
【0096】このような構成を備えた本実施例は、次の
ように動作する。N個の通常列1〜Nにいずれも不良が
ない場合、あるいは不良が存在しても他の列が選択され
たときは、カラムデコード信号CD1〜CDNによりい
ずれか一つのカラムゲートCGが選択されて導通する。The present embodiment having such a configuration operates as follows. If none of the N normal columns 1 to N has a defect, or if another column is selected even if a defect exists, one of the column gates CG is selected by the column decode signals CD1 to CDN. To conduct.
【0097】カラムゲートCGは、例えば図10(a)
又は(b)にそれぞれ示されたような構成にすることが
できる。図10(a)のカラムゲートCGはNチャネル
トランジスタで構成されており、共通ビット線対CB
L,/CBLとビット線対BL,/BLとの間にそれぞ
れNチャネルトランジスタN1301及びN1302が
接続され、ゲートがカラムゲート制御線CGCに接続さ
れている。カラムゲート制御線CGCがハイレベルのと
き、トランジスタN1301及びN1302が導通し、
共通ビット線対CBL,/CBLとビット線対BL,/
BLとがそれぞれ接続された状態になる。The column gate CG is, for example, as shown in FIG.
Alternatively, the configuration as shown in FIG. The column gate CG in FIG. 10A is formed of an N-channel transistor, and the common bit line pair CB
N-channel transistors N1301 and N1302 are connected between L and / CBL and the bit line pair BL and / BL, respectively, and their gates are connected to a column gate control line CGC. When the column gate control line CGC is at a high level, the transistors N1301 and N1302 conduct,
The common bit line pair CBL, / CBL and the bit line pair BL, /
BL are connected to each other.
【0098】図10(b)に示されたカラムゲートCG
は、共通ビット線CBL,/CBLとビット線対BL,
/BLとの間に、それぞれNチャネルトランジスタN1
303及びPチャネルトランジスタP1301と、Nチ
ャネルトランジスタN1304及びPチャネルトランジ
スタP1302とが並列に接続されている。Nチャネル
トランジスタN1303とN1304のゲートはカラム
ゲート制御線CGCに共通接続され、Pチャネルトラン
ジスタP1301及びP1302のゲートはインバータ
IN1301の出力端子に共通接続されている。インバ
ータIN1301の出力端子はカラムゲート制御線CG
Cに接続されている。この図10(b)に示されたカラ
ムゲートCGも図10(a)のカラムゲートCGと同様
に、カラムゲート制御線CGCがハイレベルになるとト
ランジスタN1303,N1304,P1301,及び
P1302が導通し、共通ビット線対CBL,/CBL
とビット線対BL,/BLとがそれぞれ接続される。The column gate CG shown in FIG.
Are common bit lines CBL, / CBL and bit line pair BL,
/ BL between N-channel transistors N1
303 and a P-channel transistor P1301, and an N-channel transistor N1304 and a P-channel transistor P1302 are connected in parallel. The gates of the N-channel transistors N1303 and N1304 are commonly connected to a column gate control line CGC, and the gates of the P-channel transistors P1301 and P1302 are commonly connected to the output terminal of the inverter IN1301. The output terminal of the inverter IN1301 is connected to the column gate control line CG
It is connected to C. Similarly to the column gate CG of FIG. 10A, when the column gate control line CGC goes high, the transistors N1303, N1304, P1301, and P1302 conduct, and the column gate CG shown in FIG. Common bit line pair CBL, / CBL
And bit line pair BL, / BL are connected to each other.
【0099】次に、例えば通常列1に不良があり、不良
カラムアイソレーション用ヒューズFU1201がブロ
ーされた場合は以下のようにしてスペア列に置き替わ
る。ヒューズFU1201がブローされると、列1のカ
ラムゲート制御線CGC1201は常時ロウレベルでカ
ラムゲートCG1201は閉じた状態を維持する。カラ
ムゲート制御線CGC1201がロウレベルになると、
NチャネルトランジスタN1211がオフし、Pチャネ
ルトランジスタP1201がオンしているためAND回
路AND1201への一方の入力レベルはハイレベルに
なる。このブロックが選択されたときは、ブロックデコ
ード信号がハイレベルであるため、この信号がAND回
路AND1201の他方の入力端子に与えられ、AND
回路AND1201からはハイレベルの出力がカラムゲ
ートCG1211に与えられる。これにより、カラムゲ
ートCG1211が開いて、共通ビット線CBL,/C
BLと、予備列のビット線対BL,/BLとがそれぞれ
接続され、不良が救済される。Next, for example, when there is a defect in the normal column 1 and the defective column isolation fuse FU1201 is blown, the spare column is replaced as follows. When the fuse FU1201 is blown, the column gate control line CGC1201 of column 1 is always at the low level, and the column gate CG1201 is kept closed. When the column gate control line CGC1201 becomes low level,
Since the N-channel transistor N1211 is turned off and the P-channel transistor P1201 is turned on, one input level to the AND circuit AND1201 becomes a high level. When this block is selected, since the block decode signal is at a high level, this signal is applied to the other input terminal of the AND circuit AND1201 and AND
A high-level output is supplied from the circuit AND1201 to the column gate CG1211. As a result, the column gate CG1211 is opened, and the common bit lines CBL, / C
BL and the pair of bit lines BL and / BL in the spare column are connected to each other, and defects are relieved.
【0100】図11に、本発明の第8の実施例による半
導体記憶装置の列方向の1ブロックの構成を示す。この
実施例では、1ブロックに、N個の通常列を有するI/
Oを8つ備え(I/O1〜I/O8)、さらに1つの予
備列を備えている。また、8つのI/Oに対応して、8
つのセンスアンプ及び書込回路SAW1401〜140
8が設けられている。通常及び予備カラム制御バッファ
NSCB1401は、1ブロックにつき1つ設けられて
おり、各I/O毎に図9に示された通常及び予備カラム
制御バッファNSCB1201と同様な構成を各I/O
毎に備えている。FIG. 11 shows the configuration of one block in the column direction of a semiconductor memory device according to the eighth embodiment of the present invention. In this embodiment, one block includes an I / O having N normal columns.
Eight Os (I / O1 to I / O8) and one extra row are provided. Also, corresponding to eight I / Os,
Sense amplifier and write circuits SAW1401-140
8 are provided. One normal and spare column control buffer NSCB 1401 is provided for one block, and each I / O has the same configuration as the normal and spare column control buffer NSCB 1201 shown in FIG. 9 for each I / O.
We prepare for every.
【0101】全てのI/O1〜I/O8において正常な
列が選択された場合は、それぞれのI/O毎に、N列の
うちのいずれか1つが選択され、対応するカラムゲート
CGが開いて共通ビット線対CBL,/CBLとビット
線対BL,/BLとが接続される。When a normal column is selected in all I / O1 to I / O8, one of N columns is selected for each I / O, and the corresponding column gate CG is opened. The common bit line pair CBL, / CBL is connected to the bit line pair BL, / BL.
【0102】I/O1〜I/O8のうち、いずれか一つ
のI/Oにおいて不良列が選択されたときは、以下のよ
うである。例えば、I/O1における列1に不良があり
ヒューズFU1401がブローされていると、この列1
のカラムゲートCG1401は、カラムデコード線CD
1のレベルとは無関係に閉じた状態を維持する。カラム
1のカラムゲート制御線CGC1401がロウレベルに
保持されると、NチャネルトランジスタN1401がオ
フし、PチャネルトランジスタP1401はオン状態に
あるため、ハイレベルの信号がAND回路AND140
1の一方の入力端子に入力される。このブロックが選択
されたときは、ハイレベルのブロックデコード信号がA
ND回路AND1401の他方の入力端子に与えられ、
ハイレベルの出力がカラムゲートCG1411に与えら
れ導通する。これにより、共通ビット線対CBL,/C
BLと予備列のビット線対BL,/BLとがそれぞれ導
通して救済される。When a defective column is selected in any one of I / O1 to I / O8, the operation is as follows. For example, if the column 1 in the I / O1 is defective and the fuse FU1401 is blown, this column 1
Of the column decode line CD
The closed state is maintained regardless of the level of 1. When the column gate control line CGC1401 of the column 1 is held at a low level, the N-channel transistor N1401 is turned off and the P-channel transistor P1401 is in an on state, so that a high-level signal is output from the AND circuit AND140.
1 is input to one of the input terminals. When this block is selected, the high-level block decode signal
Given to the other input terminal of the ND circuit AND1401,
A high-level output is applied to the column gate CG1411 to conduct. Thereby, common bit line pair CBL, / C
BL and the pair of bit lines BL and / BL in the spare column are electrically connected to each other to be relieved.
【0103】上述した実施例によれば、次のような効果
が得られる。According to the above-described embodiment, the following effects can be obtained.
【0104】行方向又は列方向のいずれに冗長回路を持
たせた場合にも、予備ローデコーダ又は予備カラムデコ
ーダはいずれも不要である。よって、チップ面積の縮小
に寄与することができる。上述したように、8ビット構
成で1024行×1024列の1MビットSRAMを例
にとると、1予備行につき予備ローデコーダの面積は、
約20000μm2 となる。よって、予備行を8行置い
た場合には、全体で約160000μm2 の面積が必要
となるが、第1〜第6の実施例によればこのような面積
の削減が可能となる。When a redundant circuit is provided in either the row direction or the column direction, neither a spare row decoder nor a spare column decoder is required. Therefore, it is possible to contribute to the reduction of the chip area. As described above, in the case of a 1M-bit SRAM of 1024 rows × 1024 columns with an 8-bit configuration, the area of the spare row decoder per spare row is as follows.
It is about 20,000 μm 2 . Therefore, when eight spare rows are provided, a total area of about 160000 μm 2 is required. According to the first to sixth embodiments, such an area can be reduced.
【0105】また、ヒューズをブローする工程の数を削
減することができる。行又は列方向に冗長性を持たせた
場合のいずれにおいても、不良アドレスを記憶するため
にヒューズをブローする必要がない。不良ロー又は不良
カラムアイソレーション用ヒューズのみをブローすれば
よく、製造コストの低減が可能である。Further, the number of steps for blowing the fuse can be reduced. In either case where redundancy is provided in the row or column direction, it is not necessary to blow a fuse to store a defective address. Only the defective row or defective column isolation fuse needs to be blown, and the manufacturing cost can be reduced.
【0106】表1を用いて上述したように、1Mビット
SRAMで8予備行を有する場合、従来は最大で96回
のヒューズブローが必要であった。これに対し、第1〜
第6の実施例によれば、最大で8回ブローすればよい。As described above with reference to Table 1, in the case of a 1M-bit SRAM having eight spare rows, conventionally, a maximum of 96 fuse blows were required. On the other hand,
According to the sixth embodiment, it is sufficient to blow up to eight times.
【0107】列方向では、表2に示されたように、1M
ビットSRAMで8予備列を有する場合には、従来は最
大で64回ブローしなければならなかった。これに対
し、第7又は第8の実施例では最大で8回ブローすれば
よい。In the column direction, as shown in Table 2, 1M
In the case of a bit SRAM having eight spare columns, it has conventionally been necessary to blow a maximum of 64 times. On the other hand, in the seventh or eighth embodiment, it is sufficient to blow eight times at the maximum.
【0108】回路を設計する上でも、第1〜第8の実施
例によれば必要なメモリセルアレイの増減が従来よりも
単純であるという効果が得られる。In designing the circuit, the first to eighth embodiments provide an effect that the required increase or decrease of the memory cell array is simpler than the conventional case.
【0109】第1〜第6の実施例によれば、例えば12
8通常行と1予備行で1つのブロックが構成され、第7
又は第8の実施例によれば128通常列と1予備列で1
つのブロックが構成される。このようなブロックを1つ
の単位として増減することで、全体として必要なメモリ
セルアレイの規模を容易に変えることができる。これに
より、スタンダードセル等におけるオンチップメモリの
開発期間を縮小することができる。According to the first to sixth embodiments, for example, 12
One block is composed of eight normal rows and one spare row.
Alternatively, according to the eighth embodiment, 1 in 128 normal rows and 1 spare row
One block is composed. By increasing or decreasing such a block as one unit, it is possible to easily change the required scale of the memory cell array as a whole. Thereby, the development period of the on-chip memory in the standard cell or the like can be reduced.
【0110】上述した実施例はいずれも一例であり、本
発明を限定するものではない。例えば、1ブロック内に
設けられる複数の通常行又は通常列の数は2以上の任意
の数でよい。また、通常行又は通常列に不良があった場
合、実施例ではアイソレーション用ヒューズを用いて当
該通常行又は通常列を非選択状態にしているが、不良の
ある通常行選択線又は通常列選択線と選択手段との間を
電気的に遮断する他の手段を替わりに用いてもよい。The above-described embodiments are merely examples, and do not limit the present invention. For example, the number of a plurality of normal rows or normal columns provided in one block may be an arbitrary number of 2 or more. In the case where there is a defect in the normal row or the normal column, the normal row or the normal column is set to the non-selection state by using the fuse for isolation in the embodiment, but the defective normal row selection line or the normal column selection is used. Other means for electrically disconnecting the line from the selection means may be used instead.
【0111】[0111]
【発明の効果】以上説明したように、本発明の半導体記
憶装置によれば、複数のブロック内においてそれぞれ複
数の通常行と1つの予備行、又は複数の通常列又は1つ
の予備列が設けられ、通常行又は通常列のいずれかに不
良がある場合、この不良のある通常行又は通常列が非選
択状態になる。さらに、当該ブロックが選択され、かつ
この通常行又は通常列が選択された場合には、全ての通
常行又は通常列が非選択状態となる。このような場合に
は、自動的に予備行又は予備列が選択状態になる。この
ため、予備行又は予備列のなかからいずれかを選択する
ためのデコーダが不要でチップ面積が縮小され、さらに
予備行又は予備列を選択する情報を記憶させる工程も不
要であり、製造工程数が減少する。As described above, according to the semiconductor memory device of the present invention, a plurality of normal rows and one spare row, or a plurality of normal columns or one spare column are provided in each of a plurality of blocks. If any of the normal rows or the normal columns has a defect, the defective normal row or the normal column is deselected. Further, when the block is selected and the normal row or the normal column is selected, all the normal rows or the normal columns are in a non-selected state. In such a case, the spare row or spare column is automatically selected. For this reason, a decoder for selecting any of the spare row or spare column is not required, the chip area is reduced, and a step of storing information for selecting the spare row or spare column is also unnecessary, and the number of manufacturing steps is reduced. Decrease.
【図1】本発明の第1の実施例による半導体記憶装置の
構成を示した回路図。FIG. 1 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention.
【図2】本発明の第2の実施例による半導体記憶装置の
構成を示した回路図。FIG. 2 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention.
【図3】本発明の第3の実施例による半導体記憶装置の
構成を示した回路図。FIG. 3 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to a third embodiment of the present invention.
【図4】本発明の第4の実施例による半導体記憶装置の
構成を示した回路図。FIG. 4 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to a fourth embodiment of the present invention.
【図5】本発明の第5の実施例による半導体記憶装置の
構成を示した回路図。FIG. 5 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to a fifth embodiment of the present invention.
【図6】本発明の第6の実施例による半導体記憶装置の
構成を示した回路図。FIG. 6 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to a sixth embodiment of the present invention.
【図7】本発明の第1〜第6の実施例による半導体記憶
装置の概略構成を示した回路図。FIG. 7 is a circuit diagram showing a schematic configuration of a semiconductor memory device according to first to sixth embodiments of the present invention.
【図8】本発明の第7又は第8の実施例による半導体記
憶装置のカラム方向の構成を示した説明図。FIG. 8 is an explanatory diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to a seventh or eighth embodiment of the present invention in the column direction.
【図9】本発明の第7の実施例による半導体記憶装置の
構成を示した回路図。FIG. 9 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to a seventh embodiment of the present invention.
【図10】本発明の第7又は第8の実施例による半導体
記憶装置のカラムゲートの構成を示した回路図。FIG. 10 is a circuit diagram showing a configuration of a column gate of a semiconductor memory device according to a seventh or eighth embodiment of the present invention.
【図11】本発明の第8の実施例による半導体記憶装置
の構成を示した回路図。FIG. 11 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to an eighth embodiment of the present invention.
【図12】従来の半導体記憶装置の概略構成を示した回
路図。FIG. 12 is a circuit diagram showing a schematic configuration of a conventional semiconductor memory device.
【図13】同半導体記憶装置におけるアドレスデコーダ
の構成を示した回路図。FIG. 13 is a circuit diagram showing a configuration of an address decoder in the semiconductor memory device.
【図14】同半導体記憶装置における予備ローデコーダ
の構成を示した回路図。FIG. 14 is a circuit diagram showing a configuration of a spare row decoder in the semiconductor memory device.
【図15】同半導体記憶装置におけるヒューズ選択回路
の構成を示した回路図。FIG. 15 is a circuit diagram showing a configuration of a fuse selection circuit in the semiconductor memory device.
【図16】同半導体記憶装置における行方向の構成を示
した回路図。FIG. 16 is a circuit diagram showing a configuration in a row direction in the semiconductor memory device.
【図17】従来の他の半導体記憶装置における行方向の
構成を示した回路図。FIG. 17 is a circuit diagram showing a configuration of another conventional semiconductor memory device in a row direction.
【図18】従来の他の半導体記憶装置における行方向の
構成を示した回路図。FIG. 18 is a circuit diagram showing a configuration of another conventional semiconductor memory device in a row direction.
【図19】従来の他の半導体記憶装置における行方向の
構成を示した回路図。FIG. 19 is a circuit diagram showing a configuration in a row direction in another conventional semiconductor memory device.
【図20】従来の他の半導体記憶装置における列方向の
構成を示した回路図。FIG. 20 is a circuit diagram showing a configuration of another conventional semiconductor memory device in a column direction.
【図21】従来の他の半導体記憶装置における列方向の
構成を示した回路図。FIG. 21 is a circuit diagram showing a configuration of another conventional semiconductor memory device in a column direction.
【図22】同半導体記憶装置における制御信号を生成す
る回路の構成を示した回路図。FIG. 22 is a circuit diagram showing a configuration of a circuit for generating a control signal in the semiconductor memory device.
NMW1〜NMW128 通常メインワード線 RMW 予備メインワード線 IN11,IN12,IN21,IN22,IN31,
IN32,IN41,IN42,IN51,IN52,
IN61〜IN64 インバータ NOR11,NOR31,NOR51,NOR61 N
OR回路 RMD11,RMD21,RMD31,RMD41,R
MD51,RMD61,RMD71 ローメインデコー
ダ NA21,NA71 NAND回路 WB ワード線バッファ FU11,FU21,FU31,FU41,FU51,
FU61,FU71 不良ローアイソレーション用ヒュ
ーズ FU1201,FU1301,FU1401 不良カラ
ムアイソレーション用ヒューズ R11,R21,R31,R41,R51,R61 ブ
ロック共通線 CD71 カラムデコーダ SD71 セクションデコーダ SEC81〜SEC8N セクション CG1201,CG120N,CG1211,CG14
01,CG140N,CG1411 カラムゲート SAW1201,SAW1401,SAW1408 セ
ンスアンプ及び書込回路 CD1〜CDN カラムデコード線 AND1201,AND1401 AND回路 CBL,/CBL 共通ビット線対 CGC1201,CGC120N,CGC1401,C
GC140N カラムゲート制御線 NSCB1201,NSCB1401 通常及び予備カ
ラム制御バッファNMW1 to NMW128 Normal main word line RMW Spare main word line IN11, IN12, IN21, IN22, IN31,
IN32, IN41, IN42, IN51, IN52,
IN61 to IN64 Inverters NOR11, NOR31, NOR51, NOR61 N
OR circuit RMD11, RMD21, RMD31, RMD41, R
MD51, RMD61, RMD71 Low main decoder NA21, NA71 NAND circuit WB Word line buffer FU11, FU21, FU31, FU41, FU51,
FU61, FU71 Defective low isolation fuse FU1201, FU1301, FU1401 Defective column isolation fuse R11, R21, R31, R41, R51, R61 Block common line CD71 Column decoder SD71 Section decoder SEC81-SEC8N Section CG1201, CG120N, CG1211, CG14
01, CG140N, CG1411 Column gate SAW1201, SAW1401, SAW1408 Sense amplifier and write circuit CD1 to CDN Column decode line AND1201, AND1401 AND circuit CBL, / CBL Common bit line pair CGC1201, CGC120N, CGC1401, C
GC140N Column gate control line NSCB1201, NSCB1401 Normal and spare column control buffer
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G11C 29/00 G11C 11/401 H01L 21/82 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 6 , DB name) G11C 29/00 G11C 11/401 H01L 21/82
Claims (2)
がそれぞれ配置された複数のブロックを備え、 前記各々のブロックは、 前記通常行のいずれかを選択する複数の通常行選択線
と、 前記通常行のいずれかに不良がある場合に替わりに前記
予備行を選択する1つの予備行選択線と、 前記通常行選択線毎に設けられて対応する通常行選択線
を駆動し、対応する当該通常行選択線に不良がある場合
に切断される不良時切断用ヒューズを含む通常行選択制
御回路と、 前記予備行選択線に設けられ、この予備行選択線を駆動
する予備行選択制御回路と、を有し、 各々の前記通常行選択制御回路は、 行デコーダの出力に基づいて、当該通常行が選択時には
当該通常行選択線を選択状態に駆動し、当該通常行が非
選択時には当該通常行選択線を非選択状態に駆動する駆
動手段と、 前記不良時切断用ヒューズが切断されると、切断された
ヒューズ端子の電位を、当該通常行が非選択時に与えら
れる非選択電位に設定する第1の電位設定手段と、 各々の通常行毎に設けられ、当該通常行の前記ヒューズ
端子の電位を与えられて、各々の通常行に共通に設けら
れた1つの共通端子を、当該通常行が選択時には第1の
電位に設定する動作を行い、当該通常行が非選択時には
第1の電位に設定する動作を行わない第2の電位設定手
段と、 前記共通端子に設けられ、この共通端子を常時第2の電
位に設定する動作を行う第3の電位設定手段と、を含
み、 前記第2の電位設定手段が前記共通端子を前記第1の電
位に設定する駆動能力は、前記第3の電位設定手段が前
記共通端子を前記第2の電位に設定する駆動能力より大
きく、 前記予備行選択制御回路は、 前記ブロックのいずれかを選択するブロック選択信号
と、前記共通端子の電位とを与えられ、当該ブロックが
選択され、かつ前記共通端子が前記第2の電位である場
合にのみ、前記予備行選択線を選択状態に駆動し、他の
いずれかの場合に、前記予備行選択線を非選択状態に駆
動する駆動手段を含む、ことを特徴とする半導体記憶装
置。1. A semiconductor device comprising: a plurality of normal rows; and a plurality of blocks each having a memory cell arranged in one spare row, wherein each of the blocks includes a plurality of normal row selection lines for selecting any of the normal rows. One spare row selection line for selecting the spare row in place of a defect in any of the normal rows, and driving a corresponding normal row selection line provided for each of the normal row selection lines, A normal row selection control circuit including a disconnection fuse for disconnection when there is a defect in the normal row selection line; and a spare row selection control provided on the spare row selection line for driving the spare row selection line. And each of the normal row selection control circuits drives the normal row selection line to a selected state when the normal row is selected, based on an output of the row decoder, and when the normal row is not selected, Deselect the normal row selection line Driving means for driving to a selected state, and a first potential setting for setting the potential of the blown fuse terminal to a non-selection potential given when the normal row is not selected when the defective fuse is cut off. Means, provided for each normal row, given the potential of the fuse terminal of the normal row, and one common terminal provided in common for each normal row, the first common terminal is selected when the normal row is selected. A second potential setting means for performing an operation of setting to the first potential, and not performing an operation of setting to the first potential when the normal row is not selected; and And a third potential setting means for performing an operation of setting the potential to the potential. The driving capability of the second potential setting means for setting the common terminal to the first potential is determined by the third potential setting means. Setting the common terminal to the second potential The spare row selection control circuit is provided with a block selection signal for selecting one of the blocks and the potential of the common terminal, the block is selected, and the common terminal is A driving means for driving the spare row selection line to a selected state only when the potential is 2 and driving the spare row selection line to a non-selected state in any other case. Semiconductor storage device.
がそれぞれ配置された複数のブロックを備え、 前記各々のブロックは、 前記通常列のいずれかを選択する複数の通常列選択線
と、 前記通常列のいずれかに不良がある場合に替わりに前記
予備列を選択する1つの予備列選択線と、 前記通常列選択線毎に設けられて対応する通常列選択線
を駆動し、対応する当該通常列選択線に不良がある場合
に切断される不良時切断用ヒューズを含む通常列選択制
御回路と、 前記予備列選択線に設けられ、この予備列選択線を駆動
する予備列選択制御回路と、を有し、 各々の前記通常列選択制御回路は、 列デコーダの出力に基づいて、当該通常列が選択時には
当該通常列選択線を選択状態に駆動し、当該通常列が非
選択時には当該通常列選択線を非選択状態に駆動する駆
動手段と、 前記不良時切断用ヒューズが切断されると、切断された
ヒューズ端子の電位を、当該通常列が非選択時に与えら
れる非選択電位に設定する第1の電位設定手段と、 各々の通常列毎に設けられ、当該通常列の前記ヒューズ
端子の電位を与えられて、各々の通常列に共通に設けら
れた1つの共通端子を、当該通常列が選択時には第1の
電位に設定する動作を行い、当該通常列が非選択時には
第1の電位に設定する動作を行わない第2の電位設定手
段と、 前記共通端子に設けられ、この共通端子を常時第2の電
位に設定する動作を行う第3の電位設定手段と、を含
み、 前記第2の電位設定手段が前記共通端子を前記第1の電
位に設定する駆動能力は、前記第3の電位設定手段が前
記共通端子を前記第2の電位に設定する駆動能力より大
きく、 前記予備列選択制御回路は、 前記ブロックのいずれかを選択するブロック選択信号
と、前記共通端子の電位とを与えられ、当該ブロックが
選択され、かつ前記共通端子が前記第2の電位である場
合にのみ、前記予備列選択線を選択状態に駆動し、他の
いずれかの場合に、前記予備列選択線を非選択状態に駆
動する駆動手段を含む、ことを特徴とする半導体記憶装
置。2. A semiconductor device comprising: a plurality of normal columns; and a plurality of blocks each having memory cells arranged in one spare column, wherein each of the blocks includes a plurality of normal column selection lines for selecting one of the normal columns. A spare column selection line for selecting the spare column in place of a defect in any of the normal columns, and a corresponding normal column selection line provided for each of the normal column selection lines, A normal column selection control circuit including a fuse for disconnection when a failure occurs in the normal column selection line, and a spare column selection control provided on the spare column selection line and driving the spare column selection line Each of the normal column selection control circuits drives the normal column selection line to a selected state when the normal column is selected based on an output of a column decoder, and when the normal column is not selected, Deselect the normal column selection line Driving means for driving to a selected state, and a first potential setting for setting the potential of the blown fuse terminal to a non-selection potential applied when the normal column is not selected when the defective fuse is cut off Means, provided for each of the normal columns, provided with the potential of the fuse terminal of the normal column, and one common terminal provided in common for each of the normal columns. A second potential setting means for performing an operation of setting to the first potential, and not performing an operation of setting to the first potential when the normal column is not selected; and And a third potential setting means for performing an operation of setting the potential to the potential. The driving capability of the second potential setting means for setting the common terminal to the first potential is determined by the third potential setting means. Setting the common terminal to the second potential The spare column selection control circuit is provided with a block selection signal for selecting any of the blocks and the potential of the common terminal, the block is selected, and the common terminal is connected to the second terminal. A driving unit that drives the spare column selection line to a selected state only when the potential is 2 and drives the spare column selection line to a non-selected state in any other case. Semiconductor storage device.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4340354A JP2980472B2 (en) | 1992-12-21 | 1992-12-21 | Semiconductor storage device |
KR1019930028563A KR970008445B1 (en) | 1992-12-21 | 1993-12-20 | A semiconductor memory device |
US08/170,890 US5479371A (en) | 1992-12-21 | 1993-12-21 | Semiconductor memory device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4340354A JP2980472B2 (en) | 1992-12-21 | 1992-12-21 | Semiconductor storage device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06195996A JPH06195996A (en) | 1994-07-15 |
JP2980472B2 true JP2980472B2 (en) | 1999-11-22 |
Family
ID=18336138
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4340354A Expired - Fee Related JP2980472B2 (en) | 1992-12-21 | 1992-12-21 | Semiconductor storage device |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5479371A (en) |
JP (1) | JP2980472B2 (en) |
KR (1) | KR970008445B1 (en) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR0177406B1 (en) * | 1996-04-12 | 1999-04-15 | 문정환 | Spare decoder circuit |
JPH10162598A (en) * | 1996-12-04 | 1998-06-19 | Toshiba Microelectron Corp | Semiconductor storage device |
US5917763A (en) * | 1997-09-12 | 1999-06-29 | Micron Technology, Inc. | Method and apparatus for repairing opens on global column lines |
US5892725A (en) * | 1998-05-13 | 1999-04-06 | International Business Machines Corporation | Memory in a data processing system having uneven cell grouping on bitlines and method therefor |
KR100400771B1 (en) * | 2001-05-03 | 2003-10-08 | 주식회사 하이닉스반도체 | Circuit for Word Line Redundancy |
JP3862220B2 (en) * | 2002-07-29 | 2006-12-27 | 松下電器産業株式会社 | Semiconductor memory device |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0090331B1 (en) * | 1982-03-25 | 1991-04-17 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor memory device |
JPS59144098A (en) * | 1983-02-08 | 1984-08-17 | Fujitsu Ltd | Semiconductor memory |
US4587638A (en) * | 1983-07-13 | 1986-05-06 | Micro-Computer Engineering Corporation | Semiconductor memory device |
JPS632351A (en) * | 1986-06-20 | 1988-01-07 | Sharp Corp | Semiconductor device |
JP2837433B2 (en) * | 1989-06-05 | 1998-12-16 | 三菱電機株式会社 | Bad bit relief circuit in semiconductor memory device |
JP2600435B2 (en) * | 1990-05-08 | 1997-04-16 | 松下電器産業株式会社 | Redundant relief circuit |
-
1992
- 1992-12-21 JP JP4340354A patent/JP2980472B2/en not_active Expired - Fee Related
-
1993
- 1993-12-20 KR KR1019930028563A patent/KR970008445B1/en not_active IP Right Cessation
- 1993-12-21 US US08/170,890 patent/US5479371A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR940016815A (en) | 1994-07-25 |
KR970008445B1 (en) | 1997-05-24 |
JPH06195996A (en) | 1994-07-15 |
US5479371A (en) | 1995-12-26 |
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