JP2912194B2 - X-ray analyzer - Google Patents

X-ray analyzer

Info

Publication number
JP2912194B2
JP2912194B2 JP7149593A JP14959395A JP2912194B2 JP 2912194 B2 JP2912194 B2 JP 2912194B2 JP 7149593 A JP7149593 A JP 7149593A JP 14959395 A JP14959395 A JP 14959395A JP 2912194 B2 JP2912194 B2 JP 2912194B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ray
sample
slit
rays
detector
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP7149593A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH08313459A (en
Inventor
智也 新井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Rigaku Corp
Original Assignee
Rigaku Industrial Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Rigaku Industrial Corp filed Critical Rigaku Industrial Corp
Priority to JP7149593A priority Critical patent/JP2912194B2/en
Publication of JPH08313459A publication Critical patent/JPH08313459A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2912194B2 publication Critical patent/JP2912194B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、試料に1次X線を照
射して、発生する2次X線を分析するために用いるX線
分析装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an X-ray analyzer for irradiating a sample with primary X-rays and analyzing generated secondary X-rays.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来のX線分析装置として、例えば、図
12に示すような装置がある。この装置において、X線
源1から発生した1次X線2が試料台3に固定された試
料4に照射され、試料4から発生した2次X線5は、発
散スリット6により発散され、弯曲分光素子7に入射さ
れて所望の特性X線8に分光され、受光スリット9で焦
点を結び、検出器10へ入射され、その強度が測定され
る。ここで、試料4は直径30mmのものが標準的に用
いられ、その大きさから、両スリット6,9の位置なら
びに弯曲分光素子7の位置および入射面の面積等が決め
られる。このように決められた条件を満たすよう、X線
源1および試料台4を有する試料室11と、発散スリッ
ト6、弯曲分光素子7、受光スリット9および検出器1
0を有する分光室12とが、連結固定されている。
2. Description of the Related Art As a conventional X-ray analyzer, for example, there is an apparatus as shown in FIG. In this apparatus, a primary X-ray 2 generated from an X-ray source 1 is irradiated on a sample 4 fixed on a sample stage 3, and a secondary X-ray 5 generated from the sample 4 is diverged by a diverging slit 6 and curved. The light is incident on the spectroscopic element 7, is separated into desired characteristic X-rays 8, is focused by the light receiving slit 9, is incident on the detector 10, and its intensity is measured. Here, the sample 4 having a diameter of 30 mm is used as a standard, and the positions of the slits 6 and 9, the position of the curved spectral element 7, the area of the incident surface, and the like are determined from the size. A sample chamber 11 having an X-ray source 1 and a sample stage 4, a divergence slit 6, a curved spectroscopic element 7, a light receiving slit 9, and a detector 1 so as to satisfy the conditions thus determined.
The spectroscopic chamber 12 having 0 is connected and fixed.

【0003】この従来の装置を使用して分析する際、分
析したい試料4が直径30mmよりも小さい場合、また
は、試料4の分析したい部分が直径30mmよりも小さ
い場合(以下、総合して分析したい面を分析面、その面
積を分析面積と呼ぶ)には、図13に示すように、試料
4と発散スリット6との間に、分析面積S1 に対応した
適切な孔径を有する視野制限ダイヤフラム13を進出さ
せ、分析面から発生した2次X線5のみをその孔から通
過させている。視野制限ダイヤフラム13は、分析面積
1 の大小に応じられるよう、複数の相異なる径の孔を
有している。
In the analysis using this conventional apparatus, when the sample 4 to be analyzed is smaller than 30 mm in diameter, or when the portion of the sample 4 to be analyzed is smaller than 30 mm in diameter (hereinafter referred to as "to be analyzed comprehensively"). analysis plane surface, the area thereof is referred to as analysis area a), as shown in FIG. 13, the view restrictor diaphragm 13 having a suitable pore size corresponding to, the analysis area S 1 between the sample 4 and the divergence slit 6 And only the secondary X-rays 5 generated from the analysis surface are passed through the hole. View limiting diaphragm 13, so that is according to the magnitude of the analytical area S 1, it has a plurality of different diameter of the hole.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところが、例えば、図
13のように視野制限ダイヤフラム13を用いた際の分
析面積S1 が、図12のように用いない際の分析面積S
0 (直径30mmより225πmm2 である)の4分の
1であったとすると、分析面から発生する2次X線の強
度も4分の1に減少する。一方、最終的に検出器10に
入射する2次X線の強度は、分析面上の1点から発散ス
リット6を見込む立体角αにも比例するが、この立体角
αについては、図13のように視野制限ダイヤフラム1
3を用いた場合と、図12のように用いない場合とにお
いて、変わりはない。結局、視野制限ダイヤフラム13
を用いると、検出器10に入射する2次X線の強度が、
4分の1に減少することになる。すなわち、視野制限ダ
イヤフラム13を用いて分析面積S1 を減少させると、
検出器10に入射する2次X線の強度が分析面積S1
比例して減少してしまい、分析面積S1 が小さくなるほ
ど得られる2次X線の強度が不足して、正確な分析が困
難になる。
However, for example, the analysis area S 1 when the visual field limiting diaphragm 13 is used as shown in FIG. 13 is different from the analysis area S 1 when it is not used as shown in FIG.
If it is one-fourth of 0 (which is 225πmm 2 from the diameter of 30 mm), the intensity of the secondary X-ray generated from the analysis surface is also reduced to one-fourth. On the other hand, the intensity of the secondary X-ray finally incident on the detector 10 is also proportional to the solid angle α that sees the divergence slit 6 from one point on the analysis surface. Field limiting diaphragm 1
There is no difference between the case where 3 is used and the case where it is not used as shown in FIG. After all, the view restriction diaphragm 13
Is used, the intensity of the secondary X-ray incident on the detector 10 becomes
It will be reduced by a factor of four. That is, when the analysis area S 1 is reduced by using the view restriction diaphragm 13,
The intensity of the secondary X-rays incident on the detector 10 will decrease in proportion to the analysis area S 1, the intensity of the secondary X-rays analysis area S 1 is obtained as the smaller it is insufficient, an accurate analysis It becomes difficult.

【0005】そこで本発明は、分析面積が小さくなって
も、得られる2次X線の強度が不足せず、正確な分析が
できるX線分析装置を提供することを目的とするもので
ある。
Accordingly, an object of the present invention is to provide an X-ray analyzer capable of performing accurate analysis without insufficient secondary X-ray intensity even if the analysis area is reduced.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項1のX線分析装置は、1次X線を発生するX
線源と、試料が固定される試料台と、前記1次X線が照
射された試料から発生する2次X線を通過させる発散ス
リットと、前記発散スリットを通過した2次X線が入射
される弯曲分光素子と、前記弯曲分光素子で回折された
2次X線が入射される検出器とを備えたX線分析装置に
おいて、前記発散スリット、弯曲分光素子および検出器
を有する2次側ユニットと、前記X線源および試料台を
有する1次側ユニットとの少なくとも一方を、前記試料
から発生して発散スリットを通過し弯曲分光素子へ向か
う2次X線の通路に沿って、他方に対し接近または離間
させる移動手段を備えている。
To achieve the above object, an X-ray analyzer according to claim 1 is an X-ray analyzer for generating primary X-rays.
A source, a sample stage on which the sample is fixed, a divergence slit for passing a secondary X-ray generated from the sample irradiated with the primary X-ray, and a secondary X-ray passing through the divergence slit are incident. An X-ray analyzer comprising a curved spectroscopic element and a detector on which the secondary X-ray diffracted by the curved spectroscopic element is incident, wherein a secondary unit having the divergent slit, the curved spectroscopic element and a detector And at least one of the primary unit having the X-ray source and the sample stage, along a path of the secondary X-rays generated from the sample, passing through the divergence slit, and going to the curved spectroscopic element, with respect to the other. A moving means for moving closer or farther is provided.

【0007】上記目的を達成するために、請求項2のX
線分析装置は、1次X線を発生するX線源と、試料が固
定される試料台と、前記1次X線が照射された試料から
発生する2次X線を通過させる絞りと、前記絞りを通過
した2次X線が入射される検出器とを備えたX線分析装
置において、前記絞りおよび検出器を有する2次側ユニ
ットと、前記X線源および試料台を有する1次側ユニッ
トとの少なくとも一方を、前記試料から発生して絞りを
通過し検出器へ向かう2次X線の通路に沿って、他方に
対し接近または離間させる移動手段を備えている。
[0007] In order to achieve the above object, the X
A X-ray source for generating primary X-rays, a sample stage on which the sample is fixed, a diaphragm for passing secondary X-rays generated from the sample irradiated with the primary X-rays, An X-ray analyzer comprising: a detector to which a secondary X-ray passing through an aperture is incident; a secondary unit having the aperture and a detector; and a primary unit having the X-ray source and a sample stage. A moving means for moving at least one of them along the path of secondary X-rays generated from the sample, passing through the aperture, and going to the detector, with respect to the other.

【0008】上記目的を達成するために、請求項3のX
線分析装置は、1次X線を発生するX線源と、前記1次
X線が照射された試料から発生する2次X線を通過させ
るスリットと、前記スリットを通過した2次X線が入射
される検出器とを備えたX線分析装置において、前記ス
リットを、前記試料から発生してスリットを通過し検出
器へ向かう2次X線の通路に沿って、前記試料に接近ま
たは離間させる移動手段を備え、分析面上の1点から前
記スリットを見込む立体角が分析面積に反比例する
[0008] In order to achieve the above object, the X
The X-ray analyzer includes an X-ray source that generates primary X-rays, a slit that allows secondary X-rays generated from the sample irradiated with the primary X-ray, and a secondary X-ray that has passed through the slit. An X-ray analyzer provided with an incident detector, wherein the slit is moved toward or away from the sample along a path of secondary X-rays generated from the sample, passing through the slit, and going to the detector. Equipped with transportation means, from one point on the analysis surface to the front
The solid angle looking into the slit is inversely proportional to the analysis area .

【0009】[0009]

【作用および効果】請求項1のX線分析装置によれば、
発散スリット、弯曲分光素子および検出器を有する2次
側ユニットと、X線源および試料台を有する1次側ユニ
ットとの少なくとも一方を、試料から発生して発散スリ
ットを通過し弯曲分光素子へ向かう2次X線の通路に沿
って、分析面積に応じて他方に対し接近または離間させ
るので、分析面積が減少しても、分析面上の1点から発
散スリットを見込む立体角が分析面積に反比例して増大
する。したがって、分析面積が小さくなっても、得られ
る2次X線の強度が不足せず、正確な分析ができる。
According to the X-ray analyzer of the first aspect,
At least one of a secondary unit having a divergence slit, a curved spectral element and a detector and a primary unit having an X-ray source and a sample stage are generated from a sample, pass through the divergent slit, and travel toward the curved spectral element. Along the path of the secondary X-ray, it approaches or separates from the other according to the analysis area, so even if the analysis area decreases, the solid angle that looks into the divergence slit from one point on the analysis surface is inversely proportional to the analysis area And increase. Therefore, even if the analysis area is small, the intensity of the obtained secondary X-ray is not insufficient, and accurate analysis can be performed.

【0010】請求項2のX線分析装置によれば、絞りお
よび検出器を有する2次側ユニットと、X線源および試
料台を有する1次側ユニットとの少なくとも一方を、試
料から発生して絞りを通過し検出器へ向かう2次X線の
通路に沿って、分析面積に応じて他方に対し接近または
離間させるので、分析面積が減少しても、分析面上の1
点から絞りを見込む立体角が分析面積に反比例して増大
する。したがって、分析面積が小さくなっても、得られ
る2次X線の強度が不足せず、正確な分析ができる。
According to the X-ray analyzer of the present invention, at least one of a secondary unit having an aperture and a detector and a primary unit having an X-ray source and a sample stage are generated from a sample. Along the path of the secondary X-rays passing through the aperture to the detector, the secondary X-rays are moved toward or away from the other depending on the analysis area.
The solid angle at which the aperture is viewed from the point increases in inverse proportion to the analysis area. Therefore, even if the analysis area is small, the intensity of the obtained secondary X-ray is not insufficient, and accurate analysis can be performed.

【0011】請求項3のX線分析装置によれば、スリッ
トを、試料から発生してスリットを通過し検出器へ向か
う2次X線の通路に沿って、試料に接近または離間させ
ので、分析面積が減少しても、分析面上の1点からス
リットを見込む立体角が分析面積に反比例して増大す
る。したがって、分析面積が小さくなっても、得られる
2次X線の強度が不足せず、正確な分析ができる。
According to X-ray analysis apparatus according to claim 3, the slit, and generated from the sample along the path of the secondary X-rays toward passing through the slit detector, since the closer or away from the sample, the analysis Even if the area decreases, the solid angle at which the slit is viewed from one point on the analysis surface increases in inverse proportion to the analysis area. Therefore, even if the analysis area is small, the intensity of the obtained secondary X-ray is not insufficient, and accurate analysis can be performed.

【0012】[0012]

【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
ながら説明する。本発明の第1の実施例のX線分析装置
は、図1に示すように、1次側ユニット14と、2次側
ユニット15と、移動手段16と、金属ベローズ17と
を備えている。1次側ユニット14は、1次X線2を発
生するX線源1と、試料4が固定される試料台3とを有
している。2次側ユニット15は、1次X線2が照射さ
れた試料4から発生する2次X線5を通過させる発散ス
リット6と、発散スリット6を通過した2次X線5が入
射される弯曲分光素子7と、弯曲分光素子7で回折され
た2次X線8を通過させる受光スリット9と、受光スリ
ット9を通過した2次X線8が入射される検出器10と
を有している。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. The X-ray analyzer according to the first embodiment of the present invention includes a primary unit 14, a secondary unit 15, a moving unit 16, and a metal bellows 17, as shown in FIG. The primary unit 14 has an X-ray source 1 for generating primary X-rays 2 and a sample stage 3 on which a sample 4 is fixed. The secondary unit 15 includes a divergence slit 6 for passing a secondary X-ray 5 generated from the sample 4 irradiated with the primary X-ray 2, and a curvature on which the secondary X-ray 5 passing through the divergence slit 6 is incident. It has a spectral element 7, a light receiving slit 9 for passing the secondary X-rays 8 diffracted by the curved spectral element 7, and a detector 10 to which the secondary X-rays 8 passed through the light receiving slit 9 are incident. .

【0013】移動手段16は、2次側ユニット15の上
部に設けられた雌ねじ部22に貫通螺合し、スライド部
40に貫通する1本のボールねじ18と、2次側ユニッ
ト15の左右に設けられたスライド部41に貫通する2
本のスライドシャフト19(1本のみ図示)と、ボール
ねじ18の一端に回転軸を連結されたモータ25と、そ
のモータ25等が取り付けられる取り付け板20と、移
動指令信号を受けてモータ25を適切に回転させる制御
手段42とを有している。
The moving means 16 is screwed into a female screw part 22 provided on the upper part of the secondary unit 15 and has one ball screw 18 penetrating through the slide part 40. 2 penetrating through the provided slide portion 41
One slide shaft 19 (only one is shown), a motor 25 having a rotating shaft connected to one end of the ball screw 18, a mounting plate 20 to which the motor 25 and the like are mounted, and a motor 25 And control means 42 for appropriately rotating.

【0014】1本のボールねじ18と2本のスライドシ
ャフト19は、いずれも、試料4から発生して発散スリ
ット6を通過し弯曲分光素子7へ向かう2次X線5の通
路に沿っており、互いに平行で、それらの軸方向IIから
みた矢視図である図2に示すように、それらの端面の中
心が、二等辺三角形の頂点の位置となるように配置され
ている。図1に戻り、ボールねじ18は、モータ25側
の約半分に端部を除いて雄ねじが形成されており、その
一端を回転軸受け21を介して1次側ユニット14の支
持部20に回転自在に支持され、2次側ユニット15の
上部に設けられたスライド部40にスライド軸受け24
を介して貫通し、2次側ユニット15の上部に設けられ
た雌ねじ部22に螺合し、他端近傍を回転軸受け23を
介して取り付け板20に回転自在に支持され、他端をモ
ータ25の回転軸に連結されている。
Each of the one ball screw 18 and the two slide shafts 19 is along the path of the secondary X-ray 5 generated from the sample 4 and passing through the diverging slit 6 toward the curved spectral element 7. As shown in FIG. 2 which is parallel to each other and is a view as viewed from the axial direction II, the centers of their end faces are arranged at the positions of the vertices of an isosceles triangle. Returning to FIG. 1, the male screw of the ball screw 18 is formed at about half of the motor 25 side except for the end, and one end of the male screw is rotatable to the support portion 20 of the primary unit 14 via the rotary bearing 21. And the slide bearing 24 provided on the slide portion 40 provided on the upper part of the secondary unit 15.
, And screwed into a female screw portion 22 provided on the upper part of the secondary unit 15, and the other end is rotatably supported by the mounting plate 20 via a rotary bearing 23, and the other end is connected to a motor 25. Is connected to the rotating shaft.

【0015】スライドシャフト19は、その一端を1次
側ユニット14にねじ止め等で固定され、2次側ユニッ
ト15の左右に設けられたスライド部41(左側の2つ
のみ図示)にスライド軸受け24を介して貫通し、他端
をねじ止め等で取り付け板20に固定されている。この
構成により、2次側ユニット15は、モータ25の回転
によって、固定された1次側ユニット14に対して、ボ
ールねじ18およびスライドシャフト19に沿って移動
自在である。金属ベローズ17は、筒状で可撓性を有
し、2次側ユニット15が移動しても、1次側ユニット
14と2次側ユニット15とを、気密を維持しつつ連結
する。
One end of the slide shaft 19 is fixed to the primary unit 14 by screwing or the like, and slide bearings 24 (only two left ones are shown) provided on the left and right sides of the secondary unit 15 are provided. And the other end is fixed to the mounting plate 20 by screwing or the like. With this configuration, the secondary unit 15 is movable along the ball screw 18 and the slide shaft 19 with respect to the fixed primary unit 14 by the rotation of the motor 25. The metal bellows 17 is tubular and flexible, and connects the primary unit 14 and the secondary unit 15 while maintaining airtightness even when the secondary unit 15 moves.

【0016】次に、第1実施例の装置の動作について説
明する。簡単のため、この装置の光学系のみを図3に示
す。分析面積S0 の標準的な大きさの試料4を分析する
際には、従来の装置と同様に、分析面上の1点から発散
スリット6を見込む立体角はαである。ここで、例え
ば、分析面積S1 がS0 の4分の1となるような分析面
を分析する際には、図1の制御手段42に手動操作で移
動指令信号を入力すると、予め設定されたプログラムに
従って、モータ25を一定量回転させ、2次側ユニット
15をボールねじ18およびスライドシャフト19に沿
って、すなわち試料4から発生して発散スリット6を通
過し弯曲分光素子7へ向かう2次X線5の通路に沿っ
て、1次側ユニット14に対し接近させる。
Next, the operation of the apparatus of the first embodiment will be described. For simplicity, only the optical system of this device is shown in FIG. When analyzing a sample 4 of a standard size having an analysis area S 0, the solid angle at which the divergence slit 6 is viewed from one point on the analysis surface is α, as in the conventional apparatus. Here, for example, when analyzing an analysis surface in which the analysis area S 1 is a quarter of S 0 , when a movement command signal is input to the control means 42 of FIG. In accordance with the program, the motor 25 is rotated by a fixed amount, and the secondary unit 15 is rotated along the ball screw 18 and the slide shaft 19, that is, the secondary unit 15 is generated from the sample 4 and passes through the divergence slit 6 toward the curved spectroscopic element 7. The primary unit 14 is approached along the path of the X-ray 5.

【0017】この状態の光学系のみを図4に示す。この
状態において、分析面から発生する2次X線の強度が4
分の1に減少する点については従来の装置と同様であ
る。しかし、第1実施例の装置においては、分析面積S
1 が前記S0 の4分の1に減少しても、分析面上の1点
から発散スリット6を見込む立体角βが分析面積に反比
例して前記αの4倍に増大する。最終的に検出器10に
入射する2次X線の強度は、分析面上の1点から発散ス
リット6を見込む立体角にも比例するから、結局、分析
面積S1 が小さくなっても、検出器10において得られ
る2次X線の強度は変わらず、正確な分析ができる。
FIG. 4 shows only the optical system in this state. In this state, the intensity of the secondary X-ray generated from the analysis surface is 4
The point that the number is reduced by a factor of 1 is the same as that of the conventional apparatus. However, in the apparatus of the first embodiment, the analysis area S
Even if 1 is reduced to one-fourth of S 0, the solid angle β that sees the divergence slit 6 from one point on the analysis surface increases four times the α in inverse proportion to the analysis area. Intensity of the secondary X-rays incident to ultimately detector 10, because also proportional to the solid angle to expect divergence slit 6 from a point on the analytical surface, eventually, be analyzed area S 1 is smaller, the detection The intensity of the secondary X-ray obtained in the vessel 10 does not change, and accurate analysis can be performed.

【0018】次に、本発明の第2実施例について説明す
る。第2実施例のX線分析装置は、図5に示すように、
1次側ユニット14と、2次側ユニット26と、移動手
段27と、金属ベローズ17とを備えている。1次側ユ
ニット14は、1次X線2を発生するX線源1と、試料
4が固定される試料台3とを有している。2次側ユニッ
ト26は、1次X線2が照射された試料4から発生する
2次X線5を通過させる絞り28と、絞り28を通過し
た2次X線5が入射される検出器29とを有している。
移動手段27は、検出器29上部に設けられた雌ねじ部
30に貫通螺合する1本のボールねじ18と、検出器2
9下部に設けられたスライド部31に貫通する2本のス
ライドシャフト19と、ボールねじ18の一端に回転軸
を連結されたモータ25と、そのモータ25等が取り付
けられる取り付け板32と、移動指令信号を受けてモー
タ25を適切に回転させる制御手段42とを有してい
る。
Next, a second embodiment of the present invention will be described. As shown in FIG. 5, the X-ray analyzer of the second embodiment
The primary unit 14, the secondary unit 26, the moving unit 27, and the metal bellows 17 are provided. The primary unit 14 has an X-ray source 1 for generating primary X-rays 2 and a sample stage 3 on which a sample 4 is fixed. The secondary unit 26 includes a stop 28 for passing the secondary X-rays 5 generated from the sample 4 irradiated with the primary X-rays 2 and a detector 29 to which the secondary X-rays 5 passing through the stop 28 are incident. And
The moving means 27 includes one ball screw 18 that is threaded through a female screw portion 30 provided above the detector 29,
9, two slide shafts 19 penetrating through a slide portion 31 provided at a lower portion, a motor 25 having a rotating shaft connected to one end of a ball screw 18, a mounting plate 32 to which the motor 25 and the like are mounted, a movement command Control means 42 for receiving the signal and rotating the motor 25 appropriately.

【0019】1本のボールねじ18と2本のスライドシ
ャフト19は、いずれも、試料4から発生して絞り28
を通過し検出器29へ向かう2次X線5の通路に沿って
おり、互いに平行で、それらの軸方向VIからみた矢視図
である図6に示すように、それらの端面の中心が、二等
辺三角形の頂点の位置となるように配置されている。図
5に戻り、ボールねじ18は、両端部を除いて雄ねじが
形成されており、その一端を回転軸受け21を介して1
次側ユニット14の支持部20に回転自在に支持され、
検出器29上部に設けられた雌ねじ部30に螺合し、他
端近傍を回転軸受け23を介して取り付け板32に回転
自在に支持され、他端をモータ25の回転軸に連結され
ている。
The one ball screw 18 and the two slide shafts 19 are both generated from the sample 4 and are
As shown in FIG. 6, which is along the path of the secondary X-rays 5 passing through and going to the detector 29 and being parallel to each other and viewed from their axial direction VI, the centers of their end faces are They are arranged at the positions of the vertices of an isosceles triangle. Returning to FIG. 5, a male screw is formed on the ball screw 18 except for both ends, and one end of the ball screw 18 is
It is rotatably supported by the support portion 20 of the next unit 14,
The other end is rotatably supported on a mounting plate 32 via a rotary bearing 23, and the other end is connected to the rotating shaft of a motor 25.

【0020】スライドシャフト19は、その一端を1次
側ユニット14にねじ止め等で固定され、検出器29下
部に設けられたスライド部31をスライド軸受け24を
介して貫通し、他端をねじ止め等で取り付け板32に固
定されている。この構成により、2次側ユニット26
は、モータ25の回転によって、固定された1次側ユニ
ット14に対して、ボールねじ18およびスライドシャ
フト19に沿って移動自在である。金属ベローズ17
は、筒状で可撓性を有し、2次側ユニット26が移動し
ても、1次側ユニット14と2次側ユニット26とを、
気密を維持しつつ連結する。
The slide shaft 19 has one end fixed to the primary unit 14 by a screw or the like, penetrates a slide portion 31 provided below the detector 29 through a slide bearing 24, and has the other end screwed. It is fixed to the mounting plate 32 by the like. With this configuration, the secondary unit 26
Is movable along the ball screw 18 and the slide shaft 19 with respect to the fixed primary unit 14 by the rotation of the motor 25. Metal bellows 17
Has a tubular shape and has flexibility, even if the secondary unit 26 moves, the primary unit 14 and the secondary unit 26
Connect while maintaining airtightness.

【0021】次に、第2実施例の装置の動作について説
明する。簡単のため、この装置の光学系のみを図7に示
す。分析面積S0 の標準的な大きさの試料4を分析する
際には、分析面上の1点から絞り28を見込む立体角は
αである。ここで、例えば、分析面積S1 がS0 の4分
の1となるような分析面を分析する際には、図5の制御
手段42に手動動作で移動指令信号を入力することによ
って、モータ25を一定量回転させ、2次側ユニット2
6をボールねじ18およびスライドシャフト19に沿っ
て、すなわち試料4から発生して絞り28を通過し検出
器29へ向かう2次X線5の通路に沿って、1次側ユニ
ット14に対し接近させる。
Next, the operation of the apparatus according to the second embodiment will be described. For simplicity, only the optical system of this device is shown in FIG. When analyzing a sample 4 of a standard size having an analysis area S 0, the solid angle at which the stop 28 is viewed from one point on the analysis surface is α. Here, for example, when analyzing an analysis surface in which the analysis area S 1 is one-fourth of S 0 , the movement command signal is manually input to the control means 42 of FIG. 25 is rotated by a fixed amount, and the secondary side unit 2
6 is brought closer to the primary unit 14 along the ball screw 18 and the slide shaft 19, that is, along the path of the secondary X-ray 5 generated from the sample 4, passing through the aperture 28 and going to the detector 29. .

【0022】この状態の光学系のみを図8に示す。この
状態において、分析面から発生する2次X線の強度が4
分の1に減少する点については従来の装置と同様であ
る。しかし、第2実施例の装置においては、分析面積が
4分の1に減少しても、分析面上の1点から絞り28を
見込む立体角βが分析面積に反比例して前記αの4倍に
増大する。最終的に検出器29に入射する2次X線の強
度は、分析面上の1点から絞り28を見込む立体角にも
比例するから、結局、分析面積S1 が小さくなっても、
検出器29において得られる2次X線の強度は変わら
ず、正確な分析ができる。
FIG. 8 shows only the optical system in this state. In this state, the intensity of the secondary X-ray generated from the analysis surface is 4
The point that the number is reduced by a factor of 1 is the same as that of the conventional apparatus. However, in the apparatus of the second embodiment, even if the analysis area is reduced to one-fourth, the solid angle β that sees the stop 28 from one point on the analysis surface is inversely proportional to the analysis area and is four times the α. To increase. Since the intensity of the secondary X-ray finally incident on the detector 29 is also proportional to the solid angle at which the diaphragm 28 is viewed from one point on the analysis surface, even if the analysis area S 1 eventually becomes smaller,
The intensity of the secondary X-ray obtained by the detector 29 does not change, and accurate analysis can be performed.

【0023】次に、本発明の第3実施例について説明す
る。第3実施例のX線分析装置は、図9に示すように、
まず、1次X線2を発生するX線源1と、試料4が固定
される試料台3と、1次X線2が照射された試料4から
発生する2次X線5を通過させるスリット33と、スリ
ット33を通過した2次X線5が入射される検出器34
とを備えている。そして、スリット33を、試料4から
発生してスリット33を通過し検出器34へ向かう2次
X線5の通路に沿って、試料4に接近または離間させる
移動手段35を備え、分析面上の1点からスリット33
を見込む立体角α,β(図10、図11)が分析面積S
0 ,S 1 (図10、図11)に反比例する
Next, a third embodiment of the present invention will be described. As shown in FIG. 9, the X-ray analyzer according to the third embodiment
First, an X-ray source 1 for generating a primary X-ray 2, a sample stage 3 on which a sample 4 is fixed, and a slit for passing a secondary X-ray 5 generated from the sample 4 irradiated with the primary X-ray 2 33 and a detector 34 to which the secondary X-ray 5 passing through the slit 33 is incident
And A moving means 35 for moving the slit 33 toward or away from the sample 4 along a path of the secondary X-ray 5 generated from the sample 4 and passing through the slit 33 toward the detector 34 is provided . Slit 33 from one point
The solid angles α and β (FIGS. 10 and 11) for which the analysis area S
0 and S 1 (FIGS. 10 and 11) .

【0024】移動手段35は、検出器34の上下におい
て、装置に取り付けられた2つのリニアモータ36と、
移動指令信号を受けて2つのリニアモータ36のロッド
37を適切に伸縮させる制御手段43とを有している。
リニアモータ36の軸方向に伸縮自在なロッド37の先
端は、スリット33を有するスリット部材38の上下に
固定されている。この構成により、スリット33は、2
つのリニアモータ36のロッド37の同時の伸縮によっ
て、試料4に対して、試料4から発生してスリット33
を通過し検出器34へ向かう2次X線の通路に沿って、
移動自在である。
The moving means 35 includes two linear motors 36 mounted on the device above and below the detector 34,
And control means 43 for receiving the movement command signal and appropriately expanding and contracting the rods 37 of the two linear motors 36.
The distal end of a rod 37 that can be extended and contracted in the axial direction of the linear motor 36 is fixed above and below a slit member 38 having a slit 33. With this configuration, the slit 33 is
Due to the simultaneous expansion and contraction of the rods 37 of the two linear motors 36, the slit 33 generated from the sample 4
Along the path of the secondary X-rays passing through
It is movable.

【0025】次に、第3実施例の装置の動作について説
明する。簡単のため、この装置の光学系のみを図10に
示す。分析面積S0 の標準的な大きさの試料4を分析す
る際には、分析面上の1点からスリット33を見込む立
体角はαである。ここで、例えば、分析面積S1 がS0
の4分の1となるような分析面を分析する際には、図9
の制御手段43に手動操作で移動指令信号を入力するこ
とによって、2本のロッド37を同時に一定量伸長さ
せ、スリット33を試料4から発生してスリット33を
通過し検出器34へ向かう2次X線の通路に沿って、試
料4に対し接近させる。
Next, the operation of the device according to the third embodiment will be described. For simplicity, only the optical system of this device is shown in FIG. When analyzing a sample 4 of a standard size having an analysis area S 0, the solid angle at which the slit 33 is viewed from one point on the analysis surface is α. Here, for example, the analysis area S 1 is S 0
When analyzing an analysis surface that is a quarter of
By manually inputting the movement command signal to the control means 43, the two rods 37 are simultaneously extended by a certain amount, and the slit 33 is generated from the sample 4, passes through the slit 33, and travels to the detector 34. The sample 4 is approached along the X-ray path.

【0026】この状態の光学系のみを図11に示す。こ
の状態において、分析面から発生する2次X線の強度が
4分の1に減少する点については従来の装置と同様であ
る。しかし、第3実施例の装置においては、分析面積が
4分の1に減少しても、分析面上の1点からスリット3
3を見込む立体角βが分析面積に反比例して前記αの4
倍に増大する。最終的に検出器34に入射する2次X線
の強度は、分析面上の1点からスリット33を見込む立
体角にも比例するから、結局、分析面積S1 が小さくな
っても、検出器34において得られる2次X線の強度は
変わらず、正確な分析ができる。
FIG. 11 shows only the optical system in this state. In this state, the point that the intensity of the secondary X-ray generated from the analysis surface is reduced to one fourth is the same as that of the conventional apparatus. However, in the apparatus of the third embodiment, even if the analysis area is reduced to one-fourth, the slit 3 is moved from one point on the analysis surface.
The solid angle β for 3 is inversely proportional to the analysis area,
Increase by a factor of two. The intensity of the secondary X-rays incident to the final detector 34, because also proportional to the one point on the analytical surface solid angle looking into the slit 33, after all, be smaller analysis area S 1, the detector The intensity of the secondary X-ray obtained at 34 does not change, and accurate analysis can be performed.

【0027】なお、第1および第2実施例では、固定さ
れた1次側ユニット14に対して、2次側ユニット1
5,26を移動させたが、逆に2次側ユニット15,2
6を固定して、それに対して、1次側ユニット14を移
動させてもよい。また、本発明が適用される試料4から
発生する2次X線5は、蛍光X線に限らず、コンプトン
散乱線にも適用可能である。
In the first and second embodiments, the secondary unit 1 is fixed to the fixed primary unit 14.
5 and 26 were moved, but conversely, the secondary units 15 and 2 were moved.
6 may be fixed, and the primary unit 14 may be moved in response thereto. Further, the secondary X-rays 5 generated from the sample 4 to which the present invention is applied are not limited to fluorescent X-rays, but are also applicable to Compton scattered rays.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1実施例のX線分析装置を示す概略
側面部分断面図である。
FIG. 1 is a schematic side partial sectional view showing an X-ray analyzer according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第1実施例のX線分析装置を示す図1
のII方向における矢視図である。
FIG. 2 is a diagram showing an X-ray analyzer according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a view in the direction of arrow II in FIG.

【図3】標準サイズの分析面を分析する際の本発明の第
1実施例のX線分析装置における光学系を示す概略側面
図である。
FIG. 3 is a schematic side view showing an optical system in the X-ray analyzer according to the first embodiment of the present invention when analyzing an analysis surface of a standard size.

【図4】標準サイズよりも小さい分析面を分析する際の
本発明の第1実施例のX線分析装置における光学系を示
す概略側面図である。
FIG. 4 is a schematic side view showing an optical system in the X-ray analyzer according to the first embodiment of the present invention when analyzing an analysis surface smaller than a standard size.

【図5】本発明の第2実施例のX線分析装置を示す概略
側面部分断面図である。
FIG. 5 is a schematic side partial sectional view showing an X-ray analyzer according to a second embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第2実施例のX線分析装置を示す図5
のVI方向における矢視図である。
FIG. 6 is a diagram showing an X-ray analyzer according to a second embodiment of the present invention.
FIG. 6 is a view taken in the direction of arrows VI in FIG.

【図7】標準サイズの分析面を分析する際の本発明の第
2実施例のX線分析装置における光学系を示す概略側面
図である。
FIG. 7 is a schematic side view showing an optical system in an X-ray analyzer according to a second embodiment of the present invention when analyzing a standard size analysis surface.

【図8】標準サイズよりも小さい分析面を分析する際の
本発明の第2実施例のX線分析装置における光学系を示
す概略側面図である。
FIG. 8 is a schematic side view showing an optical system in an X-ray analyzer according to a second embodiment of the present invention when analyzing an analysis surface smaller than a standard size.

【図9】本発明の第3実施例のX線分析装置を示す概略
側面部分断面図である。
FIG. 9 is a schematic side partial sectional view showing an X-ray analyzer according to a third embodiment of the present invention.

【図10】標準サイズの分析面を分析する際の本発明の
第3実施例のX線分析装置における光学系を示す概略側
面図である。
FIG. 10 is a schematic side view showing an optical system in an X-ray analyzer according to a third embodiment of the present invention when analyzing a standard-size analysis surface.

【図11】標準サイズよりも小さい分析面を分析する際
の本発明の第3実施例のX線分析装置における光学系を
示す概略側面図である。
FIG. 11 is a schematic side view showing an optical system in an X-ray analyzer according to a third embodiment of the present invention when analyzing an analysis surface smaller than a standard size.

【図12】標準サイズの分析面を分析する際の従来のX
線分析装置を示す概略側面部分断面図である。
FIG. 12 shows a conventional X when analyzing a standard size analysis surface.
FIG. 2 is a schematic partial side sectional view showing a line analyzer.

【図13】標準サイズよりも小さい分析面を分析する際
の従来のX線分析装置を示す概略側面部分断面図であ
る。
FIG. 13 is a schematic partial side sectional view showing a conventional X-ray analyzer when analyzing an analysis surface smaller than a standard size.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…X線源、2…1次X線、3…試料台、4…試料、5
…試料から発生する2次X線、6…発散スリット、7…
弯曲分光素子、8…弯曲分光素子で回折された2次X
線、10,29…検出器、14…1次側ユニット、1
5,26…2次側ユニット、16,27,35…移動手
段、28…絞り、33…スリット。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... X-ray source, 2 ... Primary X-ray, 3 ... Sample stage, 4 ... Sample, 5
… Secondary X-rays generated from the sample, 6 divergent slits, 7…
Curved spectroscopic element, 8 ... Secondary X diffracted by the curved spectroscopic element
Wire, 10, 29 ... detector, 14 ... primary unit, 1
5, 26 ... secondary unit, 16, 27, 35 ... moving means, 28 ... stop, 33 ... slit.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G01N 23/22 - 23/227 G21K 1/06 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 6 , DB name) G01N 23/22-23/227 G21K 1/06

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 1次X線を発生するX線源と、 試料が固定される試料台と、 前記1次X線が照射された試料から発生する2次X線を
通過させる発散スリットと、 前記発散スリットを通過した2次X線が入射される弯曲
分光素子と、 前記弯曲分光素子で回折された2次X線が入射される検
出器とを備えたX線分析装置において、 前記発散スリット、弯曲分光素子および検出器を有する
2次側ユニットと、前記X線源および試料台を有する1
次側ユニットとの少なくとも一方を、前記試料から発生
して発散スリットを通過し弯曲分光素子へ向かう2次X
線の通路に沿って、他方に対し接近または離間させる移
動手段を備えたことを特徴とするX線分析装置。
An X-ray source for generating primary X-rays, a sample stage on which a sample is fixed, a divergent slit for passing secondary X-rays generated from the sample irradiated with the primary X-rays, An X-ray analyzer, comprising: a curved spectroscopic element to which secondary X-rays passing through the diverging slit is incident; and a detector to which secondary X-rays diffracted by the curved spectroscopic element are incident. , A secondary unit having a curved spectroscopic element and a detector, and a secondary unit having the X-ray source and a sample stage.
At least one of the secondary unit and the secondary X is generated from the sample, passes through the divergence slit, and travels to the curved spectral element.
An X-ray analyzer comprising moving means for moving closer to or away from the other along a line path.
【請求項2】 1次X線を発生するX線源と、 試料が固定される試料台と、 前記1次X線が照射された試料から発生する2次X線を
通過させる絞りと、 前記絞りを通過した2次X線が入射される検出器とを備
えたX線分析装置において、 前記絞りおよび検出器を有する2次側ユニットと、前記
X線源および試料台を有する1次側ユニットとの少なく
とも一方を、前記試料から発生して絞りを通過し検出器
へ向かう2次X線の通路に沿って、他方に対し接近また
は離間させる移動手段を備えたことを特徴とするX線分
析装置。
2. An X-ray source for generating primary X-rays, a sample stage on which a sample is fixed, an aperture for passing secondary X-rays generated from the sample irradiated with the primary X-rays, An X-ray analyzer comprising: a detector to which a secondary X-ray passing through a diaphragm is incident; a secondary unit having the diaphragm and a detector; and a primary unit having the X-ray source and a sample stage. X-ray analysis characterized by comprising moving means for moving at least one of the following along a path of secondary X-rays generated from the sample, passing through the aperture, and going to the detector, with respect to or away from the other. apparatus.
【請求項3】 1次X線を発生するX線源と、 前記1次X線が照射された試料から発生する2次X線を
通過させるスリットと、 前記スリットを通過した2次X線が入射される検出器と
を備えたX線分析装置において、 前記スリットを、前記試料から発生してスリットを通過
し検出器へ向かう2次X線の通路に沿って、前記試料に
接近または離間させる移動手段を備え、分析面上の1点
から前記スリットを見込む立体角が分析面積に反比例す
ことを特徴とするX線分析装置。
3. An X-ray source for generating a primary X-ray, a slit for passing a secondary X-ray generated from a sample irradiated with the primary X-ray, and a secondary X-ray passing through the slit. An X-ray analyzer comprising a detector to be incident, wherein the slit is moved toward or away from the sample along a path of a secondary X-ray generated from the sample, passing through the slit, and going to the detector. Equipped with transportation means, one point on the analysis surface
The solid angle to see the slit from is inversely proportional to the analysis area
X-ray analysis apparatus, characterized in that that.
JP7149593A 1995-05-23 1995-05-23 X-ray analyzer Expired - Fee Related JP2912194B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7149593A JP2912194B2 (en) 1995-05-23 1995-05-23 X-ray analyzer

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7149593A JP2912194B2 (en) 1995-05-23 1995-05-23 X-ray analyzer

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH08313459A JPH08313459A (en) 1996-11-29
JP2912194B2 true JP2912194B2 (en) 1999-06-28

Family

ID=15478603

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP7149593A Expired - Fee Related JP2912194B2 (en) 1995-05-23 1995-05-23 X-ray analyzer

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2912194B2 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005241414A (en) * 2004-02-26 2005-09-08 Rigaku Corp X-ray analyzer and passage device therefor

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4785402B2 (en) * 2005-04-12 2011-10-05 エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 X-ray lens optical axis adjustment mechanism, X-ray lens optical axis adjustment method, and X-ray analyzer

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005241414A (en) * 2004-02-26 2005-09-08 Rigaku Corp X-ray analyzer and passage device therefor

Also Published As

Publication number Publication date
JPH08313459A (en) 1996-11-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5055679A (en) Surface analysis method and apparatus
US9606073B2 (en) X-ray scatterometry apparatus
EP0513776B1 (en) Instrument and method for 3-dimensional atomic arrangement observation
US6359964B1 (en) X-ray analysis apparatus including a parabolic X-ray mirror and a crystal monochromator
US6665372B2 (en) X-ray diffractometer
EP1462795A2 (en) X-Ray diffractometer for grazing incidence switchable between in-plane and out-of-plane measurements
EP1090285A2 (en) X-ray diffractometer with adjustable image distance
JPH0552446B2 (en)
JPH11502025A (en) Apparatus for simultaneous X-ray diffraction and X-ray fluorescence measurement
Thulke et al. Versatile curved crystal spectrometer for laboratory extended x‐ray absorption fine structure measurements
JP5127976B2 (en) Radiometric apparatus with variable collimator
US5285066A (en) Imaging XPS system
JP2912194B2 (en) X-ray analyzer
KR20040089115A (en) Diffractometer and method for diffraction analysis
JP6198406B2 (en) Micro diffraction method and apparatus
JP3081002B2 (en) Test object inspection device by gamma or X-ray
JPH05264479A (en) X-ray analyzer
DE4134747C2 (en) Light measuring arrangement for the detection of surface defects
US10722192B2 (en) Variable stop apparatus and computed-tomography scanner comprising a variable stop apparatus
JP3612654B2 (en) X-ray analyzer
JP2968460B2 (en) X-ray analysis method
JP2002525626A (en) X-ray analyzer under glazing emission conditions
US3308295A (en) X-ray spectrometer with means to maintain the distance between the crystal analyzer and detector fixed
JPS5957145A (en) X-ray analytical apparatus
JPH0821367B2 (en) Charged particle analyzer

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees