JP2956443B2 - How to make a color filter substrate - Google Patents

How to make a color filter substrate

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JP2956443B2 JP26217193A JP26217193A JP2956443B2 JP 2956443 B2 JP2956443 B2 JP 2956443B2 JP 26217193 A JP26217193 A JP 26217193A JP 26217193 A JP26217193 A JP 26217193A JP 2956443 B2 JP2956443 B2 JP 2956443B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はディスプレイ装置等に用
いられる、カラーフィルター基板の作成方法に関するも
のである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a color filter substrate used for a display device or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、ディスプレイ用等に用いられるR
GBとブラックマトリクスにより構成されるカラーフィ
ルター基板の形成には、ブラックマトリクスはクロム等
金属薄膜のフォトリソグラフ法、黒顔料レジストのフォ
トリソグラフ法、スクリーン版や凸版、凹版、平版を原
版とした印刷法等が用いられた。また、RGBの作成は
顔料レジストのフォトリソグラフ法や、顔料インキの印
刷、塗料の電着などの方法が用いられる。
2. Description of the Related Art Conventionally, R used for display and the like is used.
For the formation of a color filter substrate composed of GB and black matrix, the black matrix is a photolithography method of a metal thin film such as chromium, a photolithography method of a black pigment resist, a printing method using a screen plate, letterpress, intaglio, and planographic plate as an original. Etc. were used. The RGB is formed by a method such as photolithography of a pigment resist, printing of pigment ink, and electrodeposition of paint.

【0003】これらの方式は、それぞれの必要に応じた
寸法、形状、位置精度、コスト、作業効率等により組合
せ、使い分けされている。
[0003] These methods are combined and used depending on the size, shape, positional accuracy, cost, work efficiency, etc., as required.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】従来は、前記した各法
のうち図6のように、ブラックマトリクスは金属薄膜の
フォトリソグラフ法によるクロム薄膜ブラックマトリク
ス7、RGBは顔料レジストを基板全面に塗布した後、
フォトリソグラフ法によりRGB点状パターン8を形成
して組合せる方法が長い間、最も多く用いられてきた
が、製造コストが高いためもっと安価になる他の製造方
法が求められていた。
Conventionally, as shown in FIG. 6 of the above-mentioned methods, the black matrix is a chromium thin film black matrix 7 by a photolithographic method of a metal thin film, and the RGB is a pigment resist coated on the entire surface of the substrate. rear,
The method of forming and combining the RGB dot patterns 8 by the photolithographic method has been used most often for a long time, but another manufacturing method which is more inexpensive due to high manufacturing cost has been demanded.

【0005】これに対応して、ブラックマトリクスに黒
顔料レジストを使用してフォトリソグラフ法により形成
する方法が採用されてきており、これにRGB形成の手
法として生産性の高い印刷法、電着法を組み合わせるこ
とにより、コスト的には安価になる見込みが出てきた。
In response to this, a method of forming a black matrix by using a black pigment resist by a photolithography method has been adopted. By combining these, it was expected that the cost would be lower.

【0006】RGBの配置には、ストライプ、デルタ
(トライアングル)、斜め(ダイアゴナル)モザイク配
列等があり、ディスプレイの用途のひとつであるパソコ
ン画像等OA用では文字、数字が表示の主体であるた
め、RGBが直線的に配置されるストライプ配列でも使
用可能であるが、テレビ画像等AV用では動画で人物像
を描写する等の必要性から画像に滑らかさを持たせるた
め、RGBが三角形状に1ブロックを形成するように配
置されるデルタ(トライアングル)配列、斜め(ダイア
ゴナル)モザイク配列が適していると言われている。
The arrangement of RGB includes stripe, delta (triangle), diagonal (diagonal) mosaic arrangement and the like. Characters and numerals are mainly displayed in OA such as a personal computer image which is one of display applications. A stripe array in which RGB are linearly arranged can be used. However, in the case of AV such as a television image, in order to give a smooth image to the necessity of drawing a human image in a moving image, the RGB is formed into a triangular shape. It is said that a delta (triangle) arrangement and a diagonal mosaic arrangement arranged to form a block are suitable.

【0007】このためテレビ画像等AV用に用いる場
合、RGB形成に印刷法や電着法を用いると、生産性が
高く製造コストは安価になる反面、RGBの配置はスト
ライプ配列となるため、画像品位としては低下が避けら
れないものとされてきていた。
[0007] For this reason, when using a printing method or an electrodeposition method for forming RGB, when using for AV such as television images, the productivity is high and the manufacturing cost is low, but the arrangement of RGB is a stripe arrangement, so It has been considered that the decline in quality is inevitable.

【0008】また、RGBを三角形状に配置して1ブロ
ックを形成する配列は、顔料レジストのフォトリソグラ
フ法では図6に示す従来例のように容易に作成可能であ
るが、印刷法を用いてRGBを独立した配置としたと
き、印刷時にインキのちぎれが生じるなど、作成された
形状はRGB画素として使用できるレベルに達していな
かった。
An arrangement in which one block is formed by arranging RGB in a triangular shape can be easily prepared by a photolithographic method of a pigment resist as in the conventional example shown in FIG. When the RGB were arranged independently, the created shape did not reach a level that could be used as RGB pixels, such as the occurrence of ink tearing during printing.

【0009】このような状況で、材料費、設備費や工程
が少なく、かつ処理時間が短いなど工業生産性が高くて
コストが低く、加えてRGBが三角形状に1ブロックを
形成して配置されることが可能で、テレビ画像等AV用
に用いられた場合も画像品位が高いカラーフィルター基
板が、待望されていた。
Under such circumstances, the industrial productivity is high and the cost is low, such as low material costs, equipment costs and steps, and the processing time is short. In addition, the RGB are arranged in a triangular block. A color filter substrate that can be used and has high image quality even when used for AV such as television images has been desired.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】基板上に、色剤を分散し
た樹脂を材料とするブラックマトリクスを形成し、この
ブラックマトリクス上に印刷法により、素材が光反応性
の樹脂からなり、かつ色剤を分散したフォトレジストに
よるRGB線条の第1色めを付着させる。順次第2、第
3色目を付着させたのち、ブラックマトリクス裏面から
光照射し、RGB線条のうちブラックマトリクス開口部
に相当する反応した部分のRGBのみを残し、他の部分
を現像溶解して所望のRGB配置を形成して、カラーフ
ィルター基板を作成するものである。
A black matrix made of a resin in which a colorant is dispersed is formed on a substrate, and the material is made of a photoreactive resin by a printing method on the black matrix. The first color of the RGB streaks is deposited by the photoresist in which the agent is dispersed. After sequentially attaching the second and third colors, light is irradiated from the back of the black matrix, leaving only the reacted portions of the RGB streaks corresponding to the black matrix openings, and developing and dissolving the other portions. The color filter substrate is formed by forming a desired RGB arrangement.

【0011】[0011]

【作用】光反応性樹脂からなるRGB線条を、印刷法に
より基板上に形成し、ブラックマトリクスと組み合わせ
て、露光、現像を行って各種のRGB配列をもったカラ
ーフィルター基板を得ることができる。
An RGB liner made of a photoreactive resin is formed on a substrate by a printing method, combined with a black matrix, and exposed and developed to obtain a color filter substrate having various RGB arrangements. .

【0012】この方法によれば、印刷時にRGB線条が
連続しており、かつ粘調物である樹脂により構成されて
いるので、線条の形成時にも途中で裂断することなく連
続した線条ができる。またRGBの配列はストライプ、
斜めモザイク配列、もしくはデルタ配列と各種のものが
可能で、テレビ画像等AV用に適した画像品位の高いも
のも作ることができる。
According to this method, since the RGB filaments are continuous at the time of printing and are made of a resin which is a viscous material, even when the filaments are formed, the continuous filaments are not broken midway. Articles can be made. The arrangement of RGB is stripe,
Various types such as an oblique mosaic arrangement or a delta arrangement are possible, and a high-quality image suitable for AV such as a television image can be produced.

【0013】また、ブラックマトリクスとRGBの厚み
を同一にすることができるから、表面段差の小さい平滑
性に優れたカラーフィルターが得られる。
Further, since the black matrix and the RGB can have the same thickness, a color filter having small surface steps and excellent smoothness can be obtained.

【0014】また、この方法によれば、主要な機能パタ
ーンであるRGBの形成が印刷に依るため、材料費、設
備費、生産工程数が少ない等、工業的にも生産性が高
く、コスト的にも有利である。
Further, according to this method, since the formation of RGB, which is a main functional pattern, depends on printing, the productivity is high industrially, such as low material costs, equipment costs, and a small number of production steps. It is also advantageous.

【0015】[0015]

【実施例】【Example】

(実施例1)本発明の一実施例の構造および各部分の配
置を図1(a),(b)により、また作成途中の状態を図4(a)
で説明する。
(Embodiment 1) FIGS. 1 (a) and 1 (b) show the structure of one embodiment of the present invention and the arrangement of each part, and FIG.
Will be described.

【0016】厚さ1.1ミリでたてよこ300X300
ミリのガラスを基板1とする。この基板1上に黒顔料レ
ジストを塗布し、フォトリソグラフ法により形成したブ
ラックマトリクス2を端部より各々50ミリ内側の範囲
内に設置したものである。開口部4は横方向ピッチ10
0ミクロン、縦方向ピッチ250ミクロン、幅、長さは
それぞれ50ミクロン、120ミクロンである。
Vertically 300 mm with a thickness of 1.1 mm
The substrate 1 is made of millimeter glass. A black pigment resist is applied on the substrate 1 and a black matrix 2 formed by a photolithographic method is installed within a range of 50 mm inside each end. The opening 4 has a lateral pitch of 10
0 micron, vertical pitch 250 micron, width and length are 50 micron and 120 micron respectively.

【0017】図4(a)に示すようにブラックマトリクス
2上に重ねて、オフセット印刷方式により、RGB線条
6を形成する。このRGB線条6は、素材を光反応性樹
脂とし、色剤を分散したもので、幅85ミクロンで、使
用範囲の上端から下端まで連続した形状をなしている。
As shown in FIG. 4A, RGB stripes 6 are formed on the black matrix 2 by offset printing. The RGB filaments 6 are made of a photo-reactive resin as a material and a colorant dispersed therein, have a width of 85 microns, and have a continuous shape from the upper end to the lower end of a use range.

【0018】印刷時の1色のピッチは300ミクロンで
あり、順次、3色を形成する。RGB3色形成できた状
態で各色間のピッチは100ミクロンとなる。
The pitch of one color at the time of printing is 300 microns, and three colors are sequentially formed. The pitch between the colors becomes 100 microns when the three RGB colors are formed.

【0019】次に、図4(a)に示す基板1の裏面(紙面
裏)方向から、365nmを中心波長とする光照射を行
う。照射エネルギーは100mj/平方センチである。
Next, light irradiation with a center wavelength of 365 nm is performed from the back side (back side of the paper) of the substrate 1 shown in FIG. The irradiation energy is 100 mj / cm 2.

【0020】RGB線条6のうち、開口部部分のRGB
線条6bは、光照射により反応硬化し、ブラクマトリク
ス上のRGB線条6aは未反応のままである。
Of the RGB lines 6, the RGB of the opening
The filament 6b reacts and cures by light irradiation, and the RGB filament 6a on the black matrix remains unreacted.

【0021】次いで現像を行い、未反応の状態のブラク
マトリクス上のRGB線条6aを現像溶解し、反応硬化
状態の開口部部分のRGB線条6bを残す。
Next, development is performed to develop and dissolve the RGB filaments 6a on the unreacted black matrix, leaving the RGB filaments 6b in the reaction-cured opening portions.

【0022】以上の工程で作成したカラーフィルター5
を図1(b)に示す。基板1上に形成されたブラックマト
リクス2の開口部4に、第1色目3a、第2色目3b、
第3色目3cからなるRGB画素3を形成する。RGB
画素3の厚みは1.0ミクロン、ブラックマトリクス2
の厚み1.0ミクロンで平滑な表面が得られる。図4
(a)に示す作成途中のカラーフィルター5のX−Xでの
断面図を図5(a)に、図1(b)に示す作成されたカラーフ
ィルター5のY−Yでの断面図を図5(b)に示す。図5
(b)で示すように、基板1上にブラックマトリクス2と
RGB画素3を持つ平滑性の良好なカラーフィルター5
で、RGBの配置がストライプ形状のものが形成され
る。
The color filter 5 formed by the above steps
Is shown in FIG. 1 (b). The first color 3a, the second color 3b, the opening 3 of the black matrix 2 formed on the substrate 1
The RGB pixels 3 of the third color 3c are formed. RGB
Pixel 3 has a thickness of 1.0 micron and black matrix 2
A smooth surface with a thickness of 1.0 micron. FIG.
FIG. 5A is a cross-sectional view of the color filter 5 in the process of creation shown in FIG. 5A, and FIG. 5A is a cross-sectional view of the color filter 5 shown in FIG. This is shown in FIG. FIG.
As shown in (b), a color filter 5 having a black matrix 2 and RGB pixels 3 on a substrate 1 and having good smoothness is provided.
Thus, an RGB arrangement having a stripe shape is formed.

【0023】(実施例2)本発明の他の実施例の構造お
よび各部分の配置を図2により、また作成途中の状態を
図4(b)で説明する。
(Embodiment 2) The structure and arrangement of each part of another embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

【0024】厚さ1.1ミリでたてよこ300X300
ミリのガラスを基板1とする。この基板1上に黒顔料レ
ジストを塗布し、フォトリソグラフ法により形成したブ
ラックマトリクス2を端部より各々50ミリ内側の範囲
内に設置したものである。開口部4は横方向ピッチ10
0ミクロン、縦方向ピッチ250ミクロン、幅、長さは
それぞれ50ミクロン、120ミクロンである。
[0024] 300mm x 300mm with vertical thickness of 1.1mm
The substrate 1 is made of millimeter glass. A black pigment resist is applied on the substrate 1 and a black matrix 2 formed by a photolithographic method is installed within a range of 50 mm inside each end. The opening 4 has a lateral pitch of 10
0 micron, vertical pitch 250 micron, width and length are 50 micron and 120 micron respectively.

【0025】図4(b)に示すようにブラックマトリクス
2上に重ねて、該開口部の1角の延長上に位置する他の
開口部、およびこれと対角線方向で反対側に位置する他
の開口部を連続して覆うように、RGB線条6をオフセ
ット印刷方式で斜め方向に形成する。このRGB線条6
は素材を光反応性樹脂とし、色剤を分散したもので、幅
85ミクロンで、使用範囲の上端から下端まで連続した
形状をなしている。
As shown in FIG. 4 (b), another opening is located on the black matrix 2 so as to extend over one corner of the opening, and another opening is located diagonally opposite the opening. The RGB filaments 6 are formed obliquely by the offset printing method so as to continuously cover the openings. This RGB line 6
Is made of a photoreactive resin and has a colorant dispersed therein, has a width of 85 microns, and has a continuous shape from the upper end to the lower end of the use range.

【0026】印刷時の1色のピッチは300ミクロンで
あり、順次、3色を形成する。RGB3色形成できた状
態で各色間のピッチは100ミクロンとなる。
The pitch of one color at the time of printing is 300 microns, and three colors are sequentially formed. The pitch between the colors becomes 100 microns when the three RGB colors are formed.

【0027】次に、図4(b)に示す基板1の裏面(紙面
裏)方向から、365nmを中心波長とする光照射を行
う。照射エネルギーは100mj/平方センチである。
RGB線条6のうち、開口部部分のRGB線条6bは、
光照射により反応硬化し、ブラクマトリクス上のRGB
線条6aは未反応のままである。
Next, light irradiation with a center wavelength of 365 nm is performed from the back side (back side of the paper) of the substrate 1 shown in FIG. The irradiation energy is 100 mj / cm 2.
Of the RGB lines 6, the RGB lines 6b at the opening are:
Reacts and cures by light irradiation, RGB on black matrix
The line 6a remains unreacted.

【0028】次いで現像を行い、未反応の状態のブラッ
クマトリクス上のRGB線条6aを現像溶解し、反応硬
化状態の開口部部分のRGB線条6bを残す。
Next, development is performed to develop and dissolve the RGB filaments 6a on the unreacted black matrix, leaving the RGB filaments 6b at the opening portions in the reaction-cured state.

【0029】以上の工程で作成したカラーフィルター5
を図2に示す。基板1上に形成されたブラックマトリク
ス2の開口部4に、第1色目3a、第2色目3b、第3
色目3cからなるRGB画素3が形成される。RGB画
素3の厚みは1.0ミクロン、ブラックマトリクス2の
厚み1.0ミクロンで平滑な表面が得られる。
The color filter 5 prepared in the above steps
Is shown in FIG. A first color 3a, a second color 3b, a third color 3a are formed in the openings 4 of the black matrix 2 formed on the substrate 1.
The RGB pixel 3 having the color 3c is formed. The RGB pixel 3 has a thickness of 1.0 μm and the black matrix 2 has a thickness of 1.0 μm, and a smooth surface can be obtained.

【0030】以上のようにして、基板1上にブラックマ
トリクス2とRGB画素3を持つ平滑性の良好なカラー
フィルター5で、RGBの配置が斜めモザイク形状のも
のが形成される。
As described above, the color filter 5 having the black matrix 2 and the RGB pixels 3 on the substrate 1 and having a good smoothness and having the RGB arrangement in the oblique mosaic shape is formed.

【0031】(実施例3)本発明の一実施例の構造およ
び各部分の配置を図3により、また作成途中の状態を図
4(c)で説明する。
(Embodiment 3) The structure and arrangement of each part of an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

【0032】厚さ1.1ミリでたてよこ300X300
ミリのガラスを基板1とする。この基板上に黒顔料レジ
ストを塗布し、フォトリソグラフ法により形成したブラ
ックマトリクス2を端部より各々50ミリ内側の範囲内
に設置したものである。開口部4は開口部4A、4Bか
らなり4Aは横方向ピッチ100ミクロン、縦方向ピッ
チ250ミクロン、幅、長さはそれぞれ50ミクロン、
120ミクロンで、開口部4Aから横方向で50ミクロ
ン、縦方向で125ミクロンずらした開口部4Bも同様
の寸法で配置される。
Vertically 300 mm x 300 mm thick
The substrate 1 is made of millimeter glass. A black pigment resist is applied on the substrate, and a black matrix 2 formed by a photolithographic method is set within a range of 50 mm inside from each end. The opening 4 comprises openings 4A and 4B, 4A having a horizontal pitch of 100 microns, a vertical pitch of 250 microns, a width and a length of 50 microns, respectively.
An opening 4B that is 120 microns, shifted 50 microns horizontally and 125 microns vertically from opening 4A is also arranged with similar dimensions.

【0033】図4(c)に示すようにブラックマトリクス
2上に重ねて、オフセット印刷方式により、開口部4A
で太く開口部4B間隙では細いものと、開口部4Aの間
隙では細く開口部4Bでは太いという、2つのタイプの
RGB線条6を形成する。このRGB線条6は素材を光
反応性樹脂とし、色剤を分散したもので、太い部分の幅
85、細い部分の幅30ミクロンであり、使用範囲の上
端から下端まで連続した形状をなしている。
As shown in FIG. 4C, the openings 4A are superposed on the black matrix 2 by the offset printing method.
Two types of RGB filaments 6 are formed, which are thicker and narrower in the gap between the openings 4B, and thinner in the gap between the openings 4A and thicker in the gaps between the openings 4B. The RGB filaments 6 are made of a photoreactive resin as a material and a colorant dispersed therein. The width of the thick portion is 85 and the width of the thin portion is 30 microns, and the continuous shape is formed from the upper end to the lower end of the use range. I have.

【0034】印刷時の1色のピッチは300ミクロンで
あり、順次3色を形成する。RGB3色形成できた状態
で各色間のピッチは100ミクロンとなる。
The pitch of one color during printing is 300 microns, and three colors are sequentially formed. The pitch between the colors becomes 100 microns when the three RGB colors are formed.

【0035】次に、図4(a)に示す基板1の裏面(紙面
裏)方向から、365nmを中心波長とする光照射を行
う。照射エネルギーは100mj/平方センチである。
RGB線条6のうち、開口部部分のRGB線条6bは、
光照射により反応硬化し、ブラクマトリクス上のRGB
線条6aは未反応のままである。
Next, light irradiation with a center wavelength of 365 nm is performed from the back side (back side of the paper) of the substrate 1 shown in FIG. The irradiation energy is 100 mj / cm 2.
Of the RGB lines 6, the RGB lines 6b at the opening are:
Reacts and cures by light irradiation, RGB on black matrix
The line 6a remains unreacted.

【0036】次いで現像を行い、未反応の状態のブラク
マトリクス上のRGB線条6aを現像溶解し、反応硬化
状態の開口部部分のRGB線条6bを残す。
Next, development is carried out to develop and dissolve the RGB filaments 6a on the unreacted black matrix, leaving the RGB filaments 6b at the reaction hardened opening.

【0037】以上の工程で作製したカラーフィルター5
を図1(b)に示す。基板1上に形成されたブラックマト
リクス2の開口部4に、第1色目3a、第2色目3b、
第3色目3cからなるRGB画素3が形成される。RG
B画素3の厚みは1.0ミクロン、ブラックマトリクス
2の厚み1.0ミクロンで平滑な表面が得られる。
The color filter 5 produced by the above steps
Is shown in FIG. 1 (b). The first color 3a, the second color 3b, the opening 3 of the black matrix 2 formed on the substrate 1
RGB pixels 3 of the third color 3c are formed. RG
The B pixel 3 has a thickness of 1.0 μm and the black matrix 2 has a thickness of 1.0 μm, and a smooth surface can be obtained.

【0038】以上のようにして、基板1上にブラックマ
トリクス2とRGB画素3を持つ平滑性の良好なカラー
フィルター5で、RGBの配置がデルタ形状のものが形
成される。
As described above, the color filter 5 having the black matrix 2 and the RGB pixels 3 on the substrate 1 and having good smoothness and having the RGB arrangement in the delta shape is formed.

【0039】なお、以上述べた本発明の実施例では、印
刷法としてオフセット印刷を用いて作成する方法を示し
たが、印刷時に線条が連続していれば良いので、凸版を
用いた印刷方式、その他の印刷方式でも効果を上げるこ
とができる。
In the above-described embodiment of the present invention, the method of making the printing using the offset printing is shown as the printing method. In addition, the effect can be enhanced by other printing methods.

【0040】[0040]

【発明の効果】表示品位、製造歩留に相関する作成の容
易さ、コストに直結する生産性について、本発明による
実施例により作成したものと、従来例である図6に示す
フォトリソ法により作成したものを比較してみる。
As to the display quality, the ease of production relating to the production yield, and the productivity directly related to the cost, the one produced by the embodiment according to the present invention and the conventional one produced by the photolithography method shown in FIG. Compare what you did.

【0041】表示品位はAVに用いることを想定した場
合、本発明での実施例によるもの、従来例とも、斜め
(ダイアゴナル)モザイク、若しくはデルタ(トライア
ングル)配列が得られ表示品位は良い。
When the display quality is assumed to be used for AV, the diagonal mosaic or the delta (triangle) arrangement is obtained in both the embodiment of the present invention and the conventional example, and the display quality is good.

【0042】生産性の指標として工程数を取り上げて、
比較をしてみる。3色を作成するのに、従来例では洗浄
・レジストコート・乾燥・露光・現像・乾燥の6工程の
3色分、18工程が必要である。
Taking the number of processes as an index of productivity,
Try a comparison. In order to produce three colors, in the conventional example, 18 steps are required for three colors of 6 steps of washing, resist coating, drying, exposure, development, and drying.

【0043】これに対して本発明の実施例では洗浄・第
1色印刷・第2色印刷・第3色印刷・乾燥・裏面露光・
現像・乾燥の8工程と従来例であるフォトリソ法の場合
の半分以下である。
On the other hand, in the embodiment of the present invention, cleaning, first color printing, second color printing, third color printing, drying, backside exposure,
The number of development and drying processes is eight times, which is less than half of the conventional photolithography method.

【0044】また、RGB画素の形成に関わるパターン
形成用フォトマスクは、従来例では必要で、本発明の実
施例では不要である。
Further, a photomask for pattern formation relating to the formation of RGB pixels is required in the conventional example, and is not required in the embodiment of the present invention.

【0045】材料の使用の点からも、従来例ではスピン
コーティングやロールコーティングで大量に必要とする
のに対して、本発明の実施例では使用量はごく少量でよ
い。
From the viewpoint of the use of materials, the conventional example requires a large amount for spin coating or roll coating, whereas the embodiment of the present invention requires a very small amount.

【0046】これらを総合したものを(表1)に示す。The results are shown in Table 1.

【0047】[0047]

【表1】 [Table 1]

【0048】本発明による方法は、このように表示品位
が高いなどという特長のほか、RGB形成の主要工程が
印刷法であることから、コスト面では材料費、設備費、
生産工程数等が小さく、またフォトマスクが不要である
こと等の点など、有利な点が多く、安価にすることが可
能である。
The method according to the present invention has the features of high display quality and the like, and also has a printing method as the main process of RGB formation.
There are many advantages such as a small number of production steps and the need for a photomask, and the cost can be reduced.

【0049】また、寸法精度の面でも、条件によっては
15〜20ミクロン程度の細線が作成可能であり、高精
細も実現できる。
In terms of dimensional accuracy, a fine line of about 15 to 20 microns can be formed depending on conditions, and high definition can be realized.

【0050】また、本方法を用いたものの段差は、例え
ば図5(b)で示すように小さく、平滑性は良好で実用性
を有する。
The method using this method has a small step as shown in FIG. 5B, for example, and has good smoothness and practicality.

【0051】以上のように、本方法によれば表示品位が
高く、作成が容易であり、生産性が高くコストへの反映
が期待できるなど、総合的に優れた特長をもったカラー
フィルター基板が得られる。
As described above, according to the present method, a color filter substrate having comprehensively excellent features such as high display quality, easy production, high productivity and expected reflection on cost can be obtained. can get.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施例のカラーフィルター基板
の平面図
FIG. 1 is a plan view of a color filter substrate according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第2の実施例のカラーフィルター基板
の平面図
FIG. 2 is a plan view of a color filter substrate according to a second embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第3の実施例のカラーフィルター基板
の平面図
FIG. 3 is a plan view of a color filter substrate according to a third embodiment of the present invention.

【図4】本発明の実施例の工程進行状況を示す平面図FIG. 4 is a plan view showing the process progress of the embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第1の実施例のA−Aでの断面図FIG. 5 is a sectional view taken along line AA of the first embodiment of the present invention.

【図6】従来例である、フォトリソ法による作成例を示
す平面図
FIG. 6 is a plan view showing an example of preparation by a photolithographic method, which is a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 2 ブラックマトリクス 3 RGB画素 3a RGB画素第1色目 3b RGB画素第2色目 3c RGB画素第3色目 4 ブラックマトリクス開口部 5 カラーフィルター 6 RGB線条 6a RGB線条のブラックマトリクス上部分 6b RGB線条の開口部部分 7 クロム薄膜ブラックマトリクス 8 RGB点状パターン DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Black matrix 3 RGB pixel 3a RGB pixel 1st color 3b RGB pixel 2nd color 3c RGB pixel 3rd color 4 Black matrix opening 5 Color filter 6 RGB line 6a RGB line on black matrix 6b RGB line Strip opening 7 Chrome thin film black matrix 8 RGB dot pattern

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】色剤分散した樹脂からなるブラックマトリ
クスを形成し、感光性の樹脂を母材とした、色剤分散し
た光反応性樹脂で連続した線条をブラックマトリクス上
に重ねて、基板裏面より光を照射したのち、線条の非反
応部分を現像によって除去してRGB画素を形成するカ
ラーフィルター基板の作成方法。
1. A black matrix comprising a resin dispersed with a colorant is formed, and a continuous line of a photoreactive resin dispersed with a colorant, which is made of a photosensitive resin, is superposed on the black matrix. A method of producing a color filter substrate in which, after irradiating light from the back surface, unreacted portions of the filaments are removed by development to form RGB pixels.
【請求項2】基板上への連続した線条の形成を印刷によ
って行うカラーフィルター基板の作成方法。
2. A method for producing a color filter substrate, wherein continuous lines are formed on the substrate by printing.
【請求項3】請求項1または2に記載の方法により得ら
れた構造をもったカラーフィルター基板。
3. A color filter substrate having a structure obtained by the method according to claim 1.
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