JP2894904B2 - Daisa - Google Patents

Daisa

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JP2894904B2
JP2894904B2 JP28171692A JP28171692A JP2894904B2 JP 2894904 B2 JP2894904 B2 JP 2894904B2 JP 28171692 A JP28171692 A JP 28171692A JP 28171692 A JP28171692 A JP 28171692A JP 2894904 B2 JP2894904 B2 JP 2894904B2
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wafer
cutting
processing
spinner
dicer
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清隆 千葉
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Tokyo Seimitsu Co Ltd
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  • Processing Of Stones Or Stones Resemblance Materials (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体ウエハをチップ
に分割するため砥石刃で薄溝を加工する時等に使用され
るダイサ(ダイシング装置)に関し、特に加工する被加
工物(半導体ウエハ)の給排を行なうローダと称せられ
る給排機構と加工後に加工屑を清掃するためのスピンナ
と称される回転機構とが一体に形成又は組み合されたダ
イサに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a dicer (dicing apparatus) used for processing a thin groove with a grindstone blade to divide a semiconductor wafer into chips, and more particularly to a workpiece (semiconductor wafer) to be processed. The present invention relates to a dicer in which a supply / discharge mechanism referred to as a loader for supplying / discharges a workpiece and a rotation mechanism referred to as a spinner for cleaning work chips after processing are integrally formed or combined.

【0002】[0002]

【従来の技術】ダイサがもっとも利用されているのは、
半導体ウエハをチップに分割するため各チップの間に薄
溝を加工する時であり、以下の説明もこれを例として行
なう。図5は従来のダイサの基本的な構成を示す図であ
る。図5において、500が半導体ウエハ(以下ウエハ
と称する。)である。511は加工時にウエハ500を
真空吸着して固定する加工ステージであり、移動機構5
12によって移動する。513は砥石刃であり、514
は砥石刃513を回転するスピンドルである。515は
砥石刃の支持柱である。以上の部分は台510上に設け
られており、カッティング部を形成する。
2. Description of the Related Art The most common use of dicer is
This is the time when a thin groove is machined between each chip in order to divide the semiconductor wafer into chips. FIG. 5 is a diagram showing a basic configuration of a conventional dicer. In FIG. 5, reference numeral 500 denotes a semiconductor wafer (hereinafter, referred to as a wafer). Reference numeral 511 denotes a processing stage for vacuum-holding and fixing the wafer 500 at the time of processing.
Move by 12. 513 is a grindstone blade.
Is a spindle for rotating the grindstone blade 513. Reference numeral 515 denotes a support column for the grindstone blade. The above parts are provided on the table 510 and form a cutting part.

【0003】520はローダ部の台であり、その上部に
ウエハ搬送用アーム521とウエハ取り出し機構524
を有する。図ではウエハ取り出し機構524の搬送ベル
トのみを示している。523はウエハ500が格納され
たウエハ格納箱であり、加工時のウエハの供給及び回収
はこのウエハ格納箱の脱着により行なわれる。530は
スピンナ部の台であり、531は加工終了後にウエハ5
00の加工屑を清掃するため、ウエハ500を真空吸着
して回転させる回転台である。
Reference numeral 520 denotes a loader base, on which a wafer transfer arm 521 and a wafer unloading mechanism 524 are mounted.
Having. In the figure, only the transport belt of the wafer removal mechanism 524 is shown. Reference numeral 523 denotes a wafer storage box in which the wafers 500 are stored, and the supply and collection of the wafers during processing are performed by removing and attaching the wafer storage box. Reference numeral 530 denotes a table of a spinner unit, and reference numeral 530 denotes a wafer 5 after processing is completed.
This is a turntable that vacuum-adsorbs and rotates the wafer 500 in order to clean the processing dust of 00.

【0004】ダイサでの加工工程においては、薄溝加工
によりウエハがばらばらに切り離されるのを防止するた
め、フレームと称される中央に穴を有する枠に固定した
粘着テープに貼り付けた状態に保持されるが、発明とは
直接関係しないため、ウエハのみを図示してある。これ
は他の図においても同様である。次に加工手順の概略を
説明する。
[0004] state at a processing step in dicer, to prevent the wafer is apart disconnected by thin grooves, which stuck to the adhesive tape was fixed to the frame having a hole in the center called frame However, only the wafer is shown because it is not directly related to the invention. This is the same in other figures. Next, an outline of the processing procedure will be described.

【0005】まず未加工のウエハ500を複数枚ウエハ
格納箱523に格納して、ローダ部の台520上に設置
する。ウエハ取り出し機構524がウエハ格納箱523
から1枚のウエハ500をベルトに載せて所定位置まで
搬送する。次にウエハ搬送用アーム521が回転及び上
下移動してウエハ500を係持し、所定位置まで移動し
ている加工ステージ511上に載置する。載置されたウ
エハ500を真空吸着した加工ステージ511は加工位
置まで移動し、薄溝が加工される。半導体ウエハであれ
ば、2方向についてそれぞれ数10条の溝を加工するた
め、加工にはかなりの時間を要する。薄溝加工が終了す
ると、加工ステージ511は再びウエハ搬送アーム52
1との受け渡し位置に移動し、ウエハ搬送アーム521
は加工済のウエハ500を受け取りスピンナの回転台5
31上に載置する。清掃が終了したウエハ500はウエ
ハ取り出し機構に戻され、再びウエハ格納箱523に収
容される。以上の動作を格納されているすべてのウエハ
について行った後、ウエハ格納箱523は回収され、未
加工のウエハが再び供給される。
[0005] First, a plurality of unprocessed wafers 500 are stored in a wafer storage box 523 and set on a table 520 of a loader unit. The wafer unloading mechanism 524 is connected to the wafer storage box 523.
Is placed on a belt and transported to a predetermined position. Next, the wafer transfer arm 521 rotates and moves up and down to hold the wafer 500, and is placed on the processing stage 511 that has moved to a predetermined position. The processing stage 511 to which the mounted wafer 500 is vacuum-adsorbed moves to the processing position, and the thin groove is processed. In the case of a semiconductor wafer, several tens of grooves are machined in each of two directions. When the thin groove processing is completed, the processing stage 511 returns to the wafer transfer arm 52 again.
The wafer transfer arm 521 moves to the transfer position
Receives the processed wafer 500, and the turntable 5 of the spinner.
31. The cleaned wafer 500 is returned to the wafer removal mechanism, and is again stored in the wafer storage box 523. After the above operation is performed for all the stored wafers, the wafer storage box 523 is recovered, and the unprocessed wafer is supplied again.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】従来のダイサでは手動
操作でウエハの給排を行ない、スピンナとのウエハの給
排も手動操作で行なうことがあったが、現在生産工程で
使用されるダイサは運転の自動化が図られており、ロー
ダ部とスピンナ部を一体に設けるか、又は一体に組み合
された上で使用される。そのためダイサ全体としては大
型で大きな設地面積を必要とするものになるという問題
がある。特に複数のダイサを設置し、平行して運転する
場合には、全体の設置面積をできるだけ低減することが
求められている。
In the conventional dicer, the supply and discharge of wafers are performed manually, and the supply and discharge of wafers to and from the spinner are sometimes performed manually. The operation is automated, and the loader unit and the spinner unit are provided integrally or used after being combined together. For this reason, there is a problem that the dicer as a whole is large and requires a large site area. In particular, when a plurality of dicers are installed and operated in parallel, it is required to reduce the entire installation area as much as possible.

【0007】本発明は、カッティング部、ローダ部及び
スピンナ部とを備えるダイサにおいては、カッティング
部の稼動時間がローダ部及びスピンナ部の稼動時間に比
べてはるかに長く、ローダ部及びスピンナ部は待機時間
が大きいことに着目し、システム全体としてより設置面
積が低減でき、各部がより効率的に稼動可能なダイサの
実現を目的とする。
According to the present invention, in a dicer having a cutting section, a loader section and a spinner section, the operation time of the cutting section is much longer than the operation time of the loader section and the spinner section, and the loader section and the spinner section are on standby. Focusing on the fact that time is long, an object of the present invention is to realize a dicer that can reduce the installation area as a whole system and can operate each part more efficiently.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】図1は本発明のダイサの
基本的な構成を示す図である。一部に矢印を有する線は
被加工物の移動経路を示している。本発明のダイサは、
砥石刃を回転させて被加工物100に薄溝を加工するカ
ッティング部と、このカッティング部に被加工物100
を供給し、加工終了後に回収するためのローダ部2と、
カッティング部での加工後に被加工物100を回転させ
て加工屑を清掃するスピンナ部3とを備えているが、上
記目的を達成するため複数のカッティング部1−1,1
−2を備え、ローダ部2とスピンナ部3の各個数はカッ
ティング部の個数より少なく、ローダ部2とスピンナ部
3が複数のカッティング部1−1,1−2に対して共通
であるように構成することを特徴とする。
FIG. 1 is a diagram showing a basic configuration of a dicer of the present invention. A line partially having an arrow indicates a movement path of the workpiece. The dicer of the present invention
A cutting portion for turning a grindstone blade to form a thin groove in the workpiece 100;
And a loader unit 2 for supplying after the completion of the processing,
A spinner unit 3 is provided for rotating the workpiece 100 after processing in the cutting unit to clean the processing debris. In order to achieve the above object, a plurality of cutting units 1-1, 1 are provided.
-2, the number of the loader unit 2 and the number of the spinner units 3 are smaller than the number of the cutting units, and the loader unit 2 and the spinner unit 3 are common to the plurality of cutting units 1-1 and 1-2. It is characterized by comprising.

【0009】[0009]

【作用】カッティング部では多数の溝を加工するため、
被加工物(ウエハ)を1枚加工するのにも長時間を要す
る。これに比べてローダ部2は、加工前に未加工のウエ
ハの供給動作を行ない、加工終了後ウエハの回収動作を
行なうが、カッティング部での溝加工中はほとんど待機
状態である。同様にスピンナ3も、加工終了後ウエハを
回転して清掃するだけであり、短時間の動作である。従
ってカッティング部での溝加工中は同様にほとんど待機
状態にある。そこでローダ部2とスピンナ部3を複数の
カッティング部1−1,1−2に対して共通化しても、
カッティング部とローダ部2とスピンナ部3の組を複数
組設けた時と同様の加工効率が得られ、しかもローダ部
2とスピンナ部3を共通化した分コスト低減と設置面積
の低減を図ることが可能である。
[Function] In the cutting part, many grooves are machined.
It takes a long time to process one workpiece (wafer). On the other hand, the loader unit 2 performs an operation of supplying an unprocessed wafer before processing, and performs a recovery operation of the wafer after processing, but is almost in a standby state during the groove processing in the cutting unit. Similarly, the spinner 3 only rotates and cleans the wafer after processing is completed, and is a short-time operation. Therefore, during the groove processing in the cutting section, the apparatus is almost in a standby state. Therefore, even if the loader unit 2 and the spinner unit 3 are shared by the plurality of cutting units 1-1 and 1-2,
The same processing efficiency as when a plurality of sets of the cutting section, the loader section 2 and the spinner section 3 are provided is obtained, and the cost and the installation area are reduced by sharing the loader section 2 and the spinner section 3. Is possible.

【0010】加工効率を向上するため、カッティング部
に2個のスピンドルを設け2個の砥石刃で1枚のウエハ
を平行して加工することが従来行なわれているが、加工
ステージの移動機構等は共通化されているため、2個の
砥石刃の加工位置の微調整が難しいことや加工位置の差
に起因する時間差等の関係から充分な効果が得られてい
ないのが現状である。これに比べて本発明のダイサは、
カッティング部が完全に独立しているため上記のような
問題は生じず、高効率での加工が可能である。
In order to improve the processing efficiency, two spindles are provided in the cutting section, and one wafer is processed in parallel by two grinding stone blades. At present, sufficient effects cannot be obtained due to the difficulty of fine adjustment of the processing positions of the two grindstone blades and the time difference caused by the difference between the processing positions. In comparison, the dicer of the present invention
Since the cutting portions are completely independent, the above-described problem does not occur, and high-efficiency machining is possible.

【0011】またウエハの加工においては、後述するよ
うに異なる刃厚の砥石刃を用いて1枚のウエハを2段階
にわたって薄溝加工することが行なわれる。上記の2個
のスピンドルを有する従来例でこのような加工を行なう
時には、2個のスピンドルに異なる砥石刃を装着するこ
とで他のダイサに移動させて加工すること無しに2段階
の薄溝加工を可能にしている。しかし、刃厚が異なるた
め各段階の加工速度が異なり、遅い方の加工で全体の加
工速度が制限され、加工効率が低くなり、かつ最適の加
工条件で加工できないという問題がある。
In the processing of a wafer, thin grooves are formed on a single wafer in two stages by using grindstone blades having different blade thicknesses as described later. When such processing is performed in the conventional example having the above-mentioned two spindles, a two-stage thin groove processing without moving to another dicer and processing by mounting different grindstone blades on the two spindles. Is possible. However, since the blade thickness is different, the processing speed in each stage is different, and there is a problem that the processing speed of the slower processing is limited, the processing efficiency is reduced, and processing cannot be performed under optimum processing conditions.

【0012】これに対して、本発明のダイサでは、カッ
ティング部は独立であり、例えば、速い方の加工と遅い
方の加工の速度比が2対1であれば、遅い方の加工用に
2個のカッティング部を設け、速い方の加工用に1個の
カッティング部を設け、ローダ部とスピンナ部を共通化
すれば、加工途中で他のダイサへ移動させる必要もな
く、しかもカッティング部の加工能力を最大限に生した
高効率の加工および最適の加工条件での加工が可能にな
る。
On the other hand, in the dicer of the present invention, the cutting portion is independent. For example, if the speed ratio between the faster machining and the slow machining is 2: 1, the cutting portion is not used for the slow machining. If one cutting part is provided, one cutting part is provided for faster processing, and the loader part and the spinner part are made common, there is no need to move to another dicer during processing, and the processing of the cutting part High-efficiency processing that maximizes the capacity and processing under optimal processing conditions become possible.

【0013】[0013]

【実施例】図2は本発明の第1実施例の構成を示す図で
ある。21−1と21−2はそれぞれ第1及び第2カッ
ティング部であり、22がローダ部であり、23がスピ
ンナ部であり、それぞれは図5に示したような従来と同
様の構成を有しており、ここでは詳細な説明は省略す
る。
FIG. 2 is a diagram showing the configuration of a first embodiment of the present invention. Reference numerals 21-1 and 21-2 denote first and second cutting portions, respectively, reference numeral 22 denotes a loader portion, and reference numeral 23 denotes a spinner portion, each of which has the same configuration as the conventional one as shown in FIG. The detailed description is omitted here.

【0014】221はローダ部22に設けられた搬送ア
ームであり、点0を中心として回転し、図中のB,C,
D及びEの位置間でウエハ200を搬送する。Aはウエ
ハ格納箱内のウエハ位置を表わし、AとBの位置の間は
ベルト搬送機構(図示せず)によりウエハ200が移動
される。FとGはそれぞれ第1と第2カッティング部の
加工位置を表わし、ウエハ受け渡し位置C及びDとの間
は、加工ステージの移動機構(図示せず)によって移動
される。
Reference numeral 221 denotes a transfer arm provided on the loader unit 22, which rotates about a point 0, and which is denoted by B, C, and C in FIG.
The wafer 200 is transferred between the positions D and E. A indicates a wafer position in the wafer storage box, and the wafer 200 is moved between the positions A and B by a belt transport mechanism (not shown). F and G represent processing positions of the first and second cutting units, respectively, and are moved between the wafer transfer positions C and D by a moving mechanism (not shown) of the processing stage.

【0015】ウエハ格納箱に収容されたウエハ200は
ベルト搬送機構によってB位置まで移動された後、搬送
アーム221によってC位置又はD位置に搬送される。
第1カッティング部21−1又は第2カッティング部2
1−2は、加工テーブルがC位置又はD位置に移動して
おり、受け取ったウエハ200を真空吸着した後位置合
せのためのアラインメントを行ない、加工位置F又はG
に移動し、加工を行なう。例えば、まず第1カッティン
グ部21−1に位置Cでウエハを渡した後、搬送アーム
Bは直ちにB位置に戻り、ウエハ格納箱からB位置に移
動されている次のウエハを保持してD位置に搬送し、第
2カッティング部21−2に渡す。
After the wafer 200 stored in the wafer storage box is moved to the position B by the belt transfer mechanism, it is transferred by the transfer arm 221 to the position C or the position D.
First cutting unit 21-1 or second cutting unit 2
1-2, when the processing table is moved to the C position or the D position, the received wafer 200 is vacuum-sucked, alignment is performed for alignment, and the processing position F or G is performed.
Move to and perform machining. For example, first, after the wafer is transferred to the first cutting unit 21-1 at the position C, the transfer arm B immediately returns to the position B, and holds the next wafer moved from the wafer storage box to the position B to position D. To the second cutting unit 21-2.

【0016】各カッティング部での加工が終了したウエ
ハは再びC又はD位置に移動されるので、搬送アーム2
21はこれを保持してE位置に移動させてスピンナ23
に渡し、スピンナ23はウエハの清掃を行なう。清掃に
要する時間は短かいので、その間搬送アーム221は待
機していてもよいが、より加工効率を向上させるために
は、搬送アーム221はB位置に戻り未加工のウエハを
待機している側、例えばC位置に移動させて第1カッテ
ィング部21−1に渡し、第1カッティング部は直ちに
次の加工を開始する。スピンナ23での清掃が終了した
ウエハは搬送アーム221によりB位置に戻され、ウエ
ハ格納箱に収容される。もちろん両方のカッティング部
分での加工が同等に終了した時には、一方のカッティン
グ部はもう一方のカッティング部で加工したウエハの清
掃が終了し、ウエハ格納箱に収容されるまで待機する必
要があるが、その待機時間は短かく問題はない。
The wafer, which has been processed in each cutting section, is moved to the position C or D again.
A spinner 23 holds this and moves it to the E position.
And the spinner 23 cleans the wafer. Since the time required for cleaning is short, the transfer arm 221 may be on standby during that time. However, in order to further improve the processing efficiency, the transfer arm 221 returns to the position B and waits for an unprocessed wafer. For example, it is moved to the position C and passed to the first cutting unit 21-1, and the first cutting unit immediately starts the next processing. The wafer that has been cleaned by the spinner 23 is returned to the position B by the transfer arm 221 and stored in the wafer storage box. Of course, when the processing in both cutting parts is completed equally, one of the cutting parts needs to wait for the cleaning of the wafer processed in the other cutting part to be completed and stored in the wafer storage box, The waiting time is short and there is no problem.

【0017】図3は第2実施例の構成を示す図であり、
3個のカッティング部31−1,31−2,31−3に
対して1組のローダ部32とスピンナ部33が設けられ
ている。ローダ部32には2個の搬送アーム321と3
22が設けられており、第1の搬送アーム321はロー
ダ部32、スピンナ部33、第1カッティング部31−
1、及び第2カッティング部31−2の間の搬送を行な
い、第2搬送アーム322はローダ部32、スピンナ部
33、及び第3カッティング部31−3の間の搬送を行
なう。323はウエハ格納箱である。
FIG. 3 is a diagram showing the configuration of the second embodiment.
One set of the loader unit 32 and the spinner unit 33 is provided for the three cutting units 31-1, 31-2, 31-3. The loader section 32 has two transfer arms 321 and 3
The first transfer arm 321 includes a loader section 32, a spinner section 33, and a first cutting section 31-.
The transfer between the first and second cutting units 31-2 is performed, and the second transfer arm 322 performs the transfer between the loader unit 32, the spinner unit 33, and the third cutting unit 31-3. 323 is a wafer storage box.

【0018】図4は第2実施例において行なう2段カッ
トの工程説明図である。図において440がウエハであ
り、441は粘着テープである。図4の(b)に示すよ
うに第1カッティング工程では、表面に形成されたテグ
パターン等を含めて切削する目的で巾の広い砥石刃(ブ
レード)を使用して広い溝450が低速で加工される。
第2カッティング工程では巾の狭いブレードを使用して
シリコンのみの部分に狭い溝451を高速で加工する。
FIG. 4 is an explanatory view of a two-stage cutting process performed in the second embodiment. In the figure, 440 is a wafer, and 441 is an adhesive tape. As shown in FIG. 4B, in the first cutting step, a wide groove 450 is machined at a low speed using a wide whetstone blade (blade) for the purpose of cutting including a teg pattern or the like formed on the surface. Is done.
In the second cutting step, a narrow groove 451 is formed at a high speed in a portion of only silicon using a narrow blade.

【0019】本実施例では、第1カッティング部31−
1と第2カッティング部31−2で第1のカッティング
工程を行ない、第1のカッティング工程が終了したウエ
ハについて第3カッティング部31−3で第2のカッテ
ィング工程を行なう。ウエハ格納箱323から取り出さ
れたウエハは、第1搬送アーム321で第1カッティン
グ部31−1又は第2カッティング部31−2に渡さ
れ、加工後第1搬送アームによってスピンナ部33に渡
される。清掃後、第2搬送アーム322によって第3カ
ッティング部31−3に渡され、狭い溝が加工される。
そして加工終了後スピンナ33で再び清掃され、ウエハ
収納箱323に戻される。
In this embodiment, the first cutting unit 31-
The first and second cutting sections 31-2 perform the first cutting step, and the third cutting section 31-3 performs the second cutting step on the wafer after the first cutting step. The wafer taken out of the wafer storage box 323 is transferred to the first cutting unit 31-1 or the second cutting unit 31-2 by the first transfer arm 321 and is transferred to the spinner unit 33 by the first transfer arm after processing. After cleaning, the second transfer arm 322 transfers the narrow groove to the third cutting portion 31-3.
After the processing, the wafer is cleaned again by the spinner 33 and returned to the wafer storage box 323.

【0020】第1、第2、及び第3カッティング部のそ
れぞれの待機時間をできるだけ少なくするように制御さ
れるが、第3カッティング部31−3が加工中に第1カ
ッティング部31−1又は第2カッティング部31−2
で加工が終了すると第3カッティング部31−3での加
工が終了するまで待機する必要がでる。このような待機
時間をできるだけ短かくするため、図中の34のような
待機部分を設け、第1又は第2カッティング部での広い
溝の加工後スピンナ33での清掃が終了した後は、一時
的に待機部分34に載置するようにする。これにより加
工の終了した第1又は第2カッティング部は直ちに次の
加工が開始できる。
The first, second, and third cutting units are controlled so that their respective waiting times are minimized. However, the first cutting unit 31-1 or the third cutting unit 31-3 is operated while the third cutting unit 31-3 is processing. 2 cutting unit 31-2
When the processing is completed in step 3, it is necessary to wait until the processing in the third cutting unit 31-3 is completed. In order to make such a standby time as short as possible, a standby portion such as 34 in the drawing is provided, and after the cleaning of the wide groove in the first or second cutting portion with the spinner 33 is completed, the standby portion is temporarily stopped. It is designed to be placed on the standby portion 34 in a targeted manner. As a result, the first or second cutting section that has finished processing can immediately start the next processing.

【0021】従来異なるブレードを使用して行なう図4
のような2段カットは、ダイサを変えて行なうのが一般
的であり、そのためウエハ収容箱に入れたウエハをダイ
サ間で移動させる必要があった。図4に示すように第1
カッティング工程後のウエハには既に溝が形成されてお
り、他のダイサへの搬送途中で衝撃等により割れ易くな
るという問題があった。しかし第2実施例のダイサであ
れば、ダイサ間を移動させること無しに2段カットが行
なえるため、途中での割れの発生が低減できるという利
点がある。
FIG. 4 conventionally performed using different blades
In general, such a two-stage cutting is performed by changing a dicer, and therefore, it is necessary to move a wafer placed in a wafer accommodating box between dicers. As shown in FIG.
Grooves have already been formed in the wafer after the cutting step, and there has been a problem that the wafer is liable to be broken by an impact or the like while being transferred to another dicer. However, the dicer according to the second embodiment has the advantage that the two-stage cutting can be performed without moving between dicers, so that the occurrence of cracks on the way can be reduced.

【0022】[0022]

【発明の効果】本発明により、加工効率を低下させるこ
と無しにダイサ全体の構成を簡単にしてコスト低減が図
れるだけでなく、設地面積を小さくして小型化できる。
更に異なるブレードを使用して複数段階の加工を行なう
時にも、ダイサ間の搬送が不必要になるため好ましくな
い割れの発生を低減できることになる。
According to the present invention, not only can the structure of the entire dicer be simplified and the cost can be reduced without lowering the processing efficiency, but also the installation area can be reduced and the size can be reduced.
Furthermore, even when a plurality of stages of processing are performed using different blades, it is not necessary to carry the material between dicers, so that the occurrence of undesired cracks can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のダイサの基本構成を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing a basic configuration of a dicer of the present invention.

【図2】第1実施例の構成を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing a configuration of a first embodiment.

【図3】第2実施例の構成を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a configuration of a second embodiment.

【図4】第2実施例における2段カットの加工経過を示
す図である。
FIG. 4 is a diagram showing the progress of two-stage cutting in a second embodiment.

【図5】従来のダイサの構成を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing a configuration of a conventional dicer.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1−1…第1カッティング部 1−2…第2カッティング部 2…ローダ部 3…スピンナ部 31−3…第3カッティング部 100…板状被加工物 1-1: first cutting portion 1-2: second cutting portion 2: loader portion 3: spinner portion 31-3: third cutting portion 100: plate-shaped workpiece

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 板状の被加工物(100)に薄溝加工を
行なうダイサであって、 砥石刃を回転させて前記被加工物(100)に薄溝の加
工するカッティング部と、 前記カッティング部に前記被加工物(100)を供給
し、加工終了後に回収するローダ部(2)と、 前記カッティング部での加工後に前記被加工物(10
0)を回転させて加工屑を清掃するスピンナ部(3)と
を備えるダイサにおいて、 複数の前記カッティング部(1−1,1−2)を備え、 前記ローダ部(2)と前記スピンナ部(3)の各個数は
前記カッティング部の個数より少なく、 前記ローダ部(2)と前記スピンナ部(3)は複数のカ
ッティング部(1−1,1−2)に対して共通化されて
いることを特徴とするダイサ。
1. A dicer for forming a thin groove on a plate-like workpiece (100), comprising: a cutting section for rotating a grindstone blade to form a thin groove on the workpiece (100); A loader section (2) for supplying the workpiece (100) to the section and recovering the workpiece after completion of the processing;
A dicer including a spinner part (3) for rotating the workpiece (0) to clean the processing waste, comprising a plurality of the cutting parts (1-1, 1-2), the loader part (2) and the spinner part ( Each number of 3) is smaller than the number of the cutting sections, and the loader section (2) and the spinner section (3) are shared by a plurality of cutting sections (1-1, 1-2). A dicer.
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