JP2955062B2 - Hydrogen gas separation membrane - Google Patents

Hydrogen gas separation membrane

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JP2955062B2
JP2955062B2 JP3126105A JP12610591A JP2955062B2 JP 2955062 B2 JP2955062 B2 JP 2955062B2 JP 3126105 A JP3126105 A JP 3126105A JP 12610591 A JP12610591 A JP 12610591A JP 2955062 B2 JP2955062 B2 JP 2955062B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は混合ガス中の水素を分離
するための水素ガス分離膜に関する。
The present invention relates to a hydrogen gas separation membrane for separating hydrogen in a mixed gas.

【0002】[0002]

【従来の技術】水素を含有する混合ガス中から水素を分
離し、99.99%以上の高純度の水素を得る方法とし
てパラジウムを主体とする膜(Pd膜と呼ぶ)が知られ
ている。{石油学会誌、vol.15,No.1,(1
972),P64}
2. Description of the Related Art A film mainly composed of palladium (referred to as a Pd film) is known as a method for separating hydrogen from a mixed gas containing hydrogen to obtain hydrogen having a high purity of 99.99% or more. {Journal of the Japan Petroleum Institute, vol. 15, No. 1, (1
972), P64}

【0003】従来はPdまたはPdを主体とする合金を
伸延し、薄膜とすることによって製造され、この膜は支
持枠で支持して使用されていた。伸延法によって得られ
る膜の厚みの下限には限度があり、又この膜は支持枠で
支持して使用されるため、このような支持方法に耐える
だけの機械的強度を付与する必要があり、あまり薄い膜
を使用すると使用中に膜が破損しやすい。
[0003] Conventionally, Pd or an alloy mainly composed of Pd is produced by elongating it to form a thin film, and this film has been used by being supported by a support frame. There is a limit on the lower limit of the thickness of the film obtained by the distraction method, and since this film is used by being supported by a support frame, it is necessary to provide mechanical strength enough to withstand such a supporting method, If a too thin film is used, the film is easily damaged during use.

【0004】混合ガス中から特定ガスをガス拡散法によ
って分離する一手段として、ガス分子の平均自由工程よ
り小さい孔径、たとえば10Å〜数1,000Åの細孔
をもつ多孔質のガス分離膜を使用するクヌーセン拡散に
よる分離法が知られている。例えば、かかる方法は比較
的分子比の大きい水素(H2 )/窒素(N2 )、水素/
一酸化炭素(CO)等の混合ガス中のH2 ガス分離に有
効であり、一般にはガス分離膜として有機高分子膜(ポ
リイミド、酢酸セルロース、シリコン系等)が採用され
ている。
As one means for separating a specific gas from a mixed gas by a gas diffusion method, a porous gas separation membrane having pores smaller than the mean free path of gas molecules, for example, pores of 10 to several thousand degrees is used. A separation method by Knudsen diffusion is known. For example, such a method uses a relatively large molecular ratio of hydrogen (H 2 ) / nitrogen (N 2 ), hydrogen /
It is effective for separating H 2 gas in a mixed gas such as carbon monoxide (CO). Generally, an organic polymer membrane (polyimide, cellulose acetate, silicon type, etc.) is used as a gas separation membrane.

【0005】しかしながら、かかる有機高分子膜は耐熱
性、耐薬品性等の耐久性に劣るという欠陥があるため、
セラミックス多孔体等の無機質材料からなる多孔質のガ
ス分離膜を使用しようとする試みがなされており、また
特開昭59−59223号公報にはかかる無機質材料か
らなる多孔質のガス分離膜が提案され、かつ従来例とし
て示されている。
However, such an organic polymer film has a defect of poor durability such as heat resistance and chemical resistance.
Attempts have been made to use a porous gas separation membrane made of an inorganic material such as a ceramic porous body, and JP-A-59-59223 proposes a porous gas separation membrane made of such an inorganic material. And is shown as a conventional example.

【0006】また、上記問題点を解決する方法として、
無機質材からなる多孔質支持体にPdを含有する薄膜を
形成させた水素分離膜を使用する方法が特開昭62−1
21616号公報に示されている。
[0006] As a method for solving the above problems,
A method using a hydrogen separation membrane in which a thin film containing Pd is formed on a porous support made of an inorganic material is disclosed in
21616.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】前述した従来の方法に
ついては各々次のような問題点がある。 (1)クヌーセン拡散による分離法における混合ガスの
透過係数の比は、理論的には各ガスにおける分子量の逆
数の平方根に等しいため、かなり小さく高濃度の水素ガ
スを得るのは困難である。
The above-mentioned conventional methods have the following problems. (1) Since the ratio of the permeability of the mixed gas in the separation method by Knudsen diffusion is theoretically equal to the square root of the reciprocal of the molecular weight of each gas, it is difficult to obtain a considerably small and high-concentration hydrogen gas.

【0008】(2)Pd膜法は60〜100μm程度の
比較的厚いものを使用せざるを得ず、高価なPdの使用
量が増大し、また水素の透過速度が小さい。
(2) In the Pd film method, a relatively thick film having a thickness of about 60 to 100 μm must be used, the amount of expensive Pd used increases, and the permeation rate of hydrogen is low.

【0009】(3)無機質材料からなる多孔質支持体の
例としては多孔質ガラス、多孔質セラミックス、多孔質
金属等がある。多孔質ガラスは衝撃強度が非常に弱いの
で破損しやすい。多孔質セラミックスの平均細孔径は
0.1μm以上であり、また多孔質金属の平均細孔径は
数十μm以上もあり、両者ともに細孔を被覆するための
Pd膜の厚さが数10μmとなり、水素の透過速度が小
さい。
(3) Examples of the porous support made of an inorganic material include porous glass, porous ceramics, and porous metal. Porous glass has a very low impact strength and is easily broken. The average pore diameter of the porous ceramics is 0.1 μm or more, and the average pore diameter of the porous metal is several tens of μm or more, and the thickness of the Pd film for covering the pores is tens of μm for both. Low permeation rate of hydrogen.

【0010】本発明上記技術水準に鑑み、従来の分離膜
におけるような不具合がなく、耐熱性・耐圧性があり、
かつ透過速度及び分離係数ともに実用上満足できる性質
を有する水素分離膜を提供しようとするものである。
[0010] In view of the above technical level, the present invention does not have the disadvantages of the conventional separation membrane, and has heat resistance and pressure resistance.
Another object of the present invention is to provide a hydrogen separation membrane having properties that are practically satisfactory in both the permeation rate and the separation coefficient.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明は細孔径が10〜
10,000Åの無機多孔体の細孔内に平均細孔径が1
0〜30Åのシリカゲル、平均細孔径が15〜30Åの
アルミナゲルまたは平均細孔径が10〜20Åのシリカ
・アルミナゲルを担持し、さらにその表面にPdを含有
する薄膜を形成させてなることを特徴とする水素ガス分
離膜である。
According to the present invention, the pore size is 10 to 10.
The average pore diameter is 1 in the pores of the inorganic porous body of 10,000 mm.
0~30Å silica gel, <br/> alumina gel or average pore diameter of the average pore diameter 15~30Å is supported on silica-alumina gel 10~20A, by further forming a thin film containing Pd on the surface thereof A hydrogen gas separation membrane characterized in that:

【0012】無機多孔体としては多孔質セラミックス、
多孔質ガラス、多孔質磁器、金属穿孔ろ過体、金属金網
焼結体等があり、本発明においてはいずれのものも使用
できる。しかしながら、無機多孔体の細孔径が大きくな
るとシリカゲル、アルミナゲルまたはシリカ・アルミナ
ゲルの前駆体であるゾルの必要担持量が多く、かつクラ
ックが発生しやすくなり、また細孔径が小さすぎると透
過性能を低下させるので細孔径が100〜10,000
Å程度の無機多孔体を使用することが好ましい。特に、
細孔径1,000Å以上の発泡シリカ、焼結アルミナ及
びムライト等が好ましく使用される。
As the inorganic porous material, porous ceramics,
There are porous glass, porous porcelain, perforated metal filter, sintered metal wire mesh, and the like, and any of them can be used in the present invention. However, if the pore size of the inorganic porous material is large, the required amount of silica gel, alumina gel or sol, which is a precursor of silica-alumina gel, is required to be large, and cracks are likely to occur. And the pore size is reduced to 100 to 10,000.
It is preferable to use about 無機 inorganic porous material. Especially,
Foamed silica, sintered alumina, mullite and the like having a pore diameter of 1,000 mm or more are preferably used.

【0013】一般に、シリカゲルの製法としては、 (1)水ガラス溶液に大量にNaCl、Na2 SO4
の塩を添加し、更に酸が中和して白色粉末状のシリカゲ
ルを得る水ガラス溶液からの沈澱法 (2)SiCl4 を水蒸気流中で燃焼させてSiO2
スを生成させ、これを補集するSiCl4 燃焼法 (3)SiO2 を1,700℃付近で蒸発させ、これを
凝縮させるSiO2 蒸気凝集法 等がある。
In general, the method for producing silica gel is as follows: (1) A water glass solution in which a large amount of a salt such as NaCl or Na 2 SO 4 is added to a water glass solution, and the acid is neutralized to obtain a white powdery silica gel. (2) SiCl 4 is burned in a steam stream to generate SiO 2 gas, and the SiCl 4 combustion method for collecting the SiO 2 gas is collected. (3) SiO 2 is evaporated at about 1,700 ° C. There is a SiO 2 vapor aggregation method for condensation and the like.

【0014】しかしながら、これらの方法によって得ら
れたSiO2 粒子を数十μm程度の薄膜にコーティング
し、更に10〜30Å程度の多孔質のものとすることは
極めて困難である。そこで、本発明においては上記のよ
うな不具合がなく薄膜形成可能なシリカゲルを得る方法
としては特願平02−172639号の方法を推奨す
る。
However, it is extremely difficult to coat the SiO 2 particles obtained by these methods on a thin film having a thickness of about several tens of μm, and to form a porous film having a thickness of about 10 to 30 °. Therefore, in the present invention, the method of Japanese Patent Application No. 02-172639 is recommended as a method for obtaining a silica gel capable of forming a thin film without the above-mentioned problems.

【0015】すなわち、前記方法においては、シリカゲ
ルの前駆体として例えばエトキシシラン基、メトキシ基
等を含むアルコキシシランを加水分解して得られるもの
を使用することを推奨する。それらのアルコキシシラン
の例としては、テトラエトキシシラン(ケイ酸エチ
ル)、テトラメトキシシラン(ケイ酸メチル)等があ
る。
That is, in the above method, it is recommended to use a precursor obtained by hydrolyzing an alkoxysilane containing, for example, an ethoxysilane group or a methoxy group, as a precursor of silica gel. Examples of such alkoxysilanes include tetraethoxysilane (ethyl silicate), tetramethoxysilane (methyl silicate), and the like.

【0016】この方法で製造したシリカゲルの平均細孔
径は10〜30Åであり、分子径2.3ÅのH2 透過に
は全く抵抗とならない細孔径である。また、このシリカ
ゲル表面は従来の多孔体に比べて非常に平滑であるた
め、この表面に膜厚さ1μm以下のPd薄膜を担持して
もピンホールが発生する原因とはならず、H2 透過速度
を大きく向上させる。
The silica gel produced by this method has an average pore diameter of 10 to 30 °, and has a molecular diameter of 2.3 ° and has no pore resistance to H 2 permeation. Also, since the surface of this silica gel is much smoother than a conventional porous body, even if a Pd thin film having a thickness of 1 μm or less is carried on this surface, it does not cause pinholes, and the H 2 transmission Greatly improve speed.

【0017】アルミナゲルの製造方法としては一般に以
下の方法がある。 (1)Alアルコキシドを加水分解する方法 Alをイソプロピルアルコールに溶解させて作ったイソ
プロポキシドが低沸点(140.5℃)であるのでよく
使用される。加水分解法としては、アルコール溶液の均
一相加水分解、ベンゼン溶液の不均一相加水分解があ
る。 (2)Al塩に触媒を加えて加水分解する方法 Al塩としてはAl2 (SO4 )O3 、AlCl3 、A
l(NO3 )O3 等があり、触媒としては硝酸、NH3
水、Na2 CO3 等がある。 (3)アルミン酸アルカリを加水分解する方法 NaAlO2 水溶液に塩酸を加えて加水分解する。
As a method for producing alumina gel, there is generally the following method. (1) Method of hydrolyzing Al alkoxide Isopropoxide produced by dissolving Al in isopropyl alcohol is often used because it has a low boiling point (140.5 ° C.). As the hydrolysis method, there are a homogeneous phase hydrolysis of an alcohol solution and a heterogeneous phase hydrolysis of a benzene solution. (2) Method of hydrolyzing Al salt by adding catalyst Al 2 (SO 4 ) O 3 , AlCl 3 , A
l (NO 3 ) O 3 and the like. As a catalyst, nitric acid, NH 3
There are water, Na 2 CO 3 and the like. (3) Method of hydrolyzing alkali aluminate Hydrochloric acid is added to an aqueous solution of NaAlO 2 to perform hydrolysis.

【0018】アルミナゲルは製造方法により異なるが、
約15〜30Åの細孔が形成される。(特願昭59−3
4421号、特願昭60−180980号)
The alumina gel varies depending on the production method.
Approximately 15-30 ° pores are formed. (Japanese Patent Application No. 59-3
4421, Japanese Patent Application No. 60-180980)

【0019】また、シリカ・アルミナゲルの製造方法と
しては一般に以下の方法がある。製造方法としてはアル
ミニウムアルコキシドまたはアルミニウムキレートを加
水分解して得たアルミナゾルを担持した後、けい酸ナト
リウム水溶液を担持し、酸処理後乾燥してゲル化する。
アルミニウムアルコキシドとしてはアルミニウムイソプ
ロポキシド、アルミニウム−2−ブチレート等が、ま
た、アルミニウムキレートとしてはアルミニウムトリス
(エチルアセトアセテート)やエチルアセトアセテート
アルミニウムジイソプロピレート等がある。
The following method is generally used for producing silica-alumina gel. As a production method, after supporting an alumina sol obtained by hydrolyzing an aluminum alkoxide or an aluminum chelate, an aqueous solution of sodium silicate is supported, followed by drying after acid treatment and gelling.
Aluminum alkoxides include aluminum isopropoxide, aluminum-2-butyrate, and the like, and aluminum chelates include aluminum tris (ethyl acetoacetate) and ethyl acetoacetate aluminum diisopropylate.

【0020】上記の方法で製造したシリカ・アルミナゲ
ルの平均細孔径は約10〜20Åである。(特願昭60
−30546号)
The average pore size of the silica-alumina gel produced by the above method is about 10 to 20 °. (Japanese Patent Application No. 60
No.-30546)

【0021】Pd薄膜の担持方法としては以下の方法が
ある。 (1)メッキ等の液相法 表面活性化処理(塩化スズの水溶液と塩化パラジウムの
各溶液に交互に浸漬)後、無電解メッキ(パラジウムの
化合物と還元剤を含有する液に浸漬)する方法及び無電
解メッキ後に電気メッキする方法。 (2)真空蒸着法、イオンプレーティング、気相化学反
応法(CVD)等の気相法。
As a method for supporting the Pd thin film, there is the following method. (1) Liquid phase method such as plating A method of surface activation (alternately immersed in an aqueous solution of tin chloride and a solution of palladium chloride) followed by electroless plating (immersed in a solution containing a compound of palladium and a reducing agent) And electroplating after electroless plating. (2) A vapor phase method such as a vacuum deposition method, an ion plating, and a vapor phase chemical reaction method (CVD).

【0022】以上のようにしてPdまたはPd合金の薄
膜を形成させた水素ガス分離膜は水素のみを選択的に透
過する。すなわち、前記ガス分離膜の一方の側に水素を
含有する混合ガスを供給すると、水素ガス分離膜は水素
のみを選択的に透過させ、水素ガス分離膜の他方の側か
ら純粋な水素が流出する。
The hydrogen gas separation membrane having the Pd or Pd alloy thin film formed thereon as described above selectively permeates only hydrogen. That is, when a mixed gas containing hydrogen is supplied to one side of the gas separation membrane, the hydrogen gas separation membrane selectively transmits only hydrogen, and pure hydrogen flows out from the other side of the hydrogen gas separation membrane. .

【0023】水素の透過速度は温度が高いほど大きく、
また水素ガス分離膜の両側の水素の圧力差が大きいほど
大きくなる。本発明の水素ガス分離膜の好ましい使用温
度範囲は200〜500℃である。
The permeation rate of hydrogen increases as the temperature increases,
Also, the larger the pressure difference of hydrogen on both sides of the hydrogen gas separation membrane, the larger the difference. The preferred operating temperature range of the hydrogen gas separation membrane of the present invention is 200 to 500 ° C.

【0024】また、水素透過速度は極めて大きく、40
0℃、圧力差2kg/cm2 の場合100〜140cm
3 /cm2 ・min程度であり、従来の多孔質基材に直
接Pdを担持した水素分離膜の4〜6倍になる。
The hydrogen permeation rate is extremely high,
100 ° -140cm when 0 ° C and pressure difference 2kg / cm 2
It is about 3 / cm 2 · min, which is 4 to 6 times that of a hydrogen separation membrane in which Pd is directly supported on a conventional porous substrate.

【0025】[0025]

【作用】本発明の水素ガス分離膜は従来法に比べてPd
薄膜の厚さが1/5〜1/10になるため、Pd担持量
が減少し、更に水素透過速度も向上するため、大幅なコ
ンパクト化が可能となり、その結果コストも大幅に下げ
ることができる。
The hydrogen gas separation membrane of the present invention has a Pd
Since the thickness of the thin film is reduced to 1/5 to 1/10, the amount of Pd carried is reduced, and the hydrogen permeation rate is also improved, so that it is possible to greatly reduce the size, and as a result, the cost can be significantly reduced. .

【0026】[0026]

【実施例】【Example】

(実施例1)基材の無機多孔体として、日本ガイシ
(株)製セラミック管(平均細孔径0.5μm、外径1
0mm、長さ250mm)を使用し、以下の処理を行っ
た。
(Example 1) As an inorganic porous body of a base material, a ceramic tube manufactured by NGK Insulators, Ltd. (average pore diameter 0.5 μm, outer diameter 1
0 mm, length 250 mm), and the following treatment was performed.

【0027】(1)シリカゾル1の調製 ビーカ内に表1に示す組成の薬剤をいれ、常温でスター
ラで急速攪拌・混合した。攪拌を継続したまま、80℃
(沸騰状態)に予熱すると発熱反応を開始し、約20〜
25分で粘度が急速に高くなる。沸騰開始後15分、2
0分、25分の液をそれぞれ冷却し、1−A、1−B、
1−C液とする。1−Aはやや粘度が高い液であり、1
−B液はさらに粘度が高く、常温に冷却するとゼリー状
の液である。1−C液液は常温冷却により固化する状態
にある。
(1) Preparation of Silica Sol 1 A chemical having the composition shown in Table 1 was placed in a beaker, and rapidly stirred and mixed at room temperature with a stirrer. 80 ° C. with continuous stirring
Exothermic reaction starts when preheated to (boiling state), about 20 ~
The viscosity rises rapidly in 25 minutes. 15 minutes after the start of boiling, 2
The liquids for 0 minute and 25 minutes were cooled, respectively, and 1-A, 1-B,
1-C liquid. 1-A is a slightly high viscosity liquid,
Liquid B has a higher viscosity and is a jelly-like liquid when cooled to room temperature. The 1-C liquid is in a state of being solidified by cooling at room temperature.

【表1】 [Table 1]

【0028】(2)シリカゾル2の調製 ビーカ内に表1に示す組成の薬剤を入れ、常温でスター
ラにより60分間攪拌・混合し、シリカゾル2とした。
(2) Preparation of Silica Sol 2 A drug having the composition shown in Table 1 was placed in a beaker and stirred and mixed with a stirrer at room temperature for 60 minutes to obtain silica sol 2.

【0029】(3)シリカゾルの担持方法 (a)シリカゾル1液の担持 無機多孔体よりなる管を前記シリカゾル1−A液中
に浸漬して該多孔体管壁にシリカゾルを担持した。
該多孔体を200℃に設定した電気炉内で10分間焼成
した。 次に該多孔体を300℃に設定した電気炉内
で10分間焼成した。 次に該多孔体を550℃に設
定した電気炉内で10分間焼成した。 上記〜の
操作を2回繰り返した。 次に1−B液を使用して
〜と同様の処理を行った。 次に1−C液を使用し
て〜と同様の処理を行った。
(3) Method for Carrying Silica Sol (a) Carrying Silica Sol 1 Solution A tube made of an inorganic porous material was immersed in the above-mentioned silica sol 1-A solution to carry silica sol on the wall of the porous material tube.
The porous body was fired in an electric furnace set at 200 ° C. for 10 minutes. Next, the porous body was fired in an electric furnace set at 300 ° C. for 10 minutes. Next, the porous body was fired in an electric furnace set at 550 ° C. for 10 minutes. The above operations-were repeated twice. Next, the same treatment as in 1 was performed using the 1-B solution. Next, the same treatment as in 1 was performed using the 1-C solution.

【0030】(b)シリカゾル2液の担持 次にシリカゾル2液を使用して上記〜と同様の処理
を行った。
(B) Carrying of two silica sol solutions Next, the same treatment as described above was carried out using two silica sol solutions.

【0031】上記の方法によって製作したシリカゲルを
担持したセラミック管を使用し、さらにその表面に以下
の条件でPdを蒸着したサンプルを製作した。 サンプル1:Pdのみを蒸着 サンプル2:Pdと銀Agの合金(Pd:Ag=85:
15重量比)
A sample in which Pd was deposited on the surface of the ceramic tube supporting silica gel manufactured by the above method under the following conditions was manufactured. Sample 1: Only Pd was deposited Sample 2: Alloy of Pd and silver Ag (Pd: Ag = 85:
15 weight ratio)

【0032】図1に示す装置を使用して水素透過実験を
行った。水素ガス分離膜1をOリング2でステンレス鋼
製外管3に固定し、その外側を電気炉で加熱する。温度
はサーモカップル8を使用し、内管の中心部で測定し
た。
A hydrogen permeation experiment was performed using the apparatus shown in FIG. The hydrogen gas separation membrane 1 is fixed to a stainless steel outer tube 3 with an O-ring 2, and the outside thereof is heated by an electric furnace. The temperature was measured at the center of the inner tube using a thermocouple 8.

【0033】供給孔4からH2 /N2 =1(モル比)の
混合ガスを連続的に供給し、排出孔5からブリードガス
を排出し、下部の取出孔6から99.99%以上の純粋
な水素を得ることができた。
The mixed gas of H 2 / N 2 = 1 (molar ratio) is continuously supplied from the supply hole 4, the bleed gas is discharged from the discharge hole 5, and 99.99% or more of the bleed gas is discharged from the lower discharge hole 6. Pure hydrogen could be obtained.

【0034】混合ガスの圧力を3kg/cm2 G、ガス
流量を20Nl/minで500℃における実験結果を
表2に示す。
Table 2 shows the experimental results at a temperature of 500 ° C. at a mixed gas pressure of 3 kg / cm 2 G and a gas flow rate of 20 Nl / min.

【表2】 [Table 2]

【0035】(実施例2) (1)ステンレス鋼繊維をランダムに重ねて焼結して得
た金属多孔体の表面にAlを蒸着し、その後真空中で加
熱・拡散処理し、金属多孔体内にAlを拡散させたもの
を酸化処理して、該金属多孔体表面にアルミニウム酸化
物を生成させた金属多孔体を支持材とし、該多孔体内に
アルミナゲル膜を担持した。平均細孔径は1μmであ
る。
(Example 2) (1) Al is deposited on the surface of a porous metal body obtained by randomly sintering and sintering stainless steel fibers, and then subjected to a heating / diffusion treatment in a vacuum to form a porous metal body. The diffused Al was subjected to an oxidation treatment, and a porous metal having aluminum oxide formed on the surface of the porous metal was used as a support material, and an alumina gel film was supported in the porous material. The average pore size is 1 μm.

【0036】(2)アルミナゲル膜の担持 水100gに対し5gのアルミニウムイソプロオキシド
を80℃に保持した水中に添加し、アルミニウムイソプ
ロオキシドを加水分解した。これに0.6mlの濃硝酸
を加え、80℃に24時間保持し、解膠してアルミナゾ
ルを得た。このアルミナゾルに多孔質金属を5分間浸漬
した後、室温で24時間乾燥し、80℃で2時間乾燥し
た後、更に350℃で2時間焼成、600℃で2時間焼
成した。この操作を4回繰り返して金属多孔体内にアル
ミナゲルを担持した。
(2) Carrying of alumina gel film 5 g of aluminum isoprooxide was added to 100 g of water in water kept at 80 ° C. to hydrolyze aluminum isoprooxide. 0.6 ml of concentrated nitric acid was added thereto, kept at 80 ° C. for 24 hours, and peptized to obtain an alumina sol. The porous metal was immersed in the alumina sol for 5 minutes, dried at room temperature for 24 hours, dried at 80 ° C. for 2 hours, fired at 350 ° C. for 2 hours, and fired at 600 ° C. for 2 hours. This operation was repeated four times to support the alumina gel in the porous metal body.

【0037】次に、トリクレン100に対してアルミニ
ウムイソプロオキシドを5の重量比で溶解し、アミルナ
の充填を行った前記多孔質金属をこの溶液に含浸し、ト
リクレンを揮発させ、細孔内にアルミニウムプロオキシ
ドを析出させた。次に、この多孔質金属の片側を減圧し
ながら、100℃のスチーム中に入れてアルミニウムイ
ソプロオキシドを加水分解し、室温で乾燥した後、35
0℃で2時間焼成し、更に600℃で1時間焼成した。
この操作を3回繰り返した。
Next, aluminum isoprooxide was dissolved at a weight ratio of 5 with respect to 100 of trichlene, and the porous metal filled with amylna was impregnated with this solution to volatilize trichlene, and aluminum was contained in the pores. Prooxide was deposited. Next, while reducing the pressure on one side of the porous metal, the porous metal was put into steam at 100 ° C. to hydrolyze the aluminum isoprooxide, and dried at room temperature.
It baked at 0 degreeC for 2 hours, and also baked at 600 degreeC for 1 hour.
This operation was repeated three times.

【0038】以上の操作で製造したアルミナゲルを担持
した多孔質金属の平均細孔分布は16Åであった。
The average pore size distribution of the porous metal supporting alumina gel produced by the above operation was 16 °.

【0039】上記の方法によって製作したアルミナゲル
膜を担持した金属多孔体を使用し、さらにその表面にP
dを蒸着したサンプルを製作した。
A porous metal body carrying an alumina gel film manufactured by the above method was used, and P
A sample on which d was deposited was manufactured.

【0040】このサンプルを使用して、実施例1と同様
な方法で水素透過実験を行った。供給孔4からH2 /N
2 =1(モル比)の混合ガスを連続的に供給し、排出孔
5からブリードガスを排出し、下部の取出孔6から9
9.99%以上の純粋な水素を得ることができた。
Using this sample, a hydrogen permeation experiment was performed in the same manner as in Example 1. H 2 / N from supply hole 4
A mixed gas of 2 = 1 (molar ratio) is continuously supplied, bleed gas is discharged from the discharge hole 5, and 9 to 9 from the lower discharge holes 6.
At least 9.99% of pure hydrogen could be obtained.

【0041】混合ガスの圧力を3kg/cm2 G、ガス
流量を20Nl/minで500℃における実験結果を
表3に示す。
Table 3 shows the experimental results at 500 ° C. at a mixed gas pressure of 3 kg / cm 2 G and a gas flow rate of 20 Nl / min.

【表3】 [Table 3]

【0042】(実施例3)金網を積層焼結して得た金属
多孔体の表面にAlを蒸着し、その後真空中で加熱・拡
散処理し、金属多孔体内にAlを拡散させたものを酸化
処理して、該金属多孔体表面にアルミニウム酸化物を生
成させた金属多孔体を支持材とし、該多孔体の表面に実
施例1と同様の方法でシリカゲル膜を担持して分離膜を
製造した。 金網: 径 0.5μm 材質: SUS 3
04
Example 3 Al was deposited on the surface of a porous metal obtained by laminating and sintering a wire mesh, and then heated and diffused in a vacuum to oxidize the aluminum diffused into the porous metal. A separation membrane was produced by treating the porous metal body with aluminum oxide formed on the surface of the porous metal body as a support, and carrying a silica gel membrane on the surface of the porous body in the same manner as in Example 1. . Wire mesh: 0.5 μm diameter Material: SUS 3
04

【0043】上記の方法によって製作したシリカゲル膜
を担持した金属多孔体を使用し、さらにその表面にPd
を蒸着したサンプルを製作した。
A porous metal material carrying a silica gel film produced by the above method is used, and Pd
Was fabricated.

【0044】このサンプルを使用して、実施例1と同様
な方法で水素透過実験を行った。供給孔4からH2 /N
2 =1(モル比)の混合ガスを連続的に供給し、排出孔
5からブリードガスを排出し、下部の取出孔6から9
9.99%以上の純粋な水素を得ることができた。
Using this sample, a hydrogen permeation experiment was performed in the same manner as in Example 1. H 2 / N from supply hole 4
A mixed gas of 2 = 1 (molar ratio) is continuously supplied, bleed gas is discharged from the discharge hole 5, and 9 to 9 from the lower discharge holes 6.
At least 9.99% of pure hydrogen could be obtained.

【0045】混合ガスの圧力を3kg/cm2 G、ガス
流量を20Nl/minで500℃における実験結果を
表4に示す。
Table 4 shows the experimental results at 500 ° C. at a mixed gas pressure of 3 kg / cm 2 G and a gas flow rate of 20 Nl / min.

【表4】 [Table 4]

【0046】(実施例4)実施例1の方法で製作したシ
リカゲル膜を担持したセラミックス管を使用し、さらに
その表面に無電解メッキ法でPdを担持した。
Example 4 A ceramic tube carrying a silica gel film produced by the method of Example 1 was used, and Pd was further carried on its surface by electroless plating.

【0047】無電解メッキは以下の条件で行った。 1)試 薬 塩化テトラアンミンパラジウム(II)〔Pd(NH3
4〕Cl2 ・H2 ONH3 (28%水溶液) 2)条 件 温度=50℃、 pH=12
The electroless plating was performed under the following conditions. 1) Reagents Tetraamminepalladium chloride (II) [Pd (NH 3 )
4 ] Cl 2 · H 2 ONH 3 (28% aqueous solution) 2) Conditions Temperature = 50 ° C, pH = 12

【0048】このサンプルを使用し、実施例1と同じ方
法で水素透過実験を行った。実験結果を表5に示す。
Using this sample, a hydrogen permeation experiment was performed in the same manner as in Example 1. Table 5 shows the experimental results.

【表5】 [Table 5]

【0049】(実施例5)実施例1と同じ日本ガイシ
(株)製セラミック管(平均細孔径0.5μm、外径1
0mm、長さ250mm)を使用し、以下の処理を行っ
た。
Example 5 The same ceramic tube manufactured by NGK Insulators, Ltd. (average pore diameter 0.5 μm, outer diameter 1
0 mm, length 250 mm), and the following treatment was performed.

【0050】(1)シリカゾルの調製 ビーカ内に表6に示す組成の薬剤をいれ、常温でスター
ラで急速攪拌・混合した。攪拌を継続したまま80℃
(沸騰状態)に予熱すると加水分解により沸騰を開始す
る。25分沸騰後にビーカの外側から水道水で冷却す
る。この状態でシリカゾルはやや粘性がある液である。
(1) Preparation of Silica Sol A drug having the composition shown in Table 6 was placed in a beaker, and rapidly stirred and mixed at room temperature with a stirrer. 80 ° C with continuous stirring
When it is preheated to (boiling state), it starts boiling by hydrolysis. After boiling for 25 minutes, cool with tap water from outside the beaker. In this state, the silica sol is a slightly viscous liquid.

【表6】 [Table 6]

【0051】(2)シリカゾルの担持方法 無機多孔体よりなる管を前記シリカゾル中に浸漬し
て該多孔体管壁にシリカゾルを担持した。 該多孔体
を電気炉内に設置し、昇温速度10℃で500℃まで昇
温し、10分間保持して焼成した後、室温に降温した。
上記〜の操作を4回繰り返した。
(2) Method for Carrying Silica Sol A tube made of an inorganic porous material was immersed in the silica sol to carry the silica sol on the wall of the porous tube. The porous body was placed in an electric furnace, heated to 500 ° C. at a heating rate of 10 ° C., held for 10 minutes, fired, and then cooled to room temperature.
The above operations-were repeated four times.

【0052】(3)上記の方法によって製作したシリカ
ゲル膜を担持した金属多孔体を使用し、さらにその表面
にPdを蒸着したサンプルを製作した。
(3) A sample in which Pd was vapor-deposited on the surface of a porous metal body carrying a silica gel film produced by the above method was produced.

【0053】このサンプルを使用して、実施例1と同様
な方法で水素透過実験を行った。供給孔4からH2 /N
2 =1(モル比)の混合ガスを連続的に供給し、抽出孔
5からブリードガスを排出し、下部の取出孔6から9
9.99%以上の純粋な水素を得ることができた。
Using this sample, a hydrogen permeation experiment was performed in the same manner as in Example 1. H 2 / N from supply hole 4
A mixed gas of 2 = 1 (molar ratio) is continuously supplied, bleed gas is discharged from the extraction hole 5, and 9 to 9 from the lower extraction holes 6.
At least 9.99% of pure hydrogen could be obtained.

【0054】混合ガスの圧力を3kg/cm2 G、ガス
流量を20Nl/minで500℃における実験結果を
表7に示す。
Table 7 shows the results of experiments at a mixed gas pressure of 3 kg / cm 2 G and a gas flow rate of 20 Nl / min at 500 ° C.

【表7】 [Table 7]

【0055】(実施例6)実施例1と同じ日本ガイシ
(株)製セラミック管(平均細孔径0.5μm、外径1
0mm、長さ250mm)を使用し、以下の処理を行っ
た。
(Example 6) The same ceramic tube (manufactured by NGK Insulators, Ltd.) of Example 1 (average pore diameter: 0.5 μm, outer diameter: 1)
0 mm, length 250 mm), and the following treatment was performed.

【0056】(1)シリカゾルの調製 シリカゾルの原料として、ビーカ内に表8に示す組成の
薬剤をいれ、常温でスターラで急速攪拌・混合した。加
水分解により沸騰を開始する。10分沸騰後にビーカの
外側から水道水で冷却する。この状態でシリカゾルはや
や粘性がある液である。
(1) Preparation of Silica Sol As a raw material of the silica sol, a chemical having a composition shown in Table 8 was placed in a beaker, and rapidly stirred and mixed at room temperature with a stirrer. Start boiling by hydrolysis. After boiling for 10 minutes, cool with tap water from outside the beaker. In this state, the silica sol is a slightly viscous liquid.

【表8】 [Table 8]

【0057】(2)シリカゾルの担持方法 無機多孔体よりなる管を前記シリカゾル中に浸漬し
て該多孔体管壁にシリカゾルを担持した。 該多孔体
を電気炉内に設置し、昇温速度10℃で500℃まで昇
温し、30分間保持して焼成した後、室温に降温した。
上記〜の操作を4回繰り返した。
(2) Method for Carrying Silica Sol A tube made of an inorganic porous material was immersed in the silica sol to carry the silica sol on the wall of the porous tube. The porous body was placed in an electric furnace, heated to 500 ° C. at a heating rate of 10 ° C., held for 30 minutes, fired, and then cooled to room temperature.
The above operations-were repeated four times.

【0058】(3)上記の方法によって製作したシリカ
ゲル膜を担持した金属多孔体を使用し、さらにその表面
にPdを蒸着したサンプルを製作した。
(3) A sample in which Pd was vapor-deposited on the surface of a porous metal body carrying a silica gel film produced by the above method was produced.

【0059】このサンプルを使用して、実施例1と同様
な方法で水素透過実験を行った。供給孔4からH2 /N
2 =1(モル比)の混合ガスを連続的に供給し、排出孔
5からブリードガスを排出し、下部の取出孔6から9
9.99%以上の純粋な水素を得ることができた。
Using this sample, a hydrogen permeation experiment was performed in the same manner as in Example 1. H 2 / N from supply hole 4
A mixed gas of 2 = 1 (molar ratio) is continuously supplied, bleed gas is discharged from the discharge hole 5, and 9 to 9 from the lower discharge holes 6.
At least 9.99% of pure hydrogen could be obtained.

【0060】混合ガスの圧力を3kg/cm2 G、ガス
流量を20Nl/minで500℃における実験結果を
表9に示す。
Table 9 shows the experimental results at 500 ° C. at a pressure of the mixed gas of 3 kg / cm 2 G and a gas flow rate of 20 Nl / min.

【表9】 [Table 9]

【0061】(実施例7)実施例1と同じ日本ガイシ
(株)製セラミック管(平均細孔径0.5μm、外径1
0mm、長さ250mm)を使用し、以下の処理を行っ
た。
(Example 7) The same ceramic tube (manufactured by NGK Insulators, Ltd.) as in Example 1 (average pore diameter 0.5 μm, outer diameter 1
0 mm, length 250 mm), and the following treatment was performed.

【0062】(1)アルミナゾルの調製 ビーカ内に表10に示す組成の薬剤をいれ、スターラに
より攪拌・混合しながら、80℃で24時間加水分解し
た。
(1) Preparation of Alumina Sol A chemical having the composition shown in Table 10 was placed in a beaker and hydrolyzed at 80 ° C. for 24 hours while stirring and mixing with a stirrer.

【表10】 [Table 10]

【0063】(2)シリカ・アルミナゲルの担持方法 セラミックス管を前記アルミナゾル中に5分間浸漬
して該多孔体管壁にシリカゾルを担持した。 該多孔
体を0.1モル/lのけい酸ナトリウム水溶液に1分間
浸漬した。 該多孔体を100℃の水蒸気中に1時間
保持した。 上記〜の操作を4回繰り返した後、
90℃の熱水中に1分間浸漬した。
(2) Method for Carrying Silica-Alumina Gel A ceramic tube was immersed in the alumina sol for 5 minutes to carry the silica sol on the wall of the porous tube. The porous body was immersed in a 0.1 mol / l aqueous solution of sodium silicate for 1 minute. The porous body was kept in steam at 100 ° C. for 1 hour. After repeating the above operations 4 times,
It was immersed in hot water of 90 ° C. for 1 minute.

【0064】(3)上記の方法によって製作したシリカ
・アルミナゲル膜を担持したセラミックス管を使用し、
さらにその表面にPdを蒸着したサンプルを製作した。
(3) Using a ceramic tube carrying a silica-alumina gel film produced by the above method,
Further, a sample in which Pd was deposited on the surface was manufactured.

【0065】このサンプルを使用して、実施例1と同様
な方法で水素透過実験を行った。供給孔4からH2 /N
2 =1(モル比)の混合ガスを連続的に供給し、排出孔
5からブリードガスを排出し、下部の取出孔6から9
9.99%以上の純粋な水素を得ることができた。
Using this sample, a hydrogen permeation experiment was performed in the same manner as in Example 1. H 2 / N from supply hole 4
A mixed gas of 2 = 1 (molar ratio) is continuously supplied, bleed gas is discharged from the discharge hole 5, and 9 to 9 from the lower discharge holes 6.
At least 9.99% of pure hydrogen could be obtained.

【0066】混合ガスの圧力を3kg/cm2 G、ガス
流量を20Nl/minで500℃における実験結果を
表11に示す。
Table 11 shows the experimental results at 500 ° C. at a pressure of the mixed gas of 3 kg / cm 2 G and a gas flow rate of 20 Nl / min.

【表11】 [Table 11]

【0067】[0067]

【発明の効果】本発明の水素ガス分離膜は混合ガスから
高分離性能で、しかも高透過速度で水素を分離すること
が可能であり、さらに本発明の水素分離膜の製造方法も
容易であり、本発明は工業上有益である。
As described above, the hydrogen gas separation membrane of the present invention can separate hydrogen from a mixed gas with a high separation performance and a high permeation rate, and the method for producing the hydrogen separation membrane of the present invention is easy. The present invention is industrially useful.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のガス分離膜の性能を実証するために使
用した実験装置の概略図。
FIG. 1 is a schematic diagram of an experimental apparatus used to demonstrate the performance of the gas separation membrane of the present invention.

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 細孔径が10〜10,000Åの無機多
孔体の細孔内に平均細孔径が10〜30Åのシリカゲ
ル、平均細孔径が15〜30Åのアルミナゲルまたは
均細孔径が10〜20Åのシリカ・アルミナゲルを担持
し、さらにその表面にパラジウムを含有する薄膜を形成
させてなることを特徴とする水素ガス分離膜。
1. A pore size 10~10,000Å of the inorganic porous material having an average pore diameter of 10~30Å in pores silica gel <br/> Le, alumina gel having an average pore diameter of 15~30Å or flat
A hydrogen gas separation membrane comprising a silica-alumina gel having an average pore diameter of 10 to 20 ° and a palladium-containing thin film formed on the surface thereof.
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