JP2925758B2 - Tape sticking equipment for semiconductor wafers - Google Patents

Tape sticking equipment for semiconductor wafers

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JP2925758B2
JP2925758B2 JP1599091A JP1599091A JP2925758B2 JP 2925758 B2 JP2925758 B2 JP 2925758B2 JP 1599091 A JP1599091 A JP 1599091A JP 1599091 A JP1599091 A JP 1599091A JP 2925758 B2 JP2925758 B2 JP 2925758B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体ウェーハ用テー
プ貼着装置の改良に関する。特に、半導体ウェーハとそ
の裏面に貼着されるテープとの間に気泡が発生すること
を防止し、半導体ウェーハへのテープ貼着をより良好に
してスクライビング工程におけるチップ飛散防止を可能
にする半導体ウェーハ用テープ貼着装置を提供すること
を目的とする改良に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an improvement in a tape attaching device for a semiconductor wafer. In particular, a semiconductor wafer that prevents bubbles from being generated between a semiconductor wafer and a tape that is adhered to the back surface thereof, makes it possible to adhere the tape to the semiconductor wafer better, and prevents chip scattering in a scribing process. The present invention relates to an improvement aiming to provide a tape adhering device for use.

【0002】[0002]

【従来技術】半導体ウェーハのスクライビング工程にお
いてチップが飛散することを防止する目的で一般に半導
体ウェーハの裏面に貼着テープが貼着される。本発明は
このようなテープを貼着する半導体ウェーハ用テープ貼
着装置に関するものである。従来技術に係る半導体ウェ
ーハ用テープ貼着装置は半導体ウェーハが載置されるウ
ェーハ支持台と、上記ウェーハ支持台上にテープを展延
するテープ展延手段と、上記のテープを上記のウェーハ
支持台上に載置されている半導体ウェーハ上に貼着する
テープ貼着手段とを有し、上記のウェーハ支持台は載置
される半導体ウェーハの周を支持する支持受部を有し、
この支持受部に囲まれて凹部が形成され、この凹部の中
央部において加圧気体が圧入される。この加圧気体の圧
力が上記のテープ貼着手段(例えばゴムローラ式貼着手
段)がテープ貼着時に半導体ウェーハに及ぼす押圧力に
抗して半導体ウェーハの撓みを防止する。
2. Description of the Related Art An adhesive tape is generally attached to the back surface of a semiconductor wafer for the purpose of preventing chips from being scattered in a semiconductor wafer scribing process. The present invention relates to a tape sticking apparatus for semiconductor wafers for sticking such a tape. A tape bonding apparatus for a semiconductor wafer according to the related art includes a wafer support on which a semiconductor wafer is mounted, tape spreading means for spreading a tape on the wafer support, and a tape support on the wafer support. Has a tape sticking means to stick on the semiconductor wafer mounted on, the wafer support table has a support receiving portion for supporting the periphery of the semiconductor wafer to be mounted,
A concave portion is formed surrounded by the support receiving portion, and pressurized gas is press-fitted at a central portion of the concave portion. The pressure of the pressurized gas prevents bending of the semiconductor wafer against the pressing force exerted on the semiconductor wafer by the tape attaching means (for example, a rubber roller type attaching means) at the time of attaching the tape.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】ところが、半導体ウェ
ーハの表面の平滑性は、回路構成やワイヤーボンディン
グ用パッドが存在するために極めて悪い場合があり、半
導体ウェーハの表面が対接する上記の支持受部と半導体
ウェーハとの間に空隙が生じることがあった。さらに、
従来の半導体ウェーハ用テープ貼着装置は、加圧気体の
圧力が大きくなりすぎて、前記の支持受部と半導体ウェ
ーハとの間に空隙が生じることがあった。そのため、こ
の空隙を通して上記の加圧気体が噴射し、この噴射気体
によってカルマン渦が発生して噴射気体の一部が半導体
ウェーハの裏面側に回り込み半導体ウェーハと貼着テー
プとの間に流入して気泡を発生するという欠点が存在す
る。気泡が発生するとその領域における貼着は不可能と
なり、半導体ウェーハのスクライビング工程においてチ
ップ飛散が発生し、生産性を低下させることになる。
However, the smoothness of the surface of the semiconductor wafer may be extremely poor due to the circuit configuration and the presence of the pad for wire bonding. In some cases, a gap was formed between the semiconductor wafer and the semiconductor wafer. further,
In a conventional tape sticking apparatus for a semiconductor wafer, the pressure of the pressurized gas becomes too large, and a gap may be generated between the support receiving portion and the semiconductor wafer. Therefore, the above-mentioned pressurized gas is ejected through this gap, and a Karman vortex is generated by this ejected gas, and a part of the ejected gas flows around the back surface side of the semiconductor wafer and flows between the semiconductor wafer and the adhesive tape. There is the disadvantage of generating bubbles. When bubbles are generated, sticking in that region becomes impossible, and chips are scattered in a scribing step of the semiconductor wafer, thereby lowering productivity.

【0004】本発明の目的は上記の欠点を解消すること
にあり、表面の平滑性が悪い半導体ウェーハの場合で
も、半導体ウェーハとその裏面に貼着されるテープとの
間に気泡が発生することを防止し、半導体ウェーハへの
テープ貼着をより良好にしてスクライビング工程におけ
るチップ飛散防止を可能にする半導体ウェーハ用テープ
貼着装置を提供することにある。
[0004] An object of the present invention is to eliminate the above-mentioned drawbacks, and it is possible to generate air bubbles between a semiconductor wafer and a tape adhered to the back surface even in the case of a semiconductor wafer having a poor surface smoothness. It is an object of the present invention to provide a semiconductor wafer tape adhering device which can prevent the occurrence of chip and improve the adhesion of the tape to the semiconductor wafer to thereby prevent the chips from scattering in the scribing step.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】上記の目的は、下記の手
段をもって達成される。すなわち、半導体ウェーハ
(5)を支持し、載置される半導体ウェーハ(5)の周
に対応する領域に支持受部(11)を有し、底面に流体
圧入手段(12)を有し、前記支持受部(11)に沿っ
て流体排出手段(13)を有するウェーハ支持台(1)
と、該ウェーハ支持台(1)の上部にテープ(21)を
展延するテープ展延手段(2)と、前記テープ(21)
を前記ウェーハ支持台(1)上に載置されている半導体
ウェーハ(5)に貼着するテープ貼着手段とを有する半
導体ウェーハ用テープ貼着装置において、前記支持受部
(11)と前記流体排出手段(13)との間に流路狭窄
壁(14)を有し、該流路狭窄壁(14)と前記支持受
部(11)との間に流体吸出手段(15)を有し、前記
流体圧入手段(12)は、流体圧入用ポンプ(16)に
連通して前記ウェーハ支持台(1)の中央部に圧力増加
室(17)が設けられ、該圧力増加室(17)は、流れ
方向の距離が短い流路狭窄壁(18)をもって囲まれて
おり、前記ウェーハ支持台(1)の支持受部(11)上
に載置されている半導体ウェーハ(5)と前記ウェーハ
支持台(1)との間の空間に圧入される流体の圧力によ
って形成される前記半導体ウェーハ(5)の膨らみを計
測するウェーハ膨らみ計測手段(6)を有する半導体ウ
ェーハ用テープ貼着装置である。
The above object is achieved by the following means. That is, the semiconductor wafer (5) is supported, has a support receiving portion (11) in a region corresponding to the periphery of the semiconductor wafer (5) to be placed, and has a fluid press-in means (12) on a bottom surface, Wafer support (1) having fluid discharge means (13) along support receiving portion (11)
A tape spreading means (2) for spreading a tape (21) on the upper part of the wafer support (1); and the tape (21)
And a tape attaching means for attaching a tape to a semiconductor wafer (5) placed on the wafer support (1), wherein the support receiving portion (11) and the fluid A flow constriction wall (14) between the discharge means (13) and a fluid suction means (15) between the flow path constriction wall (14) and the support receiving portion (11); The fluid pressurizing means (12) communicates with a fluid pressurizing pump (16) and is provided with a pressure increasing chamber (17) at the center of the wafer support table (1). A semiconductor wafer (5), which is surrounded by a flow path constriction wall (18) having a short distance in the flow direction and is mounted on a support receiving portion (11) of the wafer support (1); (1) before being formed by the pressure of the fluid pressed into the space between A tape adhering apparatus for a semiconductor wafer having a wafer bulge measuring means (6) for measuring the expansion of the semiconductor wafer (5).

【0006】[0006]

【作用】本発明に係る半導体ウェーハ用テープ貼着装置
は次の技術思想にもとづいて、半導体ウェーハの表面と
ウェーハ支持台の支持受部との間の空隙から加圧流体が
噴射することを防止するものである。ウェーハ支持台
の流体排出手段と支持受部との間の流体抵抗を増加し加
圧流体を流体排出手段の方に誘導する。ウェーハ支持
台の支持受部の内側近傍において加圧流体を吸出する。
ウェーハ支持台に載置されている半導体ウェーハの加
圧流体による膨らみを計測する。
The semiconductor wafer tape sticking apparatus according to the present invention, based on the following technical concept, prevents the pressurized fluid from being injected from the gap between the surface of the semiconductor wafer and the support receiving portion of the wafer support base. Is what you do. The fluid resistance between the fluid discharge means of the wafer support and the support receiving portion is increased, and the pressurized fluid is guided toward the fluid discharge means. The pressurized fluid is sucked out near the inside of the support receiving portion of the wafer support table.
The swelling of the semiconductor wafer mounted on the wafer support table due to the pressurized fluid is measured.

【0007】上記の技術思想を具体化するために上記の
に対してはウェーハ支持台の流体排出手段と支持受部
との間に流路狭窄壁を設け、上記のに対してはこの流
路狭窄壁と支持受部との間に流体吸出手段を設け、上記
のに対してはウェーハ膨らみ計測手段を設ける。以上
の方策により、所望の流体圧力に調整された加圧流体が
流体排出手段に効果的に導かれるので、半導体ウェーハ
と支持受部との間の空隙から流体が噴射することを防止
でき、半導体ウェーハと貼着テープとの間に気泡が発生
することを防止できる。
In order to embody the above technical idea, a flow path constriction wall is provided between the fluid discharge means of the wafer support and the support receiving section in order to realize the above technical idea. A fluid suction means is provided between the stenosis wall and the support receiving part, and a wafer swelling measuring means is provided for the above. By the above measures, the pressurized fluid adjusted to the desired fluid pressure is effectively guided to the fluid discharge means, so that the fluid can be prevented from being ejected from the gap between the semiconductor wafer and the support receiving portion, The generation of air bubbles between the wafer and the adhesive tape can be prevented.

【0008】[0008]

【実施例】以下、図面を参照して、本発明の実施例に係
る半導体ウェーハ用テープ貼着装置について説明する。
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a perspective view showing a tape sticking apparatus for a semiconductor wafer according to an embodiment of the present invention.

【0009】図1は、本発明の実施例に係る半導体ウェ
ーハ用テープ貼着装置を示すもので、図2は図1におけ
るウェーハ支持台1、テープ展延手段2及びテープ貼着
手段を示したものである。図1の6はウェーハ膨らみ計
測手段である。このウェーハ膨らみ計測手段6として
は、例えばレーザ利用の変位測定計が使用され、ウェー
ハ支持台1の側面側に設けられている。
FIG. 1 shows a tape sticking apparatus for a semiconductor wafer according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 shows a wafer support 1, tape spreading means 2, and tape sticking means in FIG. Things. Reference numeral 6 in FIG. 1 denotes a wafer swelling measuring unit. As the wafer swelling measuring means 6, for example, a displacement meter using a laser is used, and is provided on the side surface of the wafer support table 1.

【0010】次に図2を参照して、図1におけるウェー
ハ支持台1及びテープ展延手段2の詳細を説明する。図
2の1は、半導体ウェーハ5を支持するウェーハ支持台
である。11はこのウェーハ支持台1の、上記の半導体
ウェーハ5の周に対応する領域に設けられる支持受部で
ある。なお、支持受部11はウェーハ支持面の外周縁を
支持壁で囲い、且つ、ウェーハ支持面には半導体ウェー
ハ5の外周縁部をウェーハ支持面に吸着させてこのウェ
ーハをウェーハ支持台1に位置決め固定するための公知
の真空式吸着部(図示せず。)を設けて構成されてい
る。12は上記のウェーハ支持台1の、上記の半導体ウ
ェーハ5に対向する底面に設けられる流体圧入手段であ
り、一般に底面の中央部に設けられる。13は上記の支
持受部11に沿って設けられる流体排出手段であり、例
えば底面を貫通する孔である。14はこの流体排出手段
13と上記の支持受部11との間に設けられる流路狭窄
壁である。15はこの流路狭窄壁14と上記の支持受部
11との間に設けられる流体吸出手段であり、本実施例
においては支持受部11に沿って設けられた環状のU形
溝とこの溝の底面にウェーハ支持台1を貫通して設けら
れる複数の孔とで構成されている流体吸出路151と真
空ポンプ152とよりなる。2は上記のウェーハ支持台
1の上部にテープを展延するテープ展延手段であり、例
えばテープ21の1端を把持してテープ21を展延する
テープ把持手段22とテープ供給手段23とよりなる。
3は上記のテープ21を上記のウェーハ支持台1上に載
置されている半導体ウェーハ5に貼着するテープ貼着手
段としてローラ式貼着手段を示すものである。
Next, with reference to FIG. 2, the details of the wafer support 1 and the tape spreading means 2 in FIG. 1 will be described. 2 is a wafer support for supporting the semiconductor wafer 5. Reference numeral 11 denotes a support receiving portion provided in a region of the wafer support table 1 corresponding to the periphery of the semiconductor wafer 5. The support receiving portion 11 surrounds the outer peripheral edge of the wafer support surface with a support wall, and adsorbs the outer peripheral edge of the semiconductor wafer 5 on the wafer support surface to position the wafer on the wafer support table 1. A well-known vacuum suction unit (not shown) for fixing is provided. Numeral 12 denotes a fluid press-fitting means provided on the bottom surface of the wafer support 1 facing the semiconductor wafer 5, and is generally provided at the center of the bottom surface. Numeral 13 denotes a fluid discharge means provided along the support receiving portion 11, for example, a hole penetrating the bottom surface. Reference numeral 14 denotes a channel narrowing wall provided between the fluid discharge means 13 and the support receiving portion 11. Numeral 15 denotes a fluid suction means provided between the flow path constriction wall 14 and the support receiving portion 11, and in the present embodiment, an annular U-shaped groove provided along the support receiving portion 11 and the groove. And a vacuum pump 152 formed of a plurality of holes provided through the wafer support base 1 on the bottom surface of the fluid suction passage 151. Numeral 2 is a tape spreading means for spreading the tape on the upper portion of the wafer support table 1. For example, a tape gripping means 22 for gripping one end of the tape 21 and spreading the tape 21 and a tape feeding means 23 are provided. Become.
Reference numeral 3 denotes a roller type sticking means as a tape sticking means for sticking the tape 21 to the semiconductor wafer 5 placed on the wafer support table 1.

【0011】本発明に係る半導体ウェーハ用テープ貼着
装置によれば、前記ウェーハ支持台1の側面側から、例
えばレーザ利用の変位測定計等のウェーハ膨らみ計測手
段6を用いることによって、半導体ウェーハ5とウェー
ハ支持台1との間の空間に圧入される流体の圧力によっ
て形成される半導体ウェーハ5の膨らみを計測するよう
になっており、この計測結果にもとづいて、上記の流体
圧力を調整して所望の流体圧力を確保することができ
る。
According to the tape sticking apparatus for a semiconductor wafer according to the present invention, the semiconductor wafer 5 is mounted on the side surface of the wafer support table 1 by using the wafer swelling measuring means 6 such as a displacement meter using a laser. The swelling of the semiconductor wafer 5 formed by the pressure of the fluid pressed into the space between the wafer and the wafer support 1 is measured. Based on the measurement result, the fluid pressure is adjusted. A desired fluid pressure can be secured.

【0012】つぎに前記半導体ウェーハ用テープの貼着
装置の動作について説明する。図2の実線矢印は流体の
流れ方向を示し、図2の破線矢印はローラ式貼着手段3
の移動方向を示す。加圧気体が流体圧入手段12を介し
て半導体ウェーハ5とウェーハ支持台1との間の空間に
圧入され、半導体ウェーハ5を上方に向かって加圧す
る。一方、ローラ式貼着手段3はウェーハ支持台1の上
方に展延されたテープ21を下方に向かって押圧しなが
ら半導体ウェーハ5に1端から他端に向かって破線矢印
の方向に移動し、テープ21を半導体ウェーハ5に貼着
する。このとき、前記ウェーハ膨らみ計測手段6により
所望の流体圧力を確保した上記の加圧気体による圧力と
上記のローラ式貼着手段3による押圧力とがおおむね平
衡し、半導体ウェーハ5の撓みを抑制し、半導体ウェー
ハ5の損傷を防止する。半導体ウェーハ5とウェーハ支
持台1との間の空間に圧入された加圧気体は、ウェーハ
支持台1の中央部から周辺部に向かって流れ、流路狭窄
壁14に当たって、おおむね流体排出手段13の方に誘
導され、ウェーハ支持台1の下方に排出される。上記の
ローラ式貼着手段3による押圧力と上記の加圧気体によ
る圧力とがおおむね平衡し、半導体ウェーハ5の撓みを
抑制し、半導体ウェーハ5の損傷を防止する。半導体ウ
ェーハ5とウェーハ支持台1との間の空間に圧入された
加圧気体は、ウェーハ支持台狭窄壁14と半導体ウェー
ハ5との間の狭窄された流路を通って一部が漏洩する
が、この漏洩した加圧気体は、上記の流路狭窄壁14と
支持受部11との間に設けられた流体吸出手段15によ
って吸出されてウェーハ支持台1の下方空間に排出され
る。したがって、上記の加圧気体が半導体ウェーハ5と
支持受部11との間の空隙から噴射することがなく、し
たがって、ここにカルマン渦が発生することがなく、テ
ープ貼着に際して、半導体ウェーハ5と貼着されるテー
プ21との間に気泡が発生することがない。
Next, the operation of the semiconductor wafer tape attaching apparatus will be described. 2 indicate the flow direction of the fluid, and the dashed arrow in FIG.
Indicates the direction of movement of. Pressurized gas is press-fitted into the space between the semiconductor wafer 5 and the wafer support 1 via the fluid press-fitting means 12, and pressurizes the semiconductor wafer 5 upward. On the other hand, the roller-type sticking means 3 moves the semiconductor wafer 5 from one end to the other end in the direction indicated by the dashed arrow while pressing the tape 21 extended above the wafer support table 1 downward, The tape 21 is attached to the semiconductor wafer 5. At this time, the pressure by the above-mentioned pressurized gas that has secured the desired fluid pressure by the wafer swelling measuring means 6 and the pressing force by the above-mentioned roller-type sticking means 3 are substantially balanced, and the bending of the semiconductor wafer 5 is suppressed. To prevent the semiconductor wafer 5 from being damaged. The pressurized gas press-fitted into the space between the semiconductor wafer 5 and the wafer support 1 flows from the central portion of the wafer support 1 to the peripheral portion thereof, hits the flow path narrowing wall 14 and is substantially And is discharged below the wafer support 1. The pressing force of the roller-type sticking means 3 and the pressure of the pressurized gas substantially balance each other, thereby suppressing bending of the semiconductor wafer 5 and preventing damage to the semiconductor wafer 5. The pressurized gas press-fitted into the space between the semiconductor wafer 5 and the wafer support 1 leaks partly through a narrowed flow path between the wafer support narrowed wall 14 and the semiconductor wafer 5. The leaked pressurized gas is sucked out by the fluid sucking means 15 provided between the flow path constriction wall 14 and the support receiving portion 11 and is discharged to the space below the wafer support 1. Therefore, the above-described pressurized gas is not injected from the gap between the semiconductor wafer 5 and the support receiving portion 11, and therefore, no Karman vortex is generated here. No air bubbles are generated between the tape 21 to be adhered.

【0013】図3は、本発明に係る半導体ウェーハ用テ
ープ貼着装置において、図2に示すローラ式のテープ貼
着手段に変えて、プレス式のテープ貼着手段を用いたも
のの側断面図である。図3において、4はプレス式貼着
手段である。このプレス式貼着手段4は、プレス面が凸
状球面を有し、押圧することによりほぼ平面状に弾性変
形しうるゴム成形体等からなるプレス部材41を備えて
いる。その他の符号のものは図2における符号のものと
同一である。
FIG. 3 is a side sectional view of a tape sticking device for a semiconductor wafer according to the present invention, in which a press type tape sticking unit is used instead of the roller type tape sticking unit shown in FIG. is there. In FIG. 3, reference numeral 4 denotes a press-type sticking means. The press-type sticking means 4 has a press member 41 made of a rubber molded body or the like that has a convex spherical surface and can be elastically deformed into a substantially flat shape when pressed. Other reference numerals are the same as those in FIG.

【0014】該半導体ウェーハ用テープ貼着装置の動作
は、テープ貼着動作においてプレス式貼着手段4のプレ
ス部材41が中央部からテープ21との接触を開始し、
均等に周囲に広がり外周端に及ぶ。
The operation of the semiconductor wafer tape adhering device is as follows. In the tape adhering operation, the press member 41 of the press-type adhering means 4 starts contact with the tape 21 from the center,
Spreads uniformly around the circumference.

【0015】なお、プレス式のテープ貼着手段として、
例えば「かまぼこ状」の凸状弧面を有する剛体等からな
るプレス部材を用い、プレス工程においては1端側(テ
ープ把持手段22の側)から接触を開始し、ローリング
させながら他端側(テープ供給手段23の側)に及ぶ構
造のものでもよい。
[0015] As a pressing tape attaching means,
For example, a pressing member made of a rigid body or the like having a “camel-shaped” convex arc surface is used. In the pressing step, contact is started from one end side (the side of the tape gripping means 22), and the other end (tape) is rolled. The structure extending to the supply means 23) may be used.

【0016】図4は、図2のウェーハ支持台1の要部断
面図である。図4において、16は流体圧入用ポンプで
あり、流体圧入手段12と連通している。17はウェー
ハ支持台1の中央部において、流体圧入手段12の上方
に設けられた圧力増加室であり、この圧力増加室17は
流れ方向の距離が短い流路狭窄壁18をもって囲まれて
いる。他の符号は図2の場合と同じである。流体圧入用
ポンプ16によって圧入された流体は流路狭窄壁18に
よって流れを抑制されることによって、おおむね圧力を
維持したまま圧力増加室17に収容され、半導体ウェー
ハ5の表面のやや広い領域にわたって加圧するので、半
導体ウェーハ5への加圧力は増大し、半導体ウェーハ5
の撓みを強力に防止することができる。
FIG. 4 is a sectional view of a main part of the wafer support 1 of FIG. In FIG. 4, reference numeral 16 denotes a fluid press-fitting pump, which communicates with the fluid press-fitting means 12. Reference numeral 17 denotes a pressure increasing chamber provided at the center of the wafer support table 1 above the fluid press-fitting means 12. The pressure increasing chamber 17 is surrounded by a flow path narrowing wall 18 having a short flow direction distance. Other symbols are the same as those in FIG. The fluid pressurized by the fluid pressurizing pump 16 is suppressed by the flow path constriction wall 18, and is accommodated in the pressure increasing chamber 17 while maintaining the pressure generally, and is applied over a slightly wide area of the surface of the semiconductor wafer 5. Pressure, the pressure applied to the semiconductor wafer 5 increases, and the semiconductor wafer 5
Can be strongly prevented.

【0017】[0017]

【発明の効果】以上説明したとおり、本発明に係る半導
体ウェーハ用テープ貼着装置は、半導体を支持するウェ
ーハ支持台とウェーハ支持台の上部にテープを展延する
テープ展延手段とテープをウェーハ支持台上の半導体ウ
ェーハに貼着するテープ貼着手段を有し、上記のウェー
ハ支持台には、載置される半導体ウェーハの周に対応す
る領域に支持受部が設けられ、底面に流体圧入手段が設
けられ、上記の支持受部に沿って流体排出手段が設けら
れ、この流体排出手段と上記の支持受部との間に流路狭
窄壁が設けられ、この流路狭窄壁と上記の支持受部との
間に流体吸出手段が設けられ、流体圧入手段は流体圧入
用ポンプに連通してウェーハ支持台の中央部に圧力増加
室が設けられ、この圧力増加室は流れ方向の距離が短い
流路狭窄壁をもって囲まれており、ウェーハ支持台の支
持受部上に載置されている半導体ウェーハとウェーハ支
持台との間の空間に圧入される流体の圧力によって形成
される半導体ウェーハの膨らみを計測するウェーハ膨ら
み計測手段を有しているので、ウェーハ支持台と半導体
ウェーハとの間の空間に圧入された流体は流路狭窄壁に
阻まれて流体排出手段に効果的に導かれ、また流路狭窄
壁を超えて来た一部の流体も流体吸出手段によって吸出
されると共に、流体が上記の半導体ウェーハと支持受部
との間の空隙から噴出してカルマン渦が発生することは
なく、半導体ウェーハと粘着テープとの間に気泡が発生
することを防止することができる。
As described above, the tape sticking apparatus for a semiconductor wafer according to the present invention comprises a wafer support for supporting semiconductors, a tape spreading means for spreading the tape on the wafer support, and a tape for tape. It has a tape sticking means for sticking to the semiconductor wafer on the support table, and the wafer support table is provided with a support receiving portion in a region corresponding to the periphery of the semiconductor wafer to be mounted, and a fluid press-fit on a bottom surface. Means are provided, a fluid discharge means is provided along the support receiving portion, and a flow path constriction wall is provided between the fluid discharge means and the support reception section. Fluid suction means is provided between the support receiving portion, and the fluid press-fitting means communicates with the fluid press-fitting pump, and a pressure increasing chamber is provided at the center of the wafer support table. With short flow path constriction walls Wafer bulge that measures the bulge of a semiconductor wafer that is formed by the pressure of a fluid that is enclosed and is pressed into a space between the semiconductor wafer mounted on a support receiving portion of the wafer support and the wafer support. Since the measuring means is provided, the fluid press-fitted into the space between the wafer support and the semiconductor wafer is effectively guided to the fluid discharging means by being blocked by the flow path narrowing wall, and the flow narrowing wall is formed. Part of the fluid that has exceeded is also sucked out by the fluid sucking means, and the fluid does not erupt from the gap between the semiconductor wafer and the support receiving portion to generate Karman vortex. The generation of air bubbles between the tape and the tape can be prevented.

【0018】したがって、本発明は、半導体ウェーハの
表面の平滑性が悪く、半導体ウェーハとウェーハ支持台
の支持受部との間に空隙がある場合でも、半導体ウェー
ハと貼着されるテープとの間に気泡が発生することを防
止し、半導体ウェーハへのテープの貼着をより良好にし
てスクライビング工程におけるチップ飛散防止を可能に
する半導体ウェーハ用テープ貼着装置を提供することが
できる。
Accordingly, the present invention provides a method for manufacturing a semiconductor wafer which has a poor surface smoothness and a gap between the semiconductor wafer and a tape to be adhered even when there is a gap between the semiconductor wafer and a support receiving portion of the wafer support. The present invention can provide a semiconductor wafer tape adhering device that prevents generation of air bubbles in a semiconductor wafer and makes it possible to adhere a tape to a semiconductor wafer more favorably and to prevent chip scattering in a scribing process.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る半導体ウェーハ用テープ貼着装置
の説明図である。
FIG. 1 is an explanatory view of a semiconductor wafer tape sticking apparatus according to the present invention.

【図2】図1のウェーハ支持台、テープ展延手段及びテ
ープ貼着手段を示す詳細図である。
FIG. 2 is a detailed view showing a wafer support, a tape spreading means, and a tape sticking means of FIG. 1;

【図3】図2のテープ貼着手段の変形例を示す詳細図で
ある。
FIG. 3 is a detailed view showing a modified example of the tape attaching means of FIG. 2;

【図4】図2のウェーハ支持台の要部断面図である。FIG. 4 is a sectional view of a main part of the wafer support table of FIG. 2;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ウェーハ支持台 11 支持受部 12 流体圧入手段 13 流体排出手段 14 流路狭窄壁 15 流体吸出手段 151 流体吸出路 152 真空ポンプ 16 流体圧入用ポンプ 17 圧力増加室 18 流路狭窄壁 2 テープ展延手段 21 テープ 22 テープ把持手段 23 テープ供給手段 3 ローラ式貼着手段 4 プレス式貼着手段 41 プレス部材 5 半導体ウェーハ 6 ウェーハ膨らみ計測手段 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Wafer support stand 11 Support receiving part 12 Fluid injection means 13 Fluid discharge means 14 Flow path narrowing wall 15 Fluid suction means 151 Fluid suction path 152 Vacuum pump 16 Fluid injection pump 17 Pressure increasing chamber 18 Flow path narrowing wall 2 Tape spreading Means 21 Tape 22 Tape gripping means 23 Tape supply means 3 Roller-type bonding means 4 Press-type bonding means 41 Pressing member 5 Semiconductor wafer 6 Wafer swelling measuring means

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 半導体ウェーハ(5)を支持し、載置さ
れる半導体ウェーハ(5)の周に対応する領域に支持受
部(11)を有し、底面に流体圧入手段(12)を有
し、前記支持受部(11)に沿って流体排出手段(1
3)を有するウェーハ支持台(1)と、該ウェーハ支持
台(1)の上部にテープ(21)を展延するテープ展延
手段(2)と、前記テープ(21)を前記ウェーハ支持
台(1)上に載置されている半導体ウェーハ(5)に貼
着するテープ貼着手段とを有する半導体ウェーハ用テー
プ貼着装置において、 前記支持受部(11)と前記流体排出手段(13)との
間に流路狭窄壁(14)を有し、該流路狭窄壁(14)
と前記支持受部(11)との間に流体吸出手段(15)
を有し、前記流体圧入手段(12)は、流体圧入用ポン
プ(16)に連通して前記ウェーハ支持台(1)の中央
部に圧力増加室(17)が設けられ、該圧力増加室(1
7)は、流れ方向の距離が短い流路狭窄壁(18)をも
って囲まれており、 前記ウェーハ支持台(1)の支持受部(11)上に載置
されている半導体ウェーハ(5)と前記ウェーハ支持台
(1)との間の空間に圧入される流体の圧力によって形
成される前記半導体ウェーハ(5)の膨らみを計測する
ウェーハ膨らみ計測手段(6)を有する ことを特徴とす
る半導体ウェーハ用テープ貼着装置。
The semiconductor wafer (5) is supported, has a support receiving portion (11) in a region corresponding to the periphery of the semiconductor wafer (5) to be placed, and has a fluid press-in means (12) on a bottom surface. And a fluid discharge means (1) along the support receiving portion (11).
3) a tape supporting means (2) for spreading a tape (21) on the wafer supporting table (1), and a tape supporting means (2) for mounting the tape (21) on the wafer supporting table (1). 1) In a tape attaching device for a semiconductor wafer having a tape attaching means for attaching to a semiconductor wafer (5) placed thereon, the support receiving portion (11), the fluid discharging means (13), A flow path constriction wall (14), and the flow path constriction wall (14).
Fluid suction means (15) between the support receiving part (11)
The fluid press-fitting means (12) is provided with a pressure increasing chamber (17) at the center of the wafer support table (1) in communication with a fluid press-in pump (16). 1
7) is surrounded by a flow path constriction wall (18) having a short distance in the flow direction, and is placed on a support receiving portion (11) of the wafer support table (1).
Semiconductor wafer (5) and said wafer support
Formed by the pressure of the fluid pressed into the space between (1) and
Measuring the swelling of the semiconductor wafer (5) to be formed
A tape sticking device for semiconductor wafers, comprising a wafer swell measuring means (6) .
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