JP2959279B2 - Signal readout circuit for charge integration type two-dimensional array photodetector - Google Patents

Signal readout circuit for charge integration type two-dimensional array photodetector

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JP2959279B2
JP2959279B2 JP4145180A JP14518092A JP2959279B2 JP 2959279 B2 JP2959279 B2 JP 2959279B2 JP 4145180 A JP4145180 A JP 4145180A JP 14518092 A JP14518092 A JP 14518092A JP 2959279 B2 JP2959279 B2 JP 2959279B2
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    • H04N25/70SSIS architectures; Circuits associated therewith
    • H04N25/76Addressed sensors, e.g. MOS or CMOS sensors
    • H04N25/77Pixel circuitry, e.g. memories, A/D converters, pixel amplifiers, shared circuits or shared components

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
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  • Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
  • Radiation Pyrometers (AREA)
  • Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は電荷蓄積型二次元アレイ
光検出器用の信号読み出し回路に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a signal reading circuit for a charge storage type two-dimensional array photodetector.

【0002】[0002]

【従来の技術】二次元アレイ赤外線検出器は信号検知部
とその信号を外部に読み出す為の回路により構成されて
いる。
2. Description of the Related Art A two-dimensional array infrared detector comprises a signal detecting section and a circuit for reading out the signal to the outside.

【0003】一例として、雑誌IEEE Transa
ctions on Electron Device
s vol.38 NO.5の1104頁に搭載されて
いる、米国Rockwell Internation
al社がHgCdTeフォトダイオードを用いた256
×256アレイ中間赤外線検出器用に開発した信号読み
出し回路の回路図を図3に示す。二次元アレイ面内にユ
ニットセル1は、電荷蓄積用キャパシタ2、フォトダイ
オード用コンタクト電極(図ではフォトダイオード3で
示した)、ダイレクト・インジェクション・ゲート・ト
ランジスタ5、リセット・トランジスタ6、読み出しト
ランジスタ7で構成されている。前記リセットトランジ
スタ、及び前記読み出しトランジスタのゲート入力はX
−シフトレジスタ8で制御され、各画素の前記電荷蓄積
用キャパシタに積分された電荷はY−シフトレジスタ9
により読み出しライン12へ転送され、バッファーアン
プ13を介して出力される。
As an example, the magazine IEEE Transa
actions on Electron Device
s vol. 38 NO. 5, Rockwell International, US, page 1104.
al uses 256 HgCdTe photodiodes
FIG. 3 shows a circuit diagram of a signal readout circuit developed for a x256 array intermediate infrared detector. In the two-dimensional array surface, the unit cell 1 includes a charge storage capacitor 2, a photodiode contact electrode (indicated by a photodiode 3 in the figure), a direct injection gate transistor 5, a reset transistor 6, and a readout transistor 7. It is composed of The gate inputs of the reset transistor and the read transistor are X
The charge controlled by the shift register 8 and integrated in the charge storage capacitor of each pixel is a Y-shift register 9
Is transferred to the read line 12 and output via the buffer amplifier 13.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】二次元アレイ赤外線検
出器の温度分解能を向上させるためには、蓄積電荷量を
出来るだけ大きくすることが必要である。一方、画素
数、検出器の小型化に対する要請から二次元アレイを構
成する単位画素の大きさは、128×128アレイで5
0〜60μm□、256×256アレイで40μm□程
度となる。単位画素に含まれるトランジスタ3個と配線
部を確保した残りが電荷蓄積用キャパシタとして利用出
来る領域となる。限られた画素面積を積分容量としてい
かに有効に利用するかが重要な課題となる。画素サイ
ズ、面積利用率(単位画素面積に対するキャパシタ面積
の割合)、面容量をそれぞれ、40μm□、39%、8
×10-4 pF/μm2 とすると容量は0.5pFとな
る。
In order to improve the temperature resolution of a two-dimensional array infrared detector, it is necessary to increase the amount of accumulated charge as much as possible. On the other hand, due to the demand for the number of pixels and the miniaturization of the detector, the size of the unit pixel constituting the two-dimensional array is 5 × 128 × 128 array.
0 to 60 μm □, about 40 μm □ in a 256 × 256 array. The remaining three transistors and wiring portions included in the unit pixel are regions that can be used as charge storage capacitors. An important issue is how to effectively use the limited pixel area as the integration capacitance. The pixel size, the area utilization rate (the ratio of the capacitor area to the unit pixel area), and the surface capacitance were 40 μm □, 39%, and 8%, respectively.
If it is × 10 −4 pF / μm 2 , the capacitance is 0.5 pF.

【0005】ここで受光波長帯域3〜5μm及び4.2
〜4.8μm、背景温度300K及び350Kのバック
グランド状態における飽和積分時間の見積りを表1に示
す。
Here, the light receiving wavelength band is 3-5 μm and 4.2.
Table 1 shows the estimation of the saturation integration time in the background state of 44.8 μm, background temperatures of 300 K and 350 K.

【0006】[0006]

【表1】 [Table 1]

【0007】本計算に於いて光学系のF値:2.0、光
学系の透過率:0.68、積分容量:0.5pF、ボル
テージスウィング:3V、量子効率:0.5、受光部面
積:1.68×10- 5 cm2 とした。同表で与えたバ
ックグランド状態に於いて、積分容量は最大積分時間
8.33ms(フレームレート:120Hz)より前に
飽和に達してることがわかる。即ち、蓄積容量が温度分
解能を制限している。
In this calculation, the F value of the optical system: 2.0, the transmittance of the optical system: 0.68, the integral capacitance: 0.5 pF, the voltage swing: 3 V, the quantum efficiency: 0.5, the area of the light receiving section : 1.68 × 10 - it was 5 cm 2. In the background state given in the table, it can be seen that the integration capacity has reached saturation before the maximum integration time of 8.33 ms (frame rate: 120 Hz). That is, the storage capacitance limits the temperature resolution.

【0008】本発明の目的は、従来型の抱えるこのよう
な課題を解決し、温度分解能の向上を計ることにある。
An object of the present invention is to solve such problems of the conventional type and improve the temperature resolution.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明による電荷蓄積型二次元アレイ光検出用の信
号読み出し回路に於いて、二次元アレイ面内のユニット
セルは電荷蓄積用キャパシタ1個、フォトダイオード用
コンタクト電極N個、フォトダイオード選択用トランジ
スタN個、ダイレクト・インジェクション・ゲート・ト
ランジスタ1個、リセット・トランジスタ1個、読み出
しトランジスタ1個から構成され、前記リセットトラン
ジスタ、及び前記読み出しトランジスタのゲートを制御
するシフトレジスタと、読み出しラインに転送するため
のシフトレジスタ、及び前記フォトダイオード選択用ト
ランジスタのゲート制御用シフトレジスタ、及び信号読
み出しラインとバッファーアンプを具備し、N個のフォ
トダイオード用コンタクト電極には1対1で対応するフ
ォトダイオード選択用トランジスタが接続し、ここで前
記N個のフォトダイオード選択用トランジスタのいずれ
か一つのゲート電極を前記フォトダイオード選択用トラ
ンジスタのゲート制御用シフトレジスタにより時分割で
投入することにより、前記N個のフォトダイオード用コ
ンタクト電極が時分割で選択的に、ダイレクト・インジ
ェクション・ゲート・トランジスタを介して、電荷蓄積
用キャパシタに電気的に接続する事を特徴とする。ここ
でNは全画素数より小さい0、1以外の整数値である。
In order to achieve the above object, in a signal readout circuit for detecting electric charge of a charge storage type two-dimensional array according to the present invention, a unit cell in a two-dimensional array plane has a charge storage capacitor. One reset contact transistor, one read contact transistor, one direct injection gate transistor, one reset transistor, and one read transistor. comprising a shift register for controlling the gates of the transistors, a shift register for transferring the read line, and a gate control shift register of the photodiode selection transistors, and a signal read line and buffer amplifier, N pieces of follower
One-to-one correspondence with photodiode contact electrodes
The photodiode selection transistor is connected,
Any of the N photodiode selection transistors
One of the gate electrodes is connected to the photodiode selecting transistor.
In a time-sharing manner using a transistor shift register for gate control
By inserting, the N photodiode photodiodes
The contact electrode is time-divisionally and selectively
Charge storage via the application gate transistor
It is electrically connected to a capacitor for use. Here, N is an integer value other than 0 and 1 smaller than the total number of pixels.

【0010】[0010]

【作用】N個のフォトダイオードの信号の検出を一つの
ユニットセルで行うことにより、ユニットセル面積が従
来のN倍になる為、従来型のN倍以上の積分容量が実現
できる。この結果、温度分解能は最大でN1 / 2 倍向上
する。また読み出しトランジスタが従来型より少なくな
るため、その分浮遊容量が減り、容量分割にともなう温
度分解能の劣化が低減する。
By detecting the signals of the N photodiodes in one unit cell, the unit cell area becomes N times as large as that of the conventional type, so that it is possible to realize N times or more the integrated capacity of the conventional type. As a result, the temperature resolution is improved at most N 1/2 times. Further, since the number of readout transistors is smaller than that of the conventional type, the stray capacitance is reduced by that amount, and deterioration of the temperature resolution due to the capacitance division is reduced.

【0011】[0011]

【実施例】本発明の実施例を図を用いて説明する。N=
4の場合の電荷蓄積型二次元アレイ光検出器用の信号読
み出し回路の概略を図1に示す。二次元アレイ面内のユ
ニットセルは電荷蓄積用キャパシタ2、フォトダイオー
ド用コンタクト電極(図ではMCTフォトダイオード3
を示した)、フォトダイオード選択用トランジスタ4、
ダイレクト・インジェクション・ゲート・トランジスタ
5、リセット・トランジスタ6、読み出しトランジスタ
7で構成されている。前記フォトダイオード・選択用ト
ランジスタ4はシフトレジスタ10で動作する。前記リ
セット・トランジスタ6、及び前記読み出しトランジス
タ7のゲートの制御はX−シフトレジスタ8で、ローバ
ス11から読み出しライン12への転送は、Y−シフト
レジスタ9により行う。本発明の回路は、1つのユニッ
トセルによって、隣接した4つのフォトダイオードの信
号出力を時分割により順次行うことを特徴としている。
図2のタイミングチャートで駆動方法を説明する。
An embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. N =
FIG. 1 schematically shows a signal readout circuit for the charge storage type two-dimensional array photodetector in the case of No. 4. The unit cells in the plane of the two-dimensional array are a charge storage capacitor 2 and a contact electrode for a photodiode (MCT photodiode 3 in the figure).
), The photodiode selecting transistor 4,
It comprises a direct injection gate transistor 5, a reset transistor 6, and a read transistor 7. The photodiode / selection transistor 4 operates with a shift register 10. The gates of the reset transistor 6 and the read transistor 7 are controlled by an X-shift register 8, and the transfer from the low bus 11 to the read line 12 is performed by a Y-shift register 9. The circuit of the present invention is characterized in that one unit cell sequentially outputs signals of four adjacent photodiodes in a time-division manner.
The driving method will be described with reference to the timing chart of FIG.

【0012】初めの1/4フレーム、即ち図2中Aで示
した時間で隣接した4つのフォトダイオードの左上の画
素(図1参照)の信号の検出を行う。同様にして次の1
/4フレームで(図2中B)右上、同Cで左下、同Dで
右下の順に信号検出を行い、1フレームで全画素の信号
処理が終了する。
At the first quarter frame, that is, at the time indicated by A in FIG. 2, the signal of the upper left pixel (see FIG. 1) of the four adjacent photodiodes is detected. Similarly, the next 1
Signal detection is performed in the order of upper right in / 4 frame (B in FIG. 2), lower left in C, and lower right in D, and signal processing of all pixels is completed in one frame.

【0013】次にユニットセル(i,k)に注目して、
信号が出力されるまでの動作を説明する。各ユニットセ
ルではフォトダイオード選択用トランジスタ4により常
にいずれかのフォトダイオードが選択されており、フォ
トダイオードで発生した光電流はダイレクト・インジェ
クション・ゲート・トランジスタ5を介して電荷蓄積用
キャパシタ2に積分される。X−シフトレジスタ8で読
み出しトランジスタ7が選択され(図2中、XSi)、
Y−シフトレジスタ9(図2中、Yk)により信号読み
出しラインに転送され、バッファーアンプ13を介して
出力される。
Next, paying attention to the unit cell (i, k),
The operation until a signal is output will be described. In each unit cell, one of the photodiodes is always selected by the photodiode selection transistor 4, and the photocurrent generated by the photodiode is integrated into the charge storage capacitor 2 via the direct injection gate transistor 5. You. The read transistor 7 is selected by the X-shift register 8 (XSi in FIG. 2),
The signal is transferred to a signal readout line by a Y-shift register 9 (Yk in FIG. 2) and output via a buffer amplifier 13.

【0014】本発明の電荷蓄積型二次元アレイ光検出器
用の信号読み出し回路によれば、隣接する4つのフォト
ダイオード(4画素分)の信号読み出しを一つのユニッ
トセルで行うことにより、従来型の4倍の積分容量が実
現できる。更に従来型に比べ、一画素当りで換算したト
ランジスタ数、及び配線数には表2に示したとおり半分
以下に、面積利用率(単位画素面積に対するキャパシタ
面積の割合)が向上する。その結果、従来と同じ試作プ
ロセスを用いて2.15pFの積分容量が実現できた。
これは従来型の4.3倍の積分容量にあたる。
According to the signal readout circuit for a charge storage type two-dimensional array photodetector of the present invention, the signal readout of four adjacent photodiodes (for four pixels) is performed by one unit cell, so that the conventional type is used. A four-fold integration capacity can be realized. Further, as compared with the conventional type, the area utilization ratio (the ratio of the capacitor area to the unit pixel area) is improved to less than half the number of transistors and the number of wirings per pixel as shown in Table 2. As a result, an integrated capacitance of 2.15 pF was realized using the same prototype process as before.
This is 4.3 times the integration capacity of the conventional type.

【0015】[0015]

【表2】 [Table 2]

【0016】受光波長帯域4.2〜4.8μm、背景温
度で350K、光学系のF値2.0、ボルテージスウィ
ング3V、積分容量0.5pFの場合、積分時間2.0
7msで温度分解能27.6mKが得られた。従来型で
は同一背景輻射条件の温度分解能は最高41.3mK
(積分容量の飽和限界)で、50%程度の温度分解の改
善がみられた。またこの時の電荷蓄積量は飽和の56%
程度で、背景輻射量が更に大きい条件では最高210%
程度の温度分解能の改善が期待できる。
When the light receiving wavelength band is 4.2 to 4.8 μm, the background temperature is 350 K, the F value of the optical system is 2.0, the voltage swing is 3 V, and the integration capacitance is 0.5 pF, the integration time is 2.0.
A temperature resolution of 27.6 mK was obtained in 7 ms. The conventional type has a maximum temperature resolution of 41.3 mK under the same background radiation conditions.
(Saturation limit of integral capacity), about 50% improvement in temperature decomposition was observed. The charge accumulation amount at this time is 56% of the saturation.
Up to 210% under conditions of higher background radiation
A degree of improvement in temperature resolution can be expected.

【0017】[0017]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の電荷蓄積
型二次元アレイ光検出器用の信号読み出し回路では、N
個のフォトダイオードの信号の検出を一つのユニットセ
ルで行うことにより、ユニットセル面積が従来のN倍に
なる為、従来型のN倍以上の積分容量が実現できる。こ
の結果、温度分解能は最大でN1 / 2 倍向上する。この
他、読み出しトランジスタ数が従来型より少なくなる
為、ローバスの浮遊容量が低減し、容量分割にともなう
温度分解能の劣化がおさえられる効果も有する。
As described above, in the signal readout circuit for the charge storage type two-dimensional array photodetector of the present invention, N
By detecting the signals of the photodiodes with one unit cell, the unit cell area becomes N times as large as that of the conventional type, so that the integration capacity of N times or more of the conventional type can be realized. As a result, the temperature resolution is improved at most N 1/2 times. In addition, since the number of read transistors is smaller than that of the conventional type, the stray capacitance of the low bus is reduced, and there is an effect that deterioration in temperature resolution due to capacitance division is suppressed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の電荷蓄積型二次元アレイ光検出器用の
信号読み出し回路の説明図である。
FIG. 1 is an explanatory diagram of a signal readout circuit for a charge storage type two-dimensional array photodetector of the present invention.

【図2】本発明の電荷蓄積型二次元アレイ光検出器用の
信号読み出し回路のタイミングチャートである。
FIG. 2 is a timing chart of a signal readout circuit for a charge storage type two-dimensional array photodetector of the present invention.

【図3】従来型電荷蓄積型二次元アレイ光検出器用の信
号読み出し回路の説明図である。
FIG. 3 is an explanatory diagram of a signal readout circuit for a conventional charge storage type two-dimensional array photodetector.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ユニットセル 2 電荷蓄積用キャパシタ 3 フォトダイオード 4 フォトダイオード選択用トランジスタ 5 ダイレクト・インジェクション・ゲート・トランジ
スタ 6 リセットトランジスタ 7 読み出しトランジスタ 8 X−シフトトランジスタ 9 Y−シフトトランジスタ 10 画素選択シフトレジスタ 11 ローバス 12 信号読み出しトランジスタ 13 バッファーアンプ
Reference Signs List 1 unit cell 2 charge storage capacitor 3 photodiode 4 photodiode selection transistor 5 direct injection gate transistor 6 reset transistor 7 readout transistor 8 X-shift transistor 9 Y-shift transistor 10 pixel selection shift register 11 low bus 12 signal Readout transistor 13 Buffer amplifier

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】信号読み出し回路の二次元アレイ面内のユ
ニットセルは、電荷蓄積用キャパシタ1個、フォトダイ
オード用コンタクト電極N個、フォトダイオード選択用
トランジスタN個、ダイレクト・インジェクション・ゲ
ート・トランジスタ1個、リセット・トランジスタ1
個、読み出しトランジスタ1個で構成され(ここでNは
画素数より小さい0、1以外の整数値)、 前記フォトダイオード選択用トランジスタのゲート制御
用シフトレジスタ、前記リセットトランジスタ、及び前
記読み出しトランジスタのゲートを制御するシフトトラ
ンジスタと、信号を読み出しラインに転送するためのシ
フトレジスタ、及び信号読み出しラインとバッファーア
ンプを具備し、N個のフォトダイオード用コンタクト電
極には1対1で対応するフォトダイオード選択用トラン
ジスタが接続し、 ここで前記N個のフォトダイオード選択用トランジスタ
のいずれか一つのゲート電極を前記フォトダイオード選
択用トランジスタのゲート制御用シフトレジスタにより
時分割で投入することにより、前記N個のフォトダイオ
ード用コンタクト電極が時分割で選択的に、ダイレクト
・インジェクション・ゲート・トランジスタを介して、
電荷蓄積用キャパシタに電気的に接続する事を特徴とす
る電荷積分型二次元アレイ光検出器用信号読み出し回
路。
1. A unit cell in a two-dimensional array plane of a signal read circuit includes one charge storage capacitor, N photodiode contact electrodes, N photodiode selection transistors, and direct injection gate transistor 1. Pcs, reset transistor 1
And one readout transistor (where N is an integer smaller than the total number of pixels, other than 0 and 1), and the gate control shift register of the photodiode selection transistor, the reset transistor, and the readout transistor a shift transistor for controlling the gate, comprises a shift register for transferring the read out signal lines, and a signal read line and buffer amplifier, a contact conductive for N photodiodes
Each pole has a corresponding one-to-one photodiode selection transformer.
A transistor is connected, and one of the gate electrodes of the N photodiode selection transistors is turned on in a time-division manner by a gate control shift register of the photodiode selection transistor, whereby the N photodiodes are connected. The contact electrode for the diode is selectively divided in a time-sharing manner through a direct injection gate transistor.
A signal readout circuit for a charge integration type two-dimensional array photodetector, which is electrically connected to a charge storage capacitor.
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