JP2903946B2 - Multi-chip semiconductor device - Google Patents

Multi-chip semiconductor device

Info

Publication number
JP2903946B2
JP2903946B2 JP14008393A JP14008393A JP2903946B2 JP 2903946 B2 JP2903946 B2 JP 2903946B2 JP 14008393 A JP14008393 A JP 14008393A JP 14008393 A JP14008393 A JP 14008393A JP 2903946 B2 JP2903946 B2 JP 2903946B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pad
chip
additional input
input
semiconductor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP14008393A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH06331705A (en
Inventor
一郎 吉田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
Nippon Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Electric Co Ltd filed Critical Nippon Electric Co Ltd
Priority to JP14008393A priority Critical patent/JP2903946B2/en
Publication of JPH06331705A publication Critical patent/JPH06331705A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2903946B2 publication Critical patent/JP2903946B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/0555Shape
    • H01L2224/05552Shape in top view
    • H01L2224/05554Shape in top view being square
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48225Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • H01L2224/48227Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H01L2224/491Disposition
    • H01L2224/4912Layout
    • H01L2224/49175Parallel arrangements

Landscapes

  • Tests Of Electronic Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は複数の半導体チップを1
つの基板に搭載したマルチチップ半導体装置、特に、各
半導体チップのテスト機能の改良に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention
The present invention relates to a multi-chip semiconductor device mounted on one substrate, and more particularly to an improvement in a test function of each semiconductor chip.

【0002】[0002]

【従来の技術】まず、シングルチップ(MOS)半導体
装置を図5を参照して説明する。すなわち、1つの半導
体チップ1が1つの基板(パッケージ)2に搭載されて
いる。半導体チップ1においては入力パッドP1がPチ
ャネルトランジスタQP1及びNチャネルトランジスタQ
n1よりなる入力バッファに接続され、この場合、入力
ッドP1と入力バッファ(QP1、Qn1)との間には、過
電圧(過大電圧、過少電圧)に対する保護ダイオードQ
P2、Qn2が接続されている。保護ダイオードQP2はソー
ス−ゲート間が接続されたPチャネルトランジスタであ
り、従って、入出力パッドP1の電圧がVCC+|Vthp
|(VthpはPチャネルトランジスタのしきい値電圧)
より大きくなったときに保護ダイオードQP2がオンとな
って入力パッドP1の電圧(つまり、入力バッファ(Q
P1、Qn1)の入力電圧)が高電圧になるのを防止する。
他方、保護ダイオードQn2はソース−ゲート間が接続さ
れたNチャネルトランジスタであり、従って、入力パッ
ドP1の電圧がGND−Vthn(VthnはNチャネルトラ
ンジスタのしきい値電圧)より小さくなったときに保護
ダイオードQn2がオンとなって入力パッドP1の電圧
(つまり、入力バッファ(QP1、Qn1)の入力電圧)が
低電圧になるのを防止する。この半導体チップ1の入力
パッドP1はボンディングワイヤW1によって基板2の
パッドP1'は内部配線C1によって入力ピンT1に接続
されている。
2. Description of the Related Art First, a single-chip (MOS) semiconductor device will be described with reference to FIG. That is, one semiconductor chip 1 is mounted on one substrate (package) 2. Input pad P 1 is P-channel transistor in the semiconductor chip 1 Q P1 and an N-channel transistor Q
is connected to an input buffer consisting of n1, in this case, between the input Pas <br/> head P 1 and input buffer (Q P1, Q n1), overvoltage (overvoltage, under-voltage) protection diodes Q against
P2 and Qn2 are connected. The protection diode Q P2 is a P-channel transistor having a source and a gate connected to each other, so that the voltage of the input / output pad P 1 is VCC + | V thp
| (V thp is the threshold voltage of the P-channel transistor)
When the voltage becomes larger, the protection diode Q P2 is turned on and the voltage of the input pad P 1 (that is, the input buffer (Q
The input voltage of P1 and Qn1 ) is prevented from becoming high.
On the other hand, the protection diode Q n2 source - an N-channel transistor having the gate is connected, therefore, the input pad <br/> de voltage GND-V thn (V thn of P 1 is the threshold of the N-channel transistor input pads P 1 of the voltage protection diode Q n2 when it becomes smaller than the voltage) becomes oN (i.e., the input buffer (Q P1, Q n1) input voltage) is prevented from becoming low voltage. Entry of the substrate 2 by the input <br/> pad P 1 of the semiconductor chip 1 is a bonding wire W 1
The force pad P 1 ′ is connected to the input pin T 1 by the internal wiring C 1 .

【0003】また、半導体チップ1においては、Pチャ
ネルトランジスタQP3及びNチャネルトランジスタQn3
よりなる出力バッファが出力パッドP2に接続されてい
る。この半導体チップ1の出力パッドP2'はボンディン
グワイヤW2によって基板2の出力パッドP2 に接続さ
れ、さらに、この出力パッドP2'は内部配線C2によっ
出力ピンT2に接続されている。なお、出力バッファ
(QP3、Qn3)にも、保護ダイオードが等価的に存在す
る。つまり、図6に示すごとく、CMOS構造の場合に
は、P-半導体基板に電源電圧GNDが印加され、P-
導体基板内のN+不純物層には出力バッファ(QP3、Q
n3)の出力OUTつまり出力パッドP2が接続されてい
るのでその間に形成されるPN接合ダイオードD1が低
電圧用保護ダイオードとして作用し、他方の場合には、
-ウェルに電源電圧VCCが印加されN-ウェル内のP
+不純物層には出力バッファ(QP3、Qn3)の出力OU
Tつまり出力パッドP2が接続されているのでその間に
形成されるPN接合ダイオードD2が高電圧用保護ダイ
オードとして作用する。
In the semiconductor chip 1, a P-channel transistor Q P3 and an N-channel transistor Q n3
Become more output buffers are connected to the output pad P 2. The output pad P 2 ′ of the semiconductor chip 1 is connected to the output pad P 2 of the substrate 2 by a bonding wire W 2 , and the output pad P 2 ′ is connected to the output pin T 2 by an internal wiring C 2 . . The output buffers (Q P3 , Q n3 ) also have protection diodes equivalently. That is, as shown in FIG. 6, in the case of the CMOS structure, P - is the power supply voltage GND to the semiconductor substrate is applied, P - the N + impurity layer in a semiconductor substrate output buffer (Q P3, Q
Since the output OUT, i.e. the output pads P 2 of n3) is connected to the PN junction diode D1 is formed therebetween acts as a protection diode for low-voltage, in the case of the other,
N - power supply voltage VCC is applied to the well N - P in the well
+ Output OU of output buffer (Q P3 , Q n3 ) in impurity layer
PN junction diode D2 to be formed therebetween so T clogging output pad P 2 is connected to act as a high-voltage protection diode.

【0004】このように、図5においては、半導体チッ
プ1のパッドたとえばP1と基板2のピンたとえばT1
は1対1に対応している。
Thus, in FIG. 5, the pads, for example, P 1 of the semiconductor chip 1 and the pins, for example, T 1 of the substrate 2 have a one-to-one correspondence.

【0005】次に、図5のシングルチップ半導体装置の
オープン・ショートテストたとえば半導体チップ1の
ピンP1と基板2の入力ピンT1との接続をテストする
場合について説明する。まず、半導体チップ1の電源V
CC及びGNDを図示しないピンを介して0Vとする。
次に、入力ピンT1を図7の(A)に示すダイオードブ
リッジ回路の端子Cに接続し、出力ピンT2を0Vにす
る。この状態で、ダイオードブリッジ回路の端子Aに2
V程度を印加し、端子B、C間に300μA程度の定電
流を流す(参照:図7の(B))。
[0005] Next, the input of the single-chip open-short test for example, a semiconductor chip 1 of the semiconductor device shown in FIG. 5
A case where the connection between the force pin P 1 and the input pin T 1 of the substrate 2 is tested will be described. First, the power supply V of the semiconductor chip 1
CC and GND are set to 0 V via a pin (not shown).
Next, connect the input pin T 1 to the terminal C of the diode bridge circuit shown in FIG. 7 (A), the output pin T 2 to 0V. In this state, 2 is connected to the terminal A of the diode bridge circuit.
A voltage of about V is applied, and a constant current of about 300 μA flows between the terminals B and C (see FIG. 7B).

【0006】図5の回路のオープン・ショートの異常が
なければ、保護ダイオードとしてのNチャネトランジス
タQn2がオンとなり、この結果、入力ピンT1の電圧つ
まりダイオードブリッジ回路の端子Cの電圧はNチャネ
トランジスタのしきい値電圧−Vthnたとえば−0.6
Vとなる。
[0006] If abnormality of open short circuit in FIG. 5, N channelization transistor Q n2 of a protective diode is turned on, the result, the voltage of the terminal C of the voltage, i.e. the diode bridge circuit on the input pin T 1 is N Channel transistor threshold voltage -V thn, for example -0.6
V.

【0007】図5の入力ピンT1出力ピンT2との間が
ショートしていれば、出力ピンT2の電圧が0Vである
ので、入力ピンT1の電圧つまりダイオードブリッジ回
路の端子Cの電圧は0Vとなる。また、図5の入力ピン
1入力パッドP1との間がオープンであれば、入力
ンT1の電圧つまりダイオードブリッジ回路の端子Cの
電圧は端子Aの電圧つまり−2Vとなる。
If the input pin T 1 and the output pin T 2 shown in FIG. 5 are short-circuited, the voltage of the output pin T 2 is 0 V. Therefore, the voltage of the input pin T 1 , that is, the terminal C of the diode bridge circuit. Becomes 0V. Further, if the open between the input pin T 1 and the input pad P 1 in FIG. 5, the voltage of the terminal C of the voltage, i.e. the diode bridge circuit on the input pin <br/> down T 1 is the voltage at terminal A, that - 2V.

【0008】このように、ダイオードブリッジ回路の端
子Cの電圧が−0.6V、0V、−2Vのいずれかにあ
ることを判別することにより入力ピンT1入力パッド
1との接続テストを行える。出力ピンT2出力パッド
2との説俗テストも図6に示すような内在する保護ダ
イオードD1を利用して同様に行える。
As described above, the connection test between the input pin T 1 and the input pad P 1 is performed by judging that the voltage of the terminal C of the diode bridge circuit is any one of −0.6 V, 0 V, and −2 V. I can do it. It performed in the same manner by using a protection diode D1 inherent Setsuzoku also tested as shown in Figure 6 the output pin T 2 and the output pad P 2.

【0009】次に、マルチチップ半導体装置を図8を参
照して説明する。すなわち、基板2には複数たとえば3
つの半導体チップ1−1、1−2、1−3が搭載されて
いる。各半導体チップ1−1、1−2、1−3のパッド
(図示せず)は基板2のパッドP'にボンディングワイ
ヤ(図示せず)によって接続され、基板2のパッドP'
は内部配線CによってピンTに接続されている。このよ
うなマルチチップ半導体装置において、図示のごとく、
複数の半導体チップのパッドが基板2の1つのピンTに
接続されていることがある。
Next, a multi-chip semiconductor device will be described with reference to FIG. That is, a plurality of substrates, for example, 3
Semiconductor chips 1-1, 1-2, and 1-3 are mounted. Each semiconductor chip 1-1, 1-2, and 1-3 of the pad (not shown) pad P of the substrate 2 'is connected to the bonding wire (not shown), the substrate 2 pads P'
Is connected to the pin T by the internal wiring C. In such a multi-chip semiconductor device, as shown in FIG.
Pads of a plurality of semiconductor chips may be connected to one pin T of the substrate 2 in some cases.

【0010】図9は図8の部分詳細図であって、2つの
半導体チップ1−1、1−2のパッドが1つのピンに接
続されている場合を示す。すなわち、半導体チップ1−
1の入力バッファ(QP1、Qn1)に接続された入力パッ
ドP1と半導体チップ1−2の出力バッファ(QP3、Q
n3)に接続された出力パッドP2が基板2の入力パッド
1'、出力パッド2'及び内部配線C1を介して1つの
入出力ピンT1に接続されている。
FIG. 9 is a partially detailed view of FIG. 8, showing a case where pads of two semiconductor chips 1-1 and 1-2 are connected to one pin . That is, the semiconductor chip 1-
An output buffer of the first input buffer (Q P1, Q n1) connected input pad to <br/> de P 1 and the semiconductor chip 1-2 (Q P3, Q
connected output pads P 2 to n3) is connected to the input pad P 1 ', the output pad P 2' and one of the input and output pins T 1 via the internal wiring C 1 of the substrate 2.

【0011】[0011]

【発明が解決しようといている課題】しかしながら、図
9に示す入出力ピンT1入力パッドP1出力パッドP
2との接続テストを図7に示すダイオードブリッジ回路
によって行うと、入出力ピンT1入力パッドP1との間
がオープンでありかつ入出力ピンT1出力パッドP2
の間がオープンである場合のみオープンと判別できる
が、いずれか一方のみがオープンの場合には正常に接続
されて半導体チップの保護ダイオードがオンするのでオ
ープンと判別できないという課題がある。
An invention has had, however, input and output pins T 1 to the input pad P 1 shown in FIG. 9, the output pad P
When performed by a diode bridge circuit showing a connection test between 2 to 7, open between the input and output pins T 1 is open between the input pad P 1 and input and output pins T 1 and the output pad P 2 is Can be determined to be open only when, but if only one of them is open, there is a problem that it cannot be determined to be open because it is normally connected and the protection diode of the semiconductor chip is turned on.

【0012】なお、特定の半導体チップを不活性にする
ECIPTテスト構造体と呼ばれるものがあるが(参
照:特開昭64−10184号公報)、このようなテス
ト構造体を半導体チップ内に設けても個々の半導体チッ
プのオープン・ショートテストは不可能である。従っ
て、本発明の目的は、個々の半導体チップのオープン・
ショートテストが可能なマルチチップ半導体装置を提供
することにある。
There is a so-called ECIPT test structure for inactivating a specific semiconductor chip (see Japanese Patent Application Laid-Open No. 64-10184). Such a test structure is provided in a semiconductor chip. However, open / short tests of individual semiconductor chips are not possible. Therefore, the object of the present invention is to open individual semiconductor chips.
An object of the present invention is to provide a multichip semiconductor device capable of performing a short test.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】上述の課題を解決するた
めの手段は図1に示される。すなわち、各半導体チップ
1−1、1−2には、内部回路に接続されたパッド
1、P2、このパッド1、P2と電源線GNDとの間に
接続されたスイッチングトランジスタQn4、Qn6を制御
するための付加的パッド3、P4を設けている。他方、
基板2には、各半導体チップ1−1、1−2のパッド
1、P2に接続されたパッド1'、P2'、各半導体チップ
1−1、1−2の付加的パッド3、P4に接続された付
加的パッド3'、P4'、これらパッド1'、P2'に接続
されたピン1及び付加的パッド3'、P4'に接続され
たテストピンT3 、T4 を設けている。
Means for Solving the Problems To solve the above problems,
The means for this is shown in FIG. That is, each semiconductor chip
1-1 and 1-2 are connected to an internal circuit.pad
P1, PTwo,thispadP1, PTwoBetween the power line GND
Connected switching transistor Qn4, Qn6Control
Additional topadPThree, PFourIs provided. On the other hand,
The substrate 2 has the semiconductor chips 1-1 and 1-2.padP
1, PTwoConnected topadP1', PTwo', Each semiconductor chip
1-1, 1-2 additionalpadPThree, PFourAttached to
AdditivepadPThree', PFour',thesepadP1', PTwoConnect to '
Was donepinT1And additionalpadPThree', PFour'Connected to
Test pin TThree, TFourIs provided.

【0014】[0014]

【作用】上述の手段によれば、各半導体チップ1−1、
1−2に設けられたスイッチングトランジスタQn4、Q
n6をオン、オフ制御することにより、半導体チップの各
入出力部を活性化、非活性化する。
According to the above-mentioned means, each semiconductor chip 1-1,
1-2, the switching transistors Q n4 , Q
By controlling on and off of n6 , each input / output unit of the semiconductor chip is activated and deactivated.

【0015】[0015]

【実施例】図2は本発明に係るマルチチップ半導体装置
の第1の実施例を示す。図2においては、図9の構成要
素に、スイッチとしてのNチャネルトランジスタQn4
保護ダイオードとしてのPチャネルトランジスタQp5
びNチャネルトランジスタQn5入力パッド3
3'、テストピンT3、スイッチとしてのNチャネルト
ランジスタQn6、保護ダイオードとしてのPチャネルト
ランジスタQp7及びNチャネルトランジスタQn7入力
パッド4、P4'、テストピンT4が付加されている。す
なわち、半導体チップ1−1の入力パッドP3の電圧に
よりトランジスタQn4をオン、オフ制御するものであ
り、この入力パッドP3は基板2の入力パッドP3'にボ
ンディングワイヤW3によって接続され、さらに内部配
線C3によってテストピンT3に接続されている。同様
に、半導体チップ1−2の入力パッドP4の電圧により
トランジスタQn6をオン、オフ制御するものであり、こ
入力パッドP4は基板2の入力パッドP4'にボンディ
ングワイヤW4によって接続され、さらに内部配線C4
よってテストピンT4に接続されている。この場合、
パッドP3の過電圧を防止するために保護ダイオード
p5、Qn5が設けられ、入力パッドP4の過電圧を防止
するために保護ダイオードQp7、Qn7が設けられてい
る。
FIG. 2 shows a first embodiment of a multichip semiconductor device according to the present invention. In FIG. 2, the components of FIG. 9 include an N-channel transistor Q n4 as a switch,
P-channel transistor Q p5 and N-channel transistor Q n5 as protection diodes, input pad P 3 ,
P 3 ′, test pin T 3 , N-channel transistor Q n6 as a switch, P-channel transistor Q p7 and N-channel transistor Q n7 as protection diodes, input
Pads P 4 and P 4 ′ and a test pin T 4 are added. That is, turning on the transistor Q n4 by the voltage of the input pad P 3 of the semiconductor chip 1-1 is intended to off control, the input pad P 3 are connected by a bonding wire W 3 to the input pad P 3 of the substrate 2 ' It is further connected to the test pin T 3 by internal wiring C 3. Similarly, on the transistor Q n6 by the voltage of the input pad P 4 of the semiconductor chip 1-2 is intended to off control, connect the input pad P 4 to the input pad P 4 'of the substrate 2 by a bonding wire W 4 is are connected to the test pin T 4 further by internal wiring C 4. In this case, the input
Protection diodes Q p5, Q n5 is provided to prevent the overvoltage of the power pad P 3, the protection diode Q p7, Q n7 is provided to prevent over-voltage of the input pad P 4.

【0016】従って、図2の半導体チップ1−1の入力
パッドP1と基板2の入出力ピンT1とのオープンテスト
を行う場合、テストピンT3をハイレベルにし、テスト
ピンT4、電源VCC、GNDを0Vとし、入出力ピン
1に適当な電圧たとえば2〜3V(トランジスタQn4
のオン抵抗を約3KΩとした場合)を印加させる。これ
により、トランジスタQn4をオンにし、トランジスタQ
n6をオフにする。この結果、半導体チップ1−1の入出
力パッドP1と基板2の入出力ピンT1との間に異常がな
ければ、トランジスタQn4のドレイン−ソース間に流れ
る電流たとえば約1mAを、入出力ピンT1→入力ピン
1'→ボンディングワイヤW1入力パッドP1→トラン
ジスタQn4→GNDの経路において、観測できる。つま
り、トランジスタQn6がオフしているので半導体チップ
1−1のみのオープンテストが可能となる。
[0016] Therefore, when performing open test the input and output pins T 1 of the input <br/> pads P 1 and the substrate 2 of the semiconductor chip 11 of FIG. 2, the test pin T 3 to a high level, the test pins T 4, the power supply VCC, the GND and 0V, appropriate voltage for example 2~3V to the input and output pins T 1 (transistor Q n4
(When the on-resistance of the substrate is about 3 KΩ). As a result, the transistor Q n4 is turned on, and the transistor Q n4 is turned on.
Turn off n6 . As a result, if there is no abnormality between the input and output pins T 1 of the input-output pads P 1 and the substrate 2 of the semiconductor chip 1-1, the transistor Q n4 drain - the current example, about 1mA flows between the source, input and output It can be observed along the route of pin T 1 → input pin P 1 ′ → bonding wire W 1input pad P 1 → transistor Q n4 → GND. That is, since the transistor Qn6 is off, an open test of only the semiconductor chip 1-1 can be performed.

【0017】同様に、図2の半導体チップ1−2の出力
パッドP2 と基板2の入出力ピンT1 とのオープンテス
トを行う場合、テストピンT4 をハイレベルにし、テス
トピンT3 、電源VCC、GNDを0Vとし、入出力ピ
ンT1 に適当な電圧たとえば2〜3Vを印加させる。こ
れにより、トランジスタQn6をオンにし、トランジスタ
n4をオフにする。この結果、半導体チップ1−2の
パッドP2 と基板2の入出力ピンT1 との間に異常が
なければ、トランジスタQn6のドレイン−ソース間に流
れる電流たとえば約1mAを、入出力ピンT1 出力
ッドP2'→ボンディングワイヤW2 出力パッドP2
トランジスタQn6→GNDの径路において、観測でき
る。つまり、トランジスタQn4がオフしているので半導
体チップ1−2のみのオープンテストが可能となる。な
お、一般に、半導体製造メーカにおいては、半導体装置
テストはLSIテスタによって実施されている。LSI
テスタは、各端子毎の電圧印加とその端子に流れる電流
値測定との同時実施を基本機能として有している。従っ
て、特別な試験装置を追加することなく、本テストの実
施は可能である。
[0017] Similarly, when performing open test the input and output pins T 1 of the output <br/> pad P 2 and the substrate 2 of the semiconductor chip 1-2 of FIG. 2, the test pin T 4 to a high level, the test The pin T 3 , the power supplies VCC and GND are set to 0 V, and an appropriate voltage, for example, 2 to 3 V is applied to the input / output pin T 1 . As a result, the transistor Q n6 is turned on and the transistor Q n4 is turned off. As a result, the semiconductor chip 1-2 is ejected.
If there is no abnormality between the input and output pins T 1 of the power pad P 2 and the substrate 2, the drain of the transistor Q n6 - the current example, about 1mA flows between the source, input pins T 1output path <br/> head P 2 '→ bonding wire W 2output pad P 2
It can be observed on the path of the transistor Q n6 → GND. That is, since the transistor Qn4 is off, an open test of only the semiconductor chip 1-2 can be performed. In general, a semiconductor manufacturer performs a semiconductor device test using an LSI tester. LSI
The tester has, as its basic functions, simultaneous application of voltage application to each terminal and measurement of the current flowing through the terminal. Therefore, this test can be performed without adding a special test device.

【0018】また、図2のマルチチップ半導体装置を図
7に示すテスト回路でオープンテストを行う場合につい
て考察すると、テストピンT3 をハイレベル、テストピ
ンT4 を0Vとし、また、電源VCC及びGNDを0V
とする。この状態で図7の(A)に示すダイオードブリ
ッジ回路の端子Cと入出力ピンT1 に接続し、端子Aに
−2V程度を印加し、端子B、C間に300μA程度の
定電流を流す(参照:図7の(B))。この結果、図2
の入出力ピンT1 と半導体チップ1−1の入力パッドP
1 との間に異常がなければ、トランジスタQn4がオンで
あるので、入出力ピンT1 の電圧つまりダイオードブリ
ッジ回路の端子の電圧は0Vとなる。他方、図2の入出
力ピンT1 入力パッドP1 との間がオープンであれ
ば、入出力ピンT1 の電圧つまりダイオードブリッジ回
路の端子Cの電圧は端子Aの電圧つまり−2Vとなる。
このように、ダイオードブリッジ回路の端子Cの電圧が
0V、−2Vのいずれかにあることを判別することによ
り入出力ピンT1 と半導体チップ1−1の入力パッドP
1 との接続テストを行える。
[0018] Considering the case of performing open test in the test circuit shown in FIG. 7 the multi-chip semiconductor device in FIG. 2, the test pin T 3 to a high level, the test pin T 4 and 0V, also the power supply VCC and GND at 0V
And Connect one state to the diode bridge circuit terminal C and output pins T 1 of the shown in FIG. 7 (A), by applying a degree -2V to the terminal A, supplying a constant current of about 300μA terminal B, and between C (Reference: FIG. 7B). As a result, FIG.
Input pads P of the input and output pins T 1 and the semiconductor chip 1-1
If there is no abnormality between the 1, the transistor Q n4 is on, the voltage at the terminal of the voltage, i.e. the diode bridge circuit of the input and output pins T 1 becomes 0V. On the other hand, if the open between the input and output pins T 1 to the input pad P 1 in FIG. 2, the voltage of the terminal C of the voltage, i.e. the diode bridge circuit of the input and output pins T 1 is a voltage clogging -2V terminal A .
Thus, input pads P of the input and output pins T 1 and the semiconductor chip 1-1 by the voltage of the terminal C of the diode bridge circuit is determined that there 0V, in any of -2V
Test connection with 1 .

【0019】同様に、テストピンT4 をハイレベル、テ
ストピンT3 を0Vとし、また、電源VCC及びGND
を0Vとすると、ダイオードブリッジ回路の端子Cの電
圧が0V、−2Vのいずれかにあることを判別すること
により入出力ピンT1 と半導体チップ1−2の出力パッ
ドP2 との接続テストを行える。
Similarly, the test pin T 4 is set to a high level, the test pin T 3 is set to 0 V, and the power supply VCC and GND are
Is 0 V, the input / output pin T 1 and the output pad P 2 of the semiconductor chip 1-2 are determined by determining whether the voltage of the terminal C of the diode bridge circuit is at 0 V or −2 V. Connection test with

【0020】図3は本発明に係るマルチチップ半導体装
置の第2の実施例を示す。図3においては、図2におけ
る保護ダイオードとしてのNチャネルトランジスタQn2
のゲートを出力パッドP3 に接続せしめ、図2のNチャ
ネルトランジスタQn4をも兼用せしめたものである。こ
れにより、半導体チップ1−1の素子数を減少できる。
なお、出力バッファ(QP3、Qn3)に内在する保護ダイ
オードの場合には(参照:図6)、このような保護ダイ
オードをスイッチングトランジスタに兼用できない。図
3のマルチチップ半導体装置のオープンテスト動作は図
2のマルチチップ半導体装置のオープンテスト動作と全
く同一であるので省略する。
FIG. 3 shows a second embodiment of the multichip semiconductor device according to the present invention. 3, an N-channel transistor Q n2 as a protection diode in FIG.
Allowed connection to the gate to the output pad P 3, in which was allowed also used the N-channel transistor Q n4 in FIG. Thereby, the number of elements of the semiconductor chip 1-1 can be reduced.
In the case of a protection diode included in the output buffer (Q P3 , Q n3 ) (see FIG. 6), such a protection diode cannot be used as a switching transistor. The open test operation of the multi-chip semiconductor device of FIG. 3 is exactly the same as the open test operation of the multi-chip semiconductor device of FIG.

【0021】図4はマルチチップ半導体装置のテストフ
ローを示す図である。まず、ステップ401において、
シングルチップ半導体装置と同様にショートテストを行
う。この場合、すべてのテストピンたとえばT3 、T4
を0Vとする。この結果、ショートが検出されればリペ
アステップに進み、ショートが検出されなければステッ
プ402に進む。
FIG. 4 is a diagram showing a test flow of the multi-chip semiconductor device. First, in step 401,
A short test is performed as in the case of the single-chip semiconductor device. In this case, all test pins such as T 3 , T 4
Is set to 0V. As a result, if a short circuit is detected, the process proceeds to a repair step, and if a short circuit is not detected, the process proceeds to step 402.

【0022】ステップ402では、シングルチップ半導
体装置と同様に、オープンテストを行う。この場合に
も、すべてのテストピンたとえばT3 、T4 を0Vとす
る。これにより、基板の入出力ピンとその入出力ピンに
接続されている複数の半導体チップのパッドとの間です
べての接続がオープンである場合に不良として検出さ
れ、また、基板の入出力ピンとその入出力ピンに接続さ
れている1つの半導体チップのパッドとの間でその接続
がオープンである場合に不良として検出される。この結
果、オープンが検出されればリペアステップに進み、オ
ープンが検出されなければ、ステップ403に進む。
In step 402, an open test is performed as in the case of the single-chip semiconductor device. Also in this case, all test pins, for example, T 3 and T 4 are set to 0V. As a result, when all the connections between the input / output pins of the board and the pads of the plurality of semiconductor chips connected to the input / output pins are open, the connection is detected as a failure, and the input / output pins of the board and the input / output pins are not detected. If the connection with the pad of one semiconductor chip connected to the output pin is open, it is detected as defective. As a result, if an open is detected, the process proceeds to a repair step. If no open is detected, the process proceeds to step 403.

【0023】ステップ403では、本発明によって設け
られたテストピンたとえばT3 、T4 を用いてオープン
テストを行う。つまり、特定のテストピンをハイレベル
にし、他のテストピンを0Vとすることにより、基板の
入出力ピンとその入出力ピンに接続されている複数の半
導体チップのパッドとの接続において、特定の接続にお
けるオープンテストを行う。この結果、オープンが検出
されれば、リペアステップに進み、オープンが検出され
なければファンクションテストに進む。
In step 403, an open test is performed using test pins provided by the present invention, for example, T 3 and T 4 . That is, by setting a specific test pin to a high level and setting the other test pins to 0 V, a specific connection is established between the input / output pins of the substrate and the pads of a plurality of semiconductor chips connected to the input / output pins. Perform an open test in. As a result, if an open is detected, the procedure proceeds to a repair step. If no open is detected, the procedure proceeds to a function test.

【0024】[0024]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、マ
ルチチップ半導体装置に搭載された複数の半導体チップ
の個々に対してオープンテストを行うことができる。
As described above, according to the present invention, an open test can be performed on each of a plurality of semiconductor chips mounted on a multi-chip semiconductor device.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の基本構成を示す回路図である。FIG. 1 is a circuit diagram showing a basic configuration of the present invention.

【図2】本発明に係るマルチチップ半導体装置の第1の
実施例を示す回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a first embodiment of the multichip semiconductor device according to the present invention.

【図3】本発明に係るマルチチップ半導体装置の第2の
実施例を示す回路図である。
FIG. 3 is a circuit diagram showing a second embodiment of the multichip semiconductor device according to the present invention.

【図4】本発明に係るマルチチップ半導体装置のテスト
フローである。
FIG. 4 is a test flow of the multichip semiconductor device according to the present invention.

【図5】従来のシングルチップ半導体装置を示す回路図
である。
FIG. 5 is a circuit diagram showing a conventional single-chip semiconductor device.

【図6】図5の出力バッファを示す断面図である。FIG. 6 is a sectional view showing the output buffer of FIG. 5;

【図7】オープン・ショートテスト回路を示す回路図で
ある。
FIG. 7 is a circuit diagram showing an open / short test circuit.

【図8】従来のマルチチップ半導体装置を示す図であ
る。
FIG. 8 is a diagram showing a conventional multi-chip semiconductor device.

【図9】図8の詳細な部分回路図である。FIG. 9 is a detailed partial circuit diagram of FIG. 8;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,1−1,1−2…半導体チップ 2…基板 QP1,Qn1 …入力バッファ QP2,Qn2 …保護ダイオード QP3,Qn3 …出力バッファ Qn4…スイッチングトランジスタ QP5,Qn5 …保護ダイオード Qn6…スイッチングトランジスタ QP7,Qn7 …保護ダイオード P1 1 '入力パッド W1、W2、W3、W4…ボンディングワイヤ 2 、P2'…出力パッド C1、C2、C3、C4…内部配線 T1入力ピン(入出力ピン)2出力ピン3、T4…テストピン1, 1-1, 1-2 ... semiconductor chip 2 ... substrate Q P1 , Q n1 ... input buffer Q P2 , Q n2 ... protection diode Q P3 , Q n3 ... output buffer Q n4 ... switching transistor Q P5 , Q n5 ... protection diodes Q n6 ... switching transistor Q P7, Q n7 ... protection diode P 1, P 1 '... input pad W 1, W 2, W 3 , W 4 ... bonding wire P 2, P 2' ... output pad C 1, C 2 , C 3 , C 4 ... internal wiring T 1 ... input pin (input / output pin) T 2 ... output pin T 3 , T 4 ... test pin

Claims (8)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 複数の半導体チップ(1−1、1−2)
を1つの基板(2)上に搭載したマルチチップ半導体装
置において、 前記各半導体チップは、内部回路に接続された第1のパ
ッド(P1 、P2)と、該第1のパッドと電源線(GN
D)との間に接続されたスイッチングトランジスタ(Q
n4、Qn6)と、該スイッチングトランジスタを制御する
ための第1の付加的入力パッド(P3 、P4)とを具備
し、 前記基板は、前記各半導体チップの第1のパッドに接続
された第2のパッド(P1'、P2')と、前記各半導体チ
ップの第1の付加的入力パッドに接続された第2の付加
入力パッド(P3'、P4')と、前記第2のパッド(P
1'、P2')に接続された入出力ピン(T1)と、前記
2の付加的入力パッドに接続されたテストピン(T3
4 )とを具備することを特徴とするマルチチップ半導
体装置。
A plurality of semiconductor chips (1-1, 1-2)
In a multi-chip semiconductor device having the semiconductor chip mounted on a single substrate (2), wherein each of the semiconductor chips is connected to a first chip connected to an internal circuit.
Head and (P 1, P 2), said first pad and a power supply line (GN
D) and a switching transistor (Q
n4, and Q n6), and a first additional input pad for controlling the switching transistor (P 3, P 4), the substrate is connected the to the first pad of each semiconductor chip A second pad (P 1 ′, P 2 ′) and a second additional input pad (P 3 ′, P 4 ′) connected to the first additional input pad of each semiconductor chip; The second pad (P
1 ', P 2' and output pins connected to) (T 1), wherein the
Test pins connected to the two additional input pads (T 3 ,
T 4 ).
【請求項2】 前記スイッチングトランジスタは過電圧
保護ダイオードをも兼用している請求項1に記載のマル
チチップ半導体装置。
2. The multi-chip semiconductor device according to claim 1, wherein said switching transistor also serves as an overvoltage protection diode.
【請求項3】 複数の半導体チップ(1−1,1−2)
を1つの基板(2)上に搭載したマルチチップ半導体装
置において、 前記各半導体チップは、内部回路に接続された第1の
ッド(P1 、P2)と、該第1のパッドと電源線(GN
D)との間に接続されたスイッチングトランジスタ(Q
n4、Qn6)と、該スイッチングトランジスタのゲートに
接続された第1の付加的入力パッド(P3 、P4)とを
具備し、 前記基板は、前記各半導体チップの第1のパッドにボン
ディングワイヤ(W1,W2)により接続された第2のパ
ッド(P1'、P2')と、前記各半導体チップの第1の
加的入力パッドにボンディングワイヤ(W3,W4)によ
り接続された第2の付加的入力パッド(P3'、P4')
と、前記第2のパッドに接続された入出力ピン(T1
と、前記第2の付加的入力パッドに配線パターン
(C3、C4)により接続されたテストピン(T3
4 )とを具備することを特徴とするマルチチップ半導
体装置。
3. A plurality of semiconductor chips (1-1, 1-2).
In multi-chip devices mounted on a single substrate (2), each semiconductor chip, the first path <br/> head connected to the internal circuit (P 1, P 2), said first 1 pad and power supply line (GN
D) and a switching transistor (Q
n4, and Q n6), a first additional input pad (P 3, P 4 connected to the gate of the switching transistor); and a, the substrate is bonded to the first pad of each semiconductor chip The second path connected by wires (W 1 , W 2 )
Head (P 1 ', P 2' ) , a second additional input said connected by a first bonding wire with <br/> additive input pads of the semiconductor chips (W 3, W 4) Pad (P 3 ', P 4 ')
And an input / output pin (T 1 ) connected to the second pad.
And test pins (T 3 , C 3 ) connected to the second additional input pad by a wiring pattern (C 3 , C 4 ).
T 4 ).
【請求項4】 前記スイッチングトランジスタは過電圧
保護ダイオードをも兼用している請求項3に記載のマル
チチップ半導体装置。
4. The multi-chip semiconductor device according to claim 3, wherein said switching transistor also serves as an overvoltage protection diode.
【請求項5】 複数の半導体チップ(1−1、1−2)
を1つの基板(2)上に搭載したマルチチップ半導体装
置において、 前記各半導体チップは、バッファ(Qp1、Qn1)と、過
電圧保護ダイオード(Qp2、Qn2)と、前記バッファ及
び前記過電圧ダイオードに接続された第1のパッド(P
1 、P2)と、該第1のパッドと電源線(GND)との
間に接続されたスイッチングトランジスタ(Qn4
n6)と、該スイッチングトランジスタのゲートに接続
された第1の付加的入力パッド(P3 、P4)とを具備
し、 前記基板は、前記各半導体チップの第1のパッドに接続
された第2のパッド(P1'、P2')と、前記各半導体チ
ップの第1の付加的入力パッドに接続された第2の付加
入力パッド(P3'、P4')と、前記第2のパッドに接
続された入出力ピン(T1)と、前記第2の付加的入力
パッドに接続されたテストピン(T3 、T4 )とを具備
することを特徴とするマルチチップ半導体装置。
5. A plurality of semiconductor chips (1-1, 1-2)
In multi-chip devices mounted on a single substrate (2), each semiconductor chip includes a buffer (Q p1, Q n1), and overvoltage protection diode (Q p2, Q n2), the buffer and the overvoltage The first pad (P
1, P 2) and the switching transistor (Q n4 connected between said first pad and the power supply line (GND),
Q n6 ), and a first additional input pad (P 3 , P 4 ) connected to the gate of the switching transistor, wherein the substrate is connected to a first pad of each of the semiconductor chips. A second pad (P 1 ′, P 2 ′), a second additional input pad (P 3 ′, P 4 ′) connected to a first additional input pad of each semiconductor chip; input and output pins connected to the second pad (T 1), and characterized by comprising the said connected test pin to a second additional input <br/> pads (T 3, T 4) Multi-chip semiconductor device.
【請求項6】 複数の半導体チップ(1−1、1−2)
を1つの基板(2)上に搭載したマルチチップ半導体装
置において、 前記各半導体チップは、バツファ(Qp1、Qn1)と、該
バツファに接続された第1のパッド(P1、P2)と、該
第1のパッドと電源線(GND)との間に接続されかつ
オフ状態のときに過電圧保護ダイオードとして作用する
スイッチングトランジスタ(Qn4、Qn6)と、該スイッ
チングトランジスタを制御するための第1の付加的入力
パッド(P3、P4)とを具備し、 前記基板は、前記半導体チップの第1のパッドに接続
された第2のパッド(P1'、P2')と、該第2のパッド
に接続された入出力ピン(T1)と、前記各半導体チッ
プの第1の付加的入力パッドに接続された第2の付加的
入力パッド(P 3 '、P 4 ')と、該第2の付加的入力パッ
ドに接続されたテストピン(T3、T4)とを具備するこ
とを特徴とするマルチチップ半導体装置。
6. A plurality of semiconductor chips (1-1, 1-2).
Is mounted on one substrate (2), wherein each of the semiconductor chips comprises a buffer (Q p1 , Q n1 )
A first pad (P 1 , P 2 ) connected to a buffer ;
A switching transistor (Q n4 , Q n6 ) connected between the first pad and a power supply line (GND) and acting as an overvoltage protection diode when in an off state; and a first transistor for controlling the switching transistor . comprising and additional input <br/> pads (P 3, P 4), the substrate, a second pad connected to the first pad of each semiconductor chip (P 1 ', P 2' ) If, the input-output pins connected to the second pad <br/> (T 1), wherein each semiconductor chip
Second additional input pad connected to the first additional input pad of the
Multichip characterized input pad (P 3 ', P 4' ) and, by including the test pins connected to the additional input pad <br/> de of said 2 (T 3, T 4) Semiconductor device.
【請求項7】 複数の半導体チップ(1−1、1−2)
を1つの基板(2)上に搭載したマルチチップ半導体装
置において、 前記各半導体チップは、バツファ(Qp1、Qn1)と、過
電圧保護ダイオード(Qp2、Gn2)と、前記バツファ及
び前記過電圧保護ダイオードに接続された第1のパッド
(P1、P2)と、該第1のパッドと電源線(GND)と
の間に接続されたスイッチングトランジスタ(Qn4、Q
n6)と、該スイッチングトランジスタを制御するための
第1の付加的入力パッド(P3、P4)とを具備し、 前記基板は、前記半導体チップの第1のパッドにボンデ
ィングワイヤ(W1、W2)により接続された第2のパッ
ド(P1'、P2')と、前記各半導体チップの第1の付加
入力パッドにボンディングワイヤ(W3、W4)により
接続された第2付加的入力のパッド(P3'、P4')と、
前記第2のパッドに接続された入出力ピン(T1)と、
前記第2の付加的入力パッドに配線パターン’(C3
4)により接続されたテストピン(T3、T4)とを具
備することを特徴とするマルチチップ半導体装置。
7. A plurality of semiconductor chips (1-1, 1-2)
In multi-chip devices mounted on a single substrate (2), each semiconductor chip, and Batsufa (Q p1, Q n1), and overvoltage protection diode (Q p2, G n2), the Batsufa and the overvoltage a first pad connected to a protection diode (P 1, P 2), connected to the switching transistor (Q n4, Q between the first pad and the power supply line (GND)
n6 ) for controlling the switching transistor
And a first additional input pad (P 3, P 4), said substrate, said second pad connected by the semiconductor chip first bonding wires to pads (W 1, W 2) < br /> de (P 1 ', P 2') and said respective semiconductor chip first second additional input pad connected by bonding wires to an additional input pad (W 3, W 4) of (P 3 ', P 4' and),
An input / output pin (T 1 ) connected to the second pad ;
The second additional input pad has a wiring pattern '(C 3 ,
A multi-chip semiconductor device comprising: test pins (T 3 , T 4 ) connected by C 4 ).
【請求項8】 複数の半導体チップ(1−1、1−2)
を1つの基板(2)上に搭載したマルチチップ半導体装
置において、 前記各半導体チップは、バツファ(Qp1、Qn1)と、該
バツファに接続された第1のパッド(P1、P2)と、該
第1のパッドと電源線(GND)との間に接続されかつ
オフ状態のときに過電圧保護ダイオードとして作用する
スイッチングトランジスタ(Qn4、Qn6)と、該スイッ
チングトランジスタを制御するための第1の付加的入力
パッド(P3、P4)とを具備し、 前記基板は、前記半導体チップの第1のパッドにボン
ディングワイヤ(W1、W2)により接続された第2の
ッド(P1'、P2')と、前記第2のパッドに接続された
第2のピン(T1)と、前記第2のパッドに接続された
第2の付加的入力パッド(P 3 '、P 4 ')と該第2の
加的入力パッドに接続されたテストピン(T3、T4)と
を具備することを特徴とするマルチチップ半導体装置。
8. A plurality of semiconductor chips (1-1, 1-2).
Is mounted on one substrate (2), wherein each of the semiconductor chips comprises a buffer (Q p1 , Q n1 )
A first pad (P 1 , P 2 ) connected to a buffer ;
A switching transistor (Q n4 , Q n6 ) connected between the first pad and a power supply line (GND) and acting as an overvoltage protection diode when in an off state; and a first transistor for controlling the switching transistor . comprising and additional input <br/> pads (P 3, P 4), the substrate, Bonn to the first pad of each semiconductor chip
Welding wire (W 1, W 2) second Pas <br/> head connected by (P 1 ', P 2' ) and, connected to the second pad
A second pin (T 1 ) connected to the second pad
Second additional input pad (P 3 ', P 4' ) and, by including the connected test pin biasing <br/> additive input pad of said 2 (T 3, T 4) A multi-chip semiconductor device characterized by the following.
JP14008393A 1993-05-19 1993-05-19 Multi-chip semiconductor device Expired - Lifetime JP2903946B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14008393A JP2903946B2 (en) 1993-05-19 1993-05-19 Multi-chip semiconductor device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14008393A JP2903946B2 (en) 1993-05-19 1993-05-19 Multi-chip semiconductor device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH06331705A JPH06331705A (en) 1994-12-02
JP2903946B2 true JP2903946B2 (en) 1999-06-14

Family

ID=15260569

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP14008393A Expired - Lifetime JP2903946B2 (en) 1993-05-19 1993-05-19 Multi-chip semiconductor device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2903946B2 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3611522A1 (en) * 2018-08-14 2020-02-19 NXP USA, Inc. Embedded test circuitry and method therefor

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3063687B2 (en) * 1997-06-30 2000-07-12 日本電気株式会社 Multi-chip module
JP5046448B2 (en) * 2001-08-10 2012-10-10 株式会社アドバンテスト Semiconductor test apparatus and test method thereof
JP2003066107A (en) * 2001-08-28 2003-03-05 Mitsubishi Electric Corp Semiconductor integrated circuit
JP2009139273A (en) * 2007-12-07 2009-06-25 Elpida Memory Inc Laminated semiconductor device, and continuity test
JP2015102374A (en) * 2013-11-22 2015-06-04 日置電機株式会社 Circuit board inspection device, integrated circuit inspection device, integrated circuit, circuit board inspection method, and integrated circuit inspection method
US10325836B1 (en) * 2018-07-13 2019-06-18 Allegro Microsystems, Llc Integrated circuit with connectivity error detection

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3611522A1 (en) * 2018-08-14 2020-02-19 NXP USA, Inc. Embedded test circuitry and method therefor
US11018635B2 (en) 2018-08-14 2021-05-25 Nxp Usa, Inc. Embedded test circuitry and method therefor

Also Published As

Publication number Publication date
JPH06331705A (en) 1994-12-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0351307B2 (en)
JP3587300B2 (en) Integrated circuit device
JP2004282058A (en) Semiconductor integrated circuit device and method of designing the same
JP2903946B2 (en) Multi-chip semiconductor device
US7616417B2 (en) Semiconductor device including protection circuit and switch circuit and its testing method
KR100861665B1 (en) An integrated circuit including ESD circuits for a multi-chip module and a method therefor
GB2308741A (en) Electrostatic discharge protection circuit
JPS63262574A (en) Test-mode starting circuit
KR0172346B1 (en) Voltage clamp circuit of semiconductor equipment
US5654863A (en) Integrated circuit having a gate oxide
JP3640836B2 (en) Connection test method for composite semiconductor integrated circuit device
US6757147B1 (en) Pin-to-pin ESD-protection structure having cross-pin activation
US6879203B2 (en) Whole chip ESD protection
EP0810708A2 (en) Semiconductor device having individual power supply lines shared between function blocks for discharging surge without propagation of noise
KR100530449B1 (en) Semiconductor component comprising esd protection
JP2746172B2 (en) Semiconductor integrated circuit device
JP2018032981A (en) Semiconductor integrated circuit
JP4321161B2 (en) Semiconductor device evaluation method
JP2589876B2 (en) Semiconductor integrated circuit device
KR100206700B1 (en) Pad connecting method for semiconductor memory device
US11854951B2 (en) Semiconductor device
JP3714260B2 (en) Semiconductor integrated circuit
JP7024244B2 (en) Inspection equipment
KR20040090936A (en) Semiconductor device
KR100306252B1 (en) Hybrid IC with circuit for burn-in test