JP2941000B2 - Mask loading mechanism - Google Patents
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は露光装置に複数枚のマスクを供給するための
マスクローディング機構に関する。Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a mask loading mechanism for supplying a plurality of masks to an exposure apparatus.
［従来の技術］ 現在IC,LSI等の半導体素子を作製するためには10乃至
20種類程度のマスクが必要とされており、露光装置にお
いては、これらの各マスクを順次用いた露光が行なわれ
る。[Prior art] At present, 10 to 10 semiconductor devices such as ICs and LSIs are required to be manufactured.
Approximately 20 types of masks are required, and in an exposure apparatus, exposure is sequentially performed using these masks.
露光装置に上記各マスクを供給する機構としては、露
光時に待機する各マスクにゴミ等が附着することを防止
するために上記マスクを一括して収容するマスクチャン
バを露光装置に取付け、所定のマスクを該マスクチャン
バより順次取出して露光を行なう構成とされており、こ
のマスクチャンバに各マスクをローディングすることは
一括して行なう方式が採用されている。As a mechanism for supplying each of the masks to the exposure apparatus, a mask chamber for accommodating the masks collectively is mounted on the exposure apparatus in order to prevent dust or the like from adhering to each of the masks waiting at the time of exposure. Are sequentially taken out from the mask chamber to perform exposure, and a method of loading each mask into this mask chamber in a batch is adopted.
また、近年ごく微細なパターンを露光するために提案
されているＸ線を露光光として用いるＸ線露光装置にお
いては、Ｘ線の減衰を少なくするためにその内部が大気
状態より減圧されたものとされている。このような露光
装置に取付けられるマスクチャンバは、その内部を露光
装置と同様の減圧状態に保つための機構が設けられてい
る。In recent years, in an X-ray exposure apparatus using X-rays as exposure light, which has been proposed for exposing a very fine pattern, the inside of the X-ray exposure apparatus has been reduced in pressure from the atmospheric state in order to reduce attenuation of X-rays. Have been. The mask chamber attached to such an exposure apparatus is provided with a mechanism for keeping the inside thereof in a reduced pressure state similar to that of the exposure apparatus.
［発明が解決しようとする課題］ 上述した従来のマスクローディング機構は複数枚のマ
スクを一括してローディングする方式である。このた
め、ローディングを終えた複数枚のマスクのうち１枚の
みもしくは少数枚のマスクにゴミなどが附着するといっ
た不具合が生じていてこれを交換する必要がある場合に
は、マスクチャンバ内に収容された全マスクを回収して
マスクチャンバ外にてマスク交換を行なう必要があり、
正常な他のマスクにもゴミが附着する危険性が生じると
いう欠点がある。[Problems to be Solved by the Invention] The conventional mask loading mechanism described above is a method of loading a plurality of masks at once. For this reason, when there is a problem that dust or the like adheres to only one or a small number of masks out of the plurality of masks after loading, and these need to be replaced, the masks are housed in the mask chamber. It is necessary to collect all the masks and replace the mask outside the mask chamber.
There is a disadvantage that there is a risk that dust will adhere to other normal masks.
また、上記交換作業は、マスクチャンバ内に誤ったマ
スクが挿入され、これに正しいマスクを追加もしくは交
換するような場合にも行なう必要が生じるが、Ｘ線露光
装置に取付けられたマスクチャンバの場合には、その内
部を露光装置本体のチャンバ内と同様の雰囲気に保たな
ければならず、その都度真空引き、所定のガス注入とい
った操作を行なう必要があるため、煩しいという欠点が
ある。In addition, the above-described replacement operation needs to be performed when an incorrect mask is inserted into the mask chamber and a correct mask is added or replaced. However, in the case of a mask chamber attached to an X-ray exposure apparatus, However, there is a disadvantage in that the inside of the apparatus has to be kept in the same atmosphere as the inside of the chamber of the exposure apparatus main body, and it is necessary to perform an operation such as evacuation and a predetermined gas injection every time.
本発明は上記従来の技術が有する欠点に鑑みてなされ
たものであって、特定のマスクを交換する作業を他のマ
スクに悪影響を及ぼすことなく、迅速に行なうことので
きるマスクカセットローディング機構を実現することを
目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned drawbacks of the related art, and has realized a mask cassette loading mechanism capable of quickly performing an operation of replacing a specific mask without adversely affecting other masks. The purpose is to do.
［課題を解決するための手段］ 本発明のマスクローディング機構は、 非大気状態に保たれる露光装置に複数枚のマスクを供
給するためのマスクローディング機構であって、 露光装置に第１のゲート弁を介して連通するように取
付けられ、該露光装置で使用される複数枚のマスクを一
括して収容するマスクチャンバと、該マスクチャンバに
第２のゲート弁を介して取付けられ、マスクチャンバに
収容された複数枚のマスクのうちの所定のものを交換す
るためのロードロックチャンバとによって構成されてお
り、 マスクチャンバには複数枚のマスクを一括してローデ
ィングする際に用いられる第１の扉と、その室内雰囲気
を露光装置と同様に保つための第１の室内雰囲気置換手
段とが設けられ、 ロードロックチャンバには所定のマスクを交換する際
に用いられる第２の扉と、その室内雰囲気を露光装置と
同様に保つための第２の室内雰囲気置換手段と、第２の
ゲート弁を介して所定のマスクを搬送して保持すること
を外部より操作可能な搬送保持手段とが設けられてい
る。[Means for Solving the Problems] A mask loading mechanism of the present invention is a mask loading mechanism for supplying a plurality of masks to an exposure apparatus maintained in a non-atmospheric state, wherein a first gate is provided to the exposure apparatus. A mask chamber that is attached to communicate via a valve and collectively accommodates a plurality of masks used in the exposure apparatus; and a mask chamber that is attached to the mask chamber via a second gate valve. A load lock chamber for exchanging a predetermined one of the plurality of masks housed therein; a first door used for loading a plurality of masks collectively into the mask chamber; And first room atmosphere replacement means for maintaining the room atmosphere in the same manner as the exposure apparatus, and a predetermined mask is replaced in the load lock chamber. A second door used in the process, a second indoor atmosphere replacing means for maintaining the indoor atmosphere in the same manner as the exposure apparatus, and transporting and holding a predetermined mask through a second gate valve. And a transfer holding means that can be operated from outside.
［作 用］ マスクチャンバに複数枚のマスクを一括してローディ
ングすることは、従来の技術の場合と同様に第１の扉を
用いて行なわれる。露光途中等に一部のマスクに不具合
が生じたときにこれを交換することは、ローデロックチ
ャンバに設けられた第２の扉および外部にて操作可能な
搬送保持手段を用いて行なわれる。該ロードロックチャ
ンバは、第２のゲート弁を介してマスクチャンバと連通
し、その室内雰囲気を露光装置と同様に保つ第２の室内
雰囲気置換手段を備えているので、第２のゲート弁を介
してマスクチャンバと連通するときにはロードロックチ
ャンバの室内雰囲気を露光装置と同様に保つことによ
り、特定のマスクのみを交換することが他のマスクを大
気と接触させることなく行なうことが可能となる。[Operation] Batch loading of a plurality of masks into a mask chamber is performed using the first door as in the case of the related art. When a part of the mask becomes defective during the exposure or the like, it is replaced by using a second door provided in the Rodellock chamber and a transfer holding means operable outside. The load lock chamber is provided with a second indoor atmosphere replacing means which communicates with the mask chamber through a second gate valve and maintains the indoor atmosphere in the same manner as the exposure apparatus. By maintaining the atmosphere in the load lock chamber in the same manner as in the exposure apparatus when communicating with the mask chamber, it becomes possible to exchange only a specific mask without bringing another mask into contact with the atmosphere.
［実施例］ 次に、本発明の実施例について図面を参照して説明す
る。Example Next, an example of the present invention will be described with reference to the drawings.
第１図は本発明の一実施例の構成を示す斜視図であ
り、第２図は第１図示のマスクチャンバ201を、その構
成を詳細に示すために本体チャンバ101取付面から扉204
方向に向けてロードロックチャンバ301寄りの部分にて
切断し、ロードロックチャンバ301側から見たときの部
分破断図である。FIG. 1 is a perspective view showing the configuration of an embodiment of the present invention. FIG. 2 shows the mask chamber 201 shown in FIG.
FIG. 4 is a partial cutaway view when cut at a portion near the load lock chamber 301 in the direction and viewed from the load lock chamber 301 side.
本体チャンバ101は、露光光としてＸ線が用いられる
露光部を収容するもので、その内部は本発明では150Tor
r・Heに保たれている。本体チャンバ101の一側面には複
数のマスク203を一括して収容するマスクチャンバ201が
取付けられている。マスクチャンバ201は、本体チャン
バ101に設けられた第１のゲート弁であるゲート弁102を
介することによりその上方部にて本体チャンバ103と連
通されるように構成され、反本体チャンバ101側の側面
に設けられた第１の扉である扉204により複数のマスク2
03の出入れが行なわれるもので、その一側面には図示す
るようにロードロックチャンバ301が取付けられてい
る。ロードロックチャンバ301はマスクチャンバ201内に
収容された複数のマスク203のうちの所定のものを交換
するために設けられたもので、マスクチャンバ201に設
けられた第２のゲート弁であるロードロックゲート弁10
2を介してマスクチャンバ201と連通されるように構成さ
れている。The main body chamber 101 accommodates an exposure unit in which X-rays are used as exposure light.
It is kept at r · He. A mask chamber 201 that collectively accommodates a plurality of masks 203 is attached to one side surface of the main body chamber 101. The mask chamber 201 is configured to communicate with the main chamber 103 at an upper portion thereof through a gate valve 102 which is a first gate valve provided in the main chamber 101, and a side surface on the side opposite to the main chamber 101. A plurality of masks 2 is provided by a door 204 which is a first door provided in
A load lock chamber 301 is mounted on one side of the door as shown in FIG. The load lock chamber 301 is provided for exchanging a predetermined one of the plurality of masks 203 housed in the mask chamber 201, and is a load lock which is a second gate valve provided in the mask chamber 201. Gate valve 10
It is configured to be in communication with the mask chamber 201 via the second.
まず、マスクチャンバ201の構成について説明する。 First, the configuration of the mask chamber 201 will be described.
本実施例のマスクチャンバ201は本出願人による特願
昭63−221270号に記載されるようなマスクカセットを用
いて収納が行なわれるものである。該マスクカセット
は、マスク203を収納するマスクカセット本体202と、マ
スクカセット本体202を覆い、密閉するマスクカセット
カバー212とによって構成されている。マスクカセット
本体202に収容されるマスク203は、リング状の支持部材
と、その支持部材に貼り付けられた薄膜部材とから構成
され、該薄膜部材の中央部に半導体ウエハに転写される
半導体素子用のパターンが形成されている。マスクカセ
ット本体202は、上記のようなマスク203を複数枚（本実
施例のものにおいては20枚）収納するもので、各マスク
203はそのパターン面がＹ軸と平行となるようにXZ面上
に放射状に配置されている。また、マスク203は、マス
クカセット本体202に設けてある不図示の磁気ユニット
によって通常保持固定されている。The mask chamber 201 of this embodiment is housed by using a mask cassette as described in Japanese Patent Application No. 63-221270 filed by the present applicant. The mask cassette includes a mask cassette body 202 that stores the mask 203 and a mask cassette cover 212 that covers and seals the mask cassette body 202. The mask 203 accommodated in the mask cassette main body 202 is composed of a ring-shaped support member and a thin film member attached to the support member, and a semiconductor element transferred to a semiconductor wafer at a central portion of the thin film member. Is formed. The mask cassette body 202 stores a plurality of masks 203 as described above (20 in the present embodiment).
203 is radially arranged on the XZ plane so that the pattern plane is parallel to the Y axis. The mask 203 is normally held and fixed by a magnetic unit (not shown) provided on the mask cassette body 202.
第２図に示すような露光時においては、マスクカセッ
ト本体202がマスクチャンバ201の上方部へ押し上げられ
て、マスクカセット本体202とマスクカセットカバー212
とが分離している状態が示されているが、非露光時には
マスクカセット本体202はマスクカセットカバー212によ
り密閉され、これらはマスクカセットとして一体の気密
構造とされている。密閉はＯリング（もしくはＵパッキ
ン）で行なわれる。したがってマスクカセットが一体の
場合には内部と外部の間で実質的にガスの流れはない。At the time of exposure as shown in FIG. 2, the mask cassette body 202 is pushed up above the mask chamber 201, and the mask cassette body 202 and the mask cassette cover 212
Although the mask cassette main body 202 is closed by a mask cassette cover 212 at the time of non-exposure, these are integrally formed as a mask cassette in an airtight structure. Sealing is performed with an O-ring (or U packing). Therefore, when the mask cassette is integrated, there is substantially no gas flow between the inside and the outside.
マスクチャンバ201にマスク203を収納することは、一
体とされたマスクカセットを図示しないが公知のインタ
ロック機構を備えた扉204よりマスクチャンバ201内に設
けられたターンテーブル210上に載置することにより行
なわれる。ターンテーブル210は所望のマスクを選択す
るために設けられたもので、本体チャンバ101に取付け
られ、エアシリンダ等が用いられたエレベータ215とエ
レベータロッド211を介して連結されており、該エレベ
ータ215の駆動によりＹ軸方向（図中の垂直方向）に移
動可能とされている。また、マスク203はマスクカセッ
ト本体202上にXZ面に関して放射状に配置されているの
で、マスク203を選別するためにマスクカセット本体202
をＹ軸に平行な軸を中心として矢印Ａのように回転可能
に構成されている。当然ではあるが、マスク203の配置
の仕方によりマスク203を選別する機構はそれぞれ異な
る。ターンテーブル210の上面およびマスクカセット本
体202の底面部には、それぞれ不図示の位置決め機構を
兼ねた連結機構が設けられており、ターンテーブル210
上にマスクカセットを載置することによりターンテーブ
ル210とマスクカセット本体202とが位置決めされて連結
される。Storing the mask 203 in the mask chamber 201 requires placing the integrated mask cassette on a turntable 210 provided in the mask chamber 201 from a door 204 (not shown) provided with a known interlock mechanism. It is performed by The turntable 210 is provided for selecting a desired mask, is attached to the main body chamber 101, is connected to an elevator 215 using an air cylinder or the like via an elevator rod 211, and It can be moved in the Y-axis direction (vertical direction in the figure) by driving. Further, since the mask 203 is radially arranged on the mask cassette body 202 with respect to the XZ plane, the mask cassette body 202 is selected in order to select the mask 203.
Is rotatable about an axis parallel to the Y axis as indicated by an arrow A. As a matter of course, the mechanism for selecting the mask 203 differs depending on how the mask 203 is arranged. On the top surface of the turntable 210 and on the bottom surface of the mask cassette body 202, a coupling mechanism also serving as a positioning mechanism (not shown) is provided.
By mounting the mask cassette on the top, the turntable 210 and the mask cassette main body 202 are positioned and connected.
図示するように本実施例のものにおいては、マスクチ
ャンバ201がその上方にて本体101と連通し、マスクカセ
ットの出入れを行なう扉204は下方に設けられているた
め、マスクカセットはターンテーブル210が上方に移動
するにつれてマスクカセット本体202とマスクカセット
カバー212とが分離する構造とされている。As shown in the drawing, in the present embodiment, the mask chamber 201 communicates with the main body 101 above, and the door 204 for inserting and removing the mask cassette is provided below. Is moved upward, the mask cassette body 202 and the mask cassette cover 212 are separated from each other.
マスクチャンバ201の天板には２つのガスポート208,2
09が取付けられ、底板には排気ポート213が取付けられ
ている。ガスポート208はバルブ206を介してHeを導入す
るものであり、ガスポート209はバルブ207を介してN2を
導入するものである。各バルブ206,207は手動あるいは
電動のいずれでもよいが、本実施例においては制御を容
易とするために電動のものを用いた。排気ポート213は
排気バルブ214を介して不図示の真空ポンプと連結され
ており、一側面に設けられた圧力計216によりマスクチ
ャンバ201内の圧力をモニタしながら排気バルブ214を開
閉し、マスクチャンバ201の排気を制御することが行な
われる。これらの各ガスポート208,209、各バルブ206,2
07、排気ポート213および排気バルブ214はマスクチャン
バ201内を本体チャンバ101内と同様に保つための第１の
室内雰囲気置換手段を構成している。The top plate of the mask chamber 201 has two gas ports 208 and 2
09 is attached, and an exhaust port 213 is attached to the bottom plate. The gas port 208 introduces He through a valve 206, and the gas port 209 introduces N 2 through a valve 207. Each of the valves 206 and 207 may be either manual or electric, but in the present embodiment, electric valves are used for easy control. The exhaust port 213 is connected to a vacuum pump (not shown) via an exhaust valve 214, and opens and closes the exhaust valve 214 while monitoring the pressure in the mask chamber 201 with a pressure gauge 216 provided on one side. Controlling the exhaust of 201 is performed. Each of these gas ports 208, 209 and each valve 206, 2
07, the exhaust port 213 and the exhaust valve 214 constitute a first indoor atmosphere replacing means for keeping the inside of the mask chamber 201 as in the main chamber 101.
本体チャンバ101内に設けられたマスクハンド103は、
ゲート弁102を通ってＸ軸方向に移動することにより上
方に移動されたマスクカセット本体202に収容されてい
るマスク203を本体チャンバ101内に搬入し、もしくはマ
スクカセット本体202へ戻すものである。The mask hand 103 provided in the main body chamber 101 includes:
The mask 203 accommodated in the mask cassette main body 202 moved upward by moving in the X-axis direction through the gate valve 102 is loaded into the main body chamber 101 or returned to the mask cassette main body 202.
次に、ロードロックチャンバ301の構成について説明
する。Next, the configuration of the load lock chamber 301 will be described.
ロードロックチャンバ301は、上述のようにマスクチ
ャンバ201内に収容された複数のマスク203のうちの所定
のものを交換するために設けられたものである。このた
め、マスクチャンバ201に設けられるロードロックゲー
ト弁205の位置は、第１図に示すようにマスクカセット
本体202がエレベータ215により上方へ移動されて露光状
態されたときに対応するように構成されている。The load lock chamber 301 is provided for replacing a predetermined one of the plurality of masks 203 housed in the mask chamber 201 as described above. For this reason, the position of the load lock gate valve 205 provided in the mask chamber 201 is configured to correspond to the case where the mask cassette body 202 is moved upward by the elevator 215 and is exposed as shown in FIG. ing.
図示しないが、交換されるマスク203はロードロック
チャンバ201の側面に設けられたロードロック扉312より
出入れされ、マスクチャンバ201内に設けられた不図示
のチャック機構によりマスク203を保持するマスクステ
ージ310上にて装着もしくは脱離される。ロードロック
チャンバ301内に固設されるベースプレート309の上面に
は上記のマスクステージ310が取付けられ、その側面に
はリニアガイドレール308が取付けられている。マスク
カセット本体202とマスクステージ310との間でマスク20
3を搬送することはマスクハンド304によって行なわれ
る。マスクハンド304はリニアガイドレール308に沿って
移動可能なアーム305の先端に取付けられており、該ア
ーム305の一端に取付けられた手動レバー307がシール部
材306を介してロードロックチャンバ301に摺動可能に支
持される。これにより、ロードロックチャンバ301はそ
の内部の雰囲気を気密に保った状態のままマスク203の
交換は外部にて操作することが可能となっている。本実
施例においては上述のマスクハンド304、アーム305、手
動用レバー307、リニアガイドレール308およびマスクス
テージ310によって搬送保持手段が構成されている。Although not shown, the mask 203 to be exchanged enters and exits through a load lock door 312 provided on the side surface of the load lock chamber 201, and a mask stage for holding the mask 203 by a chuck mechanism (not shown) provided in the mask chamber 201. Attach or detach on 310. The mask stage 310 is mounted on the upper surface of the base plate 309 fixed in the load lock chamber 301, and the linear guide rail 308 is mounted on the side surface thereof. The mask 20 is placed between the mask cassette body 202 and the mask stage 310.
The transfer of 3 is performed by the mask hand 304. The mask hand 304 is attached to the tip of an arm 305 movable along a linear guide rail 308, and a manual lever 307 attached to one end of the arm 305 slides into the load lock chamber 301 via a seal member 306. Supported as possible. Thus, the mask 203 can be replaced externally while the load lock chamber 301 keeps its atmosphere airtight. In the present embodiment, the above-described mask hand 304, arm 305, manual lever 307, linear guide rail 308, and mask stage 310 constitute a transport holding unit.
ロードロックチャンバ301の天板には２つのガスポー
ト302,303が取付けられ、底板には排気ポート311が取付
けられている。各ガスポート302,303は、不図示のバル
ブを介してHe,N2をそれぞれロードロックチャンバ301内
に導入するものである。排気ポート311は、排気バルブ
および真空ポンプ（ともに不図示）と連結されてロード
ロックチャンバ301内の排気を行なうものである。これ
らの各ガスポート302,303および排気ポート311はロード
ロックチャンバ301内の雰囲気を露光装置と同様に保つ
ための第２の室内雰囲気置換手段を構成している。Two gas ports 302 and 303 are attached to the top plate of the load lock chamber 301, and an exhaust port 311 is attached to the bottom plate. The gas ports 302 and 303 are for introducing He and N 2 into the load lock chamber 301 via valves (not shown). The exhaust port 311 is connected to an exhaust valve and a vacuum pump (both not shown) to exhaust the load lock chamber 301. The gas ports 302 and 303 and the exhaust port 311 constitute a second indoor atmosphere replacing unit for maintaining the atmosphere in the load lock chamber 301 in the same manner as the exposure apparatus.
次に、本実施例のマスクのローディング動作について
説明する。Next, the loading operation of the mask according to the present embodiment will be described.
複数枚のマスク203を一括してローディングする際に
は、ゲート弁102を閉じた状態とし、扉204より複数のマ
スク203が装填されたマスクカセットをターンテーブル2
10上に載置し、エレベータ215の駆動によりマスクカセ
ット本体202をマスクチャンバ201内の上方部に押し上げ
る。次に、扉204を閉じてマスクチャンバ201内を大気と
遮断した後に、排気バルブ214を作動させることにより
排気ポート213より排気させて、マスクチャンバ201内を
真空状態とし、続いてバルブ206を調節してHe気体をマ
スクチャンバ201内に所定量流入させてマスクチャンバ2
01内の雰囲気を本体チャンバ101内と同等とする。この
後、ゲート弁102が開かれて必要とされるマスクがマス
クハンド103により本体チャンバ101内に順次搬送され、
これを用いた露光が行なわれる。マスクカセットを取出
す場合には、ゲート弁102を閉じ、バルブ207を調節して
N2気体を流入させ、マスクチャンバ201内を大気圧まで
回復させた後に扉204より取出す。When loading a plurality of masks 203 collectively, the gate valve 102 is closed, and the mask cassette loaded with the plurality of masks 203 is
The mask cassette main body 202 is pushed up to an upper part in the mask chamber 201 by driving the elevator 215. Next, after closing the door 204 and shutting off the inside of the mask chamber 201 from the atmosphere, the exhaust port 214 is operated to exhaust air from the exhaust port 213 to make the inside of the mask chamber 201 vacuum, and then the valve 206 is adjusted. He gas flows into the mask chamber 201 by a predetermined amount to
The atmosphere in 01 is the same as in main body chamber 101. Thereafter, the required mask with the gate valve 102 opened is sequentially transferred into the main chamber 101 by the mask hand 103,
Exposure using this is performed. When removing the mask cassette, close the gate valve 102 and adjust the valve 207
After allowing the N 2 gas to flow therein to restore the inside of the mask chamber 201 to atmospheric pressure, the mask chamber 201 is taken out from the door 204.
次に、露光動作中等に、一部のマスク203に何らかの
異常が発生した場合、もしくは異常が発覚した場合には
ロードロック扉312より該一部のマスク203のみを取出す
場合について説明する。Next, a description will be given of a case where some abnormality occurs in some masks 203 during the exposure operation or when some abnormality is detected, and only some of the masks 203 are removed from the load lock door 312.
この状態においては、マスクカセット本体202はロー
ディング状態にあり、ロードロックゲート弁205は閉じ
られている。交換を行なう際には異常マスク203を交換
するための位置（ロードロックゲート弁205側）に移動
させる。これはマスクカセット本体202をターンテーブ
ル210にて所望位置まで回転させることにより行なわれ
る。この間、ロードロックチャンバ301を第２の室内雰
囲気置換手段を用いて150torr・Heにて置換しておく、
その後ロードロックゲート弁205を開け、手動用レバー3
07を用いてマスクハンド304をマスクチャンバ201内に導
入し、異常マスク203をハンドリングした後、再び手動
用レバー307を用いてマスクハンド304をロードロックチ
ャンバ301内に回収する。次に、回収されたマスク203を
マスクステージ310に装着させ、再度ロードロックゲー
ト弁205を閉じる。終了後ロードロックチャンバ301内に
ガスポート302よりN2を導入させてロードロックチャン
バ301内を大気圧まで回復させた後に、ロードロック扉3
12を開けて、異常マスク203を新しいマスク203と交換す
る。新しいマスク203をマスクステージ310上に装着した
後、ロードロック扉312を閉じ、再び、150torr・Heにロ
ードロックチャンバ301内を置換する。その後、ロード
ロックゲート弁205を開けて手動用レバー307を用いてマ
スクステージ310上のマスク203をマスクカセット本体20
2へ搬送する。マスク203が搬送され、マスクハンド304
がロードロックチャンバ301内に回収された後、ロード
ロックゲート弁205を閉じる。その後マスクカセットロ
ーダーを通常シーケンスに戻す。In this state, the mask cassette body 202 is in the loading state, and the load lock gate valve 205 is closed. When the replacement is performed, the abnormal mask 203 is moved to a position for replacing (the load lock gate valve 205 side). This is performed by rotating the mask cassette body 202 to a desired position on the turntable 210. During this time, the load lock chamber 301 is replaced with 150 torr · He using the second indoor atmosphere replacement means.
After that, open the load lock gate valve 205 and operate the manual lever 3
After introducing the mask hand 304 into the mask chamber 201 using 07 and handling the abnormal mask 203, the mask hand 304 is recovered into the load lock chamber 301 again using the manual lever 307. Next, the recovered mask 203 is mounted on the mask stage 310, and the load lock gate valve 205 is closed again. After the completion, N 2 is introduced from the gas port 302 into the load lock chamber 301 to restore the load lock chamber 301 to the atmospheric pressure, and then the load lock door 3
Open 12 and replace the abnormal mask 203 with a new mask 203. After the new mask 203 is mounted on the mask stage 310, the load lock door 312 is closed, and the load lock chamber 301 is replaced with 150 torr · He again. Thereafter, the load lock gate valve 205 is opened, and the mask 203 on the mask stage 310 is moved to the mask cassette body 20 using the manual lever 307.
Convey to 2. The mask 203 is transported and the mask hand 304
Is collected in the load lock chamber 301, the load lock gate valve 205 is closed. Thereafter, the mask cassette loader is returned to the normal sequence.
以上の手順により、異常マスク203と新しいマスク203
との交換が行なわれる。With the above procedure, the abnormal mask 203 and the new mask 203
Exchange is performed.
本実施例のものにおいては、複数のカセットを一括し
てローディングした後に１枚乃至少数枚のマスク交換や
追加を行なうことを他のマスクを大気と遮断した状態で
行なうことができるため、交換作業をすみやかに行なう
ことが可能となった。このことは作業に特に迅速性が要
求され、マスクの交換が頻繁とされる試験露光等のとき
に特に有効である。In the present embodiment, the replacement or addition of one or a small number of masks after loading a plurality of cassettes at a time can be performed while the other masks are shielded from the atmosphere. Can be done promptly. This is particularly effective in the case of a test exposure or the like in which the operation requires particularly quick operation and the mask is frequently changed.
なお、本実施例においてマスク203は円形のものと
し、マスクカセット本体202に放射状に配置されるもの
として説明したが、マスク203の形状は円形に限定され
ることはなく、その配置方法も横置き等の異なる方法で
あってもよい。In this embodiment, the mask 203 has a circular shape and has been described as being radially arranged on the mask cassette body 202.However, the shape of the mask 203 is not limited to a circle, and the arrangement method is also horizontal. And other different methods.
また、マスクカセット203としては円筒形のものを示
したが、これは直方体等であってもよい。Although the mask cassette 203 has a cylindrical shape, it may be a rectangular parallelepiped or the like.
また、マスクカセット本体202をＹ軸方向に沿って上
方へ移動させ、不動のマスクカセットカバー212と分離
するものとしたが、分離方法はマスクカセットの構成に
より異なるため、上下方向に分離することに限定される
ものではない。In addition, the mask cassette body 202 is moved upward along the Y-axis direction and separated from the immovable mask cassette cover 212.However, since the separation method differs depending on the configuration of the mask cassette, the separation is performed in the vertical direction. It is not limited.
また、エレベータ215はエアシリンダを用い、本体チ
ャンバ101に取付けられるものとして説明したが、油圧
もしくはその他の駆動機構であってもよく、マスクチャ
ンバ201に取付けてもよい。さらに本実施例ではエレベ
ータロッド211を介してターンテーブル210をＹ軸方向に
移動しているが、エレベータ215をマスクチャンバ201内
に収容させてもよい。Although the elevator 215 is described as being mounted on the main chamber 101 using an air cylinder, the elevator 215 may be mounted on the mask chamber 201 by hydraulic pressure or another driving mechanism. Further, in this embodiment, the turntable 210 is moved in the Y-axis direction via the elevator rod 211, but the elevator 215 may be accommodated in the mask chamber 201.
また、マスクハンド103および304の形状はマスク203
の形状等に合わせて変更されるものであり、図示された
ものに限定されるものではない。そのハンドリング方法
は機械的にクランプしてもよく、真空チャックによって
クランプしてもよい。これらの各マスクハンド103およ
び304が移動する方向はマスクカセットの形状、構造に
より異なるものとなる。The shape of the mask hands 103 and 304 is
Are changed in accordance with the shape of the device, and are not limited to those shown in the drawings. The handling method may be mechanical clamping or clamping with a vacuum chuck. The direction in which these mask hands 103 and 304 move depends on the shape and structure of the mask cassette.
さらに、搬送保持手段には手動用レバー307を設けて
搬送を手動にて行なうものとしたが、アクチュエータを
用いて駆動しても当然よい。Further, the transport holding means is provided with the manual lever 307, and the transport is performed manually. However, the transport may be driven using an actuator.
［発明の効果］ 本発明は以上説明したように構成されているので、以
下に記載するような効果を奏する。[Effects of the Invention] The present invention is configured as described above, and has the following effects.
マスクチャンバおよびロードロックチャンバを設けた
ことにより、特定マスクのみの交換作業を他のマスクに
悪影響を及ぼすことなく迅速に行なうことができる効果
があり、マスク交換の作業性を大幅に向上することがで
きる効果がある。By providing the mask chamber and the load lock chamber, there is an effect that the replacement work of only a specific mask can be performed quickly without adversely affecting other masks, and the workability of mask replacement can be greatly improved. There is an effect that can be done.
第１図は本発明の一実施例の構成を示す斜視図、第２図
は第１図の部分破断図である。 101……本体チャンバ、102……ゲート弁、 103,104……マスクハンド、 201……マスクチャンバ、 202……マスクカセット本体、 203……マスク、204……扉、 205……ロードロックゲート弁。 206,207……バルブ、 208,209,302,303……ガスポート。 210……ターンテーブル、 211……エレベータロッド、 212……マスクカセットカバー、 213,311……排気ポート、214……排気バルブ、 215……エレベータ、216……圧力計、 301……ロードロックチャンバ、 305……アーム、306……シール部材、 307……手動用レバー、 308……リニアガイドレール、 309……ベースプレート、 310……アスクステージ、 312……ロードロック扉。FIG. 1 is a perspective view showing the structure of one embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a partially cutaway view of FIG. 101: body chamber, 102: gate valve, 103, 104: mask hand, 201: mask chamber, 202: mask cassette body, 203: mask, 204: door, 205: load lock gate valve. 206,207 …… Valve, 208,209,302,303 …… Gas port. 210: Turntable, 211: Elevator rod, 212: Mask cassette cover, 213, 311: Exhaust port, 214: Exhaust valve, 215: Elevator, 216: Pressure gauge, 301: Load lock chamber, 305 …… Arm, 306 …… Seal member, 307 …… Manual lever, 308 …… Linear guide rail, 309 …… Base plate, 310 …… Ask stage, 312 …… Load lock door.
Claims (1)
マスクを供給するためのマスクローディング機構であっ
て、 前記露光装置に第１のゲート弁を介して連通するように
取付けられ、該露光装置で使用される前記複数枚のマス
クを一括して収容するマスクチャンバと、該マスクチャ
ンバに第２のゲート弁を介して連通するように取付けら
れ、マスクチャンバに収容された複数枚のマスクのうち
の所定のものを交換するためのロードロックチャンバと
によって構成されており、 前記マスクチャンバには複数枚のマスクを一括してロー
ディングする際に用いられる第１の扉と、その室内雰囲
気を前記露光装置と同様に保つための第１の室内雰囲気
置換手段とが設けられ、 前記ロードロックチャンバには前記所定のマスクを交換
する際に用いられる第２の扉と、その室内雰囲気を前記
露光装置と同様に保つための第２の室内雰囲気置換手段
と、前記第２のゲート弁を介して前記所定のマスクを搬
送して保持することを外部より操作可能な搬送保持手段
とが設けられていることを特徴とするマスクローディン
グ機構。1. A mask loading mechanism for supplying a plurality of masks to an exposure apparatus maintained in a non-atmospheric state, wherein the mask loading mechanism is attached to communicate with the exposure apparatus via a first gate valve. A mask chamber for collectively accommodating the plurality of masks used in the exposure apparatus; and a plurality of mask chambers mounted to communicate with the mask chamber via a second gate valve and accommodated in the mask chamber. A load lock chamber for replacing a predetermined one of the masks, a first door used for loading a plurality of masks at a time in the mask chamber; And a first room atmosphere replacing means for keeping the same as the exposure apparatus. The load lock chamber is used when replacing the predetermined mask. A second door, a second indoor atmosphere replacing means for maintaining the indoor atmosphere in the same manner as in the exposure apparatus, and conveying and holding the predetermined mask through the second gate valve. A mask loading mechanism, comprising: a transfer holding unit operable from outside.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12302690A JP2941000B2 (en) | 1990-05-15 | 1990-05-15 | Mask loading mechanism |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12302690A JP2941000B2 (en) | 1990-05-15 | 1990-05-15 | Mask loading mechanism |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0423313A JPH0423313A (en) | 1992-01-27 |
| JP2941000B2 true JP2941000B2 (en) | 1999-08-25 |
Family
ID=14850381
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12302690A Expired - Fee Related JP2941000B2 (en) | 1990-05-15 | 1990-05-15 | Mask loading mechanism |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2941000B2 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2022038080A1 (en) * | 2020-08-21 | 2022-02-24 | Asml Netherlands B.V. | Charged-particle inspection apparatus |
-
1990
- 1990-05-15 JP JP12302690A patent/JP2941000B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2022038080A1 (en) * | 2020-08-21 | 2022-02-24 | Asml Netherlands B.V. | Charged-particle inspection apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0423313A (en) | 1992-01-27 |
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