JP2889944B2 - 粉塵を除去する装置及びそれを用いた有害性排ガス中の粉塵を除去する方法 - Google Patents
粉塵を除去する装置及びそれを用いた有害性排ガス中の粉塵を除去する方法Info
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、ガス中に含まれる粉塵を除去する装置及び
この装置を用いてその除塵装置の上流の有害性排ガス発
生源や下流の有害性排ガス処理装置に圧力変動を起こさ
ないで有害性排ガスを除塵する方法に関するものであ
る。
この装置を用いてその除塵装置の上流の有害性排ガス発
生源や下流の有害性排ガス処理装置に圧力変動を起こさ
ないで有害性排ガスを除塵する方法に関するものであ
る。
（従来の技術および発明が解決しようとする課題） 半導体製造工程からは、アルシン、ホスフィン、ジボ
ラン、モノシラン等で代表されるガス状の有毒性物質を
含む有害性排ガスが生成する。このような有害性排ガス
は人体に対する毒性が極めて高いので、その排ガスの大
気への放出に際してはそれに含まれる有害性物質の完全
除去が要求される。
ラン、モノシラン等で代表されるガス状の有毒性物質を
含む有害性排ガスが生成する。このような有害性排ガス
は人体に対する毒性が極めて高いので、その排ガスの大
気への放出に際してはそれに含まれる有害性物質の完全
除去が要求される。
排ガス中に含まれる有害性物質を除去するための有効
な方法として、吸着法が広く知られており、また燃焼法
（特開昭62−134414号、特開昭62−152517号）も知られ
ている。前者の方法は、排ガス中の有害性物質を吸着剤
を充填した吸着層において吸着除去する方法であり、後
者の方法は排ガス中の有害性物質を燃焼条件で酸化分解
し、単体元素や酸化物の固体状物質に変換させて除去す
る方法である。
な方法として、吸着法が広く知られており、また燃焼法
（特開昭62−134414号、特開昭62−152517号）も知られ
ている。前者の方法は、排ガス中の有害性物質を吸着剤
を充填した吸着層において吸着除去する方法であり、後
者の方法は排ガス中の有害性物質を燃焼条件で酸化分解
し、単体元素や酸化物の固体状物質に変換させて除去す
る方法である。
半導体製造工程より排出される排ガス中にはAs,P,Ga,
In,Si,Alなどの有害物の固体粒子が排ガスに同伴されて
くる。この固体粒子は、吸着法では吸着層を閉塞する原
因となり、一方、燃焼法では燃焼炉のバーナーで有害性
排ガスを燃焼処理する際にその同伴量があまりに多くな
ると燃焼に支障をきたす恐れがあるのであらかじめ除去
しなければならない。
In,Si,Alなどの有害物の固体粒子が排ガスに同伴されて
くる。この固体粒子は、吸着法では吸着層を閉塞する原
因となり、一方、燃焼法では燃焼炉のバーナーで有害性
排ガスを燃焼処理する際にその同伴量があまりに多くな
ると燃焼に支障をきたす恐れがあるのであらかじめ除去
しなければならない。
ところで、一般的に気体から粉塵を除去する洗浄除塵
に用いる装置には、気液混相流を形成させる方式のジェ
ットスクラバー、サイクロンスクラバー、ベンチュリー
スクラバーが知られている。しかし、このようなスクラ
バーをそのまま前記有害性排ガスの除塵装置として用い
る時には、気液混相流の生じる部分で起る不規則な圧力
変動がその上流側のガス発生源である半導体製造装置に
伝達されて悪影響を与えるとともに、その下流側の燃焼
炉や吸着装置にも伝達されてその運転条件を変動させる
等の不都合を生じる。従って、粉塵を含むガスの除塵装
置において、その上流側及び下流側に圧力変動を生じさ
せない装置の開発が強く要望されている。
に用いる装置には、気液混相流を形成させる方式のジェ
ットスクラバー、サイクロンスクラバー、ベンチュリー
スクラバーが知られている。しかし、このようなスクラ
バーをそのまま前記有害性排ガスの除塵装置として用い
る時には、気液混相流の生じる部分で起る不規則な圧力
変動がその上流側のガス発生源である半導体製造装置に
伝達されて悪影響を与えるとともに、その下流側の燃焼
炉や吸着装置にも伝達されてその運転条件を変動させる
等の不都合を生じる。従って、粉塵を含むガスの除塵装
置において、その上流側及び下流側に圧力変動を生じさ
せない装置の開発が強く要望されている。
（課題を解決するための手段） 本発明者らは、除塵処理において、その上流側及び下
流側に圧力変動を生じさせない除塵装置を開発すべく鋭
意研究を重ねた結果、除塵槽内にジェットスクラバーを
内蔵させた除塵装置を用いることによってその課題を解
決し得ることを見出し、本発明を完成するに至った。
流側に圧力変動を生じさせない除塵装置を開発すべく鋭
意研究を重ねた結果、除塵槽内にジェットスクラバーを
内蔵させた除塵装置を用いることによってその課題を解
決し得ることを見出し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明によれば、除塵槽内部に、加圧液流のラ
インに連なるスプレーノズル及び除塵槽内に開放するガ
ス吹込口を有するジェットスクラバーを垂設し、さらに
除塵槽にはその上端に除塵された気体の排ガスライン及
び底部には排液ラインを設け、かつこの排液ラインを前
記加圧液流のラインに接続してなるガス中の粉塵を除去
する装置が提供される。
インに連なるスプレーノズル及び除塵槽内に開放するガ
ス吹込口を有するジェットスクラバーを垂設し、さらに
除塵槽にはその上端に除塵された気体の排ガスライン及
び底部には排液ラインを設け、かつこの排液ラインを前
記加圧液流のラインに接続してなるガス中の粉塵を除去
する装置が提供される。
また、その装置を使用する方法として、有害性排ガス
発生源の下流に除塵槽を介設して、その内部にジェット
スクラバーを予めそのガス吸込口を除塵槽内に開放され
て垂設し、排ガス中の粉塵をこのガス吸込口から吸引さ
せるとともにジェットスクラバー内に導入される加圧液
流により除塵槽底部に噴霧して沈積させ、同時に貯留液
を上記加圧液流として循環させることを特徴とする有害
性排ガス中の粉塵を除去する方法が提供される。
発生源の下流に除塵槽を介設して、その内部にジェット
スクラバーを予めそのガス吸込口を除塵槽内に開放され
て垂設し、排ガス中の粉塵をこのガス吸込口から吸引さ
せるとともにジェットスクラバー内に導入される加圧液
流により除塵槽底部に噴霧して沈積させ、同時に貯留液
を上記加圧液流として循環させることを特徴とする有害
性排ガス中の粉塵を除去する方法が提供される。
（発明の実施例） 本発明における有害性排ガスの処理装置の一例を図面
について説明すると、第１図において、１は半導体製造
装置等の有害性排ガス発生源を示す。２は吸着処理装
置、３は燃焼処理装置、４は逆火防止装置、５は除塵フ
ィルター、29は除塵装置を各示す。有害性排ガス発生源
からの有害性排ガス供給ライン（配管）は、その切換バ
ルブ７及び８により吸着処理装置２に続くライン９と、
燃焼処理装置３に続くライン11とに分岐される。通常の
状態においては、吸着処理装置に続くバルブ７は閉とさ
れ、燃焼処理装置に続くバルブ８は開放される。
について説明すると、第１図において、１は半導体製造
装置等の有害性排ガス発生源を示す。２は吸着処理装
置、３は燃焼処理装置、４は逆火防止装置、５は除塵フ
ィルター、29は除塵装置を各示す。有害性排ガス発生源
からの有害性排ガス供給ライン（配管）は、その切換バ
ルブ７及び８により吸着処理装置２に続くライン９と、
燃焼処理装置３に続くライン11とに分岐される。通常の
状態においては、吸着処理装置に続くバルブ７は閉とさ
れ、燃焼処理装置に続くバルブ８は開放される。
有害性排ガス発生源１からの有害性排ガス（以下、単
に排ガスとも言う）は、ライン６、除塵装置29、逆火防
止装置４を通過した後、ライン10を通り、バルブ８及び
ライン11を通り、さらにバーナー12を通って燃焼処理装
置３内に噴出されて燃焼処理される。燃焼排ガスは、ラ
イン13を通って装置から抜出され、除塵フィルター５及
び排気ポンプ14を通って大気へ放出される。燃焼処理装
置３では、有害性排ガスの燃焼処理により生成した微粉
末は、燃焼処理装置の上端部にライン18を介して導入さ
れ、炉壁を液膜として流下する液体及び中間部にライン
18′を介してスプレーされた液滴によって捕捉される。
微粉末を捕捉した液体は、装置底部から、ライン15、液
循環ポンプ16、冷却器17を通って再び燃焼炉へ循環され
る。その循環液の一部はライン19を通って廃液ドラム20
に貯留される。このような燃焼処理装置は、特願昭63−
218389号及び特願昭63−284930号明細書に記載されてい
る。
に排ガスとも言う）は、ライン６、除塵装置29、逆火防
止装置４を通過した後、ライン10を通り、バルブ８及び
ライン11を通り、さらにバーナー12を通って燃焼処理装
置３内に噴出されて燃焼処理される。燃焼排ガスは、ラ
イン13を通って装置から抜出され、除塵フィルター５及
び排気ポンプ14を通って大気へ放出される。燃焼処理装
置３では、有害性排ガスの燃焼処理により生成した微粉
末は、燃焼処理装置の上端部にライン18を介して導入さ
れ、炉壁を液膜として流下する液体及び中間部にライン
18′を介してスプレーされた液滴によって捕捉される。
微粉末を捕捉した液体は、装置底部から、ライン15、液
循環ポンプ16、冷却器17を通って再び燃焼炉へ循環され
る。その循環液の一部はライン19を通って廃液ドラム20
に貯留される。このような燃焼処理装置は、特願昭63−
218389号及び特願昭63−284930号明細書に記載されてい
る。
燃焼バーナ12への排ガス供給ライン11には、必要に応
じ、可燃性ガスがライン21を通って導入され、燃焼バー
ナー12には支燃ガスとしての酸素又は空気がライン22を
通って導入される。さらに、ライン11には、窒素ガスラ
イン23がバルブ25及びライン27を介して接続されるとと
もに、給水ライン24がバルブ26及びライン27を介して接
続され、必要に応じ、窒素ガスと水との混合物がライン
27を通って燃焼バーナノズル内を流れるようになってい
る。水と窒素ガスとの混合物を燃焼バーナノズル内を流
通させることによって、バーナノズルの洗浄を行うこと
ができる。なお、ライン13にはコントロールバルブ28を
有する空気導管が接続され、空気を燃焼排ガス中に混入
させ、燃焼排ガスを希釈することによって除塵フィルタ
ーの閉塞を回避できるようになっている。
じ、可燃性ガスがライン21を通って導入され、燃焼バー
ナー12には支燃ガスとしての酸素又は空気がライン22を
通って導入される。さらに、ライン11には、窒素ガスラ
イン23がバルブ25及びライン27を介して接続されるとと
もに、給水ライン24がバルブ26及びライン27を介して接
続され、必要に応じ、窒素ガスと水との混合物がライン
27を通って燃焼バーナノズル内を流れるようになってい
る。水と窒素ガスとの混合物を燃焼バーナノズル内を流
通させることによって、バーナノズルの洗浄を行うこと
ができる。なお、ライン13にはコントロールバルブ28を
有する空気導管が接続され、空気を燃焼排ガス中に混入
させ、燃焼排ガスを希釈することによって除塵フィルタ
ーの閉塞を回避できるようになっている。
本発明で用いる除塵装置29は、除塵槽の内部にジェッ
トスクラバーを付設した構造のものである。
トスクラバーを付設した構造のものである。
ジェットスクラバーは周知のようにジェットポンプを
利用した洗浄集じん装置であって、基本構造的にはイン
ゼクターおよびエゼクターと同じものである。第２図か
ら明らかな様に、本発明で用いるジェットスクラバー
は、スプレーノズル34、ディフューザー37、ガス吸込口
38からなり、その全体は除塵槽30に内蔵される。加圧さ
れた液流はライン32から除塵装置29に入り、ジェットス
クラバーのスプレーノズル34より高速噴流となって吹き
出される。これによってガス吸込口38よりガスが吸引さ
れ、ディフューザー37において気液の接触混合が行なわ
れるとともに、吸引ガス中の粉塵の除塵が行なわれる。
デュフューザー37を排出した粉塵を含有する液体は、そ
の粉塵を沈降部35に落として循環液中の粉塵濃度を上げ
ることなくポンフ31によりライン32を通って液循環す
る。このことは循環液の洗浄能力を保つのに非常に効果
がある。除塵された気体は除塵槽に設けたガス出口33か
ら排出される。有害性排ガスはライン６より除塵槽30に
入り、ガス吸込口38より吸引されるが、ライン６終端と
吸込口38の入口端とは除塵槽30内でそれぞれ開放端とな
り、また、この開放端にはデュフューザー37から排出さ
れたガスが循環し、吸引されることから、ライン６には
吸引のための負圧は作用しない。このため、除塵装置29
の出入口における排ガス圧力には何らの変化を生じな
い。なお、39は沈降部下部に設置されたドレンバルブで
あって、粉塵のスラリーを除去するためのものである。
また、36は液面計である。
利用した洗浄集じん装置であって、基本構造的にはイン
ゼクターおよびエゼクターと同じものである。第２図か
ら明らかな様に、本発明で用いるジェットスクラバー
は、スプレーノズル34、ディフューザー37、ガス吸込口
38からなり、その全体は除塵槽30に内蔵される。加圧さ
れた液流はライン32から除塵装置29に入り、ジェットス
クラバーのスプレーノズル34より高速噴流となって吹き
出される。これによってガス吸込口38よりガスが吸引さ
れ、ディフューザー37において気液の接触混合が行なわ
れるとともに、吸引ガス中の粉塵の除塵が行なわれる。
デュフューザー37を排出した粉塵を含有する液体は、そ
の粉塵を沈降部35に落として循環液中の粉塵濃度を上げ
ることなくポンフ31によりライン32を通って液循環す
る。このことは循環液の洗浄能力を保つのに非常に効果
がある。除塵された気体は除塵槽に設けたガス出口33か
ら排出される。有害性排ガスはライン６より除塵槽30に
入り、ガス吸込口38より吸引されるが、ライン６終端と
吸込口38の入口端とは除塵槽30内でそれぞれ開放端とな
り、また、この開放端にはデュフューザー37から排出さ
れたガスが循環し、吸引されることから、ライン６には
吸引のための負圧は作用しない。このため、除塵装置29
の出入口における排ガス圧力には何らの変化を生じな
い。なお、39は沈降部下部に設置されたドレンバルブで
あって、粉塵のスラリーを除去するためのものである。
また、36は液面計である。
本発明の除塵装置において、デュフューザー37から排
出される気液混相流は、その下方の液面に直接噴出衝突
させるのは好ましくなく、第２図に示したように、デュ
フューザー先端部を屈曲させて、除塵槽壁面方向に噴出
させるのが好ましい。また、デュフューザー先端部を液
面方向に向ける時には、その先端部と液面との間に、邪
魔板や金網、あるいは水を通す多孔板等を配設するのが
好ましい。
出される気液混相流は、その下方の液面に直接噴出衝突
させるのは好ましくなく、第２図に示したように、デュ
フューザー先端部を屈曲させて、除塵槽壁面方向に噴出
させるのが好ましい。また、デュフューザー先端部を液
面方向に向ける時には、その先端部と液面との間に、邪
魔板や金網、あるいは水を通す多孔板等を配設するのが
好ましい。
除塵装置で用いる液体としては、水、鉱物油、合成油
等の各種液体が用いられ、排ガスの種類によって適当に
選択される。
等の各種液体が用いられ、排ガスの種類によって適当に
選択される。
（発明の効果） 本発明の除塵装置は、以上のように、ガス吸込口を開
放端としてもジェットスクラバーを除塵槽に内蔵させた
構造を有するもので、その出入口における排ガス圧力に
は圧力変動を生じない。
放端としてもジェットスクラバーを除塵槽に内蔵させた
構造を有するもので、その出入口における排ガス圧力に
は圧力変動を生じない。
従って、本発明の除塵装置は、半導体製造装置等の圧
力変動を嫌う有害性排ガス発生源からの排ガスに対する
除塵装置として好適のものである。本発明の除塵装置を
半導体製造装置と有害性排ガス処理装置との間に介在さ
せて半導体製造装置からの有害性排ガスを処理する時に
は、有害性排ガス中の粉塵が除去されるため、その有害
性排ガス処理装置における粉塵トラブルを効果的に防止
することが可能となるとともに、その除塵処理において
圧力変動が生じないため、その半導体製造装置や有害性
排ガス処理装置では安定な操業を行うことができる。ま
た、本発明の除塵装置は、圧力変動を生じない除塵装置
として、前記した半導体製造分野に限らず、他の分野に
おいても有利に適用されるものである。
力変動を嫌う有害性排ガス発生源からの排ガスに対する
除塵装置として好適のものである。本発明の除塵装置を
半導体製造装置と有害性排ガス処理装置との間に介在さ
せて半導体製造装置からの有害性排ガスを処理する時に
は、有害性排ガス中の粉塵が除去されるため、その有害
性排ガス処理装置における粉塵トラブルを効果的に防止
することが可能となるとともに、その除塵処理において
圧力変動が生じないため、その半導体製造装置や有害性
排ガス処理装置では安定な操業を行うことができる。ま
た、本発明の除塵装置は、圧力変動を生じない除塵装置
として、前記した半導体製造分野に限らず、他の分野に
おいても有利に適用されるものである。
第１図は本発明による有害性排ガス処理装置の系統図、
第２図は本発明の除塵装置の断面図である。 １……有害性排ガス発生源 ２……吸着処理装置 ３……燃焼処理装置 7,8……切り換えバルブ 12……バーナー 16……液循環ポンプ 28……圧力コントロールバルブ 29……除塵装置 30……除塵槽 31……液循環用ポンプ 32……液循環ライン 33……排ガス出口ライン 34……スプレーノズル 35……沈降部 36……液面計 37……デュフューザー 38……ガス吸い込み口 39……スラリー抜出しバルブ
第２図は本発明の除塵装置の断面図である。 １……有害性排ガス発生源 ２……吸着処理装置 ３……燃焼処理装置 7,8……切り換えバルブ 12……バーナー 16……液循環ポンプ 28……圧力コントロールバルブ 29……除塵装置 30……除塵槽 31……液循環用ポンプ 32……液循環ライン 33……排ガス出口ライン 34……スプレーノズル 35……沈降部 36……液面計 37……デュフューザー 38……ガス吸い込み口 39……スラリー抜出しバルブ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 星野 伸子 神奈川県横浜市栄区小菅ケ谷町2804― 559 (72)発明者 河合 弘治 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソ ニー株式会社内 (72)発明者 石川 秀人 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソ ニー株式会社内 (72)発明者 森 芳文 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソ ニー株式会社内 (56)参考文献 特開 昭57−209622（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) B01D 47/00,53/18 B01J 10/00
Claims (2)
- 【請求項１】除塵槽内部に、加圧液流のラインに連なる
スプレーノズル及び除塵槽内に開放するガス吹込口を有
するジェットスクラバーを垂設し、さらに除塵槽にはそ
の上端に除塵された気体の排ガスライン及び底部には排
液ラインを設け、かつ、この排液ラインを前記加圧液流
のラインに接続してなるガス中の粉塵を除去する装置。 - 【請求項２】有害性排ガス発生源の下流に除塵槽を介設
して、その内部にジェットスクラバーを予めそのガス吸
込口を除塵槽内に開放させて垂設し、排ガス中の粉塵を
このガス吸込口から吸引させるとともにジェットスクラ
バー内に導入される加圧液流により除塵槽底部に噴霧し
て沈積させ、同時に貯留液を上記加圧液流として循環さ
せることを特徴とする有害性排ガス中の粉塵を除去する
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2887890A JP2889944B2 (ja) | 1990-02-08 | 1990-02-08 | 粉塵を除去する装置及びそれを用いた有害性排ガス中の粉塵を除去する方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2887890A JP2889944B2 (ja) | 1990-02-08 | 1990-02-08 | 粉塵を除去する装置及びそれを用いた有害性排ガス中の粉塵を除去する方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03232514A JPH03232514A (ja) | 1991-10-16 |
| JP2889944B2 true JP2889944B2 (ja) | 1999-05-10 |
Family
ID=12260647
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2887890A Expired - Fee Related JP2889944B2 (ja) | 1990-02-08 | 1990-02-08 | 粉塵を除去する装置及びそれを用いた有害性排ガス中の粉塵を除去する方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2889944B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2848509B2 (ja) * | 1993-11-04 | 1999-01-20 | 望月 ▼えい▲夫 | 浮遊微粒子捕捉装置 |
| JP4146405B2 (ja) * | 2004-08-13 | 2008-09-10 | 三菱重工業株式会社 | 除塵装置、有機系燃料のガス化システムおよび液体燃料製造システム |
| JP5652916B2 (ja) * | 2011-05-17 | 2015-01-14 | スチールプランテック株式会社 | 転炉排ガス処理装置のスカートシール装置 |
| TWI704954B (zh) * | 2019-02-27 | 2020-09-21 | 潘彥儒 | 以微氣泡捕捉固體顆粒的濕式處理裝置 |
-
1990
- 1990-02-08 JP JP2887890A patent/JP2889944B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03232514A (ja) | 1991-10-16 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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