JP2933444B2 - CMOS gate test circuit - Google Patents

CMOS gate test circuit

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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はCMOSゲートのテスト
回路に関し、特にCMOS LSIのメモリのデコーダ
部の不具合を除くテスト回路に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a CMOS gate test circuit and, more particularly, to a test circuit for eliminating a defect of a decoder section of a memory of a CMOS LSI.

【0002】[0002]

【従来の技術】メモリICのデコーダ回路は、NORゲ
ートまたはNANDゲートが用いられている。このNO
RゲートまたはNANDゲートを完全CMOSで構成す
る。
2. Description of the Related Art A NOR gate or a NAND gate is used as a decoder circuit of a memory IC. This NO
The R gate or the NAND gate is composed of complete CMOS.

【0003】図2に、アドレスA0,A1,…A3の4
入力のNORゲートで構成されたデコーダ(アドレスA
0/A0(反転値),A1/A1(反転値),A2/A
2(反転値),A3/A3(反転値)の組合せ24 =1
6個のNORゲートにて構成される)の第i番目のNO
Rゲートを示す。
FIG. 2 shows addresses A0, A1,.
A decoder composed of an input NOR gate (address A
0 / A0 (inverted value), A1 / A1 (inverted value), A2 / A
2 (inverted value), combination of A3 / A3 (inverted value) 2 4 = 1
I-th NO (consisting of six NOR gates)
The R gate is shown.

【0004】従来、マスクROM,EPROMのテスト
パターンは、アドレス・スキャンの一般的なものが中心
であったが、これによるテストでは、図2の回路でnチ
ャネル型トランジスタ13がオープン不良の場合、入力
アドレスA0,A1,A2,A3が(1100)から
(0010)にスキャンしても、出力O1は0(低レベ
ル)から出力高インピーダンスに変わるだけのため、前
のアドレス番地のデータ0(低レベル)を保持する結
果、この種の不具合を検出できない。4MビットのCM
OSマスクROMで、0〜0.5%ほどの不具合が含ま
れる(回路構成,製造プロセスにも依存するが)。
Conventionally, test patterns for mask ROMs and EPROMs have been mainly address scan patterns. However, in this test, when the n-channel transistor 13 in the circuit of FIG. Even if the input addresses A0, A1, A2, and A3 are scanned from (1100) to (0010), the output O1 only changes from 0 (low level) to the output high impedance, so that the data 0 (low) at the previous address is output. Level), this type of failure cannot be detected. 4Mbit CM
The OS mask ROM has a defect of about 0 to 0.5% (although it depends on the circuit configuration and the manufacturing process).

【0005】この検出のためには、アドレス(000
0)から(0010)にとぶことにより、出力0がその
まま保持されることにより、不良を検出できる。従っ
て、テストパターンは選択アドレス番地と非選択アドレ
ス番地の組合せをテストすることによって、この種の不
良を除去していた。ところが、ランダムゲート,マイコ
ン製品の場合、実質的にこの種の不良を除去することは
困難であった。
For this detection, the address (000)
By skipping from (0) to (0010), a defect can be detected by maintaining the output 0 as it is. Therefore, the test pattern removes this kind of defect by testing the combination of the selected address and the non-selected address. However, in the case of random gate and microcomputer products, it has been difficult to substantially eliminate such defects.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】CMOS ICメモリ
のようにデコーダ回路をNORゲートまたはNANDゲ
ートで構成するが、完全CMOSのNORゲートまたは
NANDゲートを用いると、並列接続のトランジスタの
うち一個のトランジスタが、ソースかドレインまたはゲ
ート入力で切れている不具合が製造工程で発生した場
合、このトランジスタを導通にする入力信号が入力され
ても(他の並列トランジスタは非導通となる各信号が入
力されている場合)、出力は高インピーダンス状態にな
る。
A decoder circuit is constituted by a NOR gate or a NAND gate like a CMOS IC memory. However, when a NOR gate or a NAND gate of a complete CMOS is used, one of the transistors connected in parallel becomes one of the transistors. In the event that a failure occurs at the source, drain or gate input during the manufacturing process, even if an input signal to turn on this transistor is input (other parallel transistors are turned off, each signal is input) Case), the output goes into a high impedance state.

【0007】従って、この不具合のNOR(またはNA
ND)ゲートを選択後、この不具合のトランジスタのゲ
ート信号のみ変化することにより、期待出力は選択から
非選択に変わるが、出力が高インピーダンスになり、前
の出力データが保持されて、不具合が検出できる。この
ように、前のアドレスと次のアドレスの組合せを考慮す
る必要が生じ、すべての組合せを実施すると、図2の例
で2×16×(16−)=480のテストパターンにな
り、テスト時間の増大になり、費用の増大や生産能力の
低下等の問題点があった。
Therefore, the NOR (or NA)
ND) After selecting the gate, by changing only the gate signal of the faulty transistor, the expected output changes from selection to non-selection, but the output becomes high impedance, the previous output data is retained, and the fault is detected. it can. As described above, it is necessary to consider the combination of the previous address and the next address. When all the combinations are performed, a test pattern of 2 × 16 × (16 −) = 480 is obtained in the example of FIG. And there were problems such as an increase in cost and a decrease in production capacity.

【0008】本発明の目的は、前記問題点を解決し、テ
ストの時間を短縮できるようにしたCMOSゲートのテ
スト回路を提供することにある。
It is an object of the present invention to provide a CMOS gate test circuit which solves the above-mentioned problems and can reduce the test time.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明のCMOSゲート
のテスト回路の構成は、少なくとも2入力を有し、複数
の第1チャネル型電界効果トランジスタの並列体と複数
の第2型電界効果トランジスタの直列体とを備え、前記
並列体と前記直列体との共通接続点を出力端子となすN
ORゲート又はANDゲートをテストするCMOSゲー
トのテスト回路において、前記出力端子の電位をプルア
ップするように前記出力端子と電源電位との間に前記複
数の第1チャネル型電界効果トランジスタおよび前記複
数の第2型電界効果トランジスタそれぞれの導通抵抗値
よりも1桁以上大きい導通抵抗値を有する負荷をさらに
接続したことを特徴とする。
SUMMARY OF THE INVENTION A CMOS gate test circuit according to the present invention has at least two inputs, and includes a parallel body of a plurality of first channel type field effect transistors and a plurality of second type field effect transistors. A series body, and a common connection point between the parallel body and the series body is an output terminal.
In the test circuit of a CMOS gate to test OR gate or an AND gate, the multiple between the output terminal and the power supply potential to pull up the potential of said output terminal
The number of first channel type field effect transistors and the plurality of
Resistance of each of the second type field effect transistors
A load having a conduction resistance value that is at least one digit larger than that of a load is further connected.

【0010】[0010]

【実施例】次に本発明の第1の実施例のCMOSゲート
のテスト回路を図1に示す。図1において、本実施例
は、デコーダを構成する4NORゲートの例である。出
力とVCC電源との間に、Pチャネル型トランジスタ2
9を配置し、このゲート入力信号Tはテスト端子からの
制御信号であり、テスト時に低レベル入力になってトラ
ンジスタ29は導通し、使用時に信号Tは高レベル(V
CC)になり、非導通となる。テスト時、トランジスタ
29の導通抵抗は、トランジスタ21〜24の導通抵抗
に比して10倍以上高くて、出力低レベルは十分低いレ
ベルで論理回路として動作する。トランジスタ29の導
通抵抗が、トランジスタ21〜24のそれと比べて小さ
い場合、T信号にクロック信号パルスを加えることによ
り、テスト回路として機能する。
FIG. 1 shows a CMOS gate test circuit according to a first embodiment of the present invention. In FIG. 1, this embodiment is an example of a 4NOR gate constituting a decoder. P-channel transistor 2 between output and VCC power supply
9, the gate input signal T is a control signal from the test terminal, and becomes a low level input at the time of testing to turn on the transistor 29, and the signal T becomes high level (V
CC) and become non-conductive. At the time of the test, the conduction resistance of the transistor 29 is at least 10 times higher than the conduction resistance of the transistors 21 to 24, and the output low level operates as a logic circuit at a sufficiently low level. When the conduction resistance of the transistor 29 is smaller than that of the transistors 21 to 24, the transistor 29 functions as a test circuit by adding a clock signal pulse to the T signal.

【0011】従って、図1のトランジスタ21〜24の
内製造工程で不具合が生じて導通しない製品が出来て
も、テスト用トランジスタ29より、出力高インピーダ
ンスで前のデータを保持することはなく、VCC電源の
電圧に引かれて、出力は高レベルになり、期待値と異な
ることにより、不良と判定できる(図5参照のこと)。
Therefore, even if a failure occurs in the manufacturing process of the transistors 21 to 24 shown in FIG. 1 and a non-conductive product is produced, the test transistor 29 does not hold the previous data with a high output impedance and the VCC. The output becomes high level due to the voltage of the power supply and differs from the expected value, so that it can be determined that the output is defective (see FIG. 5).

【0012】図5において、図1の各部の波形が示され
ている。制御信号T,アドレスA0,A1,A2,A
3,出力O1の各波形があり、このうち出力O1は、ト
ランジスタ23のオープン不良時の波形W1が実線で、
期待値波形W2が点線で示されている。
FIG. 5 shows waveforms at various points in FIG. Control signal T, addresses A0, A1, A2, A
3. There are three waveforms of the output O1, of which the output O1 is a solid line of the waveform W1 at the time of the open failure of the transistor 23,
The expected value waveform W2 is shown by a dotted line.

【0013】図3は本発明の第2の実施例のCMOSゲ
ートのテスト回路を示す回路図である。図3において、
本第2の実施例は、テスト端子からの制御信号Tが必要
でなくなる。出力とVCC電源との間に、高い抵抗値の
抵抗39を設置した実施例である。ここに、抵抗39
は、トランジスタ31〜34の導通抵抗の10倍以上の
抵抗値である。
FIG. 3 is a circuit diagram showing a CMOS gate test circuit according to a second embodiment of the present invention. In FIG.
In the second embodiment, the control signal T from the test terminal is not required. In this embodiment, a resistor 39 having a high resistance value is provided between an output and a VCC power supply. Here, the resistor 39
Is a resistance value that is 10 times or more the conduction resistance of the transistors 31 to 34.

【0014】図4は本発明の第3の実施例のCMOSゲ
ートのテスト回路を示す回路図である。図4において、
本第3の実施例が、図3と異なる点は、負荷抵抗49の
VCC電源の代りに、テスト端子からの制御信号Tが入
力される点である。テスト時、信号Tは高レベル(VC
C電圧)になり、実使用時GNDレベルにすることによ
り、4NORのデコーダ回路で、1/15の消費電力に
おさえられる。
FIG. 4 is a circuit diagram showing a CMOS gate test circuit according to a third embodiment of the present invention. In FIG.
The third embodiment differs from FIG. 3 in that a control signal T from a test terminal is input instead of the VCC power supply of the load resistor 49. During the test, the signal T is at a high level (VC
C voltage) and set to the GND level during actual use, the power consumption can be reduced to 1/15 with a 4NOR decoder circuit.

【0015】なお、負荷抵抗49の抵抗値はトランジス
タ45〜48の直列抵抗の10倍以上である。抵抗とし
ては、高抵抗ポリシリコンなどが用いられる。
The resistance value of the load resistor 49 is at least 10 times the series resistance of the transistors 45 to 48. High resistance polysilicon or the like is used as the resistance.

【0016】図1の第1の実施例においては、CMOS
の2入力以上のNORゲートまたはANDゲートにおい
て、直列に配置された一型MOSトランジスタと並列
に、テスト入力端子からの制御信号によって制御される
信号を入力とする一型MOSトランジスタ2を配置し、
ゲートの並列に配置された二型MOSトランジスタに対
して負荷抵抗トランジスタとして機能することを特徴と
する。
In the first embodiment shown in FIG.
In one or more NOR gates or AND gates, a type 1 MOS transistor 2 receiving a signal controlled by a control signal from a test input terminal is arranged in parallel with a type 1 MOS transistor arranged in series,
It is characterized in that it functions as a load resistance transistor for a two-type MOS transistor arranged in parallel with a gate.

【0017】図3の第2の実施例において、負荷抵抗ト
ランジスタの代りに高抵抗(ポリシリコン)を用いたこ
とを特徴とする。特に負荷抵抗の電源側を制御信号に接
続したことを特徴とする。
The second embodiment shown in FIG. 3 is characterized in that a high resistance (polysilicon) is used instead of the load resistance transistor. In particular, the power supply side of the load resistor is connected to the control signal.

【0018】図4の第3の実施例において、一型MOS
トランジスタをクロックゲートとして用いたことを特徴
とする。以上のように、本発明によれば、多入力NOR
ゲートまたはNANDのCMOSゲートにおいて、製造
工程で生じる不具合の内特に出力が高インピーダンスに
なることを防止して、負荷抵抗トランジスタ等を備え
て、電源またはGND側に引っぱり、正常時の出力と異
なる出力を出させて、不良を検出できることができる。
In the third embodiment shown in FIG.
A transistor is used as a clock gate. As described above, according to the present invention, the multi-input NOR
In the gate or NAND CMOS gate, among the defects that occur in the manufacturing process, particularly, the output is prevented from becoming high impedance, and a load resistance transistor or the like is provided. To detect a defect.

【0019】[0019]

【発明の効果】以上説明したように、本発明は、NOR
ゲートまたはANDゲートの並列に配置されたトランジ
スタのオープン不良を、負荷トランジスタ又は抵抗を追
加することにより、簡単に検査で除くことができるとい
う効果があり、特にマスクROM,EPROMにおい
て、シーケンシャルなアドレススキャンでも検出でき、
アドレス番地の組合せを考慮しなくてもよくなり、テス
トパターンが最小で済み、テスト時間が大幅に短縮でき
るという効果がある。
As described above, according to the present invention, the NOR
There is an effect that an open defect of a transistor arranged in parallel with a gate or an AND gate can be easily removed by inspection by adding a load transistor or a resistor. Particularly, in a mask ROM or EPROM, sequential address scanning is performed. Can be detected,
It is not necessary to consider the combination of the address numbers, so that the test pattern can be minimized and the test time can be greatly reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施例のテスト用負荷トランジ
スタを付けた4NOR論理ゲートで構成したデコーダ回
路を示す回路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a decoder circuit composed of a 4NOR logic gate with a test load transistor according to a first embodiment of the present invention.

【図2】従来の4NOR論理ゲートで構成されたデコー
ダ回路を示す回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a conventional decoder circuit composed of 4NOR logic gates.

【図3】本発明の第2の実施例の負荷抵抗を付けた4N
OR論理ゲートで構成したデコーダ回路を示す回路図で
ある。
FIG. 3 shows 4N with a load resistor according to a second embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a circuit diagram showing a decoder circuit formed by OR logic gates.

【図4】本発明の第3の実施例の負荷抵抗を付けた4N
OR論理ゲートで構成されたデコーダ回路を示す回路図
である。
FIG. 4 shows a 4N with a load resistor according to a third embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a circuit diagram showing a decoder circuit formed by OR logic gates.

【図5】図1のデコーダ回路の入力信号波形と出力波形
のタイミング図である。
FIG. 5 is a timing chart of an input signal waveform and an output waveform of the decoder circuit of FIG. 1;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

A0/A0(反転値),A1/A1(反転値),A2/
A2(反転値),A3/A3(反転値) アドレス 11,12,13,14,21,22,23,24,3
1,32,33,34,41,42,43,44 n
チャネル型MOSトランジスタ 15,16,17,18,25,26,27,28,2
9,35,36,37,38,45,46,47,48
pチャネル型MOSトランジスタ 39,49 抵抗 T テスト用信号
A0 / A0 (inversion value), A1 / A1 (inversion value), A2 /
A2 (inverted value), A3 / A3 (inverted value) Address 11, 12, 13, 14, 21, 22, 23, 24, 3
1,32,33,34,41,42,43,44 n
Channel type MOS transistors 15, 16, 17, 18, 25, 26, 27, 28, 2
9, 35, 36, 37, 38, 45, 46, 47, 48
p-channel MOS transistor 39, 49 Resistance T test signal

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 少なくとも2入力を有し、複数の第1チ
ャネル型電界効果トランジスタの並列体と複数の第2型
電界効果トランジスタの直列体とを備え、前記並列体と
前記直列体との共通接続点を出力端子となすNORゲー
ト又はANDゲートをテストするCMOSゲートのテス
ト回路において、前記出力端子の電位をプルアップする
ように前記出力端子と電源電位との間に前記複数の第1
チャネル型電界効果トランジスタおよび前記複数の第2
型電界効果トランジスタそれぞれの導通抵抗値よりも1
桁以上大きい導通抵抗値を有する負荷をさらに接続した
ことを特徴とするCMOSゲートのテスト回路。
1. A semiconductor device having at least two inputs, comprising a parallel body of a plurality of first channel type field effect transistors and a series body of a plurality of second type field effect transistors, wherein the parallel body and the series body are common. In a CMOS gate test circuit for testing a NOR gate or an AND gate having a connection point as an output terminal, the plurality of first gates are connected between the output terminal and a power supply potential so as to pull up the potential of the output terminal .
Channel type field effect transistor and the plurality of second
Is greater than the conduction resistance of each of the field-effect transistors.
A test circuit for a CMOS gate, further comprising a load having a conduction resistance value greater than an order of magnitude .
【請求項2】 負荷が、テスト入力からの制御信号をゲ
ート入力とする第2型電界効果トランジスタである請求
項1に記載のCMOSゲートのテスト回路。
2. The CMOS gate test circuit according to claim 1, wherein the load is a second type field effect transistor having a gate input of a control signal from the test input.
【請求項3】 制御信号がクロックパルスである請求項
2に記載のCMOSゲートのテスト回路。
3. The CMOS gate test circuit according to claim 2, wherein the control signal is a clock pulse.
【請求項4】 負荷が、ポリシリコンからなる高抵抗で
ある請求項1に記載のCMOSゲートのテスト回路。
4. The CMOS gate test circuit according to claim 1, wherein the load is a high resistance made of polysilicon.
【請求項5】 高抵抗の一端を制御信号に接続した請求
項4に記載のCMOSゲートのテスト回路。
5. The CMOS gate test circuit according to claim 4, wherein one end of the high resistance is connected to a control signal.
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