JP2885205B2 - Lubricant for magnetic recording medium, magnetic recording medium and magnetic recording apparatus using the same - Google Patents

Lubricant for magnetic recording medium, magnetic recording medium and magnetic recording apparatus using the same

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JP2885205B2
JP2885205B2 JP30562996A JP30562996A JP2885205B2 JP 2885205 B2 JP2885205 B2 JP 2885205B2 JP 30562996 A JP30562996 A JP 30562996A JP 30562996 A JP30562996 A JP 30562996A JP 2885205 B2 JP2885205 B2 JP 2885205B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、パーフルオロポ
リエーテル系化合物からなる磁気記録媒体用潤滑剤(以
下、単に「潤滑剤」という。)、並びにこれを用いた磁
気記録媒体及び磁気記録装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a lubricant for a magnetic recording medium comprising a perfluoropolyether compound (hereinafter, simply referred to as "lubricant"), and a magnetic recording medium and a magnetic recording apparatus using the same. Things.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、ハードディスク装置においては、
装置全体の小型化及び記録容量の増大化への要求が顕著
になるに伴い、高記録密度化を目指した技術開発が進め
られている。ヘッド・ディスク系では、ヘッドとディス
クとの距離をより短縮する、又はディスクをより高速で
回転させることにより、高記録密度化が達成される。こ
のため、ヘッドを搭載しているスライダーとディスクと
の高速接触確率が増加することにより、その結果潤滑剤
が劣化して種々の障害が誘発される問題が顕在化してき
た。
2. Description of the Related Art In recent years, in a hard disk drive,
As the demand for miniaturization of the entire apparatus and increase in recording capacity becomes remarkable, technical development aiming at higher recording density is being promoted. In the head / disk system, a higher recording density is achieved by shortening the distance between the head and the disk or rotating the disk at a higher speed. As a result, the probability of high-speed contact between the slider on which the head is mounted and the disk is increased, and as a result, the problem that the lubricant deteriorates and various obstacles are induced has become apparent.

【0003】発明者が検討した結果、潤滑剤の劣化モー
ドは次の二つに大別されることがわかった。その一つは
潤滑剤分子であるパーフルオロポリエーテルの分解であ
り、他の一つは高粘性物質の生成である。
As a result of a study by the inventors, it has been found that the deterioration modes of the lubricant are roughly classified into the following two modes. One is the decomposition of the perfluoropolyether, which is a lubricant molecule, and the other is the production of a highly viscous substance.

【0004】パーフルオロポリエーテルが分解すると、
潤滑効果が低下し、スライダーとの高速接触による媒体
保護層の摩耗速度が増大して、やがてヘッドクラッシュ
に至る。潤滑効果を長期間保持するための手段として、
パーフルオロポリエーテルの分解を抑制する機構を付与
した潤滑剤に関しては数多くの公知例がある。例えば、
パーフルオロポリエーテルにアルキルアミンを添加した
ものについては、特開平5−20675号公報、特開平
6−145687号公報、特開平7−62378号公
報、特開平7−93744号公報、特開平7−9374
5号公報等に記載されている。これらのうち、例えば特
開平7−93744号公報は、パーフルオロポリエーテ
ルに長鎖アルキルアミンを添加した潤滑剤に関するもの
である。アルキルアミンとしては、直鎖、分岐の何れで
もよく、また炭素数は6以上のものが好ましいとされて
いる。この潤滑剤により、優れた潤滑性を長期に渡って
発現でき、走行性、耐摩耗性、耐久性ともに良好で高性
能化できるとされている。このような潤滑剤はオーディ
オテープやビデオテープ等の磁気テープに用いる限り、
パーフルオロポリエーテルの分解は十分に抑制され、走
行性等の高性能化が図れることが、発明者によっても確
認された。
When the perfluoropolyether decomposes,
The lubricating effect is reduced, and the wear speed of the medium protective layer due to high-speed contact with the slider increases, leading to a head crash. As a means to maintain the lubrication effect for a long time,
There are many known examples of a lubricant provided with a mechanism for suppressing the decomposition of perfluoropolyether. For example,
Regarding those obtained by adding an alkylamine to perfluoropolyether, JP-A-5-20675, JP-A-6-145687, JP-A-7-62378, JP-A-7-93744, and JP-A-7-93744 disclose. 9374
No. 5 publication. Of these, for example, JP-A-7-93744 relates to a lubricant obtained by adding a long-chain alkylamine to perfluoropolyether. The alkylamine may be linear or branched, and preferably has 6 or more carbon atoms. It is said that this lubricant can exhibit excellent lubricating properties over a long period of time, and has good running properties, abrasion resistance and durability, and can have high performance. As long as such lubricants are used for magnetic tapes such as audio tapes and video tapes,
The inventors have also confirmed that the decomposition of perfluoropolyether is sufficiently suppressed, and high performance such as running performance can be achieved.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、近年の
ハードディスク装置では、ディスク回転数が5400r
pm、又はこれをさらに超えるものがある。このような
過酷な条件では、上記例をはじめこれまでの公知例で
は、パーフルオロポリエーテルの分解を抑制することが
できず、従って潤滑性能の低下を防止することはできな
い。
However, in recent hard disk drives, the disk rotation speed is 5400 r.
pm, or even higher. Under such severe conditions, decomposition of perfluoropolyether cannot be suppressed in the known examples including the above-mentioned examples, and therefore, a decrease in lubrication performance cannot be prevented.

【0006】発明者が検討したところ、末端に水酸基を
持つパーフルオロポリエーテルにアルキルアミンを添加
した潤滑剤では、次の作用により潤滑性を長期にわたっ
て発現できたものと考えられる。つまり、摺動によって
潤滑剤中に生成した、パーフルオロポリエーテルの分解
反応の触媒となる酸性物質(主として有機カルボン酸)
を、アルキルアミンによって中和してその触媒作用を消
失させるという作用である。
According to the studies made by the inventor, it is considered that a lubricant obtained by adding an alkylamine to a perfluoropolyether having a hydroxyl group at a terminal can exert lubricating properties over a long period of time by the following action. In other words, an acidic substance (mainly an organic carboxylic acid) which is formed in the lubricant by sliding and serves as a catalyst for the decomposition reaction of perfluoropolyether
Is neutralized by an alkylamine to eliminate its catalytic action.

【0007】ところが、ハードディスク媒体では、摺動
によって生成する酸性物質(主としてフッ化水素酸)が
磁気テープの場合とは異なるためにアルキルアミンでは
十分に中和することができず、またその濃度も磁気テー
プの場合の数百から数万倍におよんでいるために十分な
中和ができなかった。このような条件においてパーフル
オロポリエーテルの分解を抑制するための真に有効な手
段については、これまで公知例は存在しなかった。
However, in a hard disk medium, an acidic substance (mainly hydrofluoric acid) generated by sliding is different from that of a magnetic tape, so that it cannot be sufficiently neutralized with an alkylamine, and its concentration is also low. Because of the hundreds to tens of thousands of times that of a magnetic tape, sufficient neutralization could not be performed. There has been no known example of a truly effective means for suppressing the decomposition of perfluoropolyether under such conditions.

【0008】また、潤滑剤の劣化による高粘性物質の生
成は、ヘッド・ディスク系の障害発生原因として更に深
刻である。この高粘性物質は、パーフルオロポリエーテ
ルの分解物と金属イオンとの錯化合物を主成分とした潤
滑剤変性物である。この高粘性物質がスライダーに付着
すると、その空気力学的特性が変化して、スライダーの
浮上量変動、ピッチ角及びロール角変動等、浮上姿勢が
変化する。その結果、記録再生時におけるエラーレート
の増加、スライダーとディスクとの高速接触確率の増
加、スライダーエッジ部とディスクとの高速摺動等が起
こり、短時間でヘッドクラッシュに至る可能性が増加す
る。このような問題を回避するためには、スライダーと
ディスクとの高速接触によっても、高粘性物質が生成し
ない潤滑剤を用いることが極めて有効である。しかしな
がら、このような効果を有する潤滑剤に関する公知例は
存在しなかった。
Further, the generation of a highly viscous substance due to deterioration of the lubricant is more serious as a cause of failure of the head / disk system. This highly viscous substance is a modified lubricant mainly composed of a complex compound of a decomposition product of perfluoropolyether and a metal ion. When this highly viscous substance adheres to the slider, its aerodynamic characteristics change, and the flying attitude of the slider, such as the flying height variation, pitch angle and roll angle variation, changes. As a result, an increase in the error rate during recording and reproduction, an increase in the probability of high-speed contact between the slider and the disk, a high-speed sliding between the slider edge portion and the disk, etc. occur, and the possibility of a head crash in a short time increases. In order to avoid such a problem, it is extremely effective to use a lubricant that does not generate a highly viscous substance even by high-speed contact between the slider and the disk. However, there has been no known example of a lubricant having such an effect.

【0009】[0009]

【発明の目的】ハードディスク装置のヘッド・ディスク
系の信頼性を確保するためには、潤滑剤の劣化を防ぐこ
とが非常に有効である。前述の通り、潤滑剤の劣化は、
パーフルオロポリエーテルの分解及び高粘性物質の生成
の二つのモードがあり、それぞれの劣化モードを抑制す
ることが本発明の目的である。
In order to ensure the reliability of the head / disk system of the hard disk drive, it is very effective to prevent the deterioration of the lubricant. As mentioned above, the deterioration of the lubricant
There are two modes of decomposition of perfluoropolyether and generation of a highly viscous substance, and it is an object of the present invention to suppress the respective deterioration modes.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明者が鋭意検討した
結果、潤滑剤分子であるパーフルオロポリエーテルの分
解には摩擦による熱分解と、ルイス酸との反応による化
学的分解とがあることがわかった。
As a result of extensive studies by the present inventors, the decomposition of perfluoropolyether, which is a lubricant molecule, includes thermal decomposition by friction and chemical decomposition by reaction with a Lewis acid. I understood.

【0011】熱分解は、約150℃以上の温度でパーフ
ルオロポリエーテルの主鎖のエーテル結合が解裂するこ
とにより起こる。解裂に伴って2個のフッ素が脱離する
が、このフッ素ラジカルは水分子と反応して速やかに2
分子のフッ化水素酸(HF)に変化する。化学的分解は
このHFとの反応により起こる。すなわち、HF中のH
+ が主鎖のエーテル酸素を攻撃して、エーテル解裂を引
き起こすのである。また、同様の分解反応は、スライダ
ー材料であるAl2O3-TiC との接触によっても起こる。こ
の際、熱分解の場合と同様に新たに2分子のHFが生成
する。すなわち、パーフルオロポリエーテルは、ひとた
び熱分解やAl2O3-TiC との接触分解がおこると、HFに
よる連鎖的な化学的分解反応が引き起こされるのであ
る。
[0011] Thermal decomposition occurs at a temperature of about 150 ° C or higher by the cleavage of ether bonds in the main chain of perfluoropolyether. With the cleavage, two fluorines are eliminated, and the fluorine radical reacts with water molecules and rapidly reacts with the fluorine molecules.
Changes to molecular hydrofluoric acid (HF). Chemical decomposition occurs by this reaction with HF. That is, H in HF
The + attacks the main chain ether oxygen, causing ether cleavage. Further, a similar decomposition reaction also occurs upon contact with Al 2 O 3 —TiC, which is a slider material. At this time, two molecules of HF are newly generated as in the case of thermal decomposition. That is, once the perfluoropolyether undergoes thermal decomposition or catalytic decomposition with Al 2 O 3 —TiC, a chain chemical decomposition reaction is caused by HF.

【0012】高粘性物質は、エーテル解裂したパーフル
オロポリエーテルの断片が金属イオンと錯体を形成する
ことによって形成される。金属イオンは、磁性膜の金属
成分が媒体保護層を通して表面に拡散したり、媒体保護
層の摩耗、亀裂、剥離等によって露出した磁性膜が潤滑
剤中のHFと反応したりすることにより発生する。
[0012] Highly viscous materials are formed by the formation of ether-cleaved perfluoropolyether fragments with metal ions. Metal ions are generated when metal components of the magnetic film diffuse to the surface through the medium protective layer, or when the magnetic film exposed by abrasion, cracking, peeling, or the like of the medium protective layer reacts with HF in the lubricant. .

【0013】潤滑剤分子の連鎖的な化学的分解や金属錯
体の生成を抑制するためには、HF、Al2O3-TiC 、金属
イオン等とパーフルオロポリエーテルとの反応を阻害す
ることが有効であると考えられる。
In order to suppress the chain chemical decomposition of lubricant molecules and the formation of metal complexes, it is necessary to inhibit the reaction of HF, Al 2 O 3 —TiC, metal ions, etc. with perfluoropolyether. Considered valid.

【0014】すなわち、スライダーとディスクとの高速
接触により潤滑剤が熱的に分解するとHFが生成する
が、このHFとの反応速度がパーフルオロポリエーテル
よりも十分大きい物質を添加することにより、HFとパ
ーフルオロポリエーテルとの反応は事実上問題とならな
い程度まで抑制される。また、Al2O3-TiC の表面に吸着
する物質を添加することにより、パーフルオロポリエー
テルの接触分解が阻害される。更に、高粘性物質の生成
についても金属イオンとの錯生成定数がパーフルオロポ
リエーテルよりも十分大きい物質を添加することによ
り、金属イオンとパーフルオロポリエーテルとの反応も
事実上問題とならない程度まで抑制されると考えられ
る。
That is, HF is generated when the lubricant is thermally decomposed due to the high-speed contact between the slider and the disk. By adding a substance whose reaction rate with HF is sufficiently higher than that of perfluoropolyether, HF is added. The reaction between the compound and the perfluoropolyether is suppressed to such an extent that there is no practical problem. Further, by adding a substance adsorbed on the surface of Al 2 O 3 —TiC, catalytic decomposition of perfluoropolyether is inhibited. Furthermore, the addition of a substance whose complexation constant with metal ions is sufficiently larger than that of perfluoropolyether for the formation of a highly viscous substance can be reduced to such an extent that the reaction between the metal ion and perfluoropolyether does not cause any problem. It is thought to be suppressed.

【0015】本発明は、このような考え方に立脚してな
されたものである。すなわち、HFとの反応速度がパー
フルオロポリエーテルよりも数百〜数千倍大きく、同時
に金属イオンとの錯生成定数がパーフルオロポリエーテ
ルよりも数十〜数万倍大きい物質の一般式を請求項2〜
11に規定し、Al2O3-TiC の表面に吸着してパーフルオ
ロポリエーテルの接触を阻害する物質の一般式を請求項
2に規定し、さらにこれらの化合物をパーフルオロポリ
エーテルに添加した新規な潤滑剤を請求項1〜11に規
定したものである。また、これらの新規な潤滑剤を用い
た磁気ディスク及び磁気ディスク装置についても請求項
12〜15に規定したものである。
The present invention has been made based on such a concept. That is, a general formula of a substance whose reaction rate with HF is hundreds to thousands of times higher than that of perfluoropolyether and whose complex formation constant with metal ions is several tens to tens of thousands times higher than that of perfluoropolyether is claimed. Item 2
The general formula of the substance which adsorbs on the surface of Al 2 O 3 —TiC and inhibits the contact of the perfluoropolyether is specified in claim 2, and these compounds are added to the perfluoropolyether. A novel lubricant is defined in claims 1 to 11. Magnetic disks and magnetic disk devices using these new lubricants are also defined in claims 12 to 15.

【0016】これらの新規な潤滑剤を磁気ディスクに適
用した結果、スライダーとディスクとの高速接触が定常
的に起こる条件においても、HFによるパーフルオロポ
リエーテルの連鎖的な分解が抑制され、また同時に高粘
性物質の生成も抑制されることが確認された。このこと
は、潤滑性能の観点からはCSS(コンタクト・スター
ト・アンド・ストップ)試験により摩擦係数μの変化が
小さく、また、シーク試験によりヘッドスライダーへの
高粘性物質の付着量が少なくなるという効果が確認され
た。
As a result of applying these novel lubricants to a magnetic disk, chain degradation of perfluoropolyether by HF is suppressed even under conditions where high-speed contact between the slider and the disk constantly occurs, and at the same time, It was confirmed that the production of highly viscous substances was also suppressed. This means that from the viewpoint of lubrication performance, the change in friction coefficient μ is small in a CSS (contact start and stop) test, and the amount of highly viscous substances adhered to a head slider is reduced in a seek test. Was confirmed.

【0017】本発明は、特に、近年盛んに研究開発が行
われているヘッドと媒体が密接して摺動するタイプのコ
ンタクトレコーディング又はニアコンタクトレコーディ
ングと呼ばれる磁気記録装置に適用した場合効果を発揮
する。すなわち、従来の浮上記録方式の磁気記録装置で
は、ディスク回転時には、ヘッドとディスクが接触しな
いことが前提とされている。しかし、コンタクトレコー
ディング又はニアコンタクトレコーディングでは、ヘッ
ドと回転中のディスク面との接触時間が連続的であるた
めにヘッドとディスクとの摩擦が大きな問題となってく
る。
The present invention is particularly effective when applied to a magnetic recording device called a contact recording or a near-contact recording of a type in which a head and a medium are closely slid, which has been actively researched and developed in recent years. . That is, in the conventional magnetic recording apparatus of the levitation recording system, it is assumed that the head and the disk do not come into contact when the disk is rotated. However, in contact recording or near contact recording, friction between the head and the disk becomes a serious problem because the contact time between the head and the rotating disk surface is continuous.

【0018】このような条件下で、請求項1〜11に記
載の潤滑剤を用いた場合、特に、著しい効果が得られ
る。さらに、当該潤滑剤をフロッピーディスク、オーデ
ィオテープ、ビデオテープに適用した結果、走行性、耐
摩耗性、耐久性ともに良好で高性能化を図ることができ
た。
Under such conditions, when the lubricants according to the first to eleventh aspects are used, particularly remarkable effects are obtained. Furthermore, as a result of applying the lubricant to floppy disks, audio tapes, and video tapes, it was possible to improve the running performance, abrasion resistance, and durability, and improve the performance.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】本発明の主成分であるパーフルオ
ロポリエーテル系化合物の主鎖構造は、例えば次の一般
式で示されるものである。 一般式 -CF2-(O-CF2-CF2)p -(O-CF2)q -O-CF2- 一般式 F-(CF2-CF2-CF2) n -CF2-CF2- 一般式 CF3-(O-CF-(CF3)-CF2)m -(O-CF2)l - 上記p,q,n,m,l は1以上の整数を示す。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The main chain structure of a perfluoropolyether compound as a main component of the present invention is represented by, for example, the following general formula. General formula -CF 2- (O-CF 2 -CF 2 ) p- (O-CF 2 ) q -O-CF 2 -General formula F- (CF 2 -CF 2 -CF 2 ) n -CF 2 -CF 2 -General formula CF 3- (O-CF- (CF 3 ) -CF 2 ) m- (O-CF 2 ) l -The above p, q, n, m, l represent an integer of 1 or more.

【0020】但し、本発明に係るパーフルオロポリエー
テルの主鎖構造は、何等これらに限定されるものではな
い。また、末端官能基の例としては、例えば -CH2OH, -
OH,-CH2COOH, -COOH, -C6H5, 縮合環基を挙げることが
できるが、何等これらに限定されるものではない。分子
量は特に限定しないが、その中心分子量が2000から
4000程度が好ましい。
However, the main chain structure of the perfluoropolyether according to the present invention is not limited to these. Examples of the terminal functional group include, for example, -CH 2 OH,-
OH, -CH 2 COOH, -COOH, -C 6 H 5, there may be mentioned fused ring group, not be construed as being limited thereto. Although the molecular weight is not particularly limited, the center molecular weight is preferably about 2,000 to 4,000.

【0021】本発明の成分のうちパーフルオロポリエー
テル以外の成分の骨格は下記のとおりである。
The skeletons of the components of the present invention other than the perfluoropolyether are as follows.

【0022】[0022]

【化17】 〔一般式[1]中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R
6 はそれぞれ独立にフェノキシ誘導体基を示す。これら
のフェノキシ誘導体基は、置換基を有していてもよく、
水素原子の一部又は全部がフッ素原子によって置換され
ていてもよい。〕
Embedded image [In the general formula [1], R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R
6 each independently represents a phenoxy derivative group. These phenoxy derivative groups may have a substituent,
Some or all of the hydrogen atoms may be replaced by fluorine atoms. ]

【0023】[0023]

【化18】 〔一般式[2]中、Zは窒素原子、リン原子の何れかを
示す。また、R1 、R2、R3 はそれぞれ独立に、水素
原子、水酸基、アルキル基、アリール基の何れかを示
す。これらのアルキル基又はアリール基は、置換基を有
していてもよく、水素原子の一部又は全部がフッ素原子
によって置換されていてもよい。〕
Embedded image [In the general formula [2], Z represents either a nitrogen atom or a phosphorus atom. R 1 , R 2 , and R 3 each independently represent any one of a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkyl group, and an aryl group. These alkyl groups or aryl groups may have a substituent, and part or all of the hydrogen atoms may be substituted with fluorine atoms. ]

【0024】[0024]

【化19】 〔一般式[3]中、Zは窒素原子、リン原子の何れかを
示す。また、R1 は水素原子、水酸基、アルキル基、ア
リール基の何れかを示す。これらのアルキル基又はアリ
ール基は、置換基を有していてもよく、水素原子の一部
又は全部がフッ素原子によって置換されていてもよい。
2 はアルキル基、アリール基の何れかを示す。このア
ルキル基又はアリール基は、置換基を有していてもよ
く、水素原子の一部又は全部がフッ素原子によって置換
されていてもよい。〕
Embedded image [In the general formula [3], Z represents either a nitrogen atom or a phosphorus atom. R 1 represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkyl group, or an aryl group. These alkyl groups or aryl groups may have a substituent, and part or all of the hydrogen atoms may be substituted with fluorine atoms.
R 2 represents either an alkyl group or an aryl group. The alkyl group or the aryl group may have a substituent, and part or all of the hydrogen atoms may be substituted with a fluorine atom. ]

【0025】一般式[4] Z≡R 〔一般式[4]中、Zは窒素原子、リン原子の何れかを
示す。Rはアルキル基、アリール基の何れかを示す。こ
のアルキル基又はアリール基は、置換基を有していても
よく、水素原子の一部又は全部がフッ素原子によって置
換されていてもよい。〕
General formula [4] Z≡R [In general formula [4], Z represents either a nitrogen atom or a phosphorus atom. R represents either an alkyl group or an aryl group. The alkyl group or the aryl group may have a substituent, and part or all of the hydrogen atoms may be substituted with a fluorine atom. ]

【0026】[0026]

【化20】 〔一般式[5]中、Zはそれぞれ独立に窒素原子、リン
原子の何れかを示す。R1 、R2 、R3 、R4 はそれぞ
れ独立に、水素原子、水酸基、アルキル基、アリール基
の何れかを示す。これらのアルキル基又はアリール基
は、置換基を有していてもよく、水素原子の一部又は全
部がフッ素原子によって置換されていてもよい。〕
Embedded image [In the general formula [5], Z independently represents a nitrogen atom or a phosphorus atom. R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 each independently represent any one of a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkyl group, and an aryl group. These alkyl groups or aryl groups may have a substituent, and part or all of the hydrogen atoms may be substituted with fluorine atoms. ]

【0027】[0027]

【化21】 〔一般式[6]中、Zはそれぞれ独立に窒素原子、リン
原子の何れかを示す。R1 、R2 、R3 、R4 、R5
それぞれ独立に、アルキル基、アリール基の何れかを示
す。R1 、R2 、R4 、R5 は水素原子又は水酸基でも
よい。これらのアルキル基又はアリール基は、置換基を
有していてもよく、水素原子の一部又は全部がフッ素原
子によって置換されていてもよい。〕
Embedded image [In the general formula [6], Z independently represents a nitrogen atom or a phosphorus atom. R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , and R 5 each independently represent an alkyl group or an aryl group. R 1 , R 2 , R 4 and R 5 may be a hydrogen atom or a hydroxyl group. These alkyl groups or aryl groups may have a substituent, and part or all of the hydrogen atoms may be substituted with fluorine atoms. ]

【0028】窒素原子、酸素原子、リン原子、イオウ原
子、の何れか1種類以上を1原子以上含む複素環化合
物、又はこの複素環化合物と他の環状化合物との縮合多
環化合物。上記複素環化合物は、例えば次のような式で
表される。NC4H4, N2C3H5, NC5H5, NC5H11, NC6H6, NC7
H7, NPC8H6, N2C1 2H8, OC4H4, OC5H5, PC4H4, PC5H5, S
C4H4, OSC3H3, AsC4H4, AsC5H5, SeC4H4,SSeC3H3, SbC4
H4, SbC5H5, TeC4H4, Te2C3H3 。但し、本発明における
複素環化合物は、何等これらに限定されるものではな
い。また、これらの基に存在してもよい置換基は、例え
ばアルキル基、アリール基、複素環基、-F, -Cl, -Br -
I, -OH, -CO, -SH, -SCH3, -NH2, -N(CH3)2,-NO, -NO2,
-NOH, -CHO, -COOH, -COOCH3, -CN, -SO, -PH2, -P(CH
3)2, -CH2OCH3等を挙げることができるが、これらに限
定されるものではない。
A heterocyclic compound containing one or more of any one of nitrogen, oxygen, phosphorus and sulfur, or a condensed polycyclic compound of this heterocyclic compound and another cyclic compound. The heterocyclic compound is represented, for example, by the following formula. NC 4 H 4 , N 2 C 3 H 5 , NC 5 H 5 , NC 5 H 11 , NC 6 H 6 , NC 7
H 7, NPC 8 H 6, N 2 C 1 2 H 8, OC 4 H 4, OC 5 H 5, PC 4 H 4, PC 5 H 5, S
C 4 H 4 , OSC 3 H 3 , AsC 4 H 4 , AsC 5 H 5 , SeC 4 H 4 , SSeC 3 H 3 , SbC 4
H 4, SbC 5 H 5, TeC 4 H 4, Te 2 C 3 H 3. However, the heterocyclic compound in the present invention is not limited to these. Further, a substituent which may be present on these groups includes, for example, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, -F, -Cl, -Br-
I, -OH, -CO, -SH, -SCH 3 , -NH 2 , -N (CH 3 ) 2 , -NO, -NO 2 ,
-NOH, -CHO, -COOH, -COOCH 3 , -CN, -SO, -PH 2, -P (CH
3 ) 2 , -CH 2 OCH 3 and the like, but are not limited thereto.

【0029】一般式[7] R1 −Z−R2 〔一般式[7]中、Zは酸素原子、イオウ原子の何れか
を示す。R1 、R2 はそれぞれ独立に、水素原子、水酸
基、アルキル基、アリール基の何れかを示す。これらの
アルキル基又はアリール基は、置換基を有していてもよ
く、水素原子の一部又は全部がフッ素原子によって置換
されていてもよい。〕
Formula [7] R 1 -ZR 2 [In the formula [7], Z represents either an oxygen atom or a sulfur atom. R 1 and R 2 each independently represent any one of a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkyl group, and an aryl group. These alkyl groups or aryl groups may have a substituent, and part or all of the hydrogen atoms may be substituted with fluorine atoms. ]

【0030】一般式[8] Z=R 〔一般式[8]中、Zは酸素原子、イオウ原子の何れか
を示す。Rはアルキル基、アリール基の何れかを示す。
アルキル基又はアリール基は、置換基を有していてもよ
く、水素原子の一部又は全部がフッ素原子によって置換
されていてもよい。〕
General formula [8] Z = R [In general formula [8], Z represents either an oxygen atom or a sulfur atom. R represents either an alkyl group or an aryl group.
The alkyl group or the aryl group may have a substituent, and part or all of the hydrogen atoms may be substituted with a fluorine atom. ]

【0031】一般式[9] R1 −Z−Z−R2 〔一般式[9]中、Zはそれぞれ独立に酸素原子、イオ
ウ原子の何れかを示す。R1 、R2 はそれぞれ独立に水
素原子、水酸基、アルキル基、アリール基の何れかを示
す。これらのアルキル基又はアリール基は、置換基を有
していてもよく、水素原子の一部又は全部がフッ素原子
によって置換されていてもよい。〕
General formula [9] R 1 -ZZR 2 [In general formula [9], Z independently represents any one of an oxygen atom and a sulfur atom. R 1 and R 2 each independently represent any one of a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkyl group, and an aryl group. These alkyl groups or aryl groups may have a substituent, and part or all of the hydrogen atoms may be substituted with fluorine atoms. ]

【0032】一般式[10] R1 −Z−R2 −Z−
3 〔一般式[10]中、Zはそれぞれ独立に酸素原子、イ
オウ原子の何れかを示す。R1 、R2 、R3 はそれぞれ
独立にアルキル基、アリール基の何れかを示す。R1
3 は水素原子又は水酸基でもよい。これらのアルキル
基又はアリール基は、置換基を有していてもよく、水素
原子の一部又は全部がフッ素原子によって置換されてい
てもよい。〕
Formula [10] R 1 -Z-R 2 -Z-
R 3 [In the general formula [10], Z independently represents an oxygen atom or a sulfur atom. R 1 , R 2 , and R 3 each independently represent an alkyl group or an aryl group. R 1 ,
R 3 may be a hydrogen atom or a hydroxyl group. These alkyl groups or aryl groups may have a substituent, and part or all of the hydrogen atoms may be substituted with fluorine atoms. ]

【0033】上記一般式[1]〜[10]に記載されて
いるアルキル基又はアリール基は、例えば次のような式
で示されるものである。-CH3, -CH2-CH3, -(CH2)5-CH
3,-(CH2)10-CH3, -(CH2)2 0-CH3, -(CH2)29-CH3, -
(CH2)3=C(CH3)-CH2-CH3, -(CH2)5-C(CH=CH2)2-CH2-C
H3, -(CH2)6-C(CH2-CH2-CH3)2-(CH2)3-CH(CH2-CH2-CH2
-CH3)-CH2-CH3, -CF2-CF3, -(CF2)10-CH3, -(CF2)3-
C(CH3)=CF-CF3, -(CF2)2 6-C(CF3)2-CF3, -C6H5, -C6
H4(-CH3), -C10H7, -C1 0H5(-CH2-CH3)2, -C1 4H9, -
C14H6(-CH3)(-CH=CH2)(-CH2-CH2-CH3), -C30H1 7, -C6
F5, -C10F5(-CH2-CH3)2, -C10F5(-CF2-CF3)2, -C30F
1 7 。但し、本発明におけるアルキル基又はアリール基
は、何等これらに限定されるものではない。また、これ
らの基に存在してもよい置換基は、例えばアルキル基、
アリール基、複素環基、-Cl, -Br -I, -OH, -CO, -SH,
-SCH3, -NH2, -N(CH3)2, -NO, -NO2, -NOH, -CHO, -CO
OH,-COOCH3, -CN, -SO, -PH2, -P(CH3)2, -CH2OCH3
を挙げることができるが、これらに限定されるものでは
ない。
As described in the above general formulas [1] to [10]
The alkyl group or the aryl group is, for example,
It is shown by. -CHThree, -CHTwo-CHThree,-(CHTwo)Five-CH
Three,-(CHTwo)Ten-CHThree,-(CHTwo)Two 0-CHThree,-(CHTwo)29-CHThree,-
(CHTwo)Three= C (CHThree) -CHTwo-CHThree,-(CHTwo)Five-C (CH = CHTwo)Two-CHTwo-C
HThree,-(CHTwo)6-C (CHTwo-CHTwo-CHThree)Two-(CHTwo)Three-CH (CHTwo-CHTwo-CHTwo
-CHThree) -CHTwo-CHThree, -CFTwo-CFThree,-(CFTwo)Ten-CHThree,-(CFTwo)Three-
C (CHThree) = CF-CFThree,-(CFTwo)Two 6-C (CFThree)Two-CFThree, -C6HFive, -C6
HFour(-CHThree), -CTenH7, -C1 0HFive(-CHTwo-CHThree)Two, -C1 FourH9,-
C14H6(-CHThree) (-CH = CHTwo) (-CHTwo-CHTwo-CHThree), -C30H1 7, -C6
FFive, -CTenFFive(-CHTwo-CHThree)Two, -CTenFFive(-CFTwo-CFThree)Two, -C30F
1 7. However, the alkyl group or the aryl group in the present invention
Is by no means limited to these. Also this
Substituents that may be present on these groups include, for example, alkyl groups,
Aryl group, heterocyclic group, -Cl, -Br -I, -OH, -CO, -SH,
-SCHThree, -NHTwo, -N (CHThree)Two, -NO, -NOTwo, -NOH, -CHO, -CO
OH, -COOCHThree, -CN, -SO, -PHTwo, -P (CHThree)Two, -CHTwoOCHThree etc
But are not limited to these.
Absent.

【0034】本発明の潤滑剤は先に記したパーフルオロ
ポリエーテルに対して、一般式[1]に示される化合物
を0.1〜50wt%含有し、且つ、一般式[2]〜
[10]に示される骨格を有する化合物の少なくとも1
種類を重量百万分率で1〜100000ppm含有した
ものである。
The lubricant of the present invention contains the compound represented by the general formula [1] in an amount of 0.1 to 50% by weight based on the perfluoropolyether described above, and the compound represented by the general formula [2] to
At least one of the compounds having a skeleton represented by [10]
It contains 1 to 100,000 ppm by weight in parts per million.

【0035】さらに、本発明の磁気記録媒体は、磁性層
又は保護層上に本発明の潤滑剤を成膜することにより、
ヘッドスライダーと記録媒体との高速接触が多発して
も、潤滑膜が劣化しにくい磁気記録媒体である。
Further, the magnetic recording medium of the present invention is obtained by forming the lubricant of the present invention on a magnetic layer or a protective layer.
It is a magnetic recording medium in which the lubricating film is unlikely to be deteriorated even when the high-speed contact between the head slider and the recording medium occurs frequently.

【0036】図1は、本発明の磁気記録媒体の一構成例
を示す断面図である。本発明の磁気記録媒体は、基板1
上に下地層2を介して磁性層3が形成され、その上に保
護層4が形成されている。下地層2及び保護層4はなく
てもよい。潤滑膜5は保護層4の上に塗布してある。
FIG. 1 is a sectional view showing an example of the configuration of a magnetic recording medium according to the present invention. The magnetic recording medium of the present invention comprises a substrate 1
A magnetic layer 3 is formed thereon with a base layer 2 interposed therebetween, and a protective layer 4 is formed thereon. The underlayer 2 and the protective layer 4 may not be provided. The lubricating film 5 is applied on the protective layer 4.

【0037】本発明が適用されるものとしては、記録再
生ヘッド若しくはヘッドスライダーと接触するか、又は
その可能性のある磁気記録媒体であり、具体的にはハー
ドディスク媒体、フロッピーディスク媒体、磁気テープ
等である。これらの磁気記録媒体の支持体としては、非
磁性であることの他には制限はない。すなわち、ハード
ディスク媒体の場合には、アルミニウム、ガラス、プラ
スチック、カーボン、シリコン等が例示され、フロッピ
ーディスクや磁気テープ媒体の場合には、ポリアセテー
ト等の合成樹脂を例示することができる。
The present invention is applied to a magnetic recording medium which comes into contact with or has a possibility of contacting a recording / reproducing head or a head slider, and more specifically, a hard disk medium, a floppy disk medium, a magnetic tape, etc. It is. The support for these magnetic recording media is not limited except that it is non-magnetic. That is, in the case of a hard disk medium, aluminum, glass, plastic, carbon, silicon and the like are exemplified, and in the case of a floppy disk and a magnetic tape medium, a synthetic resin such as polyacetate can be exemplified.

【0038】支持体と磁性膜との間に下地層を設けても
よい。下地層の材質、膜厚に関して制限はなく、Cr、
Ni−P等を例示することができる。磁性膜についても
その成膜法、材質、膜厚に制限はない。すなわち、成膜
法としては塗布、メッキ、蒸着、スパッタリング、CV
D法等が例示される。材質については、Fe、Co、N
i等の金属やこれらの酸化物、Co−Ni、Co−P
t、Fe−Ni、Fe−Co−Ni、Co−Cr−Pt
−Ta等が例示される。保護層についても何等制限はな
く、アモルファスカーボン、水素添加カーボン、窒素添
加カーボン、フッ素添加カーボン、各種金属添加カーボ
ン、ダイアモンドライクカーボン、二酸化珪素膜等を例
示することができる。以上示したような磁気記録媒体に
潤滑剤を成膜する方法についても特に制限はないが、ハ
ードディスク媒体の場合には、ディップ法や回転成膜法
を例示することができる。この場合、潤滑膜厚は特に制
限はないが、1〜1000オングストローム程度、好ま
しくは5〜100オングストローム程度である。
An underlayer may be provided between the support and the magnetic film. There is no restriction on the material and film thickness of the underlayer.
Ni-P and the like can be exemplified. There is no limitation on the film formation method, material, and film thickness of the magnetic film. That is, coating, plating, vapor deposition, sputtering, CV
The D method is exemplified. For materials, Fe, Co, N
metal such as i, their oxides, Co-Ni, Co-P
t, Fe-Ni, Fe-Co-Ni, Co-Cr-Pt
-Ta and the like are exemplified. There is no limitation on the protective layer, and examples thereof include amorphous carbon, hydrogenated carbon, nitrogen-added carbon, fluorine-added carbon, various metal-added carbon, diamond-like carbon, and silicon dioxide film. There is no particular limitation on the method of forming a lubricant on the magnetic recording medium as described above, but in the case of a hard disk medium, a dip method or a rotating film formation method can be exemplified. In this case, the thickness of the lubricating film is not particularly limited, but is about 1 to 1000 angstroms, preferably about 5 to 100 angstroms.

【0039】図2は、請求項15に記載の磁気記録装置
を概略的に示した構成図である。図において、磁気ディ
スク9は、例えば4枚が等間隔に固定されている。これ
らの磁気ディスク9は回転機構10により回転される。
各磁気ディスク9の両面には、請求項1〜11に記載の
潤滑剤の少なくとも1つが塗布されている。各磁気ディ
スク9の両面近傍には、各磁気ディスク9を挟む関係に
合計8個の磁気ヘッド6が配置されており、これら磁気
ヘッド6はそれぞれ支持ばね11を介してキャリッジ7
に支持されている。キャリッジ7は、磁気ヘッド移動機
構8により移動制御される。
FIG. 2 is a block diagram schematically showing a magnetic recording apparatus according to a fifteenth aspect. In the figure, for example, four magnetic disks 9 are fixed at equal intervals. These magnetic disks 9 are rotated by a rotation mechanism 10.
At least one of the lubricants according to claims 1 to 11 is applied to both surfaces of each magnetic disk 9. A total of eight magnetic heads 6 are arranged near both sides of each magnetic disk 9 so as to sandwich each magnetic disk 9, and these magnetic heads 6 are each supported by a carriage 7 via a support spring 11.
It is supported by. The movement of the carriage 7 is controlled by a magnetic head moving mechanism 8.

【0040】[0040]

【実施例】以下、本発明の具体的な実施例について説明
するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものでは
ない。なお、本明細書において、一般式中で用いられる
「=」は二重結合を意味し、これ以外で用いられる
「=」はイコールを意味する。
The present invention will be described in detail with reference to the following Examples, but it should not be construed that the invention is limited thereto. In the present specification, "=" used in the general formula means a double bond, and "=" used in other formulas means equol.

【0041】(実施例1〜15)は、請求項2記載の一
般式[1]と、請求項2記載の一般式[2]で示される
化合物のうちZが窒素原子である化合物と、パーフルオ
ロポリエーテル系化合物とからなる潤滑剤についての実
施例である。
(Examples 1 to 15) describe the compound represented by the general formula [1] according to claim 2 and the compound represented by the general formula [2] according to claim 2 wherein Z is a nitrogen atom. This is an example of a lubricant comprising a fluoropolyether compound.

【0042】(1) ハードディスク媒体の製造(1) Production of hard disk media

【0043】・濃度展開サンプルの製造・・・一般式
[1]で示されるもののうちR1 =R2 =R3 =R4
5 =R6 =−O−C6 4 −CF3(パラ位) である分
子構造を有する化合物(添加剤1)を1mgと、一般式
[2]で示されるもののうちZ=N、R1 =R2 =R3
=− (CH2)10−CH3 である分子構造を有する化合物
(添加剤2)を0.01mgとを秤取り、これらをエタ
ノール10mlに溶解し、その溶液をフォンブリンZ−
DOL (モンテフルオス社製) 10gに加えてよく攪拌
した。この混合液について60℃で減圧蒸留を30mi
n継続してエタノールを除去し、本実施例に係る潤滑剤
を得た。この潤滑剤をフルオロカーボン系溶媒であるフ
ロリナートFC−77 (住友スリーエム株式会社製) に
溶解して0.08wt%の溶液を調製した。この溶液を
用いて、スパッタ法でカーボン保護層を成膜したディス
クに、通常のディップ法により潤滑膜を成膜してサンプ
ルディスクを作製した。同様にして、潤滑膜中の濃度が
添加剤1については0.01〜50wt%、添加剤2に
ついては1〜100000ppmである濃度展開サンプ
ルディスクを作製した。
Production of concentration-developed sample: R 1 = R 2 = R 3 = R 4 = among those represented by the general formula [1]
1 mg of a compound (additive 1) having a molecular structure in which R 5 = R 6 = —O—C 6 H 4 —CF 3 (para position), and Z = N among those represented by the general formula [2]; R 1 = R 2 = R 3
= 0.01 mg of a compound having a molecular structure of-(CH 2 ) 10 -CH 3 (additive 2) was weighed, dissolved in 10 ml of ethanol, and the solution was dissolved in Fomblin Z-.
10 g of DOL (manufactured by Montefluos) and stirred well. This mixture was subjected to vacuum distillation at 60 ° C. for 30 mi.
The ethanol was continuously removed for n times to obtain a lubricant according to this example. This lubricant was dissolved in Fluorinert FC-77 (manufactured by Sumitomo 3M Limited) as a fluorocarbon solvent to prepare a 0.08 wt% solution. Using this solution, a lubricating film was formed by a normal dipping method on a disk on which a carbon protective layer was formed by a sputtering method, thereby producing a sample disk. Similarly, a concentration-developed sample disk was prepared in which the concentration in the lubricating film was 0.01 to 50 wt% for Additive 1 and 1 to 100,000 ppm for Additive 2.

【0044】サンプルディスクの構成は図1に示す通り
である。サンプルディスクは、基板の突起高さが1.5
μ" 以下になるように基板表面に粗面加工を施した直径
3.5"のアルミニウム製基板を用い、この表面にNi−P
下地層を成膜し、その上に磁性層を成膜し、更にスパッ
タ法により水素添加カーボンから成る保護層を10nm
成膜し、保護層の表面にディップ法により潤滑剤を20
オングストローム塗布して製造した。
The structure of the sample disk is as shown in FIG. The sample disk has a substrate height of 1.5
The diameter of the substrate surface roughened to less than μ ”
Using a 3.5 "aluminum substrate, Ni-P
An underlayer is formed, a magnetic layer is formed thereon, and a protective layer made of hydrogenated carbon is further formed by sputtering to a thickness of 10 nm.
A film is formed, and a lubricant is applied to the surface of the protective layer by dipping.
Angstrom applied.

【0045】・添加剤展開サンプルの製造・・・添加剤
1はR1 =R2 =R3 =R4 =R5=R6 =−O−C6
4 −CF3(パラ位) の化合物を使用し、添加剤2はR
1 、R2 、R3 に種々の置換基を導入した化合物を使用
した。また、その濃度は添加剤1=10wt%、添加剤
2=1000ppmに固定した添加剤展開サンプルディ
スクを作製した。
Production of additive-deployed sample: Additive 1 was R 1 = R 2 = R 3 = R 4 = R 5 = R 6 = -OC 6
The compound of H 4 —CF 3 (para position) is used, and the additive 2 is R
Compounds in which various substituents were introduced into 1 , R 2 and R 3 were used. An additive-developed sample disk was prepared in which the concentration of additive 1 was fixed at 10 wt% and the concentration of additive 2 was fixed at 1000 ppm.

【0046】・公知ディスクの製造・・・公知例と比較
することを目的として、特開平5−20675号公報に
記載されたアルキルアミンの一種であるトリ−n−ウン
デシルアミン N((CH2)10-CH3)3を1000ppm添加し
た潤滑剤を成膜したサンプルディスクを作製した。以後
公知ディスクと称する。
Production of a known disk: For the purpose of comparison with known examples, tri-n-undecylamine N ((CH 2 ) 10 -CH 3) 3 was to prepare a sample disk was formed 1000ppm added lubricant. Hereinafter, it is referred to as a known disk.

【0047】・リファレンスディスクの製造・・・添加
剤を加えないこと以外は全く同様の操作を行ったリファ
レンスディスクも作製した。
Production of Reference Disk A reference disk was prepared by performing exactly the same operation except that no additive was added.

【0048】(2) 潤滑性能試験(2) Lubrication performance test

【0049】添加剤展開サンプルディスク、公知ディス
ク、リファレンスディスクの潤滑性能は、CSS及びシ
ーク試験により評価した。
The lubricating performance of the additive-developed sample disk, known disk, and reference disk was evaluated by CSS and seek tests.

【0050】CSS試験は、評価するディスクをスピン
ドルに装着し、スライダーを予め設定された荷重でディ
スク面を押しつけるように調整して装着し、スライダー
を外周又は内周方向に動かないように固定してディスク
の回転数を0〜3600rpmまで上昇させ、(このと
きのスライダーの浮上量は5nm )直ちに再び0rpmま
で下降させることを1サイクルとし、2万サイクル後の
摩擦係数μを初期の値と比較して評価した。この試験で
使用したスライダーは、大きさがナノスライダー(50%ス
ライダー) の2レールタイプであり、Al2O3-TiC 製でAB
S(レール摺動面) にDLC 保護層が10nm成膜されたもので
あった。
In the CSS test, the disk to be evaluated is mounted on a spindle, the slider is adjusted so as to press against the disk surface with a preset load, and the slider is fixed so as not to move in the outer or inner circumferential direction. The rotation speed of the disk is increased to 0 to 3600 rpm, and the flying height of the slider is 5 nm at this time. Immediately decreasing to 0 rpm again is one cycle, and the friction coefficient μ after 20,000 cycles is compared with the initial value. Was evaluated. The slider used in this test was a two-rail type with a nano-slider (50% slider), made of Al 2 O 3 -TiC, and made of AB.
A 10-nm DLC protective layer was formed on S (rail sliding surface).

【0051】シーク試験はCSS試験と同様にディスク
及びスライダーを装着し、ディスク回転数を3600r
pm一定に保ち、スライダーを最外周から最内周へ再び
最外周へと高速で繰り返し動作させた。この動作を連続
で72時間行い、試験後、スライダーのレール走行面の
付着物の量を目視で測定した。測定は付着物が覆うレー
ル走行面の面積を11段階に点数化しで評価した。すな
わち、0点は付着物が全く観察されない場合、1点はス
ライダーのレール走行面の1%未満の面積が付着物で被
覆された場合、2点は1%以上2%未満が被覆された場
合、以下同様に10点は10%以上の面積が被覆された
場合とした。
In the seek test, as in the CSS test, a disk and a slider were mounted, and the disk rotation speed was set to 3600 rpm.
pm, and the slider was repeatedly operated at a high speed from the outermost circumference to the innermost circumference again at the outermost circumference. This operation was continuously performed for 72 hours, and after the test, the amount of deposits on the rail running surface of the slider was visually measured. The measurement was evaluated by scoring the area of the rail running surface covered by the attached matter into 11 levels. That is, 0 point indicates that no deposit is observed at all, 1 point indicates that the area of less than 1% of the rail running surface of the slider is covered with the deposit, and 2 point indicates that 1% or more and less than 2% are covered. In the same manner, 10 points were determined when 10% or more of the area was covered.

【0052】試験条件をまとめて図3に示す。The test conditions are shown in FIG.

【0053】(3) 添加剤濃度と潤滑性能との関係につい
ての検討結果
(3) Results of study on the relationship between additive concentration and lubrication performance

【0054】濃度展開サンプルディスクの潤滑性能評価
を行った結果を図4に示す。
FIG. 4 shows the results of the evaluation of the lubrication performance of the density-developed sample disk.

【0055】図4に示す結果から、実施例1に記載した
本発明に係る潤滑剤は、添加剤1濃度が0.01〜50
wt%、添加剤2濃度が1 〜100000ppm の範囲内で、C
SS後の摩擦係数μの上昇を抑え、スライダー付着物の
生成を抑制する効果があることがわかった。
From the results shown in FIG. 4, it can be seen that the lubricant according to the present invention described in Example 1 has an additive 1 concentration of 0.01 to 50%.
wt%, additive 2 concentration within the range of 1 to 100000 ppm, C
It was found that there was an effect of suppressing an increase in the friction coefficient μ after SS and suppressing generation of a slider deposit.

【0056】(4) 添加剤の種類と潤滑性能の関係につい
ての検討結果
(4) Investigation results on the relationship between the type of additive and lubrication performance

【0057】添加剤展開サンプルディスク及び公知ディ
スクについて、図3に示す条件により潤滑性能の評価を
行った。添加剤の種類と評価結果を図5及び図6に示
す。
The lubricating performance of the additive-developed sample disk and the known disk was evaluated under the conditions shown in FIG. FIGS. 5 and 6 show the types of additives and the evaluation results.

【0058】図5及び図6に示す結果から、請求項2記
載の一般式[1]と一般式[2]で示される化合物のう
ちZ=Nである化合物とをパーフルオロポリエーテルに
添加した潤滑剤は、CSS後の摩擦係数μの上昇を抑
え、スライダー付着物の生成を抑制する効果があること
がわかった。また、本発明の評価条件では特開平5−2
0675号公報に記された公知の潤滑剤は、良好な潤滑
性能を得ることができず、また、ヘッド付着物の発生を
抑制することもできないことがわかった。
From the results shown in FIGS. 5 and 6, the compound of the formula (1) and the compound of the formula (2) wherein Z = N was added to the perfluoropolyether. It has been found that the lubricant has an effect of suppressing an increase in the friction coefficient μ after CSS and suppressing generation of a slider deposit. Further, according to the evaluation conditions of the present invention, Japanese Unexamined Patent Application Publication No.
It has been found that the known lubricant described in Japanese Patent No. 0675 cannot obtain a good lubricating performance and cannot suppress the generation of head deposits.

【0059】(実施例16〜30)は、請求項2記載の
一般式[1]と、請求項2記載の一般式[2]で示され
るもののうちZがリン原子である化合物と、パーフルオ
ロポリエーテル系化合物とからなる潤滑剤についての実
施例である。
(Examples 16 to 30) show a compound represented by the general formula [1] described in claim 2 and a compound represented by the general formula [2] described in claim 2 wherein Z is a phosphorus atom; This is an example of a lubricant comprising a polyether compound.

【0060】前記実施例1〜15と同様の方法で添加剤
展開サンプルディスク及びリファレンスディスクを作製
し、添加剤の種類と潤滑性能の関係についての検討を行
った。添加剤としては、一般式[1]で示されるものの
うちR1 =R2 =R3 =R4=R5 =R6 =−O−C6
4 −CF3(パラ位) である分子構造を有する化合物、
及び一般式[2]のうちZ=P,R1 、R2 、R3 に種
々の置換基を導入した化合物を使用した。
A sample disk and a reference disk were prepared in the same manner as in Examples 1 to 15, and the relationship between the type of additive and the lubrication performance was examined. Among the additives represented by the general formula [1], R 1 = R 2 = R 3 = R 4 = R 5 = R 6 = -O-C 6
A compound having a molecular structure of H 4 —CF 3 (para position),
And a compound in which various substituents were introduced into Z = P, R 1 , R 2 and R 3 in the general formula [2] was used.

【0061】評価条件を図7に、評価結果を図8及び図
9に示す。
FIG. 7 shows the evaluation conditions, and FIGS. 8 and 9 show the evaluation results.

【0062】図8及び図9に示す結果から、請求項2の
一般式[1]と請求項2記載の一般式[2]で示される
もののうちZ=Pである化合物とをパーフルオロポリエ
ーテルに添加した潤滑剤は、CSS後の摩擦係数μの上
昇を抑え、スライダー付着物の生成を抑制する効果があ
ることがわかった。また、本発明の評価条件では特開平
5−20675号公報に記された公知の潤滑剤は、良好
な潤滑性能を得ることができず、また、ヘッド付着物の
発生を抑制することもできないことが分かった。
From the results shown in FIGS. 8 and 9, the compound represented by the general formula [1] of claim 2 and the compound of the general formula [2] according to claim 2 wherein Z = P is a perfluoropolyether. It has been found that the lubricant added to has the effect of suppressing an increase in the friction coefficient μ after CSS and suppressing the generation of slider deposits. In addition, under the evaluation conditions of the present invention, the known lubricant described in JP-A-5-20675 cannot provide good lubrication performance and cannot suppress the generation of head deposits. I understood.

【0063】(実施例31〜45)は、請求項2記載の
一般式[1]と、請求項3記載の一般式[3]で示され
るもののうちZが窒素原子である化合物と、パーフルオ
ロポリエーテル系化合物とからなる潤滑剤についての実
施例である。
(Examples 31 to 45) show a compound represented by the general formula [1] described in claim 2 and a compound represented by the general formula [3] described in claim 3 wherein Z is a nitrogen atom; This is an example of a lubricant comprising a polyether compound.

【0064】一般式[1]で示されるもののうちR1
2 =R3 =R4 =R5 =R6 =−O−C6 4 −CF
3(オルト位) である分子構造を有する化合物(添加剤
3)、及び一般式[3]のうちZ=N,R1 =− (CH
2)10−CH3 ,R2 ==CH (CH2)9 −CH3 である
分子構造を有する化合物(添加剤4)について、前記実
施例1と同様の方法で濃度展開サンプルディスクを作製
した。また、前記実施例1〜15と同様の方法で、添加
剤4のR1 、R2 に種々の置換基を導入した添加剤展開
サンプルディスクを作製した。さらに、特開平5−20
675号公報に記載されたアルキルアミンの一種である
ジ−n−ウンデシルアミンNH((CH210CH3
2 を1000ppm添加した潤滑剤を成膜した公知ディ
スクも作製した。さらにリファレンスディスクも作製し
た。
In the general formula [1], R 1 =
R 2 = R 3 = R 4 = R 5 = R 6 = -O-C 6 H 4 -CF
A compound having a molecular structure of 3 (ortho position) (additive 3), and Z = N, R 1 =-(CH
2) 10 -CH 3, R 2 == CH (CH 2) 9 compound having the molecular structure is -CH 3 for the (additive 4) to produce a concentration deployment sample disks in the same manner as in Example 1 . In the same manner as in Examples 1 to 15, additive-deployed sample disks in which various substituents were introduced into R 1 and R 2 of Additive 4 were produced. Further, Japanese Patent Laid-Open No. 5-20
No. 675, di-n-undecylamine NH ((CH 2 ) 10 CH 3 ) which is a kind of alkylamine
A well-known disk on which a lubricant containing 1000 ppm of 2 was added was also prepared. Further, a reference disk was also prepared.

【0065】評価条件を図10に、濃度展開サンプルデ
ィスクの評価結果を図11に、添加剤展開サンプルディ
スクの評価結果を図12及び図13に示す。
FIG. 10 shows the evaluation conditions, FIG. 11 shows the evaluation results of the concentration-developed sample disks, and FIGS. 12 and 13 show the evaluation results of the additive-developed sample disks.

【0066】図11に示す結果から、実施例31に記載
した本発明に係る潤滑剤は、添加剤3濃度が0.01〜
50wt%、添加剤4濃度が1〜100000ppmの
範囲内で、CSS後の摩擦係数μの上昇を抑え、スライ
ダー付着物の生成を抑制する効果があることがわかっ
た。図12及び図13に示す結果から、請求項2記載の
一般式[1]と請求項3記載の一般式[3]で示される
もののうちZ=Nである化合物とをパーフルオロポリエ
ーテルに添加した潤滑剤は、CSS後の摩擦係数μの上
昇を抑え、スライダー付着物の生成を抑制する効果があ
ることがわかった。また、本発明の評価条件では特開平
5−20675号公報に記された公知の潤滑剤は、良好
な潤滑性能を得ることができず、また、ヘッド付着物の
発生を抑制することもできないことがわかった。
From the results shown in FIG. 11, the lubricant according to the present invention described in Example 31 has an additive 3 concentration of 0.01 to 3.0.
It was found that when the concentration of the additive 4 was 50 wt% and the concentration of the additive 4 was in the range of 1 to 100,000 ppm, there was an effect of suppressing an increase in the friction coefficient μ after CSS and suppressing the generation of slider deposits. From the results shown in FIGS. 12 and 13, the compound represented by the general formula [1] according to claim 2 and the compound represented by general formula [3] according to claim 3 wherein Z = N is added to the perfluoropolyether. It was found that the lubricating agent had an effect of suppressing an increase in the friction coefficient μ after CSS and suppressing generation of a slider deposit. In addition, under the evaluation conditions of the present invention, the known lubricant described in JP-A-5-20675 cannot provide good lubrication performance and cannot suppress the generation of head deposits. I understood.

【0067】(実施例46〜60)は、請求項2記載の
一般式[1]と、請求項3記載の一般式[3]で示され
るもののうちZがリン原子である化合物と、パーフルオ
ロポリエーテル系化合物とからなる潤滑剤についての実
施例である。
(Examples 46 to 60) show a compound represented by the general formula [1] described in claim 2 and a compound represented by the general formula [3] described in claim 3 wherein Z is a phosphorus atom; This is an example of a lubricant comprising a polyether compound.

【0068】前記実施例1〜15と同様の方法で添加剤
展開サンプルディスク及びリファレンスディスクを作製
し、添加剤の種類と潤滑性能の関係についての検討を行
った。添加剤としては、一般式[1]で示されるものの
うちR1 =R2 =R3 =R4=R5 =R6 =−O−C6
4 −CF3 (オルト位)である分子構造を有する化合
物、及び一般式[3]のうちZ=P,R1 、R2 に種々
の置換基を導入した化合物を使用した。
In the same manner as in Examples 1 to 15, additive-developed sample disks and reference disks were manufactured, and the relationship between the type of additive and the lubricating performance was examined. Among the additives represented by the general formula [1], R 1 = R 2 = R 3 = R 4 = R 5 = R 6 = -O-C 6
A compound having a molecular structure of H 4 —CF 3 (ortho position) and a compound in which various substituents are introduced into Z = P, R 1 and R 2 in the general formula [3] were used.

【0069】評価条件を図14に、評価結果を図15及
び図16に示す。
FIG. 14 shows the evaluation conditions, and FIGS. 15 and 16 show the evaluation results.

【0070】図15及び図16に示す結果から、請求項
2記載の一般式[1]と請求項3記載の一般式[3]で
示されるもののうちZ=Pである化合物とをパーフルオ
ロポリエーテルに添加した潤滑剤は、CSS後のμの上
昇を抑え、スライダー付着物の生成を抑制する効果があ
ることがわかった。また、本発明の評価条件では特開平
5−20675号公報に記された公知の潤滑剤は、良好
な潤滑性能を得ることができず、また、ヘッド付着物の
発生を抑制することもできないことがわかった。
From the results shown in FIGS. 15 and 16, the compound represented by the general formula [1] according to claim 2 and the compound represented by general formula [3] according to claim 3, wherein Z = P, was converted to perfluoropolyether. It has been found that the lubricant added to the ether has the effect of suppressing the increase in μ after CSS and suppressing the formation of slider deposits. In addition, under the evaluation conditions of the present invention, the known lubricant described in JP-A-5-20675 cannot provide good lubrication performance and cannot suppress the generation of head deposits. I understood.

【0071】(実施例61〜75)は、請求項2記載の
一般式[1]と、請求項4記載の一般式[4]で示され
るもののうちZが窒素原子である化合物と、パーフルオ
ロポリエーテル系化合物とからなる潤滑剤についての実
施例である。
(Examples 61 to 75) show a compound represented by the general formula [1] according to claim 2 and a compound represented by the general formula [4] according to claim 4 wherein Z is a nitrogen atom; This is an example of a lubricant comprising a polyether compound.

【0072】一般式[1]で示されるもののうちR1
2 =R3 =R4 =R5 =R6 =−O−C6 4 −CF
3 (メタ位)である分子構造を有する化合物(添加剤
5)、及び一般式[4]のうちZ=N,R=≡C−(C
2 10−CH3 である分子構造を有する化合物(添加
剤6)について、前記実施例1と同様の方法で濃度展開
サンプルディスクを作製した。また、前記実施例1〜1
5と同様の方法で、添加剤6のRに種々の置換基を導入
した添加剤展開サンプルディスクを作製した。さらに、
特開平5−20675号公報に記載されたアルキルアミ
ンの一種であるn−ウンデシルアミンNH2 (CH2
11を1000ppm添加した潤滑剤を成膜した公知ディ
スクも作製した。さらにリファレンスディスクも作製し
た。
In the general formula [1], R 1 =
R 2 = R 3 = R 4 = R 5 = R 6 = -O-C 6 H 4 -CF
3 A compound having a molecular structure of (meta position) (additive 5), and Z = N, R = ≡C- (C
With respect to the compound having a molecular structure of H 2 ) 10 —CH 3 (additive 6), a concentration-developed sample disk was prepared in the same manner as in Example 1. Examples 1 to 1
In the same manner as in Example 5, additive-developed sample disks in which various substituents were introduced into R of Additive 6 were prepared. further,
N-Undecylamine NH 2 (CH 2 ) which is a kind of alkylamine described in JP-A-5-20675
A known disk on which a lubricant containing 1000 ppm of 11 added was formed. Further, a reference disk was also prepared.

【0073】評価条件を図17に、濃度展開サンプルデ
ィスクの評価結果を図18に、添加剤展開サンプルディ
スクの評価結果を図19に示す。
FIG. 17 shows the evaluation conditions, FIG. 18 shows the evaluation results of the sample disks in which the concentration is developed, and FIG. 19 shows the evaluation results of the sample disks in which the additive is developed.

【0074】図18に示す結果から、実施例61に記載
した本発明に係る潤滑剤は、添加剤5濃度が0.01〜
50wt%、添加剤6濃度が1〜100000ppmの
範囲内で、CSS後の摩擦係数μの上昇を抑え、スライ
ダー付着物の生成を抑制する効果があることがわかっ
た。図19に示す結果から、請求項2の一般式[1]と
請求項4記載の一般式[4]で示されるもののうちZ=
Nである化合物とをパーフルオロポリエーテルに添加し
た潤滑剤は、CSS後のμの上昇を抑え、スライダー付
着物の生成を抑制する効果があることがわかった。ま
た、本発明の評価条件では、特開平5−20675号公
報に記された公知の潤滑剤は、良好な潤滑性能を得るこ
とができず、また、ヘッド付着物の発生を抑制すること
もできないことがわかった。
From the results shown in FIG. 18, the lubricant according to the present invention described in Example 61 has an additive 5 concentration of 0.01 to 0.01%.
It was found that when the concentration of the additive 6 was within the range of 1 to 100,000 ppm, the increase in the friction coefficient μ after CSS was suppressed, and the effect of suppressing the formation of slider deposits was obtained. From the results shown in FIG. 19, it is found that Z = Z in the general formula [1] of claim 2 and the general formula [4] of claim 4.
It has been found that the lubricant in which the compound of N is added to the perfluoropolyether has an effect of suppressing an increase in μ after CSS and suppressing generation of a slider deposit. Further, under the evaluation conditions of the present invention, the known lubricant described in JP-A-5-20675 cannot obtain good lubricating performance and cannot suppress the generation of head deposits. I understand.

【0075】(実施例76〜90)は、請求項2記載の
一般式[1]と、請求項4記載の一般式[4]で示され
るもののうちZがリン原子である化合物と、パーフルオ
ロポリエーテル系化合物とからなる潤滑剤についての実
施例である。
(Examples 76 to 90) show a compound represented by the general formula [1] described in claim 2 and a compound represented by the general formula [4] described in claim 4 wherein Z is a phosphorus atom; This is an example of a lubricant comprising a polyether compound.

【0076】前記実施例1〜15と同様の方法で添加剤
展開サンプルディスク及びリファレンスディスクを作製
し、添加剤の種類と潤滑性能の関係についての検討を行
った。添加剤としては、一般式[1]で示されるものの
うちR1 =R2 =R3 =R4=R5 =R6 =−O−C6
4 −CF3 (パラ位)である分子構造を有する化合
物、及び一般式[4]のうちZ=P,Rに種々の置換基
を導入した化合物を使用した。
In the same manner as in Examples 1 to 15, additive-developed sample disks and reference disks were produced, and the relationship between the type of additive and the lubricating performance was examined. Among the additives represented by the general formula [1], R 1 = R 2 = R 3 = R 4 = R 5 = R 6 = -O-C 6
A compound having a molecular structure of H 4 —CF 3 (para position) and a compound in which various substituents are introduced into Z = P, R in the general formula [4] were used.

【0077】評価条件を図20に、評価結果を図21に
示す。
FIG. 20 shows the evaluation conditions, and FIG. 21 shows the evaluation results.

【0078】図21に示す結果から、請求項2の一般式
[1]と請求項4記載の一般式[4]で示されるものの
うちZ=Pである化合物とをパーフルオロポリエーテル
に添加した潤滑剤は、CSS後のμの上昇を抑え、スラ
イダー付着物の生成を抑制する効果があることがわかっ
た。また、本発明の評価条件では、特開平5−2067
5号公報に記された公知の潤滑剤は、良好な潤滑性能を
得ることができず、また、ヘッド付着物の発生を抑制す
ることもできないことがわかった。
From the results shown in FIG. 21, the compound represented by the general formula [1] of claim 2 and the compound represented by general formula [4] wherein Z = P was added to the perfluoropolyether. It was found that the lubricant has the effect of suppressing the increase in μ after CSS and suppressing the formation of slider deposits. Further, according to the evaluation conditions of the present invention, JP-A-5-2067
It has been found that the known lubricant described in Japanese Patent No. 5 cannot obtain good lubricating performance and cannot suppress the generation of head deposits.

【0079】(実施例91〜105)は、請求項2記載
の一般式[1]と、請求項5記載の一般式[5]で示さ
れるもののうちZ=Nである化合物と、パーフルオロポ
リエーテル系化合物とからなる潤滑剤についての実施例
である。
(Examples 91 to 105) show a compound represented by the general formula [1] described in claim 2 and a compound represented by the general formula [5] described in claim 5 wherein Z = N, This is an example of a lubricant comprising an ether compound.

【0080】一般式[1]で示されるもののうちR1
2 =R3 =R4 =R5 =R6 =−O−C6 4 −CF
3 (パラ位)である分子構造を有する化合物(添加剤
7)、及び一般式[5]のうちZ=N、R1 =R2 =R
3 =R4 =−(CH2 10−CH3 である分子構造を有
する化合物(添加剤8)について、前記実施例1と同様
の方法で濃度展開サンプルディスクを作製した。また、
前記実施例1〜15と同様の方法で、添加剤8のR1
2 、R3 、R4 に種々の置換基を導入した添加剤展開
サンプルディスクを作製した。さらに、特開平5−20
675号公報に記載されたアルキルアミンの一種である
トリ−n−ウンデシルアミンN((CH211OH)3
を1000ppm添加した潤滑剤を成膜した公知ディス
クも作製した。さらにリファレンスディスクも作製し
た。
In the general formula [1], R 1 =
R 2 = R 3 = R 4 = R 5 = R 6 = -O-C 6 H 4 -CF
A compound having a molecular structure of 3 (para position) (additive 7), and Z = N and R 1 = R 2 = R in general formula [5]
A concentration-developed sample disk was prepared in the same manner as in Example 1 for a compound having a molecular structure of 3 = R 4 =-(CH 2 ) 10 -CH 3 (additive 8). Also,
In the same manner as in Examples 1 to 15, R 1 of the additive 8,
Additive-developed sample disks in which various substituents were introduced into R 2 , R 3 and R 4 were prepared. Further, Japanese Patent Laid-Open No. 5-20
No. 675, tri-n-undecylamine N ((CH 2 ) 11 OH) 3 which is a kind of alkylamine
A known disk on which a lubricant with 1000 ppm was added was formed. Further, a reference disk was also prepared.

【0081】評価条件を図22に、濃度展開サンプルデ
ィスクの評価結果を図23に、添加剤展開サンプルディ
スクの評価結果を図24及び図25に示す。
FIG. 22 shows the evaluation conditions, FIG. 23 shows the evaluation results of the sample disks in which the concentration is developed, and FIGS. 24 and 25 show the evaluation results of the sample disks in which the additive is developed.

【0082】図23に示す結果から、実施例91に記載
した本発明に係る潤滑剤は、添加剤7濃度が0.01〜
50%、添加剤8濃度が1〜100000ppmの範囲
内で、CSS後の摩擦係数μの上昇を抑え、スライダー
付着物の生成を抑制する効果があることがわかった。図
24及び図25に示す結果から、請求項2記載の一般式
[1]と請求項5記載の一般式[5]で示されるものの
うちZ=Nである化合物とをパーフルオロポリエーテル
に添加した潤滑剤は、CSS後のμの上昇を抑え、スラ
イダー付着物の生成を抑制する効果があることがわかっ
た。
From the results shown in FIG. 23, it can be seen that the lubricant according to the present invention described in Example 91 has an additive 7 concentration of 0.01 to
When the concentration of the additive was 50% and the concentration of the additive 8 was in the range of 1 to 100,000 ppm, it was found that there was an effect of suppressing the increase in the friction coefficient μ after CSS and suppressing the formation of the slider attached matter. From the results shown in FIGS. 24 and 25, the compound represented by the general formula [1] according to claim 2 and the compound represented by general formula [5] wherein Z = N is added to the perfluoropolyether. It was found that the lubricating agent has an effect of suppressing an increase in μ after CSS and suppressing generation of a slider deposit.

【0083】(実施例106〜120)は、請求項2記
載の一般式[1]と、請求項5記載の一般式[5]で示
されるもののうちZがリン原子である化合物と、パーフ
ルオロポリエーテル系化合物とからなる潤滑剤について
の実施例である。
(Examples 106 to 120) show a compound represented by the general formula [1] according to claim 2 and a compound represented by the general formula [5] according to claim 5 wherein Z is a phosphorus atom; This is an example of a lubricant comprising a polyether compound.

【0084】前記実施例1〜15と同様の方法で添加剤
展開サンプルディスク及びリファレンスディスクを作製
し、添加剤の種類と潤滑性能との関係についての検討を
行った。添加剤としては、一般式[1]で示されるもの
のうちR1 =R2 =R3 =R4 =R5 =R6 =−O−C
6 4 −CF2 CF3 (パラ位)である分子構造を有す
る化合物、及び一般式[5]のうちZ=P,R1
2 、R3 、R4 に種々の置換基を導入した化合物を使
用した。
A sample disk and a reference disk were prepared in the same manner as in Examples 1 to 15, and the relationship between the type of the additive and the lubricating performance was examined. As the additive, among those represented by the general formula [1], R 1 = R 2 = R 3 = R 4 = R 5 = R 6 = -OC
A compound having a molecular structure of 6 H 4 —CF 2 CF 3 (para position), and Z = P, R 1 ,
Compounds obtained by introducing various substituents into R 2 , R 3 and R 4 were used.

【0085】評価条件を図26に、評価結果を図27及
び図28に示す。
FIG. 26 shows the evaluation conditions, and FIGS. 27 and 28 show the evaluation results.

【0086】図27及び図28に示す結果から、請求項
2記載の一般式[1]と請求項5記載の一般式[5]で
示されるもののうちZ=Nである化合物とをパーフルオ
ロポリエーテルに添加した潤滑剤は、CSS後の摩擦係
数μの上昇を抑え、スライダー付着物の生成を抑制する
効果があることがわかった。また、本発明の評価条件で
は、特開平5−20675号公報に記された公知の潤滑
剤は、良好な潤滑性能を得ることができず、また、ヘッ
ド付着物の発生を抑制することもできないことがわかっ
た。
From the results shown in FIG. 27 and FIG. 28, the compound represented by the general formula [1] according to claim 2 and the compound represented by general formula [5] according to claim 5 wherein Z = N was converted to a perfluoropoly compound. It has been found that the lubricant added to the ether has an effect of suppressing an increase in the friction coefficient μ after CSS and suppressing the formation of slider deposits. Further, under the evaluation conditions of the present invention, the known lubricant described in JP-A-5-20675 cannot obtain good lubricating performance and cannot suppress the generation of head deposits. I understand.

【0087】(実施例121〜135)は、請求項2記
載の一般式[1]と、請求項6記載の一般式[6]で示
されるもののうちZが窒素原子である化合物と、パーフ
ルオロポリエーテル系化合物とからなる潤滑剤について
の実施例である。
(Examples 121 to 135) show a compound represented by the general formula [1] according to claim 2 and a compound represented by the general formula [6] according to claim 6 wherein Z is a nitrogen atom; This is an example of a lubricant comprising a polyether compound.

【0088】一般式[1]で示されるもののうちR1
2 =R3 =R4 =R5 =R6 =−O−C6 4 −CF
2 CF3 (オルト位)である分子構造を有する化合物
(添加剤9)、及び一般式[6]のうちZ=N、R1
2 =R3 =R4 =R5 =−(CH2 10−CH3 、R
3 =−(CH2 10−である分子構造を有する化合物
(添加剤10)について、前記実施例1〜15と同様の
方法で、添加剤10のR1、R2 、R3 、R4 、R5
種々の置換基を導入した添加剤サンプルディスクを作製
した。さらに、特開平5−20675号公報に記載され
たアルキルアミンの一種であるジ−n−ウンデシノール
アミンNH((CH2 11OH)2 を1000ppm添
加した潤滑剤を成膜した公知ディスクも作製した。さら
にリファレンスディスクも作製した。
In the general formula [1], R 1 =
R 2 = R 3 = R 4 = R 5 = R 6 = -O-C 6 H 4 -CF
A compound having a molecular structure of 2 CF 3 (ortho position) (additive 9), and Z = N and R 1 =
R 2 = R 3 = R 4 = R 5 = - (CH 2) 10 -CH 3, R
3 = - (CH 2) 10 - compound having a molecular structure which is the (additive 10), in the same manner as in Example 1 to 15, R 1 of the additive 10, R 2, R 3, R 4 were prepared additive sample disks introduced various substituents on R 5. Further, there is also a known disk in which a lubricant containing 1000 ppm of di-n-undecinolamine NH ((CH 2 ) 11 OH) 2 , which is a kind of alkylamine, described in JP-A-5-20675 is added. Produced. Further, a reference disk was also prepared.

【0089】評価条件を図29に、濃度展開サンプルデ
ィスクの評価結果を図30に、添加剤展開サンプルディ
スクの評価結果を図31、図32及び図33に示す。
FIG. 29 shows the evaluation conditions, FIG. 30 shows the evaluation results of the concentration developed sample disks, and FIGS. 31, 32 and 33 show the evaluation results of the additive developed sample disks.

【0090】図30に示す結果から、実施例121に記
載した本発明に係る潤滑剤は、添加剤9濃度が0.01
〜50%、添加剤10濃度が1〜100000ppmの
範囲内で、CSS後の摩擦係数μの上昇を抑え、スライ
ダー付着物の生成を抑制する効果があることがわかっ
た。図31、図32及び図33に示す結果から、請求項
2記載の一般式[1]と請求項6記載の一般式[6]で
示されるもののうちZ=Nである化合物とをパーフルオ
ロポリエーテルに添加した潤滑剤は、CSS後の摩擦係
数μの上昇を抑え、スライダー付着物の生成を抑制する
効果があることがわかった。また、本発明の評価条件で
は、特開平5−20675号公報に記された公知の潤滑
剤は、良好な潤滑性能を得ることができず、また、ヘッ
ド付着物の発生を抑制することもできないことがわかっ
た。
From the results shown in FIG. 30, the lubricant according to the present invention described in Example 121 has a concentration of the additive 9 of 0.01.
It was found that when the concentration of Additive 10 was within the range of 1 to 100,000 ppm, the increase in the friction coefficient μ after CSS was suppressed, and the effect of suppressing the generation of slider deposits was obtained. From the results shown in FIG. 31, FIG. 32 and FIG. 33, the compound represented by the general formula [1] according to claim 2 and the compound represented by the general formula [6] according to claim 6 wherein Z = N was converted to a perfluoropoly compound. It has been found that the lubricant added to the ether has an effect of suppressing an increase in the friction coefficient μ after CSS and suppressing the formation of slider deposits. Further, under the evaluation conditions of the present invention, the known lubricant described in JP-A-5-20675 cannot obtain good lubricating performance and cannot suppress the generation of head deposits. I understand.

【0091】(実施例136〜150)は、請求項2記
載の一般式[1]と、請求項6記載の一般式[6]で示
されるもののうちZがリン原子である化合物と、パーフ
ルオロポリエーテル系化合物とからなる潤滑剤について
の実施例である。
(Examples 136 to 150) show compounds represented by the general formula [1] according to claim 2 and the compound represented by the general formula [6] according to claim 6 wherein Z is a phosphorus atom; This is an example of a lubricant comprising a polyether compound.

【0092】前記実施例1〜15と同様の方法で添加剤
展開サンプルディスク及びリファレンスディスクを作製
し、添加剤の種類と潤滑性能の関係についての検討を行
った。添加剤としては、一般式[1]で示されるものの
うちR1 =R2 =R3 =R4=R5 =R6 =−O−C6
4 −CF2 CF3 (オルト位)である分子構造を有す
る化合物、及び一般式[6]のうちZ=P,R1
2 、R3 、R4 、R5 に種々の置換基を導入した化合
物を使用した。
A sample disk and a reference disk were prepared in the same manner as in Examples 1 to 15, and the relationship between the type of additive and the lubricating performance was examined. Among the additives represented by the general formula [1], R 1 = R 2 = R 3 = R 4 = R 5 = R 6 = -O-C 6
A compound having a molecular structure of H 4 —CF 2 CF 3 (ortho position), and Z = P, R 1 ,
Compounds in which various substituents were introduced into R 2 , R 3 , R 4 and R 5 were used.

【0093】評価条件を図34に、評価結果を図35、
図36及び図37に示す。
FIG. 34 shows the evaluation conditions, and FIG. 35 shows the evaluation results.
This is shown in FIGS. 36 and 37.

【0094】図35、図36及び図37に示す結果か
ら、請求項2記載の一般式[1]と請求項6記載の一般
式[6]で示されるもののうちZ=Pである化合物とを
パーフルオロポリエーテルに添加した潤滑剤は、CSS
後の摩擦係数μの上昇を抑え、スライダー付着物の生成
を抑制する効果があることがわかった。また、本発明の
評価条件では、特開平5−20675号公報に記された
公知の潤滑剤は、良好な潤滑性能を得ることができず、
また、ヘッド付着物の発生を抑制することもできないこ
とがわかった。
From the results shown in FIG. 35, FIG. 36 and FIG. 37, the compound represented by the general formula [1] according to claim 2 and the compound represented by general formula [6] according to claim 6 wherein Z = P is obtained. The lubricant added to the perfluoropolyether is CSS
It was found that there was an effect of suppressing the increase of the friction coefficient μ later and suppressing the formation of the slider deposits. Further, under the evaluation conditions of the present invention, the known lubricant described in JP-A-5-20675 cannot obtain good lubrication performance,
Also, it was found that it was not possible to suppress the generation of head deposits.

【0095】(実施例151〜165)は、請求項2記
載の一般式[1]と、請求項7記載の複素環化合物又は
複素環化合物と他の環状化合物との縮合多環化合物のう
ち環を構成する炭素以外の原子すなわち異種原子がNで
ある化合物と、パーフルオロポリエーテル系化合物とか
らなる潤滑剤についての実施例である。
(Examples 151 to 165) show a compound represented by the general formula [1] described in claim 2 and a heterocyclic compound or a condensed polycyclic compound of a heterocyclic compound and another cyclic compound described in claim 7. This is an example of a lubricant composed of a compound in which an atom other than carbon, that is, a hetero atom, is N and a perfluoropolyether compound.

【0096】一般式[1]で示されるもののうちR1
2 =R3 =R4 =R5 =R6 =−O−C6 4 −CF
2 CF3 (メタ位)である分子構造を有する化合物(添
加剤11)、及び請求項7記載の複素環化合物のうちピ
ロール(添加剤12)について、前記実施例1と同様の
方法で濃度展開サンプルディスクを作製した。また、前
記実施例1〜15と同様の方法で、種々の複素環化合物
を用いて添加剤展開サンプルディスクを製作した。さら
に、特開平5−20675号公報に記載されたアルキル
アミンの一種であるn−ウンデシノールアミンNH
2 (CH2 11OHを1000ppm添加した潤滑剤を
成膜した公知ディスクも作製した。さらにリファレンス
ディスクも作製した。
In the general formula [1], R 1 =
R 2 = R 3 = R 4 = R 5 = R 6 = -O-C 6 H 4 -CF
The concentration development of a compound having a molecular structure of 2 CF 3 (meta position) (additive 11) and pyrrole (additive 12) among the heterocyclic compounds according to claim 7 in the same manner as in Example 1. A sample disk was prepared. In the same manner as in Examples 1 to 15, additive-development sample disks were produced using various heterocyclic compounds. Furthermore, n-undecinolamine NH which is a kind of alkylamine described in JP-A-5-20675 is disclosed.
A known disk on which a lubricant containing 1000 ppm of 2 (CH 2 ) 11 OH was added was also prepared. Further, a reference disk was also prepared.

【0097】評価条件を図38に、濃度展開サンプルデ
ィスクの評価結果を図39に、添加剤展開サンプルディ
スクの評価結果を図40に示す。
FIG. 38 shows the evaluation conditions, FIG. 39 shows the evaluation results of the concentration-developed sample disks, and FIG. 40 shows the evaluation results of the additive-developed sample disks.

【0098】図39に示す結果から、実施例151に記
載した本発明に係る潤滑剤は、添加剤11濃度が0.0
1〜50%、添加剤12濃度が1〜100000ppm
の範囲内で、CSS後の摩擦係数μの上昇を抑え、スラ
イダー付着物の生成を抑制する効果があることがわかっ
た。
From the results shown in FIG. 39, it can be seen that the lubricant according to the present invention described in Example 151 has the additive 11 concentration of 0.0
1 to 50%, additive 12 concentration is 1 to 100,000 ppm
It was found that within the range, the increase in the friction coefficient μ after CSS was suppressed, and the effect of suppressing the formation of slider deposits was obtained.

【0099】図40に示す結果から、請求項2記載の一
般式[1]と、請求項7記載の複素環化合物又は複素環
化合物と他の環状化合物との縮合多環化合物のうち環を
構成する炭素以外の原子すなわち異種原子がNである化
合物とを、パーフルオロポリエーテルに添加した潤滑剤
は、CSS後の摩擦係数μの上昇を抑え、スライダー付
着物の生成を抑制する効果があることがわかった。ま
た、本発明の評価条件では、特開平5−20675号公
報に記された公知の潤滑剤は、良好な潤滑性能を得るこ
とができず、また、ヘッド付着物の発生を抑制すること
もできないことがわかった。
From the results shown in FIG. 40, it can be seen that the ring of the general formula [1] of claim 2 and the heterocyclic compound or the condensed polycyclic compound of the heterocyclic compound and another cyclic compound according to claim 7 constitute a ring. A compound in which an atom other than carbon, that is, a compound in which a hetero atom is N, is added to the perfluoropolyether to suppress the increase in the friction coefficient μ after CSS and to suppress the generation of slider deposits. I understood. Further, under the evaluation conditions of the present invention, the known lubricant described in JP-A-5-20675 cannot obtain good lubricating performance and cannot suppress the generation of head deposits. I understand.

【0100】(実施例166〜180)は、請求項2記
載の一般式[1]と、請求項7記載の複素環化合物又は
複素環化合物と他の環状化合物との縮合多環化合物のう
ち環を構成する炭素以外の原子すなわち異種原子がPで
ある化合物と、パーフルオロポリエーテル系化合物とか
らなる潤滑剤についての実施例である。
(Examples 166 to 180) show a compound represented by the general formula [1] described in claim 2 and a heterocyclic compound or a condensed polycyclic compound of a heterocyclic compound and another cyclic compound described in claim 7. This is an example of a lubricant composed of a compound in which an atom other than carbon, that is, a hetero atom, which is P, and a perfluoropolyether-based compound.

【0101】前記実施例1〜15と同様の方法で添加剤
展開サンプルディスク及びリファレンスディスクを作製
し、添加剤の種類と潤滑性能の関係についての検討を行
った。添加剤としては、一般式[1]で示されるものの
うちR1 =R2 =R3 =R4=R5 =R6 =−O−C6
4 −CF2 CF3 (メタ位)である分子構造を有する
化合物、及び請求項7記載の複素環化合物又は複素環化
合物と他の環状化合物との縮合多環化合物のうち15種
類の化合物を使用した。
In the same manner as in Examples 1 to 15, additive-developed sample disks and reference disks were manufactured, and the relationship between the type of additive and the lubricating performance was examined. Among the additives represented by the general formula [1], R 1 = R 2 = R 3 = R 4 = R 5 = R 6 = -O-C 6
A compound having a molecular structure of H 4 —CF 2 CF 3 (meta position), and 15 types of the heterocyclic compound or the condensed polycyclic compound of the heterocyclic compound and another cyclic compound according to claim 7. used.

【0102】評価条件を図41に、評価結果を図42に
示す。
FIG. 41 shows the evaluation conditions, and FIG. 42 shows the evaluation results.

【0103】図42に示す結果から、請求項2記載の一
般式[1]と、請求項7記載の複素環化合物又は複素環
化合物と他の環状化合物との縮合多環化合物のうち環を
構成する炭素以外の原子すなわち異種原子がPである化
合物とを、パーフルオロポリエーテルに添加した潤滑剤
は、CSS後の摩擦係数μの上昇を抑え、スライダー付
着物の生成を抑制する効果があることがわかった。ま
た、本発明の評価条件では、特開平5−20675号公
報に記された公知の潤滑剤は、良好な潤滑性能を得るこ
とができず、また、ヘッド付着物の発生を抑制すること
もできないことがわかった。
From the results shown in FIG. 42, the ring of the general formula [1] of claim 2 and the heterocyclic compound or the condensed polycyclic compound of the heterocyclic compound and another cyclic compound according to claim 7 constitute a ring. A lubricant in which an atom other than carbon, that is, a compound in which the heteroatom is P, is added to the perfluoropolyether has the effect of suppressing the increase in the friction coefficient μ after CSS and suppressing the formation of slider deposits. I understood. Further, under the evaluation conditions of the present invention, the known lubricant described in JP-A-5-20675 cannot obtain good lubricating performance and cannot suppress the generation of head deposits. I understand.

【0104】(実施例181〜195)は、請求項2記
載の一般式[1]と、請求項8記載の一般式[7]で示
されるもののうちZが塩素原子である化合物と、パーフ
ルオロポリエーテル系化合物とからなる潤滑剤について
の実施例である。
(Examples 181 to 195) show a compound represented by the general formula [1] described in claim 2 and a compound represented by the general formula [7] described in claim 8 wherein Z is a chlorine atom; This is an example of a lubricant comprising a polyether compound.

【0105】一般式[1]で示されるもののうち、R1
=R3 =R5 =−O−C6 4 −CF3 (オルト位)、
2 =R4 =R6 =−O−C6 4 −CF3 (パラ位)
である分子構造を有する化合物(添加剤13)、及び一
般式[7]のうちZ=N、R1 =R2 =R4 =R5 =−
(CH2 10−CH3 、R3 =−(CH2 10−である
分子構造を有する化合物(添加剤14)について、前記
実施例1と同様の方法で濃度展開サンプルディスクを作
製した。また、前記実施例1〜15と同様の方法で、添
加剤14のR1 、R2 、R3 、R4 、R5 に種々の置換
基を導入した添加剤サンプルディスクを作製した。さら
に、特開平5−20675号公報に記載されたアルキル
アミンの一種であるトリ−n−ヘキシルアミンN((C
2 6OH)3 を1000ppm添加した潤滑剤を成
膜した公知ディスクも作製した。さらにリファレンスデ
ィスクも作製した。
Of the compounds represented by the general formula [1], R 1
= R 3 = R 5 = -O -C 6 H 4 -CF 3 ( ortho),
R 2 = R 4 = R 6 = -O-C 6 H 4 -CF 3 ( para)
(Additive 13) having the following molecular structure, and Z = N, R 1 = R 2 = R 4 = R 5 = − in the general formula [7].
For a compound (additive 14) having a molecular structure of (CH 2 ) 10 —CH 3 , R 3 = — (CH 2 ) 10 —, a concentration-developed sample disk was prepared in the same manner as in Example 1. In the same manner as in Examples 1 to 15, additive sample disks in which various substituents were introduced into R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , and R 5 of the additive 14 were produced. Further, tri-n-hexylamine N ((C
A known disk on which a lubricant film containing 1000 ppm of H 2 ) 6 OH) 3 was added was also prepared. Further, a reference disk was also prepared.

【0106】評価条件を図43に、濃度展開サンプルデ
ィスクの評価結果を図44に、添加剤展開サンプルディ
スクの評価結果を図45及び図46に示す。
FIG. 43 shows the evaluation conditions, FIG. 44 shows the evaluation results of the sample disks in which the concentration was developed, and FIGS. 45 and 46 show the evaluation results of the sample disks in which the additive was developed.

【0107】図44に示す結果から、実施例181に記
載した本発明に係る潤滑剤は、添加剤13濃度が0.0
1〜50%、添加剤14濃度が1〜100000ppm
の範囲内で、CSS後の摩擦係数μの上昇を抑え、スラ
イダー付着物の生成を抑制する効果があることがわかっ
た。図45及び図46に示す結果から、請求項2記載の
一般式[1]と請求項8記載の一般式[7]で示される
もののうちZ=Oである化合物とをパーフルオロポリエ
ーテルに添加した潤滑剤は、CSS後の摩擦係数μの上
昇を抑え、スライダー付着物の生成を抑制する効果があ
ることがわかった。また、本発明の評価条件では、特開
平5−20675号公報に記された公知の潤滑剤は、良
好な潤滑性能を得ることができず、また、ヘッド付着物
の発生を抑制することもできないことがわかった。
From the results shown in FIG. 44, it can be seen that the lubricant according to the present invention described in Example 181 has an additive 13 concentration of 0.0
1 to 50%, additive 14 concentration is 1 to 100000 ppm
It was found that within the range, the increase in the friction coefficient μ after CSS was suppressed, and the effect of suppressing the formation of slider deposits was obtained. From the results shown in FIGS. 45 and 46, the compound represented by the general formula [1] according to claim 2 and the compound represented by general formula [7] wherein Z] O is added to the perfluoropolyether. It was found that the lubricating agent had an effect of suppressing an increase in the friction coefficient μ after CSS and suppressing generation of a slider deposit. Further, under the evaluation conditions of the present invention, the known lubricant described in JP-A-5-20675 cannot obtain good lubricating performance and cannot suppress the generation of head deposits. I understand.

【0108】(実施例196〜210)は、請求項2記
載の一般式[1]と、請求項8記載の一般式[7]で示
されるもののうちZがイオウ原子である化合物と、パー
フルオロポリエーテル系化合物とからなる潤滑剤につい
ての実施例である。
(Examples 196 to 210) show a compound represented by the general formula [1] according to claim 2 and a compound represented by the general formula [7] according to claim 8 wherein Z is a sulfur atom; This is an example of a lubricant comprising a polyether compound.

【0109】前記実施例1〜15と同様の方法で添加剤
展開サンプルディスク及びリファレンスディスクを作製
し、添加剤の種類と潤滑性能の関係についての検討を行
った。添加剤としては、一般式[1]で示されるものの
うちR1 =R3 =R5 =−O−C6 4 −CF3 (オル
ト位)、R2 =R4 =R6 =−O−C6 4 −CF
3(パラ位)である分子構造を有する化合物、及び一般
式[7]のうちZ=S,R1 、R2 、に種々の置換基を
導入した化合物を使用した。
A sample disk and a reference disk were prepared in the same manner as in Examples 1 to 15, and the relationship between the type of additive and the lubricating performance was examined. Among the additives represented by the general formula [1], R 1 RR 3 RR 5 −—O—C 6 H 4 —CF 3 (ortho position) and R 2 RR 4 RR 6 −—O -C 6 H 4 -CF
A compound having a molecular structure of 3 (para position) and a compound in which various substituents are introduced into Z = S, R 1 and R 2 in the general formula [7] were used.

【0110】評価条件を図47に、評価結果を図48及
び図49に示す。
FIG. 47 shows the evaluation conditions, and FIGS. 48 and 49 show the evaluation results.

【0111】図48及び図49に示す結果から、請求項
2記載の一般式[1]と、請求項8記載の一般式[7]
で示されるもののうちZ=Sである化合物とを、パーフ
ルオロポリエーテルに添加した潤滑剤は、CSS後の摩
擦係数μの上昇を抑え、スライダー付着物の生成を抑制
する効果があることがわかった。また、本発明の評価条
件では、特開平5−20675号公報に記された公知の
潤滑剤は、良好な潤滑性能を得ることができず、また、
ヘッド付着物の発生を抑制することもできないことがわ
かった。
From the results shown in FIGS. 48 and 49, the general formula [1] according to claim 2 and the general formula [7] according to claim 8
It has been found that a lubricant in which a compound in which Z = S is added to the perfluoropolyether among the compounds represented by, has the effect of suppressing the increase in the friction coefficient μ after CSS and suppressing the formation of slider deposits. Was. Further, under the evaluation conditions of the present invention, the known lubricant described in JP-A-5-20675 cannot obtain good lubrication performance,
It was found that it was not possible to suppress the generation of head deposits.

【0112】(実施例211〜225)は、請求項2記
載の一般式[1]と、請求項9記載の一般式[8]で示
されるもののうちZが塩素原子である化合物と、パーフ
ルオロポリエーテル系化合物とからなる潤滑剤について
の実施例である。
(Examples 211 to 225) show a compound represented by the general formula [1] described in claim 2 and a compound represented by the general formula [8] described in claim 9 wherein Z is a chlorine atom; This is an example of a lubricant comprising a polyether compound.

【0113】一般式[1]で示されるもののうちR1
3 =R5 =−O−C6 4 −CF2 CF3 (オルト
位)、R2 =R4 =R6 =−O−C6 4 −CF2 CF
3 (パラ位)である分子構造を有する化合物(添加剤1
5)、及び一般式[8]のうちZ=O、R=CH(CH
2 9 −CH3 である分子構造を有する化合物(添加剤
16)について、前記実施例1と同様の方法で濃度展開
サンプルディスクを作製した。また、前記実施例1〜1
5と同様の方法で添加剤16のRに種々の置換基を導入
した添加剤サンプルディスクを作製した。さらに、特開
平5−20675号公報に記載されたアルキルアミンの
一種であるジ−n−ヘキシルアミンNH((CH2 5
CH3 2 を1000ppm添加した潤滑剤を成膜した
公知ディスクも作製した。さらにリファレンスディスク
も作製した。
In the general formula [1], R 1 =
R 3 = R 5 = -O- C 6 H 4 -CF 2 CF 3 ( ortho), R 2 = R 4 = R 6 = -O-C 6 H 4 -CF 2 CF
3 A compound having a molecular structure (para position) (additive 1
5) and Z = O and R = CH (CH
2 ) For a compound having a molecular structure of 9- CH 3 (additive 16), a concentration-developed sample disk was prepared in the same manner as in Example 1. Examples 1 to 1
In the same manner as in Example 5, additive sample disks in which various substituents were introduced into R of the additive 16 were prepared. Further, di-n-hexylamine NH ((CH 2 ) 5, which is a kind of alkylamine described in JP-A-5-20675.
A known disk on which a lubricant containing 1000 ppm of CH 3 ) 2 was added was also prepared. Further, a reference disk was also prepared.

【0114】評価条件を図50に、濃度展開サンプルデ
ィスクの評価結果を図51に、添加剤展開サンプルディ
スクの評価結果を図52に示す。
FIG. 50 shows the evaluation conditions, FIG. 51 shows the evaluation results of the concentration developed sample disks, and FIG. 52 shows the evaluation results of the additive developed sample disks.

【0115】図51に示す結果から、実施例211に記
載した本発明に係る潤滑剤は、添加剤15濃度が0.0
1〜50%、添加剤16濃度が1〜100000ppm
の範囲内で、CSS後の摩擦係数μの上昇を抑え、スラ
イダー付着物の生成を抑制する効果があることがわかっ
た。図52に示す結果から、請求項2記載の一般式
[1]と請求項9記載の一般式[8]で示されるものの
うちZ=Oである化合物とをパーフルオロポリエーテル
に添加した潤滑剤は、CSS後の摩擦係数μの上昇を抑
え、スライダー付着物の生成を抑制する効果があること
がわかった。また、本発明の評価条件では、特開平5−
20675号公報に記された公知の潤滑剤は、良好な潤
滑性能を得ることができず、また、ヘッド付着物の発生
を抑制することもできないことがわかった。
From the results shown in FIG. 51, it can be seen that the lubricant according to the present invention described in Example 211 has an additive 15 concentration of 0.0
1 to 50%, additive 16 concentration is 1 to 100000 ppm
It was found that within the range, the increase in the friction coefficient μ after CSS was suppressed, and the effect of suppressing the formation of slider deposits was obtained. From the results shown in FIG. 52, a lubricant in which the compound represented by the general formula [1] according to claim 2 and the compound represented by general formula [8] according to claim 9 wherein Z = O is added to perfluoropolyether Was found to have an effect of suppressing the increase in the friction coefficient μ after CSS and suppressing the generation of slider deposits. In the evaluation conditions of the present invention, Japanese Patent Application Laid-Open
It has been found that the known lubricant described in Japanese Patent No. 20675 cannot obtain good lubrication performance and cannot suppress the generation of head deposits.

【0116】(実施例226〜240)は、請求項2記
載の一般式[1]と、請求項9記載の一般式[8]で示
されるもののうちZ=Sである化合物と、パーフルオロ
ポリエーテル系化合物とからなる潤滑剤についての実施
例である。
(Examples 226 to 240) show a compound represented by the general formula [1] described in claim 2, a compound represented by the general formula [8] described in claim 9 wherein Z = S, This is an example of a lubricant comprising an ether compound.

【0117】前記実施例1〜15と同様の方法で添加剤
展開サンプルディスク及びリファレンスディスクを作製
し、添加剤の種類と潤滑性能の関係についての検討を行
った。添加剤としては、一般式[1]で示されるものの
うちR1 =R3 =R5 =−O−C6 4 −CF2 CF3
(オルト位)、R2 =R4 =R6 =−O−C6 4 −C
2 CF3 (パラ位)である分子構造を有する化合物及
び一般式[8]のうち、Z=S,Rに種々の置換基を導
入した化合物を使用した。
In the same manner as in Examples 1 to 15, additive-developed sample disks and reference disks were manufactured, and the relationship between the type of additive and the lubricating performance was examined. Among the additives represented by the general formula [1], R 1 = R 3 = R 5 = —O—C 6 H 4 —CF 2 CF 3
(Ortho), R 2 = R 4 = R 6 = -O-C 6 H 4 -C
Compounds having a molecular structure of F 2 CF 3 (para position) and compounds of formula [8] in which various substituents were introduced into ZZS, R were used.

【0118】評価条件を図53に、評価結果を図54に
示す。
FIG. 53 shows the evaluation conditions, and FIG. 54 shows the evaluation results.

【0119】図54に示す結果から、請求項2記載の一
般式[1]と請求項8記載の一般式[8]で示されるも
ののうちZ=Sである化合物とをパーフルオロポリエー
テルに添加した潤滑剤は、CSS後の摩擦係数μの上昇
を抑え、スライダー付着物の生成を抑制する効果がある
ことがわかった。また、本発明の評価条件では、特開平
5−20675号公報に記された公知の潤滑剤は、良好
な潤滑性能を得ることができず、また、ヘッド付着物の
発生を抑制することもできないことがわかった。
From the results shown in FIG. 54, the compound represented by the general formula [1] according to claim 2 and the compound represented by general formula [8] wherein Z = S is added to the perfluoropolyether. It was found that the lubricating agent had an effect of suppressing an increase in the friction coefficient μ after CSS and suppressing generation of a slider deposit. Further, under the evaluation conditions of the present invention, the known lubricant described in JP-A-5-20675 cannot obtain good lubricating performance and cannot suppress the generation of head deposits. I understand.

【0120】(実施例241〜255)は、請求項2記
載の一般式[1]と、請求項10記載の一般式[9]で
示されるもののうちZ=Oである化合物と、パーフルオ
ロポリエーテル系化合物とからなる潤滑剤についての実
施例である。
(Examples 241 to 255) show a compound represented by the general formula [1] described in claim 2, a compound represented by the general formula [9] described in claim 10 wherein Z = O, This is an example of a lubricant comprising an ether compound.

【0121】一般式[1]で示されるもののうちR1
3 =R5 =−O−C6 4 −CF3 (オルト位)、R
2 =R4 =R6 =−O−C6 4 −CF2 CF3 (パラ
位)である分子構造を有する化合物(添加剤17)、及
び一般式[9]のうちZ=O、R1 =R2 =−(C
2 10−CH3 である分子構造を有する化合物(添加
剤18)について、前記実施例1と同様の方法で濃度展
開サンプルディスクを作製した。また、前記実施例1〜
15と同様の方法で添加剤18のR1 、R2 に種々の置
換基を導入した添加剤サンプルディスクを作製した。さ
らに、特開平5−20675号公報に記載されたアルキ
ルアミンの一種であるn−ヘキシルアミンNH2 (CH
2 6 OHを1000ppm添加した潤滑剤を成膜した
公知ディスクも作製した。さらにリファレンスディスク
も作製した。
In the general formula [1], R 1 =
R 3 = R 5 = -OC 6 H 4 -CF 3 (ortho position), R
2 = R 4 = R 6 = -O-C 6 H 4 compounds having a molecular structure which is -CF 2 CF 3 (para) (Additives 17), and Z = O of the general formula [9], R 1 = R 2 = - (C
With respect to the compound having a molecular structure of H 2 ) 10 —CH 3 (additive 18), a concentration-developed sample disk was prepared in the same manner as in Example 1 above. Examples 1 to 5
In the same manner as in Example 15, additive sample disks in which various substituents were introduced into R 1 and R 2 of Additive 18 were prepared. Further, n-hexylamine NH 2 (CH, which is a kind of alkylamine described in JP-A-5-20675)
2 ) A well-known disk on which a lubricant containing 1000 ppm of 6 OH was added was also prepared. Further, a reference disk was also prepared.

【0122】評価条件を図55に、濃度展開サンプルデ
ィスクの評価結果を図56に、添加剤展開サンプルディ
スクの評価結果を図57及び図58に示す。
FIG. 55 shows the evaluation conditions, FIG. 56 shows the evaluation results of the concentration developed sample disks, and FIGS. 57 and 58 show the evaluation results of the additive developed sample disks.

【0123】図56に示す結果から、実施例241に記
載した本発明に係る潤滑剤は、添加剤15濃度が0.0
1〜50%、添加剤16濃度が1〜100000ppm
の範囲内で、CSS後の摩擦係数μの上昇を抑え、スラ
イダー付着物の生成を抑制する効果があることがわかっ
た。
From the results shown in FIG. 56, it can be seen that the lubricant according to the present invention described in Example 241 has an additive 15 concentration of 0.0
1 to 50%, additive 16 concentration is 1 to 100000 ppm
It was found that within the range, the increase in the friction coefficient μ after CSS was suppressed, and the effect of suppressing the formation of slider deposits was obtained.

【0124】図56に示す結果から、請求項2記載の一
般式[1]と請求項10記載の一般式[9]で示される
もののうちZ=Oである化合物とをパーフルオロポリエ
ーテルに添加した潤滑剤は、CSS後の摩擦係数μの上
昇を抑え、スライダー付着物の生成を抑制する効果があ
ることがわかった。また、本発明の評価条件では、特開
平5−20675号公報に記された公知の潤滑剤は、良
好な潤滑性能を得ることができず、また、ヘッド付着物
の発生を抑制することもできないことがわかった。
From the results shown in FIG. 56, the compound represented by the general formula [1] according to claim 2 and the compound represented by general formula [9] wherein Z = O is added to the perfluoropolyether. It was found that the lubricating agent had an effect of suppressing an increase in the friction coefficient μ after CSS and suppressing generation of a slider deposit. Further, under the evaluation conditions of the present invention, the known lubricant described in JP-A-5-20675 cannot obtain good lubricating performance and cannot suppress the generation of head deposits. I understand.

【0125】(実施例256〜270)は、請求項2記
載の一般式[1]と、請求項10記載の一般式[9]で
示されるもののうちZがイオウ原子である化合物と、パ
ーフルオロポリエーテル系化合物とからなる潤滑剤につ
いての実施例である。
(Examples 256 to 270) show a compound represented by the general formula [1] according to claim 2 and a compound represented by the general formula [9] according to claim 10 wherein Z is a sulfur atom; This is an example of a lubricant comprising a polyether compound.

【0126】前記実施例1〜15と同様の方法で添加剤
展開サンプルディスク及びリファレンスディスクを作製
し、添加剤の種類と潤滑性能の関係についての検討を行
った。添加剤としては、一般式[1]で示されるものの
うちR1 =R3 =R5 =−O−C6 4 −CF3 (オル
ト位)、R2 =R4 =R6 =−O−C6 4 −CF2
3 (パラ位)である分子構造を有する化合物、及び一
般式[9]のうちZ=S,Rに種々の置換基を導入した
化合物を使用した。
In the same manner as in Examples 1 to 15, additive development sample disks and reference disks were prepared, and the relationship between the type of additive and the lubrication performance was examined. Among the additives represented by the general formula [1], R 1 RR 3 RR 5 −—O—C 6 H 4 —CF 3 (ortho position) and R 2 RR 4 RR 6 −—O -C 6 H 4 -CF 2 C
A compound having a molecular structure of F 3 (para-position) and a compound in which various substituents are introduced into Z = S, R in the general formula [9] were used.

【0127】評価条件を図59に、評価結果を図60及
び図61に示す。
FIG. 59 shows the evaluation conditions, and FIGS. 60 and 61 show the evaluation results.

【0128】図60及び図61に示す結果から、請求項
2記載の一般式[1]と、請求項10記載の一般式
[9]で示されるもののうちZ=Sである化合物とを、
パーフルオロポリエーテルに添加した潤滑剤は、CSS
後の摩擦係数μの上昇を抑え、スライダー付着物の生成
を抑制する効果があることがわかった。また、本発明の
評価条件では、特開平5−20675号公報に記された
公知の潤滑剤は、良好な潤滑性能を得ることができず、
また、ヘッド付着物の発生を抑制することもできないこ
とがわかった。
From the results shown in FIGS. 60 and 61, the compound represented by the general formula [1] according to claim 2 and the compound represented by the general formula [9] according to claim 10 wherein Z = S was obtained.
The lubricant added to the perfluoropolyether is CSS
It was found that there was an effect of suppressing the increase of the friction coefficient μ later and suppressing the formation of the slider deposits. Further, under the evaluation conditions of the present invention, the known lubricant described in JP-A-5-20675 cannot obtain good lubrication performance,
Also, it was found that it was not possible to suppress the generation of head deposits.

【0129】(実施例271〜285)は、請求項2記
載の一般式[1]と、請求項11記載の一般式[10]
で示されるもののうちZが酸素原子である化合物と、パ
ーフルオロポリエーテル系化合物とからなる潤滑剤につ
いての実施例である。
(Examples 271 to 285) show the general formula [1] described in claim 2 and the general formula [10] described in claim 11
This is an example of a lubricant composed of a compound in which Z is an oxygen atom and a perfluoropolyether compound.

【0130】一般式[1]で示されるもののうちR1
3 =R5 =−O−C6 4 −CF2 CF3 (オルト
位)、R2 =R4 =R6 =−O−C6 4 −CF3 (パ
ラ位)である分子構造を有する化合物(添加剤19)、
及び一般式[9]のうちZ=O、R1 =R3 =−(CH
2 10−CH3 ,R2 =−(CH2 10−である分子構
造を有する化合物(添加剤20)について、前記実施例
1と同様の方法で濃度展開サンプルディスクを作製し
た。また、前記実施例1〜15と同様の方法で添加剤2
0のR1 、R2 、R3 に種々の置換基を導入した添加剤
サンプルディスクを作製した。さらに、特開平5−20
675号公報に記載されたアルキルアミンの一種である
トリ−n−ヘキサノールアミンN((CH2 6 OH)
3 を1000ppm添加した潤滑剤を成膜した公知ディ
スクも作製した。さらにリファレンスディスクも作製し
た。
In the general formula [1], R 1 =
R 3 = R 5 = -O- C 6 H 4 -CF 2 CF 3 ( ortho), R 2 = R 4 = R 6 = -O-C 6 H 4 -CF 3 ( para) at which the molecular structure A compound having the formula (additive 19),
And Z = O, R 1 = R 3 =-(CH
2) 10 -CH 3, R 2 = - (CH 2) 10 - for compounds having a molecular structure which is (additives 20) to produce a concentration deployment sample disks in the same manner as in Example 1. Additive 2 was prepared in the same manner as in Examples 1 to 15.
R 1 0, to produce a R 2, additive sample disks introduced various substituents on R 3. Further, Japanese Patent Laid-Open No. 5-20
No. 675, tri-n-hexanolamine N ((CH 2 ) 6 OH) which is a kind of alkylamine
A known disk on which a lubricant formed by adding 1000 ppm of 3 was formed was also prepared. Further, a reference disk was also prepared.

【0131】評価条件を図62に、濃度展開サンプルデ
ィスクの評価結果を図63に、添加剤展開サンプルディ
スクの評価結果を図64及び図65に示す。
FIG. 62 shows the evaluation conditions, FIG. 63 shows the evaluation results of the sample disks in which the concentration is developed, and FIGS. 64 and 65 show the evaluation results of the sample disks in which the additive is developed.

【0132】図63に示す結果から、実施例271に記
載した本発明に係る潤滑剤は、添加剤19濃度が0.0
1〜50%、添加剤20濃度が1〜100000ppm
の範囲内で、CSS後の摩擦係数μの上昇を抑え、スラ
イダー付着物の生成を抑制する効果があることがわかっ
た。図64及び図65に示す結果から、請求項2記載の
一般式[1]と、請求項11記載の一般式[10]で示
されるもののうちZ=Oである化合物とを、パーフルオ
ロポリエーテルに添加した潤滑剤は、CSS後の摩擦係
数μの上昇を抑え、スライダー付着物の生成を抑制する
効果があることがわかった。また、本発明の評価条件で
は、特開平5−20675号公報に記された公知の潤滑
剤は、良好な潤滑性能を得ることができず、また、ヘッ
ド付着物の発生を抑制することもできないことがわかっ
た。
From the results shown in FIG. 63, it can be seen that the lubricant according to the present invention described in Example 271 has a concentration of additive 19 of 0.0
1 to 50%, additive 20 concentration is 1 to 100,000 ppm
It was found that within the range, the increase in the friction coefficient μ after CSS was suppressed, and the effect of suppressing the formation of slider deposits was obtained. From the results shown in FIG. 64 and FIG. 65, the compound represented by the general formula [1] according to claim 2 and the compound represented by the general formula [10] according to claim 11 wherein ZOO is a perfluoropolyether It has been found that the lubricant added to has the effect of suppressing an increase in the friction coefficient μ after CSS and suppressing the generation of slider deposits. Further, under the evaluation conditions of the present invention, the known lubricant described in JP-A-5-20675 cannot obtain good lubricating performance and cannot suppress the generation of head deposits. I understand.

【0133】(実施例286〜300)は、請求項2記
載の一般式[1]と、請求項11記載の一般式[10]
で示されるもののうちZ=Sである化合物と、パーフル
オロポリエーテル系化合物とからなる潤滑剤についての
実施例である。
(Examples 286 to 300) show the general formula [1] according to claim 2 and the general formula [10] according to claim 11
This is an example of a lubricant composed of a compound in which Z = S and a perfluoropolyether-based compound.

【0134】前記実施例1〜15と同様の方法で添加剤
展開サンプルディスク及びリファレンスディスクを作製
し、添加剤の種類と潤滑性能の関係についての検討を行
った。添加剤としては、一般式[1]で示されるものの
うちR1 =R3 =R5 =−O−C6 4 −CF2 CF3
(オルト位)、R2 =R4 =R6 =−O−C6 4 −C
3 (パラ位)である分子構造を有する化合物、及び一
般式[10]のうちZ=S,R1 ,R2 ,R3 に種々の
置換基を導入した化合物を使用した。
A sample disk and a reference disk were prepared in the same manner as in Examples 1 to 15, and the relationship between the type of additive and the lubricating performance was examined. Among the additives represented by the general formula [1], R 1 = R 3 = R 5 = —O—C 6 H 4 —CF 2 CF 3
(Ortho), R 2 = R 4 = R 6 = -O-C 6 H 4 -C
A compound having a molecular structure of F 3 (para position) and a compound in which various substituents are introduced into Z = S, R 1 , R 2 , and R 3 in the general formula [10] were used.

【0135】評価条件を図66に、評価結果を図67及
び図68に示す。
The evaluation conditions are shown in FIG. 66, and the evaluation results are shown in FIGS. 67 and 68.

【0136】図67及び図68に示す結果から、請求項
2記載の一般式[1]と、請求項11記載の一般式[1
0]で示されるもののうちZ=Sである化合物とを、パ
ーフルオロポリエーテルに添加した潤滑剤は、CSS後
の摩擦係数μの上昇を抑え、スライダー付着物の生成を
抑制する効果があることがわかった。また、本発明の評
価条件では、特開平5−20675号公報に記された公
知の潤滑剤は、良好な潤滑性能を得ることができず、ま
た、ヘッド付着物の発生を抑制することもできないこと
がわかった。
From the results shown in FIGS. 67 and 68, the general formula [1] according to claim 2 and the general formula [1] according to claim 11
0] and a compound in which Z = S is added to the perfluoropolyether, the lubricant has the effect of suppressing the increase in the friction coefficient μ after CSS and the generation of slider deposits. I understood. Further, under the evaluation conditions of the present invention, the known lubricant described in JP-A-5-20675 cannot obtain good lubricating performance and cannot suppress the generation of head deposits. I understand.

【0137】[0137]

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明の潤滑剤はパーフルオロポリエーテルの分解及び高粘
性物質の生成を防ぐので、CSSによる摩擦係数μの上
昇を抑え、また、スライダー付着物の生成を抑制する効
果がある。そのために、この潤滑剤を成膜した磁気記録
媒体は、如何なる使用条件下においても長期間にわたっ
てその潤滑性を保つことができる。従ってこの磁気記録
媒体を用いた磁気記録装置は、従来の磁気記録装置より
も信頼性が高く、装置寿命が延長される効果がある。
As is clear from the above description, the lubricant of the present invention prevents the decomposition of perfluoropolyether and the formation of a highly viscous substance. This has the effect of suppressing the formation of deposits. Therefore, the magnetic recording medium on which the lubricant is formed can maintain its lubricating property over a long period of time under any use conditions. Therefore, a magnetic recording device using this magnetic recording medium has higher reliability than conventional magnetic recording devices, and has the effect of extending the life of the device.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の磁気記録媒体の一構成例を示す要部拡
大断面図である。
FIG. 1 is an enlarged sectional view of a main part showing one configuration example of a magnetic recording medium of the present invention.

【図2】本発明の磁気記録装置を概略的に示す構成図で
ある。
FIG. 2 is a configuration diagram schematically showing a magnetic recording apparatus of the present invention.

【図3】実施例1〜15における、潤滑性能の評価試験
条件を示す図表である。
FIG. 3 is a table showing test conditions for evaluating lubrication performance in Examples 1 to 15.

【図4】実施例1〜15における、添加剤濃度と潤滑性
能との関係についての評価結果を示す図表である。
FIG. 4 is a table showing evaluation results on the relationship between additive concentration and lubrication performance in Examples 1 to 15.

【図5】実施例1〜15における、添加剤の種類と潤滑
性能との関係についての評価結果を示す図表である。
FIG. 5 is a table showing evaluation results on the relationship between types of additives and lubrication performance in Examples 1 to 15.

【図6】実施例1〜15における、添加剤の種類と潤滑
性能との関係についての評価結果を示す図表である。
FIG. 6 is a table showing evaluation results on the relationship between types of additives and lubrication performance in Examples 1 to 15.

【図7】実施例16〜30における、潤滑性能の評価試
験条件を示す図表である。
FIG. 7 is a table showing test conditions for evaluating lubrication performance in Examples 16 to 30.

【図8】実施例16〜30における、添加剤の種類と潤
滑性能との関係についての評価結果を示す図表である。
FIG. 8 is a table showing evaluation results on the relationship between types of additives and lubrication performance in Examples 16 to 30.

【図9】実施例16〜30における、添加剤の種類と潤
滑性能との関係についての評価結果を示す図表である。
FIG. 9 is a table showing evaluation results on the relationship between types of additives and lubrication performance in Examples 16 to 30.

【図10】実施例31〜45における、潤滑性能の評価
試験条件を示す図表である。
FIG. 10 is a table showing evaluation test conditions for lubricating performance in Examples 31 to 45.

【図11】実施例31〜45における、添加剤濃度と潤
滑性能との関係についての評価結果を示す図表である。
FIG. 11 is a table showing evaluation results on the relationship between additive concentration and lubrication performance in Examples 31 to 45.

【図12】実施例31〜45における、添加剤の種類と
潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表であ
る。
FIG. 12 is a table showing evaluation results on the relationship between types of additives and lubrication performance in Examples 31 to 45.

【図13】実施例31〜45における、添加剤の種類と
潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表であ
る。
FIG. 13 is a table showing evaluation results on the relationship between types of additives and lubrication performance in Examples 31 to 45.

【図14】実施例46〜60における、潤滑性能の評価
試験条件を示す図表である。
FIG. 14 is a table showing test conditions for evaluating lubrication performance in Examples 46 to 60.

【図15】実施例46〜60における、添加剤の種類と
潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表であ
る。
FIG. 15 is a table showing evaluation results on the relationship between types of additives and lubrication performance in Examples 46 to 60.

【図16】実施例46〜60における、添加剤の種類と
潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表であ
る。
FIG. 16 is a table showing evaluation results on the relationship between types of additives and lubrication performance in Examples 46 to 60.

【図17】実施例61〜75における、潤滑性能の評価
試験条件を示す図表である。
FIG. 17 is a table showing test conditions for evaluating lubrication performance in Examples 61 to 75.

【図18】実施例61〜75における、添加剤濃度と潤
滑性能との関係についての評価結果を示す図表である。
FIG. 18 is a table showing evaluation results on the relationship between additive concentration and lubricating performance in Examples 61 to 75.

【図19】実施例61〜75における、添加剤の種類と
潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表であ
る。
FIG. 19 is a table showing evaluation results on the relationship between types of additives and lubrication performance in Examples 61 to 75.

【図20】実施例76〜90における、潤滑性能の評価
試験条件を示す図表である。
FIG. 20 is a table showing test conditions for evaluating lubrication performance in Examples 76 to 90.

【図21】実施例76〜90における、添加剤の種類と
潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表であ
る。
FIG. 21 is a table showing evaluation results on the relationship between types of additives and lubrication performance in Examples 76 to 90.

【図22】実施例91〜105における、潤滑性能の評
価試験条件を示す図表である。
FIG. 22 is a table showing test conditions for evaluating lubrication performance in Examples 91 to 105.

【図23】実施例91〜105における、添加剤濃度と
潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表であ
る。
FIG. 23 is a table showing evaluation results on the relationship between additive concentration and lubrication performance in Examples 91 to 105.

【図24】実施例91〜105における、添加剤の種類
と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表であ
る。
FIG. 24 is a chart showing evaluation results on the relationship between types of additives and lubrication performance in Examples 91 to 105.

【図25】実施例91〜105における、添加剤の種類
と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表であ
る。
FIG. 25 is a table showing evaluation results on the relationship between the type of additive and lubrication performance in Examples 91 to 105.

【図26】実施例106〜120における、潤滑性能の
評価試験条件を示す図表である。
FIG. 26 is a table showing test conditions for evaluating lubrication performance in Examples 106 to 120.

【図27】実施例106〜120における、添加剤の種
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
FIG. 27 is a table showing evaluation results on the relationship between types of additives and lubrication performance in Examples 106 to 120.

【図28】実施例106〜120における、添加剤の種
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
FIG. 28 is a table showing evaluation results on the relationship between types of additives and lubrication performance in Examples 106 to 120.

【図29】実施例121〜135における、潤滑性能の
評価試験条件を示す図表である。
FIG. 29 is a table showing test conditions for evaluating lubrication performance in Examples 121 to 135.

【図30】実施例121〜135における、添加剤濃度
と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表であ
る。
FIG. 30 is a table showing evaluation results on the relationship between additive concentration and lubrication performance in Examples 121 to 135.

【図31】実施例121〜135における、添加剤の種
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
FIG. 31 is a table showing evaluation results on the relationship between types of additives and lubrication performance in Examples 121 to 135.

【図32】実施例121〜135における、添加剤の種
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
FIG. 32 is a table showing evaluation results on the relationship between types of additives and lubrication performance in Examples 121 to 135.

【図33】実施例121〜135における、添加剤の種
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
FIG. 33 is a table showing evaluation results on the relationship between types of additives and lubrication performance in Examples 121 to 135.

【図34】実施例136〜150における、潤滑性能の
評価試験条件を示す図表である。
FIG. 34 is a table showing test conditions for evaluating lubrication performance in Examples 136 to 150.

【図35】実施例136〜150における、添加剤の種
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
FIG. 35 is a table showing evaluation results on the relationship between types of additives and lubrication performance in Examples 136 to 150.

【図36】実施例136〜150における、添加剤の種
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
FIG. 36 is a table showing evaluation results on the relationship between types of additives and lubrication performance in Examples 136 to 150.

【図37】実施例136〜150における、添加剤の種
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
FIG. 37 is a table showing evaluation results on the relationship between types of additives and lubrication performance in Examples 136 to 150.

【図38】実施例151〜165における、潤滑性能の
評価試験条件を示す図表である。
FIG. 38 is a table showing test conditions for evaluating lubrication performance in Examples 151 to 165.

【図39】実施例151〜165における、添加剤濃度
と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表であ
る。
FIG. 39 is a table showing evaluation results on the relationship between additive concentration and lubrication performance in Examples 151 to 165.

【図40】実施例151〜165における、添加剤の種
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
FIG. 40 is a table showing evaluation results on the relationship between types of additives and lubrication performance in Examples 151 to 165.

【図41】実施例165〜180における、潤滑性能の
評価試験条件を示す図表である。
FIG. 41 is a table showing test conditions for evaluating lubrication performance in Examples 165 to 180.

【図42】実施例165〜180における、添加剤の種
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
FIG. 42 is a table showing evaluation results on the relationship between the type of additive and lubrication performance in Examples 165 to 180.

【図43】実施例181〜195における、潤滑性能の
評価試験条件を示す図表である。
FIG. 43 is a table showing test conditions for evaluating lubrication performance in Examples 181 to 195.

【図44】実施例181〜195における、添加剤濃度
と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表であ
る。
FIG. 44 is a table showing evaluation results of the relationship between additive concentration and lubrication performance in Examples 181 to 195.

【図45】実施例181〜195における、添加剤の種
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
FIG. 45 is a chart showing evaluation results on the relationship between the type of additive and lubrication performance in Examples 181 to 195.

【図46】実施例181〜195における、添加剤の種
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
FIG. 46 is a table showing evaluation results on the relationship between types of additives and lubrication performance in Examples 181 to 195.

【図47】実施例196〜210における、潤滑性能の
評価試験条件を示す図表である。
FIG. 47 is a table showing test conditions for evaluating lubrication performance in Examples 196 to 210.

【図48】実施例196〜210における、添加剤の種
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
FIG. 48 is a table showing evaluation results on the relationship between types of additives and lubrication performance in Examples 196 to 210.

【図49】実施例196〜210における、添加剤の種
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
FIG. 49 is a table showing evaluation results on the relationship between types of additives and lubrication performance in Examples 196 to 210.

【図50】実施例211〜225における、潤滑性能の
評価試験条件を示す図表である。
FIG. 50 is a table showing evaluation test conditions for lubricating performance in Examples 211 to 225.

【図51】実施例211〜225における、添加剤濃度
と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表であ
る。
FIG. 51 is a table showing evaluation results on the relationship between additive concentration and lubrication performance in Examples 211 to 225.

【図52】実施例211〜225における、添加剤の種
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
FIG. 52 is a table showing evaluation results of the relationship between the type of additive and lubrication performance in Examples 211 to 225.

【図53】実施例226〜240における、潤滑性能の
評価試験条件を示す図表である。
FIG. 53 is a table showing test conditions for evaluating lubrication performance in Examples 226 to 240.

【図54】実施例226〜240における、添加剤の種
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
FIG. 54 is a table showing evaluation results on the relationship between types of additives and lubrication performance in Examples 226 to 240.

【図55】実施例241〜255における、潤滑性能の
評価試験条件を示す図表である。
FIG. 55 is a table showing test conditions for evaluating lubrication performance in Examples 241 to 255.

【図56】実施例241〜255における、添加剤濃度
と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表であ
る。
FIG. 56 is a table showing evaluation results on the relationship between additive concentration and lubrication performance in Examples 241 to 255.

【図57】実施例241〜255における、添加剤の種
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
FIG. 57 is a table showing evaluation results on the relationship between types of additives and lubrication performance in Examples 241 to 255.

【図58】実施例241〜255における、添加剤の種
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
FIG. 58 is a table showing evaluation results on the relationship between types of additives and lubrication performance in Examples 241 to 255.

【図59】実施例256〜270における、潤滑性能の
評価試験条件を示す図表である。
FIG. 59 is a table showing test conditions for evaluating lubrication performance in Examples 256 to 270.

【図60】実施例256〜270における、添加剤の種
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
FIG. 60 is a table showing evaluation results on the relationship between the type of additive and lubrication performance in Examples 256 to 270.

【図61】実施例256〜270における、添加剤の種
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
FIG. 61 is a table showing evaluation results on the relationship between types of additives and lubrication performance in Examples 256 to 270.

【図62】実施例271〜285における、潤滑性能の
評価試験条件を示す図表である。
FIG. 62 is a table showing evaluation test conditions for lubricating performance in Examples 271 to 285.

【図63】実施例271〜285における、添加剤濃度
と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表であ
る。
FIG. 63 is a table showing evaluation results on the relationship between additive concentration and lubrication performance in Examples 271 to 285.

【図64】実施例271〜285における、添加剤の種
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
FIG. 64 is a table showing evaluation results on the relationship between types of additives and lubrication performance in Examples 271 to 285.

【図65】実施例271〜285における、添加剤の種
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
FIG. 65 is a table showing evaluation results on the relationship between types of additives and lubrication performance in Examples 271 to 285.

【図66】実施例286〜300における、潤滑性能の
評価試験条件を示す図表である。
FIG. 66 is a table showing test conditions for evaluating lubrication performance in Examples 286 to 300.

【図67】実施例286〜300における、添加剤の種
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
FIG. 67 is a table showing evaluation results on the relationship between types of additives and lubrication performance in Examples 286 to 300.

【図68】実施例286〜300における、添加剤の種
類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。
FIG. 68 is a table showing evaluation results on the relationship between the type of additive and lubrication performance in Examples 286 to 300.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 2 下地層 3 磁性層 4 保護層 5 潤滑膜 6 磁気ヘッド 7 キャリッジ 8 磁気ヘッド移動機構 9 磁気ディスク 10 磁気ディスク回転機構 11 支持ばね DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Underlayer 3 Magnetic layer 4 Protective layer 5 Lubricating film 6 Magnetic head 7 Carriage 8 Magnetic head moving mechanism 9 Magnetic disk 10 Magnetic disk rotating mechanism 11 Support spring

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI G11B 5/72 G11B 5/72 // C10N 30:06 40:18 (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G11B 5/66 C10M 107/38 C10M 105/74 C10M 133/02 - 133/14 C10M 137/12 C10M 137/16 G11B 5/72 C10N 30:06 C10N 40:18 WPI/L(QUESTEL)──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 identification code FI G11B 5/72 G11B 5/72 // C10N 30:06 40:18 (58) Investigated field (Int.Cl. 6 , DB name ) G11B 5/66 C10M 107/38 C10M 105/74 C10M 133/02-133/14 C10M 137/12 C10M 137/16 G11B 5/72 C10N 30:06 C10N 40:18 WPI / L (QUESTEL)

Claims (15)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 パーフルオロポリエーテル系化合物中
に、 フォスファーゼンのフェニルエーテル誘導体を0.1〜
50wt%、 HFとの反応速度が前記パーフルオロポリエーテル系化
合物よりも大きく、かつ、金属イオンとの錯生成定数が
前記パーフルオロポリエーテル系化合物よりも大きい物
質を1〜100000ppm、 含有した磁気記録媒体用潤滑剤。
1. A phenyl ether derivative of phosphazene in a perfluoropolyether-based compound,
Magnetic recording containing 50 wt%, a rate of reaction with HF greater than that of the perfluoropolyether compound, and a substance having a complexation constant with a metal ion greater than that of the perfluoropolyether compound, 1 to 100,000 ppm. Lubricant for media.
【請求項2】 パーフルオロポリエーテル系化合物中
に、 下記一般式[1]に示される化合物を0.5〜50wt
%、 下記一般式[2]〜[10]に示される骨格を有する化
合物のうち少なくとも1種類を1〜100000pp
m、 含有した磁気記録媒体用潤滑剤。 【化1】 〔一般式[1]中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R
6 はそれぞれ独立にフェノキシ誘導体基を示す。このフ
ェノキシ誘導体基は、置換基を有していてもよく、水素
原子の一部又は全部がフッ素原子によって置換されてい
てもよい。〕 【化2】 〔一般式[2]中、Zは窒素原子又はリン原子を示す。
1 、R2 、R3 はそれぞれ独立に、水素原子、水酸
基、アルキル基、アリール基の何れかを示す。これらの
アルキル基又はアリール基は、置換基を有していてもよ
く、水素原子の一部又は全部がフッ素原子によって置換
されていてもよい。〕 【化3】 〔一般式[3]中、Zは窒素原子、リン原子の何れかを
示す。R1 は水素原子、水酸基、アルキル基、アリール
基の何れかを示す。これらのアルキル基又はアリール基
は、置換基を有していてもよく、水素原子の一部又は全
部がフッ素原子によって置換されていてもよい。R
2 は、アルキル基、アリール基の何れかを示す。このア
ルキル基又はアリール基は、置換基を有していてもよ
く、水素原子の一部又は全部がフッ素原子によって置換
されていてもよい。〕 一般式[4] Z≡R 〔一般式[4]中、Zは窒素原子、リン原子の何れかを
示す。Rはアルキル基、アリール基の何れかを示す。こ
のアルキル基又はアリール基は、置換基を有していても
よく、水素原子の一部又は全部がフッ素原子によって置
換されていてもよい。〕 【化4】 〔一般式[5]中、Zはそれぞれ独立に窒素原子、リン
原子の何れかを示す。R1 、R2 、R3 、R4 はそれぞ
れ独立に、水素原子、水酸基、アルキル基、アリール基
の何れかを示す。これらのアルキル基又はアリール基
は、置換基を有していてもよく、水素原子の一部又は全
部がフッ素原子によって置換されていてもよい。〕 【化5】 〔一般式[6]中、Zはそれぞれ独立に窒素原子、リン
原子の何れかを示す。R1 、R2 、R3 、R4 、R5
それぞれ独立に、アルキル基、アリール基の何れかを示
す。R1 、R2 、R4 、R5 は水素原子又は水酸基でも
よい。これらのアルキル基又はアリール基は、置換基を
有していてもよく、水素原子の一部又は全部がフッ素原
子によって置換されていてもよい。〕 一般式[7] R1 −Z−R2 〔一般式[7]中、Zは酸素原子、イオウ原子の何れか
を示す。また、R1 、R2 はそれぞれ独立に、水素原
子、水酸基、アルキル基、アリール基の何れかを示す。
これらのアルキル基又はアリール基は置換基を有してい
てもよく、また水素原子の一部又は全部がフッ素原子に
よって置換されていてもよい。〕 一般式[8] Z=R 〔一般式[8]中、Zは酸素原子、イオウ原子の何れか
を示す。Rはアルキル基、アリール基の何れかを示す。
アルキル基又はアリール基は、置換基を有していてもよ
く、水素原子の一部又は全部がフッ素原子によって置換
されていてもよい。〕 一般式[9] R1 −Z−Z−R2 〔一般式[9]中、Zはそれぞれ独立に酸素原子、イオ
ウ原子の何れかを示す。R1 、R2 はそれぞれ独立に水
素原子、水酸基、アルキル基、アリール基の何れかを示
す。これらのアルキル基又はアリール基は、置換基を有
していてもよく、水素原子の一部又は全部がフッ素原子
によって置換されていてもよい。〕 一般式[10] R1 −Z−R2 −Z−R3 〔一般式[10]中、Zはそれぞれ独立に酸素原子、イ
オウ原子の何れかを示す。また、R1 、R2 、R3 はそ
れぞれ独立にアルキル基、アリール基の何れかを示す。
1 、R3 は水素原子又は水酸基でもよい。これらのア
ルキル基又はアリール基は、置換基を有していてもよ
く、水素原子の一部又は全部がフッ素原子によって置換
されていてもよい。〕
2. A compound represented by the following general formula [1] in a perfluoropolyether compound in an amount of 0.5 to 50 wt.
%, At least one compound having a skeleton represented by the following general formulas [2] to [10] is 1 to 100,000 pp
m, a lubricant for a magnetic recording medium contained therein. Embedded image [In the general formula [1], R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R
6 each independently represents a phenoxy derivative group. This phenoxy derivative group may have a substituent, and part or all of the hydrogen atoms may be substituted by fluorine atoms. [Chemical formula 2] [In the general formula [2], Z represents a nitrogen atom or a phosphorus atom.
R 1 , R 2 and R 3 each independently represent any one of a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkyl group and an aryl group. These alkyl groups or aryl groups may have a substituent, and part or all of the hydrogen atoms may be substituted with fluorine atoms. [Chemical formula 3] [In the general formula [3], Z represents either a nitrogen atom or a phosphorus atom. R 1 represents any one of a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkyl group, and an aryl group. These alkyl groups or aryl groups may have a substituent, and part or all of the hydrogen atoms may be substituted with fluorine atoms. R
2 represents either an alkyl group or an aryl group. The alkyl group or the aryl group may have a substituent, and part or all of the hydrogen atoms may be substituted with a fluorine atom. General formula [4] Z≡R [In general formula [4], Z represents either a nitrogen atom or a phosphorus atom. R represents either an alkyl group or an aryl group. The alkyl group or the aryl group may have a substituent, and part or all of the hydrogen atoms may be substituted with a fluorine atom. [Formula 4] [In the general formula [5], Z independently represents a nitrogen atom or a phosphorus atom. R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 each independently represent any one of a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkyl group, and an aryl group. These alkyl groups or aryl groups may have a substituent, and part or all of the hydrogen atoms may be substituted with fluorine atoms. [Chemical formula 5] [In the general formula [6], Z independently represents a nitrogen atom or a phosphorus atom. R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , and R 5 each independently represent an alkyl group or an aryl group. R 1 , R 2 , R 4 and R 5 may be a hydrogen atom or a hydroxyl group. These alkyl groups or aryl groups may have a substituent, and part or all of the hydrogen atoms may be substituted with fluorine atoms. General formula [7] R 1 -ZR 2 [In general formula [7], Z represents either an oxygen atom or a sulfur atom. R 1 and R 2 each independently represent any one of a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkyl group, and an aryl group.
These alkyl groups or aryl groups may have a substituent, and some or all of the hydrogen atoms may be substituted with fluorine atoms. General formula [8] Z = R [In general formula [8], Z represents either an oxygen atom or a sulfur atom. R represents either an alkyl group or an aryl group.
The alkyl group or the aryl group may have a substituent, and part or all of the hydrogen atoms may be substituted with a fluorine atom. General formula [9] R 1 -ZZR 2 [In the general formula [9], Z independently represents any one of an oxygen atom and a sulfur atom. R 1 and R 2 each independently represent any one of a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkyl group, and an aryl group. These alkyl groups or aryl groups may have a substituent, and part or all of the hydrogen atoms may be substituted with fluorine atoms. General formula [10] R 1 -ZR 2 -ZR 3 [In general formula [10], Z independently represents any one of an oxygen atom and a sulfur atom. R 1 , R 2 and R 3 each independently represent an alkyl group or an aryl group.
R 1 and R 3 may be a hydrogen atom or a hydroxyl group. These alkyl groups or aryl groups may have a substituent, and part or all of the hydrogen atoms may be substituted with fluorine atoms. ]
【請求項3】 パーフルオロポリエーテル系化合物中
に、 下記一般式[1]で示される化合物を0.1〜50wt
%、 下記一般式[3]で示される化合物を1〜100000
ppm、 含有した磁気記録媒体用潤滑剤。 【化6】 〔一般式[1]中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R
6 はそれぞれ独立にフェノキシ誘導体基を示す。このフ
ェノキシ誘導体基は、置換基を有していてもよく、水素
原子の一部又は全部がフッ素原子によって置換されてい
てもよい。〕 【化7】 〔一般式[3]中、Zは窒素原子、リン原子の何れかを
示す。R1 は水素原子、水酸基、アルキル基、アリール
基の何れかを示す。これらのアルキル基又はアリール基
は、置換基を有していてもよく、水素原子の一部又は全
部がフッ素原子によって置換されていてもよい。R
2 は、アルキル基、アリール基の何れかを示す。このア
ルキル基又はアリール基は、置換基を有していてもよ
く、水素原子の一部又は全部がフッ素原子によって置換
されていてもよい。〕
3. A compound represented by the following general formula [1] in an amount of 0.1 to 50 wt.
%, The compound represented by the following general formula [3] is 1 to 100,000
ppm, contained lubricant for magnetic recording media. Embedded image [In the general formula [1], R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R
6 each independently represents a phenoxy derivative group. This phenoxy derivative group may have a substituent, and part or all of the hydrogen atoms may be substituted by fluorine atoms. [Formula 7] [In the general formula [3], Z represents either a nitrogen atom or a phosphorus atom. R 1 represents any one of a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkyl group, and an aryl group. These alkyl groups or aryl groups may have a substituent, and part or all of the hydrogen atoms may be substituted with fluorine atoms. R
2 represents either an alkyl group or an aryl group. The alkyl group or the aryl group may have a substituent, and part or all of the hydrogen atoms may be substituted with a fluorine atom. ]
【請求項4】 パーフルオロポリエーテル系化合物中
に、 下記一般式[1]で示される化合物を0.1〜50wt
%、 下記一般式[4]で示される化合物を1〜100000
ppm、 含有した磁気記録媒体用潤滑剤。 【化8】 〔一般式[1]中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R
6 はそれぞれ独立にフェノキシ誘導体基を示す。このフ
ェノキシ誘導体基は、置換基を有していてもよく、水素
原子の一部又は全部がフッ素原子によって置換されてい
てもよい。〕 一般式[4] Z≡R 〔一般式[4]中、Zは窒素原子、リン原子の何れかを
示す。Rはアルキル基、アリール基の何れかを示す。こ
のアルキル基又はアリール基は、置換基を有していても
よく、水素原子の一部又は全部がフッ素原子によって置
換されていてもよい。〕
4. A compound represented by the following general formula [1] in a perfluoropolyether compound in an amount of 0.1 to 50 wt.
%, A compound represented by the following general formula [4] is 1 to 100,000
ppm, contained lubricant for magnetic recording media. Embedded image [In the general formula [1], R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R
6 each independently represents a phenoxy derivative group. This phenoxy derivative group may have a substituent, and part or all of the hydrogen atoms may be substituted by fluorine atoms. General formula [4] Z≡R [In general formula [4], Z represents either a nitrogen atom or a phosphorus atom. R represents either an alkyl group or an aryl group. The alkyl group or the aryl group may have a substituent, and part or all of the hydrogen atoms may be substituted with a fluorine atom. ]
【請求項5】 パーフルオロポリエーテル系化合物中
に、 下記一般式[1]で示される化合物を0.1〜50wt
%、 下記一般式[5]で示される化合物を1〜100000
ppm、 含有した磁気記録媒体用潤滑剤。 【化9】 〔一般式[1]中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R
6 はそれぞれ独立にフェノキシ誘導体基を示す。このフ
ェノキシ誘導体基は、置換基を有していてもよく、水素
原子の一部又は全部がフッ素原子によって置換されてい
てもよい。〕 【化10】 〔一般式[5]中、Zはそれぞれ独立に窒素原子、リン
原子の何れかを示す。R1 、R2 、R3 、R4 はそれぞ
れ独立に、水素原子、水酸基、アルキル基、アリール基
の何れかを示す。これらのアルキル基又はアリール基
は、置換基を有していてもよく、水素原子の一部又は全
部がフッ素原子によって置換されていてもよい。〕
5. A compound represented by the following general formula [1] in an amount of 0.1 to 50 wt.
%, A compound represented by the following general formula [5] is 1 to 100,000
ppm, contained lubricant for magnetic recording media. Embedded image [In the general formula [1], R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R
6 each independently represents a phenoxy derivative group. This phenoxy derivative group may have a substituent, and part or all of the hydrogen atoms may be substituted by fluorine atoms. ] [In the general formula [5], Z independently represents a nitrogen atom or a phosphorus atom. R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 each independently represent any one of a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkyl group, and an aryl group. These alkyl groups or aryl groups may have a substituent, and part or all of the hydrogen atoms may be substituted with fluorine atoms. ]
【請求項6】 パーフルオロポリエーテル系化合物中
に、 下記一般式[6]で示される化合物を1〜100000
ppm、 下記一般式[1]で示される化合物を0.1〜50wt
%、 含有した磁気記録媒体用潤滑剤。 【化11】 〔一般式[6]中、Zはそれぞれ独立に窒素原子、リン
原子の何れかを示す。R1 、R2 、R3 、R4 、R5
それぞれ独立に、アルキル基、アリール基の何れかを示
す。R1 、R2 、R4 、R5 は水素原子又は水酸基でも
よい。これらのアルキル基又はアリール基は、置換基を
有していてもよく、水素原子の一部又は全部がフッ素原
子によって置換されていてもよい。〕
6. A compound represented by the following general formula [6] in a perfluoropolyether-based compound:
ppm, a compound represented by the following general formula [1] is 0.1 to 50 wt.
%, Contained lubricant for magnetic recording media. Embedded image [In the general formula [6], Z independently represents a nitrogen atom or a phosphorus atom. R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , and R 5 each independently represent an alkyl group or an aryl group. R 1 , R 2 , R 4 and R 5 may be a hydrogen atom or a hydroxyl group. These alkyl groups or aryl groups may have a substituent, and part or all of the hydrogen atoms may be substituted with fluorine atoms. ]
【請求項7】 パーフルオロポリエーテル系化合物中
に、 窒素原子、酸素原子、リン原子、イオウ原子の何れか1
種類以上を1原子以上含む複素環化合物、又はこの複素
環化合物と他の環状化合物との縮合多環化合物を1〜1
00000ppm、 下記一般式[1]で示される化合物を0.1〜50wt
%、 含有した磁気記録媒体用潤滑剤。 【化12】 〔一般式[1]中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R
6 はそれぞれ独立にフェノキシ誘導体基を示す。このフ
ェノキシ誘導体基は、置換基を有していてもよく、水素
原子の一部又は全部がフッ素原子によって置換されてい
てもよい。〕
7. The perfluoropolyether compound may contain any one of a nitrogen atom, an oxygen atom, a phosphorus atom, and a sulfur atom.
A heterocyclic compound containing at least one kind of one or more atoms, or a fused polycyclic compound of this heterocyclic compound and another cyclic compound is 1 to 1
00000 ppm, 0.1-50 wt% of a compound represented by the following general formula [1]
%, Contained lubricant for magnetic recording media. Embedded image [In the general formula [1], R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R
6 each independently represents a phenoxy derivative group. This phenoxy derivative group may have a substituent, and part or all of the hydrogen atoms may be substituted by fluorine atoms. ]
【請求項8】 パーフルオロポリエーテル系化合物中
に、 下記一般式[1]で示される化合物を0.1〜50wt
%、 下記一般式[7]で示される化合物を1〜100000
ppm、 含有した磁気記録媒体用潤滑剤。 【化13】 〔一般式[1]中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R
6 はそれぞれ独立にフェノキシ誘導体基を示す。このフ
ェノキシ誘導体基は、置換基を有していてもよく、水素
原子の一部又は全部がフッ素原子によって置換されてい
てもよい。〕 一般式[7] R1 −Z−R2 〔一般式[7]中、Zは酸素原子、イオウ原子の何れか
を示す。また、R1 、R2 はそれぞれ独立に、水素原
子、水酸基、アルキル基、アリール基の何れかを示す。
これらのアルキル基又はアリール基は置換基を有してい
てもよく、また水素原子の一部又は全部がフッ素原子に
よって置換されていてもよい。〕
8. A compound represented by the following general formula [1] in an amount of 0.1 to 50 wt.
%, A compound represented by the following general formula [7] is 1 to 100000
ppm, contained lubricant for magnetic recording media. Embedded image [In the general formula [1], R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R
6 each independently represents a phenoxy derivative group. This phenoxy derivative group may have a substituent, and part or all of the hydrogen atoms may be substituted by fluorine atoms. General formula [7] R 1 -ZR 2 [In general formula [7], Z represents either an oxygen atom or a sulfur atom. R 1 and R 2 each independently represent any one of a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkyl group, and an aryl group.
These alkyl groups or aryl groups may have a substituent, and some or all of the hydrogen atoms may be substituted with fluorine atoms. ]
【請求項9】 パーフルオロポリエーテル系化合物中
に、 下記一般式[1]で示される化合物を0.1〜50wt
%、 下記一般式[8]で示される化合物を1〜100000
ppm、 含有した磁気記録媒体用潤滑剤。 【化14】 〔一般式[1]中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R
6 はそれぞれ独立にフェノキシ誘導体基を示す。このフ
ェノキシ誘導体基は、置換基を有していてもよく、水素
原子の一部又は全部がフッ素原子によって置換されてい
てもよい。〕 一般式[8] Z=R 〔一般式[8]中、Zは酸素原子、イオウ原子の何れか
を示す。Rはアルキル基、アリール基の何れかを示す。
アルキル基又はアリール基は、置換基を有していてもよ
く、水素原子の一部又は全部がフッ素原子によって置換
されていてもよい。〕
9. A compound represented by the following general formula [1] in an amount of 0.1 to 50 wt.
%, A compound represented by the following general formula [8] is 1 to 100,000
ppm, contained lubricant for magnetic recording media. Embedded image [In the general formula [1], R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R
6 each independently represents a phenoxy derivative group. This phenoxy derivative group may have a substituent, and part or all of the hydrogen atoms may be substituted by fluorine atoms. General formula [8] Z = R [In general formula [8], Z represents either an oxygen atom or a sulfur atom. R represents either an alkyl group or an aryl group.
The alkyl group or the aryl group may have a substituent, and part or all of the hydrogen atoms may be substituted with a fluorine atom. ]
【請求項10】 パーフルオロポリエーテル系化合物中
に、 下記一般式[1]で示される化合物を0.1〜50wt
%、 下記一般式[9]で示される化合物を1〜100000
ppm、 含有した磁気記録媒体用潤滑 【化15】 〔一般式[1]中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R
6 はそれぞれ独立にフェノキシ誘導体基を示す。このフ
ェノキシ誘導体基は、置換基を有していてもよく、水素
原子の一部又は全部がフッ素原子によって置換されてい
てもよい。〕 一般式[9] R1 −Z−Z−R2 〔一般式[9]中、Zはそれぞれ独立に酸素原子、イオ
ウ原子の何れかを示す。R1 、R2 はそれぞれ独立に水
素原子、水酸基、アルキル基、アリール基の何れかを示
す。これらのアルキル基又はアリール基は、置換基を有
していてもよく、水素原子の一部又は全部がフッ素原子
によって置換されていてもよい。〕
10. A compound represented by the following general formula [1] in an amount of 0.1 to 50 wt.
%, A compound represented by the following general formula [9] is 1 to 100000
ppm, contained lubrication for magnetic recording media [In the general formula [1], R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R
6 each independently represents a phenoxy derivative group. This phenoxy derivative group may have a substituent, and part or all of the hydrogen atoms may be substituted by fluorine atoms. General formula [9] R 1 -ZZR 2 [In the general formula [9], Z independently represents any one of an oxygen atom and a sulfur atom. R 1 and R 2 each independently represent any one of a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkyl group, and an aryl group. These alkyl groups or aryl groups may have a substituent, and part or all of the hydrogen atoms may be substituted with fluorine atoms. ]
【請求項11】 パーフルオロポリエーテル系化合物中
に、 下記一般式[1]で示される化合物を0.1〜50wt
%、 下記一般式[10]で示される化合物を1〜10000
0ppm、 含有した磁気記録媒体用潤滑剤。 【化16】 〔一般式[1]中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R
6 はそれぞれ独立にフェノキシ誘導体基を示す。このフ
ェノキシ誘導体基は、置換基を有していてもよく、水素
原子の一部又は全部がフッ素原子によって置換されてい
てもよい。〕 一般式[10] R1 −Z−R2 −Z−R3 〔一般式[10]中、Zはそれぞれ独立に酸素原子、イ
オウ原子の何れかを示す。また、R1 、R2 、R3 はそ
れぞれ独立にアルキル基、アリール基の何れかを示す。
1 、R3 は水素原子又は水酸基でもよい。これらのア
ルキル基又はアリール基は、置換基を有していてもよ
く、水素原子の一部又は全部がフッ素原子によって置換
されていてもよい。〕
11. A compound represented by the following general formula [1] in a perfluoropolyether compound in an amount of 0.1 to 50 wt.
%, The compound represented by the following general formula [10] is 1 to 10000
0 ppm, contained lubricant for magnetic recording media. Embedded image [In the general formula [1], R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R
6 each independently represents a phenoxy derivative group. This phenoxy derivative group may have a substituent, and part or all of the hydrogen atoms may be substituted by fluorine atoms. General formula [10] R 1 -ZR 2 -ZR 3 [In general formula [10], Z independently represents any one of an oxygen atom and a sulfur atom. R 1 , R 2 and R 3 each independently represent an alkyl group or an aryl group.
R 1 and R 3 may be a hydrogen atom or a hydroxyl group. These alkyl groups or aryl groups may have a substituent, and part or all of the hydrogen atoms may be substituted with fluorine atoms. ]
【請求項12】 基板上に直接又は下地層を介して磁性
膜を有し、この磁性膜上に直接又は保護層を介して、請
求項1,2,3,4,5,6,7,8,9,10又は1
1記載の磁気記録媒体用潤滑剤のうち少なくとも1種類
を塗布した、磁気記録媒体。
12. A magnetic film on a substrate directly or via an underlayer, and a magnetic film on the magnetic film directly or via a protective layer. 8, 9, 10, or 1
A magnetic recording medium coated with at least one of the lubricants for magnetic recording media according to 1.
【請求項13】 前記下地層がNi−P又はCrからな
る、請求項12記載の磁気記録媒体。
13. The magnetic recording medium according to claim 12, wherein the underlayer is made of Ni—P or Cr.
【請求項14】 前記保護層が水素添加カーボン又は水
素及び窒素添加カーボンからなる、請求項12又は13
記載の磁気記録媒体。
14. The protective layer is made of hydrogenated carbon or hydrogen and nitrogen added carbon.
The magnetic recording medium according to the above.
【請求項15】 請求項12,13又は14記載の磁気
記録媒体の何れかと、この磁気記録媒体上に密接された
状態で相対移動されて情報を記録又は再生する磁気ヘッ
ドと、この磁気ヘッドを前記磁気記録媒体に押圧させる
支持ばねとを備えた磁気記録装置。
15. A magnetic head for recording or reproducing information by being relatively moved while being in close contact with the magnetic recording medium according to claim 12, 13, and 14. A magnetic recording device comprising: a support spring for pressing the magnetic recording medium.
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