JP2879092B1 - Evaluation method of wettability of metal melt using microgravity environment - Google Patents
Evaluation method of wettability of metal melt using microgravity environmentInfo
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Abstract
【要約】
【課題】 金属融液の濡れ性を接触角及び表面張力を測
定することなしに評価する方法を提供する。
【解決手段】 常重力下及び微小重力下での基板上に静
置した同一の金属融液の形状を測定するとともに、その
金属融液の常重力下での形状と微小重力下での形状の変
化から濡れ性を測定する。A method for evaluating the wettability of a metal melt without measuring a contact angle and a surface tension is provided. SOLUTION: The shape of the same metal melt left standing on a substrate under normal gravity and microgravity is measured, and the shape of the metal melt under normal gravity and the shape under microgravity are measured. The wettability is measured from the change.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、微小重力環境を用
いた金属融液の濡れ性の評価法に関するものである。さ
らに詳しくは、本発明は、常重力下及び微小重力下にお
ける同一の金属融液の形状の変化から濡れ性を評価する
方法に関するものである。The present invention relates to a method for evaluating the wettability of a metal melt using a microgravity environment. More specifically, the present invention relates to a method for evaluating wettability from a change in the shape of the same metal melt under ordinary gravity and microgravity.
【0002】[0002]
【従来の技術】金属の精錬や半導体単結晶の製造、基板
との半田による接合などにおいて、金族融液と容器や基
板との濡れ性を把握することは、製造工程の効率化や濡
れに起因する工学的問題の解決を行う上で重要である。
また、近年のスーパーコンピューターを用いたコンピュ
ータシミュレーションによる高温融液の流れや熱の移動
などの物理現象の解析は、半導体材料の結晶成長や金属
凝固のプロセスを理解し改善していく上で、極めて有効
な手段となってきている。しかし、これらのシミュレー
ションには、金属融液の種々の精密な熱物性値が明らか
になっていることが不可欠である。2. Description of the Related Art In refining metals, manufacturing semiconductor single crystals, joining substrates to substrates by soldering, etc., it is necessary to grasp the wettability between the metal melt and the container or substrate in order to improve the efficiency of the manufacturing process and the wetting. It is important in solving the resulting engineering problem.
Analysis of physical phenomena such as the flow of high-temperature melt and heat transfer by computer simulation using a supercomputer in recent years is extremely important in understanding and improving the processes of crystal growth and metal solidification of semiconductor materials. It has become an effective means. However, in these simulations, it is essential that various precise thermophysical properties of the metal melt are clarified.
【0003】金属融液の濡れ性を表す直感的な数値とし
ては、金属融液と基板とのなす角度すなわち接触角が用
いられているが、種々の系の濡れ性を比較する上で有用
な一般的な数値として、濡れに際しての表面自由エネル
ギーの減少量、すなわち、基板と金属融液の接触界面を
単位面積だけ後退あるいは引き離すのに要する仕事が用
いられている。固体及び液体の表面張力をそれぞれ、γ
s、γL、液体と固体の界面張力をγsLとすると、基板上
で金属融液が滴状となって接触している場合の濡れに対
応する仕事は付着仕事(Wa)と呼ばれており、 Wa=γs+γL−γsL (1) で表される。ヤングの方程式より、γs、γL、γsLと接
触角(θ)の間には、 γsL−γs+γLcosθ=0 (2) の関係が成り立つので、(1)と(2)の式より、 Wa=γL(1+cosθ) (3) となり、付着仕事は液体の表面張力γLと接触角θの値
を測定することによって求めることができる。[例え
ば、「表面張力」、初版(昭和55年)、76頁(共立
出版株式会社)]。As an intuitive numerical value representing the wettability of a metal melt, an angle formed between the metal melt and a substrate, that is, a contact angle is used, but it is useful for comparing the wettability of various systems. As a general numerical value, the amount of reduction in surface free energy upon wetting, that is, the work required to retract or separate the contact interface between the substrate and the metal melt by a unit area is used. Let the surface tension of solid and liquid be γ
s, γL, assuming that the interfacial tension between the liquid and the solid is γsL, the work corresponding to the wetting when the metal melt is in contact with the substrate in the form of drops is called adhesion work (Wa), Wa = γs + γL−γsL (1) According to Young's equation, the relationship of γsL−γs + γLcosθ = 0 holds between γs, γL, γsL and the contact angle (θ), so from the equations (1) and (2), Wa = γL ( 1 + cos θ) (3), and the adhesion work can be obtained by measuring the values of the surface tension γL of the liquid and the contact angle θ. [For example, "Surface tension", first edition (1980), p. 76 (Kyoritsu Shuppan Co., Ltd.)].
【0004】一般に、液体の表面張力の測定方法として
は、金属融液が毛管中を上昇する高さから求める毛管上
昇法や基板上においた金属融液の液滴形状から求める静
滴法、電磁浮遊した金属液滴の振動数から求める液滴振
動法などがある。また、接触角の測定方法としては、ほ
とんどの場合、固体表面上に静止した液滴についての角
度を測定する静滴法によるものである[例えば、「表面
張力」、初版(昭和55年)、57頁(共立出版株式会
社);向井楠宏、「セラミックス」、10、P558
(1975)]。In general, methods for measuring the surface tension of a liquid include a capillary rising method obtained from a height at which a metal melt rises in a capillary, a static drop method obtained from a droplet shape of the metal melt placed on a substrate, and an electromagnetic method. There is a droplet vibration method obtained from the frequency of a floating metal droplet. In most cases, the contact angle is measured by a static drop method that measures the angle of a droplet resting on a solid surface [for example, “Surface tension”, first edition (1980), 57 pages (Kyoritsu Shuppan Co., Ltd.); Kusuhiro Mukai, "Ceramics", 10, P558
(1975)].
【0005】金属融液の表面張力及び接触角の測定は、
高温で測定雰囲気の調整が必要であるなどの測定技術上
の制約から、ほとんどの場合、静滴法によって行われて
いる。接触角は固体と液体の組合わせで決まる物理定数
であるかのように扱われるが、実際には表面の清浄度、
微細な表面の粗さなどによって大きく変化する。液滴が
前進する部分にできる接触角(前進接触角:θa)は大
きく、後退する部分にできる接触角(後退接触角:θ
r)は小さくなることがしばしば観察され、接触角はこ
れらの中間の任意の大きさの角度を条件次第で取り得
る。また、金属融液の表面張力に関しても、多くの場
合、計算時に補正が必要なこと、測定の際に基板や炉心
管から入る不純物酸素の影響を受けやすいなどが原因
で、測定者によって大きなばらつきが生じる。ゆえに、
表面張力と接触角の組み合わせで求める付着仕事は、よ
り大きなばらつきを含むことになる。[0005] The measurement of the surface tension and contact angle of a metal melt is as follows.
In most cases, the measurement is performed by the static droplet method because of limitations in measurement technology such as the necessity of adjusting the measurement atmosphere at a high temperature. The contact angle is treated as if it were a physical constant determined by the combination of solid and liquid.
It changes greatly depending on the fine surface roughness. The contact angle (advance contact angle: θa) formed at the portion where the liquid droplet advances is large, and the contact angle formed at the receding portion (retreat contact angle: θ)
It is often observed that r) is small, and the contact angle can take any angle between these, depending on the conditions. In addition, the surface tension of the metal melt often varies greatly depending on the operator due to factors such as the need for correction during calculation and the susceptibility to impurity oxygen entering from the substrate and the furnace tube during measurement. Occurs. therefore,
The adhesion work required by the combination of the surface tension and the contact angle will include greater variations.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、金属融液の
濡れ性を接触角及び表面張力を測定することなしに評価
する方法を提供することをその課題とする。An object of the present invention is to provide a method for evaluating the wettability of a metal melt without measuring the contact angle and the surface tension.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成する
に至った。すなわち、本発明によれば、常重力下及び微
小重力下での基板上に静置した同一の金属融液の形状を
測定するとともに、その金属融液の常重力下での形状と
微小重力下での形状の変化から濡れ性を測定することを
特徴とする金属融液の濡れ性の評価法が提供される。Means for Solving the Problems The present inventors have made intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, have completed the present invention. That is, according to the present invention, while measuring the shape of the same metal melt left standing on the substrate under normal gravity and microgravity, the shape of the metal melt under normal gravity and microgravity And measuring the wettability from the change in the shape of the metal melt.
【0008】[0008]
【発明の実施の形態】本発明の金属融液の濡れ性の評価
法は、常重力下及び微小重力下での基板上に静置した同
一の金属融液の形状の変化から付着仕事を求めるもので
ある。図1に常重力下及び微小重力下での基板上に静置
した金属融液の形状を模式的に示す。常重力下では金属
融液は楕円形に近い形状をしているが、微小重力下では
球状に近い形状となる。この時、金属融液と基板との接
触点が移動し、金属融液と基板との界面積が減少する。
この界面積を減少する際に消失した仕事が付着仕事であ
り、これは金属融液が常重力下から微小重力下に変化し
た際のポテンシャルエネルギーの消失に対応する。金属
融液の常重力下におけるポテンシャルエネルギーの基板
の寄与は、金属融液の部位によって異なる。図1のPa
rt1の部位は、常重力下及び微小重力下で移動が起こ
らない部位である。図1のPart2の部位は、常重力
下では基板によって保持されており、微小重力下ではポ
テンシャルエネルギーの消失によって基板から離れる部
位である。図1のPart3の部位は、常重力下では表
面張力との釣り合いによって空間に保持されており、微
小重力下ではポテンシャルエネルギーの消失によって移
動する部位である。図1のPart1の部位は、ポテン
シャルエネルギーの変化に関わらず移動が起こらないの
で、界面積の減少には寄与しない。図1のPart3の
部位は、常重力下において重力と表面張力との釣り合い
によって空間に保持されているので、界面積の減少には
寄与しない。よって図1のPart2の部位のポテンシ
ャルエネルギーの消失が界面積を減少させている。この
部位のポテンシャルエネルギーの消失量を減少した界面
積で割ることによって付着仕事を求めることができる。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The method for evaluating the wettability of a metal melt according to the present invention determines the work of adhesion from the change in the shape of the same metal melt placed on a substrate under ordinary gravity and microgravity. Things. FIG. 1 schematically shows the shape of a metal melt placed on a substrate under ordinary gravity and microgravity. Under normal gravity, the metal melt has a shape close to an ellipse, but under microgravity, it has a shape close to a sphere. At this time, the contact point between the metal melt and the substrate moves, and the interface area between the metal melt and the substrate decreases.
The work that has been lost when reducing the interfacial area is adhesion work, which corresponds to the loss of potential energy when the metal melt changes from normal gravity to microgravity. The contribution of the substrate to the potential energy of the metal melt under normal gravity differs depending on the position of the metal melt. Pa in FIG.
The part of rt1 is a part that does not move under ordinary gravity and microgravity. The part of Part 2 in FIG. 1 is a part that is held by the substrate under normal gravity and separates from the substrate due to loss of potential energy under microgravity. The part of Part 3 in FIG. 1 is a part that is held in space under normal gravity by balancing with surface tension, and moves under the elimination of potential energy under microgravity. The part at Part 1 in FIG. 1 does not move regardless of the change in potential energy, and therefore does not contribute to the reduction of the interface area. The part of Part 3 in FIG. 1 is held in space by the balance between gravity and surface tension under normal gravity, and therefore does not contribute to the reduction of the interface area. Thus, the disappearance of the potential energy at the part of Part 2 in FIG. 1 reduces the boundary area. The work of adhesion can be determined by dividing the loss of potential energy at this site by the reduced interface area.
【0009】本発明において、金属融液は、融点以上の
いかなる温度をとることができる。種々の金属融液と基
板との組み合わせが可能であり、金属としては、好まし
くは、インジウムやスズ、ゲルマニウムなどの固体状態
で取り扱うことのできる金属で、基板としては、好まし
くは、石英ガラスや鏡面研磨した金属及びセラミックス
板等の平滑な基板である。In the present invention, the metal melt can have any temperature equal to or higher than the melting point. A combination of various metal melts and a substrate is possible, and the metal is preferably a metal that can be handled in a solid state such as indium, tin, and germanium. The substrate is preferably a quartz glass or a mirror surface. It is a smooth substrate such as a polished metal or ceramic plate.
【0010】本発明において、金属融液の液滴形状を観
察するために、測定雰囲気の制御及び試料の加熱が可能
なのぞき窓を有した容器が必要である。測定雰囲気は、
真空あるいは窒素ガスやアルゴンガスなどの雰囲気ガス
が使用でき、試料の加熱には、容器外部あるいは内部に
設置した抵抗炉、赤外線炉等いかなる加熱源も用いるこ
とができる。In the present invention, in order to observe the shape of the droplet of the metal melt, a container having a viewing window capable of controlling the measurement atmosphere and heating the sample is required. The measurement atmosphere is
Vacuum or an atmospheric gas such as nitrogen gas or argon gas can be used, and any heating source such as a resistance furnace or an infrared furnace installed outside or inside the container can be used for heating the sample.
【0011】本発明において、基板上に置かれた金属融
液の液滴形状を正確に記録することができるならば、カ
メラあるいはビデオカメラなどいかなる画像記録装置も
用いることができる。In the present invention, any image recording device such as a camera or a video camera can be used as long as it can accurately record the droplet shape of the metal melt placed on the substrate.
【0012】本発明において、微小重力環境は、常重力
下からの金属融液の変形が平衡に達するのであれば、微
小重力レベル及び微小重力時間の制限はない。好ましく
は、微小重力レベルが10-2g以下で、微小重力時間が
1秒以上である。In the present invention, the microgravity environment is not limited by the microgravity level and the microgravity time as long as the deformation of the metal melt under normal gravity reaches equilibrium. Preferably, the microgravity level is 10 -2 g or less and the microgravity time is 1 second or more.
【0013】[0013]
【実施例】次に本発明を実施例によりさらに詳細に説明
する。 実施例 (1)濡れ性測定装置 本実験において使用した濡れ性測定装置について説明す
る。この装置は、直径40mmのパイレックス製のぞき
窓を直線上に2つ備えた内径150mm、外径160m
m、高さ250mmのステンレス製のチャンバーで、電
気炉に電源を供給する端子とシース熱電対を導入するポ
ート、真空装置との接続口を兼ねた雰囲気ガスの導入及
び排出ポートを備える。チャンバー内は10-3Torr
以下の真空雰囲気にすることができる。Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples. Example (1) Wettability measuring device The wettability measuring device used in this experiment will be described. This apparatus is provided with two Pyrex viewing windows with a diameter of 40 mm on a straight line, with an inner diameter of 150 mm and an outer diameter of 160 m.
A stainless steel chamber having a height of 250 mm and a height of 250 mm. The chamber includes a terminal for supplying power to the electric furnace, a port for introducing a sheath thermocouple, and a port for introducing and discharging an atmospheric gas which also serves as a connection port for a vacuum device. The chamber is 10 -3 Torr
The following vacuum atmosphere can be used.
【0014】電気炉は、内径22mm、外径25mm、
長さ110mmのムライト管に径1mmのカルタン線を
7巻きしたものをチャンバー内に水平に設置した構造の
ものである。カルタン線は銅線を介してチャンバー外部
の交流電圧調整装置に接続される。The electric furnace has an inner diameter of 22 mm, an outer diameter of 25 mm,
It has a structure in which a mullite tube having a length of 110 mm and seven turns of a cartane wire having a diameter of 1 mm are installed horizontally in a chamber. The cartane wire is connected to an AC voltage regulator outside the chamber via a copper wire.
【0015】濡れ性の評価に使用する基板は、ムライト
管の中央に水平に設置される。基板は、測定中の移動を
防ぐために、ムライト管内に銀ペーストで張り付けて固
定される。金属の固まりは、ムライト管内の基板の上に
設置される。The substrate used for evaluating the wettability is set horizontally at the center of the mullite tube. The substrate is fixed in a mullite tube with a silver paste to prevent movement during measurement. The mass of metal is placed on the substrate in the mullite tube.
【0016】基板上の金属融液の形状は、のぞき窓の片
側に設置されたスチルカメラあるいはビデオカメラの連
続撮影によって記録される。もう一方ののぞき窓からラ
イトで金属融液を照らし、金属融液の輪郭を明確にさせ
る。The shape of the metal melt on the substrate is recorded by continuous shooting with a still camera or video camera installed on one side of the viewing window. The metal melt is illuminated with a light from the other viewing window to make the contour of the metal melt clear.
【0017】(2)金属融液の濡れ性測定 次に本実施例において実施した金属融液の濡れ性測定手
順について説明する。チャンバー内のムライト管の中央
に水平に基板を設置し、50mgから300mgのイン
ジウム金属の円柱型の固まりを基板の上に設置した。基
板には、シリカガラス(縦10mm、横10mm、厚さ
1mm)を用いた。次にチャンバー内を10-3Torr
に排気し、アルゴンガスで大気圧にした。チャンバーに
巻き付けたリボンヒーター及び電気炉に通電を行い、イ
ソジウム金属の周囲の温度が120℃を越えない状態
で、約100ml/分のアルゴンガスをチャンバー内に
流通させて、チャンバー内壁及び電気炉などに付着した
水分などを取り除いた。(2) Measurement of Wettability of Metal Melt Next, the procedure for measuring the wettability of the metal melt performed in this embodiment will be described. The substrate was placed horizontally at the center of the mullite tube in the chamber, and a columnar mass of 50 to 300 mg of indium metal was placed on the substrate. Silica glass (length 10 mm, width 10 mm, thickness 1 mm) was used for the substrate. Next, the inside of the chamber is set to 10 −3 Torr.
And evacuated to atmospheric pressure with argon gas. The ribbon heater and the electric furnace wound around the chamber are energized, and argon gas of about 100 ml / min is passed through the chamber in a state where the temperature around the indium metal does not exceed 120 ° C. Moisture and the like attached to were removed.
【0018】その後、装置の移動などの実験操作中にイ
ンジウム金属が移動するのを防ぐために、インジウム金
属を融点(157℃)以上に加熱後冷却し、基板にイン
ジウム金属を付着させた。アルゴンガスの流通を停止
し、濡れ性測定装置をラックに組み込み、微小重力実験
が可能な施設で測定を行った。微小重力実験が可能な施
設としては、北海道上砂川町の地下無重力実験センター
の490m落下シャフト(重力レベル:10−4g、時
間:10秒)あるいは北海道札幌市の北海道工業技術研
究所の10m落下塔(重力レベル:10−3g、時間:
1.37秒)を利用した。微小重力実験が可能な施設に
濡れ性測定装置を設置後、電気炉に通電を行い、基板と
インジウム金属を400℃から800℃に加熱した。溶
融したイソジウムの形状を落下前(常重力下)と落下中
(微小重力下)に記録し、得られた画像データから融液
の形状を測定し、濡れの定量的な評価を行った。Thereafter, in order to prevent the movement of the indium metal during the experimental operation such as the movement of the apparatus, the indium metal was heated to a melting point (157 ° C.) or higher and then cooled, so that the indium metal was adhered to the substrate. The flow of the argon gas was stopped, the wettability measuring device was installed in a rack, and the measurement was performed at a facility capable of performing a microgravity experiment. Facilities capable of microgravity experiments include a 490 m drop shaft (gravity level: 10 -4 g, time: 10 seconds) at the underground gravity-free experiment center in Kamisunagawa-cho, Hokkaido or a 10-m fall shaft at the Hokkaido Institute of Technology in Sapporo, Hokkaido. Tower (gravity level: 10-3 g, time:
(1.37 seconds). After the wettability measuring device was installed in a facility where microgravity experiments were possible, the electric furnace was energized to heat the substrate and indium metal from 400 ° C to 800 ° C. The shape of the molten isodium was recorded before falling (under normal gravity) and during falling (under microgravity), the shape of the melt was measured from the obtained image data, and the wetness was quantitatively evaluated.
【0019】 (3)インジウム融液の濡れ性 シリカガラス上の種々の重量の溶融インジウムの常重力
下から微小重力下への変化における界面積の減少量と常
重力下での図1のPart2のポテンシャルエネルギー
の関係を図2に示した。これらの間には直線関係が成立
しており、その直線の傾きから各温度における付着仕事
を求めることができた。400℃、600℃、800℃
における付着仕事は、それぞれ0.197J/m2、
0.149J/m2、0.134J/m2であった。[0019] (3) of indium melt from normal gravity of varying weight of the molten indium on the wettability silica glass Part2 of Figure 1 in reduction and normal gravity under interfacial area in the change to microgravity FIG. 2 shows the relationship between the potential energies. A linear relationship was established between them, and the work of adhesion at each temperature could be determined from the slope of the straight line. 400 ° C, 600 ° C, 800 ° C
Are 0.197 J / m 2 ,
The values were 0.149 J / m 2 and 0.134 J / m 2 .
【0020】比較例 本発明により400℃、600℃、800℃における付
着仕事から外挿して求めた融点(157℃)での付着仕
事は0.23J/m2であった。一方、従来法の静滴法
で求めた、真空中、単結晶石英と157℃の溶融インジ
ウムの付着仕事は0.208J/m2であり、本発明で
求めた付着仕事の値と類似の値を示していた[例えば、
F.I.Harding and D.R.Rossi
ngton、J.Am.Ceram.Soc、53、P
87(1970)]。Comparative Example According to the present invention, the work of adhesion at the melting point (157 ° C.) extrapolated from the work of adhesion at 400 ° C., 600 ° C. and 800 ° C. was 0.23 J / m 2 . On the other hand, the work of adhesion between single crystal quartz and molten indium at 157 ° C. in a vacuum, which was determined by the conventional static drop method, was 0.208 J / m 2 , a value similar to the value of the work of adhesion determined in the present invention [For example,
F. I. Harding and D. R. Rossi
ngton, J.M. Am. Ceram. Soc, 53, P
87 (1970)].
【0021】比較例 インジウムの重量を50mgから300mgまで変化さ
せた場合、常重力下におけるシリカガラス上の溶融イン
ジウムの接触角は、インジウム重量の増加とともに小さ
くなった。前述の(3)式によってこの系の付着仕事が
表されるとすると、表面張力は溶融金属に固有の値なの
で、付着仕事は金属融液の重量に依存することになる。
しかし、付着仕事は金属融液と基板との相互作用によっ
て決まる仕事量なので、溶融金属の重量とは無関係であ
り、この系では(3)式による付着仕事の評価ができな
い。COMPARATIVE EXAMPLE When the weight of indium was changed from 50 mg to 300 mg, the contact angle of molten indium on silica glass under ordinary gravity became smaller as the weight of indium increased. Assuming that the adhesion work of this system is represented by the above-mentioned equation (3), the adhesion work depends on the weight of the metal melt because the surface tension is a value specific to the molten metal.
However, since the work of adhesion is determined by the interaction between the metal melt and the substrate, it is irrelevant to the weight of the molten metal, and this system cannot evaluate the work of adhesion by equation (3).
【0022】[0022]
【発明の効果】本発明の金融融液の濡れ性の評価法によ
れば、接触角及び表面張力の測定を必要とせずに、付着
仕事の直接的な測定ができ、濡れ性の定量的な評価がで
きる。According to the method for evaluating the wettability of the financial melt of the present invention, the work of adhesion can be directly measured without the need to measure the contact angle and surface tension, and the wettability can be quantitatively determined. Can be evaluated.
【図1】常重力下及び微小重力下における金属融液の模
式図。金属融液の常重力下におけるポテンシャルエネル
ギーの基板への寄与で3つの部位に分けられる。FIG. 1 is a schematic view of a metal melt under normal gravity and under microgravity. The metal melt is divided into three parts by the contribution of potential energy to the substrate under normal gravity.
【図2】400℃、600℃、800℃におけるシリカ
ガラス上の溶融インジウムの常重力下から微小重力下へ
の変化における界面積の減少量と常重力下での図1のP
art2のポテンシャルエネルギーの関係図。FIG. 2 shows the amount of reduction in the area of the indium in the change of the indium on silica glass from normal gravity to microgravity at 400 ° C., 600 ° C., and 800 ° C., and P in FIG.
FIG. 6 is a diagram showing the relationship between the potential energy of art2.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (73)特許権者 598033077 鈴木 正昭 北海道札幌市清田区平岡5条4丁目9番 15号 (73)特許権者 598033088 奥谷 猛 北海道札幌市厚別区上野幌2条4丁目6 番10号 (74)上記5名の代理人 弁理士 池浦 敏明 (72)発明者 永井 秀明 北海道札幌市豊平区月寒東2条17丁目2 番22号 (72)発明者 中田 善徳 北海道札幌市清田区里塚2条3丁目16番 43号 (72)発明者 鶴江 孝 北海道札幌市豊平区西岡5条1丁目15番 11号 (72)発明者 鈴木 正昭 北海道札幌市清田区平岡5条4丁目9番 15号 (72)発明者 奥谷 猛 北海道札幌市厚別区上野幌2条4丁目6 番10号 審査官 野村 伸雄 (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G01N 13/00 - 13/02 JICSTファイル(JOIS)──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing from the front page (73) Patent holder 598033077 Masaaki Suzuki 5-9-15 Hiraoka 5-chome, Kiyota-ku, Sapporo-city, Hokkaido (73) Patent holder 598033088 Takeshi Okutani 2-Jo-4-6 Uenopporo, Atsubetsu-ku, Sapporo, Hokkaido No. 10 (74) Attorney Toshiaki Ikeura (5) Attorney Toshiaki Ikeura (72) Inventor Hideaki Nagai 2-2-17-1 Tsukikan Higashi-Jo 2-22, Toyohira-ku, Sapporo, Hokkaido Satozuka 2-3, 3-16, 43 (72) Inventor Takashi Tsurue, 5-1, 1-15-1, Nishioka, Toyohira-ku, Sapporo, Hokkaido, Japan (72) Masaaki Suzuki 5-9-1, Hiraoka, Kiyota-ku, Sapporo, Hokkaido No. 15 (72) Inventor Takeshi Okutani Takeshi Nomura No. 2-6-4-10 Uenopporo, Atsetsu-ku, Sapporo, Hokkaido Examiner Nomura Nomura (58) Field surveyed (Int. Cl. 6 , DB name) G01N 13/00-13 / 02 JICST Yl (JOIS)
Claims (1)
置した同一の金属融液の形状を測定するとともに、その
金属融液の常重力下での形状と微小重力下での形状の変
化から濡れ性を測定することを特徴とする微小重力環境
を用いた金属融液の濡れ性の評価法。1. The method of measuring the shape of the same metal melt placed on a substrate under normal gravity and microgravity, and measuring the shape of the metal melt under normal gravity and the shape under microgravity. A method for evaluating the wettability of a molten metal using a microgravity environment, characterized in that the wettability is measured from the change in temperature.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Applications Claiming Priority (1)
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JP6045498A JP2879092B1 (en) | 1998-02-25 | 1998-02-25 | Evaluation method of wettability of metal melt using microgravity environment |
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Publication Number | Publication Date |
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JPH11241985A JPH11241985A (en) | 1999-09-07 |
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Country Status (1)
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN113740209A (en) * | 2021-09-16 | 2021-12-03 | 哈尔滨工业大学(威海) | Device and method for simulating wetting behavior of plastic on metal surface under specific pressure |
-
1998
- 1998-02-25 JP JP6045498A patent/JP2879092B1/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113740209A (en) * | 2021-09-16 | 2021-12-03 | 哈尔滨工业大学(威海) | Device and method for simulating wetting behavior of plastic on metal surface under specific pressure |
CN113740209B (en) * | 2021-09-16 | 2024-04-05 | 哈尔滨工业大学(威海) | Device and method for simulating wetting behavior of plastic on metal surface under specific pressure |
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---|---|
JPH11241985A (en) | 1999-09-07 |
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