JP2883166B2 - Storage media - Google Patents

Storage media

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JP2883166B2
JP2883166B2 JP2148531A JP14853190A JP2883166B2 JP 2883166 B2 JP2883166 B2 JP 2883166B2 JP 2148531 A JP2148531 A JP 2148531A JP 14853190 A JP14853190 A JP 14853190A JP 2883166 B2 JP2883166 B2 JP 2883166B2
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【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、コピューター、電子カメラ等のファイル記
憶装置用の記憶媒体に係り、特に高密度化、大記憶容量
に好適な書き換え可能な記憶媒体に関する。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a storage medium for a file storage device such as a computer and an electronic camera, and particularly to a rewritable storage suitable for high density and large storage capacity. Regarding the medium.

(従来の技術) 従来の大容量記憶装置用の記憶媒体としては、磁性材
料が使われることが多い。この様な記憶媒体について
は、例えば、オーム社、「磁性材料セラミックス」、桜
井、金丸編、P143(昭和61年)に記載されている。
(Prior Art) Magnetic materials are often used as storage media for conventional mass storage devices. Such a storage medium is described in, for example, Ohmsha, "Magnetic Material Ceramics", edited by Sakurai and Kanamaru, p. 143 (1986).

又、酸化物を上記記憶媒体として用いた例としては、
酸化物超伝導体を用いて、超伝導臨界温度より低い温度
で記録再生することが特開昭63−268087号公報に開示さ
れている。しかし、この記憶媒体は超伝導臨界温度以下
の低温で使用することが条件になっている。
Further, as an example of using the oxide as the storage medium,
JP-A-63-268087 discloses that recording and reproduction are performed at a temperature lower than the superconducting critical temperature using an oxide superconductor. However, this storage medium must be used at a low temperature below the superconducting critical temperature.

(発明が解決しようとしている問題点) 上記従来技術において、磁性材料を使用する場合は磁
性材料の磁化状態を利用する為、高密度化においては磁
区の微小化と検出する信号強度との関係から1μm程度
のビット周期が限界と考えられ、高密度化が達成出来な
いという問題がある。
(Problems to be Solved by the Invention) In the above-described conventional technology, when a magnetic material is used, the magnetization state of the magnetic material is used. A bit period of about 1 μm is considered to be a limit, and there is a problem that high density cannot be achieved.

一方、酸化物超伝導体を利用した記憶媒体において
は、超伝導状態を示す温度まで媒体を冷却し、この状態
で酸素イオンと水素イオンを針状イオン照射源より照射
して超伝導状態と常伝導状態の2状態を2進方の2値信
号に対応させている為、この方式では記憶容量を大きく
することは出来るが実用上の問題がある。
On the other hand, in a storage medium using an oxide superconductor, the medium is cooled to a temperature at which the superconducting state is exhibited, and in this state, oxygen ions and hydrogen ions are irradiated from a needle ion irradiation source to maintain the superconducting state. Since the two states of the conduction state correspond to the binary signals in the binary system, this method can increase the storage capacity, but has a practical problem.

即ち、現在知られている超伝導体の臨界温度は約160K
より低いものばかりであり、実際に記憶する場合には−
100℃以上も冷却しなければならない為、液体窒素や液
体ヘリウム等の特殊な冷却用媒体を使用するか、或いは
クライオポンプ等の特殊な冷却装置を使用しなければな
らないという大きな問題がある。
That is, the currently known superconductor has a critical temperature of about 160K.
Only lower ones, and if you actually remember-
Since cooling must be performed at 100 ° C. or more, there is a major problem that a special cooling medium such as liquid nitrogen or liquid helium must be used, or a special cooling device such as a cryopump must be used.

従って本発明の目的は、記憶容量を磁性材料を使用し
た時よりも大きくし、且つ特殊な冷却媒体や冷却装置を
使用することなく情報の書き込み及び読み出しが可能な
書き換え可能な記憶媒体を提供することである。
Accordingly, an object of the present invention is to provide a rewritable storage medium in which the storage capacity is made larger than when a magnetic material is used, and in which information can be written and read without using a special cooling medium or a cooling device. That is.

(問題点を解決する為の手段) 上記目的は以下の本発明によって達成される。(Means for Solving the Problems) The above object is achieved by the present invention described below.

即ち、本発明は、 含有される酸素量に応じてその特性が変化する酸化物
導電体を構成要素として持ち、該酸化物導電体は基板上
又は基板上に形成された電極上に平面的に堆積され且つ
その上部に保護膜が形成された形状に設けられ、上記保
護膜が酸素透過性膜であることを特徴とする記憶媒体、
及び 含有される酸素量に応じてその特性が変化する酸化物
導電体を構成要素として持ち、該酸化物導電体は基板上
又は基板上に形成された電極上に平面的に堆積され且つ
その上部に保護膜が形成された形状に設けられ、上記保
護膜が酸素吸収性膜であることを特徴とする記憶媒体 である。
That is, the present invention has, as a constituent element, an oxide conductor whose characteristics change according to the amount of oxygen contained, and the oxide conductor is planarly formed on a substrate or an electrode formed on the substrate. A storage medium, wherein the storage medium is provided in a shape in which a protective film is deposited and formed thereon, and the protective film is an oxygen-permeable film;
And an oxide conductor whose properties change according to the amount of oxygen contained therein, the oxide conductor being planarly deposited on a substrate or an electrode formed on the substrate, and A storage medium provided with a protective film formed thereon, wherein the protective film is an oxygen-absorbing film.

(作用) 含有される酸素量に応じてその特性が変化する酸化物
導電体を構成要件とし、該酸化物導電体に含まれる酸素
量を、電気的加熱或は光照射等の手段により制御するこ
とにより、酸化物導電体中の酸素含有量の変化に伴う酸
化物導電体の特性変化を利用し、この状態変化を信号に
対応させ情報の書き込み及び読み出しを行う。
(Action) An oxide conductor whose characteristics change according to the amount of oxygen contained is a constituent requirement, and the amount of oxygen contained in the oxide conductor is controlled by means such as electric heating or light irradiation. Thus, a change in the characteristics of the oxide conductor caused by a change in the oxygen content in the oxide conductor is used, and writing and reading of information are performed in accordance with the change in the state of the oxide conductor.

例えば、酸化物導電体であるY−Ba−Cu−O系酸化物
において、YBa2Cu3O7−δ(0<δ<1)材料は、δ値
が0.5より大きい場合には、結晶構造はtetragonal構造
であり半導体となり、δ値が0.5より小さい場合にはort
horhombic構造であり約90KのTcを持つ超伝導体となる。
従って、この様な酸化物導電体中の酸素量の変化により
生じる電気抵抗率の変化を利用すれば各種情報の記録が
可能となる。
For example, in a Y—Ba—Cu—O-based oxide that is an oxide conductor, a YBa 2 Cu 3 O 7-δ (0 <δ <1) material has a crystal structure when the δ value is larger than 0.5. Is a tetragonal structure and becomes a semiconductor, and if the δ value is less than 0.5,
It becomes a superconductor with a horhombic structure and a Tc of about 90K.
Therefore, various kinds of information can be recorded by using the change in the electrical resistivity caused by the change in the amount of oxygen in the oxide conductor.

しかし、Y:Ba:Cu=1:2:3とするとY−Ba−Cu−O系酸
化物は比較的安定な物質となり、酸素量の変化を起こさ
せるのは困難である。この為本発明では、酸化物導電体
に含まれる金属成分中におけるY等のLn元素の占める割
合を、原子数比で7%〜16%である様にすることによ
り、書き込みに要するエネルギーを大幅に低減する。
However, when Y: Ba: Cu = 1: 2: 3, the Y—Ba—Cu—O-based oxide becomes a relatively stable substance, and it is difficult to cause a change in the amount of oxygen. Therefore, in the present invention, the energy required for writing is greatly reduced by setting the ratio of the Ln element such as Y in the metal component contained in the oxide conductor to be 7% to 16% in atomic ratio. To be reduced.

又、Y−Ba−Cu−O系酸化物導電体は、アモルファス
状態から完全な結晶状態まで、どの様な結晶性を持つも
のでも含有される酸素量に応じてその特性が変化するも
のである為、必要に応じていかなる結晶性とするかを任
意に選択することが可能である。
In addition, the Y-Ba-Cu-O-based oxide conductor changes its characteristics in accordance with the amount of oxygen contained in any crystalline material from an amorphous state to a completely crystalline state. Therefore, it is possible to arbitrarily select what kind of crystallinity is required, if necessary.

更に、本発明では酸化物導電体を、基板上或いは基板
上に形成された電極上に平面的に堆積した形状とするこ
とにより、記憶媒体の持つ分解能を原子オーダーまで高
くすることが可能となる。例えば、STMを用いた記録方
式を用いる場合でもSTMの限界までの高密度記録が可能
となる。
Further, in the present invention, the resolution of the storage medium can be increased to the atomic order by forming the oxide conductor in a shape that is planarly deposited on the substrate or an electrode formed on the substrate. . For example, even when a recording method using STM is used, high-density recording up to the limit of STM can be performed.

(好ましい実施態様) 次に好ましい実施態様を挙げて本発明を更に詳しく説
明する。
(Preferred Embodiment) Next, the present invention will be described in more detail with reference to preferred embodiments.

第1図(a)は、本発明の記憶媒体の構成の一例の概
略断面図を示したものであるが、基板1上に形成した電
極2上に、酸化物導電体3が形成されている。
FIG. 1A is a schematic cross-sectional view showing an example of the configuration of a storage medium according to the present invention. An oxide conductor 3 is formed on an electrode 2 formed on a substrate 1. .

第1図(b)は、第1図(a)に対する書き込み方法
の一例の概略図を示したものであるが、図の様に、針状
電極4を酸化物導電体層3の表面に近付けた状態で、端
子8、9間に電圧パルスを印加し部分的に加熱を行い、
酸化物導電体層中に特性の変化した部分5を形成し、更
に、針状電極4を走査することでこの特性の変化した部
分5を多数形成して書き込みを行う。
FIG. 1 (b) is a schematic view showing an example of a writing method for FIG. 1 (a). As shown in FIG. 1 (b), the needle electrode 4 is brought close to the surface of the oxide conductor layer 3 as shown in FIG. In this state, a voltage pulse is applied between terminals 8 and 9 to partially heat the terminal,
A portion 5 having a changed characteristic is formed in the oxide conductor layer, and a number of the portion 5 having a changed characteristic is formed by scanning the needle-shaped electrode 4 to perform writing.

この場合の電圧パルスの印加回数と特性の変化した部
分5の電気抵抗率の変化の様子の一例を第1図(d)に
示したが、図の様に印加した電圧パルスの数に伴い、酸
化物導電体層3の電気抵抗率は連続的に変化する。従っ
て、これを利用し多値記録が可能となる。
FIG. 1 (d) shows an example of the number of application of the voltage pulses and the change of the electric resistivity of the portion 5 where the characteristic has changed in this case, but as shown in FIG. The electrical resistivity of the oxide conductor layer 3 changes continuously. Therefore, multi-level recording can be performed using this.

更に、本発明の記憶媒体においては、第3図に示した
様に酸化物導電体層3の上部に保護膜7を設ける。
Further, in the storage medium of the present invention, a protective film 7 is provided on the oxide conductor layer 3 as shown in FIG.

即ち、基板1上に形成した電極2上に酸化物導電体層
3を形成し、その上に保護膜7を形成する。保護膜7の
材質としては、Ag、Siオイル等の酸素を透過する物質、
又はTi、Cr等の酸素を吸収する物質を用いることが出来
る。この様な物質を用いた保護膜7を形成することで、
記憶媒体としての機能を損なうことなく酸化物導電体層
3を保護することが出来る。
That is, the oxide conductor layer 3 is formed on the electrode 2 formed on the substrate 1, and the protective film 7 is formed thereon. As a material of the protective film 7, a material that transmits oxygen, such as Ag or Si oil,
Alternatively, a substance that absorbs oxygen, such as Ti or Cr, can be used. By forming the protective film 7 using such a substance,
The oxide conductor layer 3 can be protected without impairing the function as a storage medium.

更に、保護膜7の表面に微小の凹凸をつけることによ
り、記録位置のズレが少なくなり、書き込み、読み取り
の精度を向上させることが出来る。又、針の位置決めも
容易となる。
Further, by providing minute irregularities on the surface of the protective film 7, the deviation of the recording position is reduced, and the accuracy of writing and reading can be improved. Also, the positioning of the needle becomes easy.

この凹凸形状は酸化物導電体の種類、酸化物導電体層
の上に形成する保護膜の種類によって最適な形状を決め
ることが出来る。
The optimum shape of the concavo-convex shape can be determined depending on the type of the oxide conductor and the type of the protective film formed on the oxide conductor layer.

尚、本発明の記憶媒体への書き込みは、該酸化物導電
体の酸素量を微少部分でも変化させ得るものならばどの
様な方法によってもよく、例えば、第1図(b)に示し
た電気的加熱のみならず、光照射、トンネル電流を利用
するもの等を用いることが出来る。
Note that writing to the storage medium of the present invention may be performed by any method as long as the amount of oxygen in the oxide conductor can be changed even in a very small portion. For example, the electric current shown in FIG. In addition to thermal heating, a method using light irradiation, a tunnel current, or the like can be used.

(実施例) 次に参考例及び実施例を挙げて本発明を更に詳しく説
明する。
(Example) Next, the present invention will be described in more detail with reference to Reference Examples and Examples.

参考例1 第1図(a)に第1の参考例の構成概略図を示す。Reference Example 1 FIG. 1 (a) shows a schematic configuration diagram of a first reference example.

基板1としてガラス(コーニング7059)を用い、その
上に抵抗加熱法でCrを30Å、Cuを500Åの厚さに夫々堆
積して電極2を形成した。
An electrode 2 was formed by using a glass (Corning 7059) as a substrate 1 and depositing Cr to a thickness of 30 ° and Cu to a thickness of 500 ° by a resistance heating method.

次に、その上にRFマグネトロンスパッタリング法でY
−Ba−Cu−O膜を3000Å堆積して酸化物導電体層3を形
成した。この時の成膜条件は、金属3元素の組成比が、
Y:Ba:Cu=10.0:30.0:60.0)原子数比)となる様に調整
したY−Bc−Cu−O焼結体をスパッタリングターゲット
として用い、スパッタリングガスとして5×10-3Torrの
圧力のAr50%+O250%ガスを用い、スパッタングパワー
150W、閉板温度を300℃とした。
Next, Y is applied thereon by RF magnetron sputtering.
An oxide conductor layer 3 was formed by depositing a -Ba-Cu-O film at 3000 °. The film formation conditions at this time are such that the composition ratio of the three metals is
Y: Ba: Cu = 10.0: 30.0.0: 60.0) The Y—Bc—Cu—O sintered body adjusted to have the atomic ratio) was used as a sputtering target, and a sputtering gas having a pressure of 5 × 10 −3 Torr was used. Sputtering power using Ar 50% + O 2 50% gas
150 W and the closing plate temperature were 300 ° C.

上記の方法で作成したY−Ba−Cu−O膜は、金属3元
素の組成比がY:Ba:Cu=10.0:30.0:60.0(原子数比)
で、ほぼアモルファス状態となり電気抵抗率は、1Ω・
cmとなった。
In the Y—Ba—Cu—O film formed by the above method, the composition ratio of three metals is Y: Ba: Cu = 10.0: 30.0.0: 60.0 (atomic ratio).
Then, it becomes almost amorphous state and the electric resistivity is 1Ω ·
cm.

この様にして作成した参考例の記憶媒体に対する情報
の書き込みは、例えば、第1図(b)に示す様な方法で
行う。
Writing information to the storage medium of the reference example created in this way is performed, for example, by a method as shown in FIG. 1 (b).

第1図(b)において、4は針状電極であり、材料は
タングステンを用いた。この針状電極4の先端と酸化物
導電体層3との距離を約15Åとし、周囲をO2ガスで満た
す。次に、針状電極4と酸化物導電体層3との間に5Vの
電圧パルスを印加すると、酸化物導電体層3の一部分が
加熱され、酸素の拡散が生じ酸素量が変化し、電気抵抗
率が変化した部分5が生じる。
In FIG. 1B, reference numeral 4 denotes a needle-like electrode, and tungsten was used as a material. The distance between the tip of the needle electrode 4 and the oxide conductor layer 3 is set to about 15 °, and the surroundings are filled with O 2 gas. Next, when a voltage pulse of 5 V is applied between the needle electrode 4 and the oxide conductor layer 3, a part of the oxide conductor layer 3 is heated, oxygen is diffused, and the amount of oxygen is changed. There is a portion 5 where the resistivity has changed.

第1図(c)は、この電圧パルスの印加回数と電気抵
抗率の変化の関係を示したものである。
FIG. 1 (c) shows the relationship between the number of application of the voltage pulse and the change in the electrical resistivity.

更に、針状電極4をXY方向にスキャンニングすること
により第1図(b)に示す様に、酸化物導電体層3上に
電気抵抗率の変化した部分5を多数作ることが出来、こ
の結果、大容量且つ多値情報の書き込みを行うことが出
来る。
Further, by scanning the needle-shaped electrode 4 in the XY direction, as shown in FIG. 1B, a large number of portions 5 having changed electric resistivity can be formed on the oxide conductor layer 3. As a result, a large amount of multi-valued information can be written.

本参考例では、記憶容量は針状電極の先端の形状及び
針状電極の位置決めの精度で決定される。通常は、針状
電極の先端は曲率半径が1nm程度となるので記憶セルの
大きさも同程度となる。
In this embodiment, the storage capacity is determined by the shape of the tip of the needle electrode and the positioning accuracy of the needle electrode. Normally, the tip of the needle electrode has a radius of curvature of about 1 nm, so that the size of the memory cell is also about the same.

更に、位置決め精度も0.02nm程度の分解能とすること
が可能である。
Further, the positioning accuracy can be set to a resolution of about 0.02 nm.

尚、情報の消去は、真空中で250℃の熱処理を行い、
酸化物導電体層を元の状態に戻すことにより可能となっ
た。
For information erasure, heat treatment at 250 ° C in vacuum is performed.
This was made possible by returning the oxide conductor layer to its original state.

参考例2 第2図(a)に第2の参考例の構成概略図を示す。Reference Example 2 FIG. 2 (a) shows a schematic configuration diagram of a second reference example.

本参考例では基板1としてSiを用い、その上にクラス
ター・イオンビーム法でY−Ba−Cu−O膜を堆積し、酸
化物導電体層3を形成した。この時の成膜条件は、蒸着
源としてY、BaO、Cuを用い、イオン化条件をYについ
てはイオン化電流50mA、加速電圧0.5kV、BaO、Cuについ
てはイオン化電流100mA、加速電圧1kVとし、基板温度を
420℃とした。成膜時には基板付近に4×10-4Torrの酸
素ガスを吹き付けなげれ、基板上で金属3元素の組成比
が、Y:Ba:Cu=8.0:32.0:62.0(原子数比)となる様に成
膜した。尚、膜厚は1,000Åとした。
In the present reference example, Si was used as the substrate 1 and a Y-Ba-Cu-O film was deposited thereon by the cluster ion beam method to form the oxide conductor layer 3. The film formation conditions at this time were as follows: Y, BaO, and Cu were used as the vapor deposition source. To
420 ° C. At the time of film formation, oxygen gas of 4 × 10 -4 Torr is blown around the substrate so that the composition ratio of the three metals on the substrate becomes Y: Ba: Cu = 8.0: 32.0: 62.0 (atomic ratio). Was formed. The film thickness was 1,000 mm.

上記の方法により作成したY−Ba−Cu−O膜は、その
ままの状態で電気抵抗率が1×10-2Ω・cmであった。
The Y—Ba—Cu—O film prepared by the above method had an electrical resistivity of 1 × 10 −2 Ω · cm as it was.

この様にして作成した記憶媒体への書き込みは、参考
例1と同様に行うことが出来た。
Writing to the storage medium thus created could be performed in the same manner as in Reference Example 1.

但し、針状電極4と酸化物導電体層3の間の距離を約
10Å、印加電圧を5Vとした。この場合のパルス印加回数
と電気抵抗率の関係を第2図(b)に示す。
However, the distance between the needle electrode 4 and the oxide conductor layer 3 is about
10 °, the applied voltage was 5V. FIG. 2 (b) shows the relationship between the number of pulse applications and the electrical resistivity in this case.

尚、情報の消去も参考例1と同様の方法で行うことが
出来た。
It should be noted that information could be erased in the same manner as in Reference Example 1.

参考例3 第1図(a)は参考例3の構成概略図でもある。Reference Example 3 FIG. 1A is also a schematic configuration diagram of Reference Example 3.

基板1としてMgO単結晶を用い、その上にイオンビー
ムスパッタリング法でAgを500Å堆積して、電極2を形
成した。更に、その上にクラスター・イオンビーム蒸着
法で、Y−Ba−Cu−O膜を堆積して酸化物導電体層3を
形成した。
An electrode 2 was formed by using MgO single crystal as the substrate 1 and depositing Ag thereon by ion beam sputtering at 500 °. Further, a Y-Ba-Cu-O film was deposited thereon by a cluster ion beam evaporation method to form an oxide conductor layer 3.

尚、この際の成膜条件は基板温度を500℃とした以外
は参考例2と同様であり、膜厚、組成比も参考例2と同
様とした。
The film forming conditions at this time were the same as in Reference Example 2 except that the substrate temperature was set at 500 ° C., and the film thickness and the composition ratio were also the same as in Reference Example 2.

上記の方法により作成したY−Ba−Cu−O膜は、電気
抵抗率が1×10-3Ω・cmであった。
The Y—Ba—Cu—O film prepared by the above method had an electric resistivity of 1 × 10 −3 Ω · cm.

この様にして作成した記憶媒体を用い情報の書き込み
を行ったところ、参考例2とほぼ同様に行うことが出来
た。但し、書き込みは真空中で行い、その際のパルス印
加数と電気低効率は、第1図(d)のようであった。
When information was written using the storage medium created in this way, the writing was almost the same as in Reference Example 2. However, the writing was performed in a vacuum, and the number of applied pulses and the electrical efficiency at that time were as shown in FIG. 1 (d).

尚、情報の消去は酸素中で300℃の熱処理で行える。 Note that information can be erased by heat treatment at 300 ° C. in oxygen.

実施例1 第3図は実施例1の構成概略図である。First Embodiment FIG. 3 is a schematic diagram of a configuration of a first embodiment.

参考例2と全く同様にして基板1上に電極2、酸化物
導電体層3を形成した上に、保護膜7としてAgを堆積し
た。Agは、抵抗加熱法を用いて100Å堆積した。
An electrode 2 and an oxide conductor layer 3 were formed on a substrate 1 in exactly the same manner as in Reference Example 2, and then Ag was deposited as a protective film 7. Ag was deposited 100Å by resistance heating.

本実施例の記憶媒体における保護膜7は、Agを用いた
為、保護膜7中を酸素が透過する。その為、書き込み消
去は、参考例2と全く同様に行うことが出来た。更に、
保護膜7の存在により経時変化に対する安定性も向上し
た。
Since Ag is used for the protective film 7 in the storage medium of this embodiment, oxygen passes through the protective film 7. Therefore, writing and erasing could be performed in exactly the same manner as in Reference Example 2. Furthermore,
The presence of the protective film 7 also improved the stability with respect to aging.

実施例2 第3図は実施例2の概略図でもある。Embodiment 2 FIG. 3 is also a schematic diagram of Embodiment 2.

参考例3と全く同様にして基板1上に電極2、酸化物
導電体層3を形成した上に、保護膜7としてTiを堆積し
た。Tiは、EB蒸着法を用いて500Å堆積した。
An electrode 2 and an oxide conductor layer 3 were formed on a substrate 1 in exactly the same manner as in Reference Example 3, and Ti was deposited as a protective film 7. Ti was deposited at 500 ° using the EB evaporation method.

本実施例の記憶媒体における保護膜7は、Tiを用いた
為、保護膜7中に酸素が拡散する。その為、書き込み
は、参考例3とほぼ同様に行うことが出来るが、酸化物
導電体層3から抜けた酸素は保護膜7中に拡散し、TiOx
を形成する為、参考例3の場合の様な真空中での書き込
みの必要はなくなった。更に、経時変化に対する安定性
も向上した。
Since Ti is used for the protective film 7 in the storage medium of this embodiment, oxygen diffuses into the protective film 7. Therefore, writing can be performed in substantially the same manner as in Reference Example 3, but oxygen released from the oxide conductor layer 3 diffuses into the protective film 7 and TiOx
Therefore, it is not necessary to write in a vacuum as in the case of Reference Example 3. Further, the stability with respect to aging is improved.

実施例3 第4図は実施例3の構成概略図である。Third Embodiment FIG. 4 is a schematic diagram of a configuration of a third embodiment.

参考例3と全く同様にして基板1上に電極2及び酸化
物導電体層3を形成した上に、保護膜7としてAgを堆積
した。Agは、抵抗加熱法を用いて50Å堆積した。
An electrode 2 and an oxide conductor layer 3 were formed on a substrate 1 in exactly the same manner as in Reference Example 3, and then Ag was deposited as a protective film 7. Ag was deposited at 50Å using a resistance heating method.

次に、Agを堆積後、第4図に示す様にフォトリソグラ
フィーによりAgのみをパターニングし、0.3μm×0.3μ
mの大きさの金属層6を0.3μmの間隔で作成した。
Next, after depositing Ag, only Ag was patterned by photolithography as shown in FIG.
Metal layers 6 having a size of m were formed at intervals of 0.3 μm.

この様にして作成した記憶媒体は、参考例3と全く同
様に書き込み消去を行うことが出来た。
The storage medium thus created could be written and erased in exactly the same manner as in Reference Example 3.

Agは酸素を透過する性質を持つ為、酸化物導電体層3
への酸素の出入りはAgのない参考例3と全く同様に行え
ると共に、金属層6が読み取りの際マーカーの役を果た
し、読み取り精度が向上した。
Since Ag has the property of transmitting oxygen, the oxide conductor layer 3
The entry and exit of oxygen to and from the sample can be performed in exactly the same manner as in Reference Example 3 having no Ag, and the metal layer 6 served as a marker at the time of reading, thereby improving the reading accuracy.

(発明の効果) 以上述べた様に本発明の記憶媒体は、記憶媒体の持つ
分解能を原子オーダーまで高くすることが可能であり、
高密度記録が可能で、従来の磁性体を用いたものに比べ
記憶容量を大幅に増大出来る。又、従来の超伝導酸化物
を用いた記憶媒体に比べ多値記録が可能となると共に、
常温で使用することが可能である。
(Effect of the Invention) As described above, the storage medium of the present invention can increase the resolution of the storage medium to the atomic order,
High-density recording is possible, and the storage capacity can be greatly increased as compared with a conventional magnetic material. In addition, multi-value recording becomes possible as compared with a storage medium using a conventional superconducting oxide,
It can be used at room temperature.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図(a)、第2図(a)、第3図及び第4図は、本
発明の記憶媒体の一例を示す構成概略断面図であり、第
1図(b)は、本発明の記憶媒体に対する書き込み方法
の一例であり、第1図(c)、第1図(d)及び第2図
(b)は、パルス印加回数と電気抵抗率の関係を示す図
である。 1:基板、2:電極 3:酸化物導電体層、4:針状電極 5:特性の変化した部分、6、7:保護膜 8、9:電圧端子
FIGS. 1 (a), 2 (a), 3 and 4 are schematic sectional views showing an example of the storage medium of the present invention, and FIG. 1 (b) is a sectional view of the present invention. FIGS. 1 (c), 1 (d) and 2 (b) show an example of a method of writing to a storage medium, showing the relationship between the number of pulse applications and the electrical resistivity. 1: Substrate, 2: Electrode 3: Oxide conductor layer, 4: Needle electrode 5: Part with changed characteristics, 6, 7: Protective film 8, 9: Voltage terminal

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山本 敬介 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キ ヤノン株式会社内 (72)発明者 金子 典夫 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キ ヤノン株式会社内 (56)参考文献 特開 昭64−57438(JP,A) 特開 昭63−268087(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G11B 9/04 G11B 9/00 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Keisuke Yamamoto, Inventor 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Inside Canon Inc. (72) Inventor Norio Kaneko 3-30-2, Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Canon (56) References JP-A-64-57438 (JP, A) JP-A-63-268087 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) G11B 9/04 G11B 9/00

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】含有される酸素量に応じてその特性が変化
する酸化物導電体を構成要素として持ち、該酸化物導電
体が基板上又は基板上に形成された電極上に平面的に堆
積され且つその上部に保護膜が形成された形状に設けら
れ、上記保護膜が酸素透過性膜であることを特徴とする
記憶媒体。
An oxide conductor whose characteristics change according to the amount of oxygen contained as a constituent element, wherein the oxide conductor is planarly deposited on a substrate or an electrode formed on the substrate. A storage medium provided with a protective film formed thereon, wherein the protective film is an oxygen-permeable film.
【請求項2】含有される酸素量に応じてその特性が変化
する酸化物導電体を構成要素として持ち、該酸化物導電
体は基板上又は基板上に形成された電極上に平面的に堆
積され且つその上部に保護膜が形成された形状に設けら
れ、上記保護膜が酸素吸収性膜であることを特徴とする
記憶媒体。
2. An oxide conductor whose characteristics change in accordance with the amount of oxygen contained as a constituent element, wherein the oxide conductor is planarly deposited on a substrate or an electrode formed on the substrate. A storage medium provided with a protective film formed thereon, wherein the protective film is an oxygen-absorbing film.
【請求項3】酸化物導電体が式Ln−Ba−Cu−O(Lnは、
Sc、Y、La、Ac、Yb、Gd等の周期律表第III属a亜族に
属する元素を表わす)からなり、酸化物導電体に含まれ
る金属成分中のLn元素の占める割合が原子数比で7%〜
16%である請求項1又は2に記載の記憶媒体。
3. The oxide conductor of the formula Ln-Ba-Cu-O (Ln is
Represents an element belonging to Group IIIa subgroup of the Periodic Table such as Sc, Y, La, Ac, Yb, and Gd), and the proportion of the Ln element in the metal component contained in the oxide conductor is the number of atoms. 7% ~
3. The storage medium according to claim 1, which is 16%.
【請求項4】保護膜上に凹凸を設けた請求項1又は2に
記載の記憶媒体。
4. The storage medium according to claim 1, wherein irregularities are provided on the protective film.
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