JP2890490B2 - レーザ装置発振周波数間隔安定化装置 - Google Patents
レーザ装置発振周波数間隔安定化装置Info
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は複数のレーザ装置の各発振周波数の間隔を安
定化させるレーザ装置発振周波数間隔安定化装置に関す
る。
定化させるレーザ装置発振周波数間隔安定化装置に関す
る。
（従来の技術） 従来、複数の制御対象レーザ装置群を同一の発振周波
数の組合せとなるように制御する、いわゆる波長同期を
実現するための方式としては、下坂らによる、電子情報
通信学会技術研究報告第87巻CS87−96に記載の方式が知
られている。この方式では、発振周波数が周期的に掃引
された参照用レーザ装置から出射される周波数掃引光、
及びその周波数掃引光を光学共振器に通すことにより得
られる光パルス列を分岐して、各制御対象レーザ装置群
に分配する。各制御対象レーザ装置群では供給された周
波数掃引光と制御対象レーザ装置の出射光を合波し、そ
の結果得られるビート信号の低周波成分で構成されるビ
ートパルス列と、別途供給される光パルス列とを比較す
る。そして両パルス列の対応する各パルスの発生時刻差
が一定となるよう、各制御対象レーザ装置の発振周波数
を制御する。
数の組合せとなるように制御する、いわゆる波長同期を
実現するための方式としては、下坂らによる、電子情報
通信学会技術研究報告第87巻CS87−96に記載の方式が知
られている。この方式では、発振周波数が周期的に掃引
された参照用レーザ装置から出射される周波数掃引光、
及びその周波数掃引光を光学共振器に通すことにより得
られる光パルス列を分岐して、各制御対象レーザ装置群
に分配する。各制御対象レーザ装置群では供給された周
波数掃引光と制御対象レーザ装置の出射光を合波し、そ
の結果得られるビート信号の低周波成分で構成されるビ
ートパルス列と、別途供給される光パルス列とを比較す
る。そして両パルス列の対応する各パルスの発生時刻差
が一定となるよう、各制御対象レーザ装置の発振周波数
を制御する。
（発明が解決しようとする課題） 上記方式の構成においては、参照用レーザ装置及び光
学共振器より成る制御基準部から各制御対象レーザ装置
群へ制御用の基準光を供給するにあたり、周波数掃引光
用及び光パルス列用の計２本を光伝送路を用いる必要が
あった。このように２本の光伝送路を要することは、制
御基準部と制御対象レーザ装置群の間の距離が大きいよ
うな用途の場合、著しく経済性を損なう要因となる。
学共振器より成る制御基準部から各制御対象レーザ装置
群へ制御用の基準光を供給するにあたり、周波数掃引光
用及び光パルス列用の計２本を光伝送路を用いる必要が
あった。このように２本の光伝送路を要することは、制
御基準部と制御対象レーザ装置群の間の距離が大きいよ
うな用途の場合、著しく経済性を損なう要因となる。
本発明の目的は、このような従来技術の欠点を除去せ
しめて、上記２種の光信号を１本の光伝送路で供給し、
より経済的かつ安定な波長網同期の実現が可能なレーザ
装置発振周波数間隔安定化装置を提供することにある。
しめて、上記２種の光信号を１本の光伝送路で供給し、
より経済的かつ安定な波長網同期の実現が可能なレーザ
装置発振周波数間隔安定化装置を提供することにある。
（課題を解決するための手段） 上記の課題を解決するために本発明では、発振周波数
を掃引する参照用レーザ装置からの出射光を少なくとも
２つに分岐し、一方を少なくとも１つの各ローカル局に
光周波数掃引光として分配し、他方を光学共振器を透過
させてその周波数変化を透過光の振幅変化に変換して少
なくとも１つの各ローカル局に光周波数基準パルス光と
して分配し、各ローカル局では複数の被制御レーザ装置
の各々の出射光の少なくとも一部を合成した光と、前記
光周波数掃引光を合成して生じるビート光を受光して電
気信号に変換し、低減フィルタを通すことによって生じ
る電気パルス列の各々のパルスの発生時刻を、前記光周
波数基準パルスを受光して生じる電気パルス列の対応す
る各々のパルス発生時刻に一致するよう被制御レーザ装
置の発振周波数を制御するレーザ装置発振周波数間隔安
定化装置において、前記参照用レーザ装置からの出射光
を、直交する２つの直線偏光であるＰ偏光とＳ偏光にほ
ぼ等しい光パワーで出力するように第１の偏光分離合波
素子に光結合し、該第１の偏光分離合波素子の２つの出
力端子のうちの一方の端子から出力された光を光学共振
器に接続して振幅変化に変換し、その振幅変化に変換し
た光と他方の端子から出力された光とを直交する偏光状
態で第２の偏光分離合波素子で合波して合波光を生成
し、この合波光を前記各ローカル局に分配し、各ローカ
ル局で光分岐器により該合波光を所定のパワー比に分岐
して２つの分岐光を生成し、一方の該分岐光をそのまま
光周波数掃引光として用い、他方の該分岐光をそのまま
光周波数基準パルス光として用いることを特徴とする構
成としている。
を掃引する参照用レーザ装置からの出射光を少なくとも
２つに分岐し、一方を少なくとも１つの各ローカル局に
光周波数掃引光として分配し、他方を光学共振器を透過
させてその周波数変化を透過光の振幅変化に変換して少
なくとも１つの各ローカル局に光周波数基準パルス光と
して分配し、各ローカル局では複数の被制御レーザ装置
の各々の出射光の少なくとも一部を合成した光と、前記
光周波数掃引光を合成して生じるビート光を受光して電
気信号に変換し、低減フィルタを通すことによって生じ
る電気パルス列の各々のパルスの発生時刻を、前記光周
波数基準パルスを受光して生じる電気パルス列の対応す
る各々のパルス発生時刻に一致するよう被制御レーザ装
置の発振周波数を制御するレーザ装置発振周波数間隔安
定化装置において、前記参照用レーザ装置からの出射光
を、直交する２つの直線偏光であるＰ偏光とＳ偏光にほ
ぼ等しい光パワーで出力するように第１の偏光分離合波
素子に光結合し、該第１の偏光分離合波素子の２つの出
力端子のうちの一方の端子から出力された光を光学共振
器に接続して振幅変化に変換し、その振幅変化に変換し
た光と他方の端子から出力された光とを直交する偏光状
態で第２の偏光分離合波素子で合波して合波光を生成
し、この合波光を前記各ローカル局に分配し、各ローカ
ル局で光分岐器により該合波光を所定のパワー比に分岐
して２つの分岐光を生成し、一方の該分岐光をそのまま
光周波数掃引光として用い、他方の該分岐光をそのまま
光周波数基準パルス光として用いることを特徴とする構
成としている。
（作用） 本発明では、参照用レーザ装置及び光学共振器を含
み、各ローカル局に制御用基準信号を送る制御基準部に
おいて、参照用レーザ装置の出射光を２つに分岐し、一
方を光学共振器に通し、再び合流している。合流された
光信号は、光学共振器の共振周波数の情報を担った基準
パルス列に、光周波数が掃引され、一定パワーの直流光
がバイアスされた形になっている。従ってこの合流され
た光信号は各ローカル局で必要とする２つの光信号（基
準パルス列と周波数掃引光）を兼ね備えており、従来の
方式では２本必要だった光伝送路を本発明では１本に統
合できる。
み、各ローカル局に制御用基準信号を送る制御基準部に
おいて、参照用レーザ装置の出射光を２つに分岐し、一
方を光学共振器に通し、再び合流している。合流された
光信号は、光学共振器の共振周波数の情報を担った基準
パルス列に、光周波数が掃引され、一定パワーの直流光
がバイアスされた形になっている。従ってこの合流され
た光信号は各ローカル局で必要とする２つの光信号（基
準パルス列と周波数掃引光）を兼ね備えており、従来の
方式では２本必要だった光伝送路を本発明では１本に統
合できる。
（実施例） 以下、本発明を実施例につき詳細に説明する。
第１図は本発明の実施例の構成図である。なお、本実
施例では、構成を簡単にして説明を容易にするために、
ローカル局の数を２、各ローカル局が持つレーザ装置の
個数を３つとしている。
施例では、構成を簡単にして説明を容易にするために、
ローカル局の数を２、各ローカル局が持つレーザ装置の
個数を３つとしている。
参照用レーザ装置として用いた1.55μｍ帯波長可変分
布ブラッグ反射形半導体レーザ（以下DBR）１は鋸歯状
波発生器２により印加される繰り返し周波数20kHzの鋸
歯状波に伴い、その出射光周波数が時間に対し鋸歯状に
変化している。DBR1からの出射光はほぼ直線偏光であり
第１の光アイソレータ３を透過した後、第１の偏光分離
合波素子401へ、そのＰ偏光とＳ偏光の偏光方向の双方
に対して45℃となるよう入射され、２つの出射端へ第１
及び第２の出射光としてパワー比1:1に分けられる。こ
のうち第１の出力光は屈折率1.5、厚さ1cmでフィネス30
になるように両面の反射率、面精度、平行度を調整した
石英ガラス製エタロン板５を透過した後、第１の偏光分
離合波素子401の第２の出射光と第２の偏光分離合波素
子402で合波され、後段に接続された第１の光分岐器206
で第１及び第２の出射光にパワー比1:1に分けられる。
なお、第２の偏光分離合波素子402で合波するに際して
は、第１の偏光分離合波素子401から第２の偏光分離合
波素子402に至る２つの光路長がほぼ一致するように光
路長が設定されている。また、両光路における偏光変動
を防ぐため、両光路には偏光保存ファイバ501〜503を用
いている。エタロン板５の透過光は鋸歯状波発生器２か
らの出力信号（第２図110〜112）の１周期中、DBR1の周
波数がエタロン板５の共振周波数に一致した時点で発生
するパルス列状の光で構成されているが、この１周期中
のパルスの数が３つになるよう、鋸歯状波発生器２の出
力のピーク電圧を調整しておく。
布ブラッグ反射形半導体レーザ（以下DBR）１は鋸歯状
波発生器２により印加される繰り返し周波数20kHzの鋸
歯状波に伴い、その出射光周波数が時間に対し鋸歯状に
変化している。DBR1からの出射光はほぼ直線偏光であり
第１の光アイソレータ３を透過した後、第１の偏光分離
合波素子401へ、そのＰ偏光とＳ偏光の偏光方向の双方
に対して45℃となるよう入射され、２つの出射端へ第１
及び第２の出射光としてパワー比1:1に分けられる。こ
のうち第１の出力光は屈折率1.5、厚さ1cmでフィネス30
になるように両面の反射率、面精度、平行度を調整した
石英ガラス製エタロン板５を透過した後、第１の偏光分
離合波素子401の第２の出射光と第２の偏光分離合波素
子402で合波され、後段に接続された第１の光分岐器206
で第１及び第２の出射光にパワー比1:1に分けられる。
なお、第２の偏光分離合波素子402で合波するに際して
は、第１の偏光分離合波素子401から第２の偏光分離合
波素子402に至る２つの光路長がほぼ一致するように光
路長が設定されている。また、両光路における偏光変動
を防ぐため、両光路には偏光保存ファイバ501〜503を用
いている。エタロン板５の透過光は鋸歯状波発生器２か
らの出力信号（第２図110〜112）の１周期中、DBR1の周
波数がエタロン板５の共振周波数に一致した時点で発生
するパルス列状の光で構成されているが、この１周期中
のパルスの数が３つになるよう、鋸歯状波発生器２の出
力のピーク電圧を調整しておく。
第１の光分岐器206の第１及び第２の出射光は第２の
光分岐器204,205によりパワー比1:1（所定のパワー比）
に２分岐される。第２の光分岐器204,205の第１の出射
光は第２の光検出器27,29によりそれぞれ電気信号に変
換される。
光分岐器204,205によりパワー比1:1（所定のパワー比）
に２分岐される。第２の光分岐器204,205の第１の出射
光は第２の光検出器27,29によりそれぞれ電気信号に変
換される。
一方、周波数間隔を安定化する対象である第１〜第６
の1.55μｍ帯分布帰還形レーザ（以下DFB）10,11,12,1
3,14及び15からの出射光はそれぞれ第１〜第６の光アイ
ソレータ16,17,18,19,20,21を透過する。しかる後に第
１〜第３の光アイソレータ16,17,18の透過光は第１の光
合波器22により合波され、また、第４〜第６の光アイソ
レータ19,20,21の透過光は第１の光合波器23により合波
される。第１の光合波器22の出射光は第２の光合波器24
により、第２の光分岐器204の第２の出射光と合波され
た後、第１の光検出器26により電気信号に変換され、第
１の制御装置30の第１の入力32に入力される。一方、第
１の光合波器23の出射光は第２の光合波器25により、第
２の光分岐器205の第２の出射光と合波された後、第１
の光検出器28により、電気信号に変換され、第２の制御
装置31の第１の入力34に入力される。また第２の光検出
器27,29の出力である電気信号は第１及び第２の制御装
置30,31の第２の入力33,35にそれぞれ入力される。
の1.55μｍ帯分布帰還形レーザ（以下DFB）10,11,12,1
3,14及び15からの出射光はそれぞれ第１〜第６の光アイ
ソレータ16,17,18,19,20,21を透過する。しかる後に第
１〜第３の光アイソレータ16,17,18の透過光は第１の光
合波器22により合波され、また、第４〜第６の光アイソ
レータ19,20,21の透過光は第１の光合波器23により合波
される。第１の光合波器22の出射光は第２の光合波器24
により、第２の光分岐器204の第２の出射光と合波され
た後、第１の光検出器26により電気信号に変換され、第
１の制御装置30の第１の入力32に入力される。一方、第
１の光合波器23の出射光は第２の光合波器25により、第
２の光分岐器205の第２の出射光と合波された後、第１
の光検出器28により、電気信号に変換され、第２の制御
装置31の第１の入力34に入力される。また第２の光検出
器27,29の出力である電気信号は第１及び第２の制御装
置30,31の第２の入力33,35にそれぞれ入力される。
第１及び第２の制御装置30,31は同じ回路を用いてい
る。その構成を第３図に示す。第１の入力32（あるいは
34）に印加された電気信号は、遮断周波数100MHzの低域
通過フィルタ101に入力される。低域通過フィルタ101か
らは、DBR1からの出射光周波数と、第１〜第３のDFB10,
11,12（あるいは第４〜第６のDFB13,14,15）の出射光周
波数の差がほぼ±100MHzの範囲に入っているときにパル
ス状の電気信号が出力される。パルスの数は鋸歯状波発
生器２の出力信号110,111,112（第２図参照）の１周期
にDBR1と第１〜第３のDFB10,11,12（あるいは第４〜第
６のDFB13,14,15）の各々の発振周波数の差が±100MHz
の範囲に入る回数に等しく、それは３つである。第１及
び第２の制御装置30,31では、第２図（ａ）に示した第
１の制御装置30（あるいは第２の制御装置31）の第２の
入力33（あるいは35）への入力及び第２図（ｂ）（ある
いは（ｃ））に示した第１の入力32（あるいは34）への
入力のパルス発生時刻差113,114,115（あるいは116,11
7,118）を誤差信号とし、これらの大きさが零になるよ
うな制御信号を出力する。
る。その構成を第３図に示す。第１の入力32（あるいは
34）に印加された電気信号は、遮断周波数100MHzの低域
通過フィルタ101に入力される。低域通過フィルタ101か
らは、DBR1からの出射光周波数と、第１〜第３のDFB10,
11,12（あるいは第４〜第６のDFB13,14,15）の出射光周
波数の差がほぼ±100MHzの範囲に入っているときにパル
ス状の電気信号が出力される。パルスの数は鋸歯状波発
生器２の出力信号110,111,112（第２図参照）の１周期
にDBR1と第１〜第３のDFB10,11,12（あるいは第４〜第
６のDFB13,14,15）の各々の発振周波数の差が±100MHz
の範囲に入る回数に等しく、それは３つである。第１及
び第２の制御装置30,31では、第２図（ａ）に示した第
１の制御装置30（あるいは第２の制御装置31）の第２の
入力33（あるいは35）への入力及び第２図（ｂ）（ある
いは（ｃ））に示した第１の入力32（あるいは34）への
入力のパルス発生時刻差113,114,115（あるいは116,11
7,118）を誤差信号とし、これらの大きさが零になるよ
うな制御信号を出力する。
なお第３図中のパルス発生時刻差計測回路102（第４
図に回路の一例を図示）は、入力される２つのパルス列
で構成する各パルスを発生時刻順に並べたとき、対応す
る順位の２つのパルス（計３組）の発生時刻差に比例し
た幅を持ち、高さは一定の方形パルスを出力する。ただ
し上記の２つのパルスのうち、先に発生するパルスが入
力される２系列のパルス列のどちらに属するかで、出力
は、正または負の方形パルスになる機能を備えている。
第１の制御装置30からの第１、第２、第３の制御信号は
それぞれ第１、第２、第３のレーザ装置駆動装置36,37,
38に、また第２の制御装置31からの第１、第２、第３の
制御信号はそれぞれ第１、第２、第３のレーザ装置駆動
装置39,40,41に入力される。レーザ装置駆動装置36,37,
38,39,40,41からは制御信号に応じた駆動電流が第１〜
第６のDFB10,11,12,13,14,15に注入される。
図に回路の一例を図示）は、入力される２つのパルス列
で構成する各パルスを発生時刻順に並べたとき、対応す
る順位の２つのパルス（計３組）の発生時刻差に比例し
た幅を持ち、高さは一定の方形パルスを出力する。ただ
し上記の２つのパルスのうち、先に発生するパルスが入
力される２系列のパルス列のどちらに属するかで、出力
は、正または負の方形パルスになる機能を備えている。
第１の制御装置30からの第１、第２、第３の制御信号は
それぞれ第１、第２、第３のレーザ装置駆動装置36,37,
38に、また第２の制御装置31からの第１、第２、第３の
制御信号はそれぞれ第１、第２、第３のレーザ装置駆動
装置39,40,41に入力される。レーザ装置駆動装置36,37,
38,39,40,41からは制御信号に応じた駆動電流が第１〜
第６のDFB10,11,12,13,14,15に注入される。
なお、第１〜第６のDFB10,11,12,13,14,15及びDBR1は
それぞれ第１〜第７の温度制御装置42,43,44,45,46,47,
48により温度変動幅0.2℃以内に温度安定化されてい
る。
それぞれ第１〜第７の温度制御装置42,43,44,45,46,47,
48により温度変動幅0.2℃以内に温度安定化されてい
る。
本実施例では、３台のレーザ装置を１組として、これ
を２組同時に安定化し、同じ発振周波数の組合せを持つ
レーザ装置の組を２組生成している。しかし１組当たり
のレーザ装置の個数及び組数はこれらの値に限定され
ず、前者は鋸歯状波発生器２からの出力信号の周波数、
ピーク電圧を調整し、１周期あたり、エタロン板５から
出射されるパルスの数を増大することにより、また後者
は第１の光分岐器の分岐数を増すことにより増大するこ
とができる。また各ローカル局において安定化するレー
ザ装置の発振周波数の種類は、エタロン板５から鋸歯状
波発生器２からの出力信号１周期内に出射されるパルス
に対応する周波数から任意の組合せを選択できる。組合
せの数は１周期中のパルスの数をＮとすると、2N−１で
与えられる。またエタロン板５の厚さを変えることによ
り、周波数間隔を自由に設定することができる。さらに
安定化する対象であるレーザ装置も半導体レーザに限定
されず、外部からの信号に応じて発振周波数が変化する
レーザ装置なら安定化可能である。
を２組同時に安定化し、同じ発振周波数の組合せを持つ
レーザ装置の組を２組生成している。しかし１組当たり
のレーザ装置の個数及び組数はこれらの値に限定され
ず、前者は鋸歯状波発生器２からの出力信号の周波数、
ピーク電圧を調整し、１周期あたり、エタロン板５から
出射されるパルスの数を増大することにより、また後者
は第１の光分岐器の分岐数を増すことにより増大するこ
とができる。また各ローカル局において安定化するレー
ザ装置の発振周波数の種類は、エタロン板５から鋸歯状
波発生器２からの出力信号１周期内に出射されるパルス
に対応する周波数から任意の組合せを選択できる。組合
せの数は１周期中のパルスの数をＮとすると、2N−１で
与えられる。またエタロン板５の厚さを変えることによ
り、周波数間隔を自由に設定することができる。さらに
安定化する対象であるレーザ装置も半導体レーザに限定
されず、外部からの信号に応じて発振周波数が変化する
レーザ装置なら安定化可能である。
また、本発明では、制御対象レーザ装置出射光と合波
する周波数掃引光は、基準パルス列と重畳されており、
ロックする目標となる時点での周波数掃引光パワーがそ
れ以外の部分の約２倍ある。従って本実施例のように各
ビートパルスと目標の基準パルスとの発生時刻差が０に
なるような制御を施す場合、各ビートパルスは対応する
基準パルスにロックされると急激にその尖頭パワーが大
きくなる。すなわち、本実施例では制御目標付近での弁
別感度が従来に比べて改善されている。
する周波数掃引光は、基準パルス列と重畳されており、
ロックする目標となる時点での周波数掃引光パワーがそ
れ以外の部分の約２倍ある。従って本実施例のように各
ビートパルスと目標の基準パルスとの発生時刻差が０に
なるような制御を施す場合、各ビートパルスは対応する
基準パルスにロックされると急激にその尖頭パワーが大
きくなる。すなわち、本実施例では制御目標付近での弁
別感度が従来に比べて改善されている。
（発明の効果） 以上に述べてきたように従来の方式では、制御基準部
から各制御対象レーザ装置群へ制御用の基準光を送るに
際し、周波数掃引光用と光パルス列用とに１本づつ計２
本の光伝送路が必要であったが、本発明ではこれらを１
本の光伝送路に統合することができた。
から各制御対象レーザ装置群へ制御用の基準光を送るに
際し、周波数掃引光用と光パルス列用とに１本づつ計２
本の光伝送路が必要であったが、本発明ではこれらを１
本の光伝送路に統合することができた。
また、各ローカル局において合成光から周波数掃引用
と光パルス列用との各基準光を分離する必要がない。こ
のため、この合成光を伝送するための光伝送路は通常の
もので足り、例えば偏光保存ファイバなどの特殊で高価
な光伝送路を必要としない。したがって、システムを安
価に構成することができる。
と光パルス列用との各基準光を分離する必要がない。こ
のため、この合成光を伝送するための光伝送路は通常の
もので足り、例えば偏光保存ファイバなどの特殊で高価
な光伝送路を必要としない。したがって、システムを安
価に構成することができる。
第１図は本発明の実施例の構成図、第２図（ａ）は第１
図の制御装置30及び31の第２の入力33及び35にそれぞれ
入力される信号（エタロン板５透過光を電気に変換した
信号）を示す図、第２図（ｂ）及び（ｃ）は各々制御装
置30及び31内部における低域通過フィルタの出力信号を
示す図、第３図は制御装置30,31の構成図、第４図は第
３図中のパルス発生時刻差計測回路の回路図である。 １……1.55μｍ帯波長可変分布ブラッグ反射形半導体レ
ーザ、２……鋸歯状波発生器、3,16,17,18,19,20,21…
…光アイソレータ、204,205,206……光分岐器、５……
エタロン板、401,402……偏光分離合波素子、10,11,12,
13,14,15……1.55μｍ帯分布帰還形レーザ、22,23,24,2
5……光合波器、26,27,28,29……光検出器、30,31……
制御装置、32,34……第１の入力、33,35……第２の入
力、36,37,38,39,40,41……レーザ装置駆動装置、42,4
3,44,45,46,47,48……温度制御装置、110,111,112……
鋸歯状波発生器２からの出力波形、113,114,115……第
１の制御装置30で得られる誤差信号、116,117,118……
第２の制御装置31で得られる誤差信号、101……低域通
過フィルタ、102……パルス発生時刻差計測回路、103,1
04,105……積分器、106,107,108……差動増幅器、501〜
503……偏光保存ファイバ。
図の制御装置30及び31の第２の入力33及び35にそれぞれ
入力される信号（エタロン板５透過光を電気に変換した
信号）を示す図、第２図（ｂ）及び（ｃ）は各々制御装
置30及び31内部における低域通過フィルタの出力信号を
示す図、第３図は制御装置30,31の構成図、第４図は第
３図中のパルス発生時刻差計測回路の回路図である。 １……1.55μｍ帯波長可変分布ブラッグ反射形半導体レ
ーザ、２……鋸歯状波発生器、3,16,17,18,19,20,21…
…光アイソレータ、204,205,206……光分岐器、５……
エタロン板、401,402……偏光分離合波素子、10,11,12,
13,14,15……1.55μｍ帯分布帰還形レーザ、22,23,24,2
5……光合波器、26,27,28,29……光検出器、30,31……
制御装置、32,34……第１の入力、33,35……第２の入
力、36,37,38,39,40,41……レーザ装置駆動装置、42,4
3,44,45,46,47,48……温度制御装置、110,111,112……
鋸歯状波発生器２からの出力波形、113,114,115……第
１の制御装置30で得られる誤差信号、116,117,118……
第２の制御装置31で得られる誤差信号、101……低域通
過フィルタ、102……パルス発生時刻差計測回路、103,1
04,105……積分器、106,107,108……差動増幅器、501〜
503……偏光保存ファイバ。
Claims (1)
- 【請求項１】発振周波数を掃引する参照用レーザ装置か
らの出射光を少なくとも２つに分岐し、一方を少なくと
も１つの各ローカル局に光周波数掃引光として分配し、
他方を光学共振器を透過させてその周波数変化を透過光
の振幅変化に変換して少なくとも１つの各ローカル局に
光周波数基準パルス光として分配し、各ローカル局では
複数の被制御レーザ装置の各々の出射光の少なくとも一
部を合成した光と、前記光周波数掃引光を合成して生じ
るビート光を受光して電気信号に変換し、低域フィルタ
を通すことによって生じる電気パルス列の各々のパルス
の発生時刻を、前記光周波数基準パルスを受光して生じ
る電気パルス列の対応する各々のパルス発生時刻に一致
するよう被制御レーザ装置の発振周波数を制御するレー
ザ装置発振周波数間隔安定化装置において、前記参照用
レーザ装置からの出射光を、直交する２つの直線偏光で
あるＰ偏光とＳ偏光にほぼ等しい光パワーで出力するよ
うに第１の偏光分離合波素子に光結合し、該第１の偏光
分離合波素子の２つの出力端子のうちの一方の端子から
出力された光を光学共振器に接続して振幅変化に変換
し、その振幅変化に変換した光と他方の端子から出力さ
れた光とを直交する偏光状態で第２の偏光分離合波素子
で合波して合波光を生成し、この合波光を前記各ローカ
ル局に分配し、各ローカル局で光分岐器により該合波光
を所定のパワー比に分岐して２つの分岐光を生成し、一
方の該分岐光をそのまま光周波数掃引光として用い、他
方の該分岐光をそのまま光周波数基準パルス光として用
いることを特徴とするレーザ装置発振周波数間隔安定化
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1168672A JP2890490B2 (ja) | 1989-06-30 | 1989-06-30 | レーザ装置発振周波数間隔安定化装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1168672A JP2890490B2 (ja) | 1989-06-30 | 1989-06-30 | レーザ装置発振周波数間隔安定化装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0334483A JPH0334483A (ja) | 1991-02-14 |
| JP2890490B2 true JP2890490B2 (ja) | 1999-05-17 |
Family
ID=15872352
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1168672A Expired - Fee Related JP2890490B2 (ja) | 1989-06-30 | 1989-06-30 | レーザ装置発振周波数間隔安定化装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2890490B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4957622B2 (ja) * | 2008-03-31 | 2012-06-20 | 富士通セミコンダクター株式会社 | 基板支持装置 |
| WO2010071089A1 (en) | 2008-12-17 | 2010-06-24 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light-emitting device and electronic device |
-
1989
- 1989-06-30 JP JP1168672A patent/JP2890490B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0334483A (ja) | 1991-02-14 |
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|---|---|---|---|
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