JP2874438B2 - Electrode coating device - Google Patents

Electrode coating device

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JP2874438B2
JP2874438B2 JP7898092A JP7898092A JP2874438B2 JP 2874438 B2 JP2874438 B2 JP 2874438B2 JP 7898092 A JP7898092 A JP 7898092A JP 7898092 A JP7898092 A JP 7898092A JP 2874438 B2 JP2874438 B2 JP 2874438B2
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blade
electrode
tank
dipping tank
leveling
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晋一 樋口
勝幸 森安
忠洋 中川
秋彦 高橋
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はチップ部品の端部に電極
ペーストを塗布するための電極塗布装置に関するもので
ある。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electrode applying apparatus for applying an electrode paste to an end of a chip component.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、多数のチップ部品の端部に電極を
効率良く付着させるため、多数の保持穴を有する保持プ
レートが用いられている(特公昭62−20685号公
報)。この保持プレートは、硬質基板の中心部に形成さ
れた薄肉な平板部に多数の貫通穴を形成するとともに、
平板部で形成される凹部にゴム状弾性体を埋設し、かつ
弾性体に貫通穴より小径の貫通した保持穴を形成したも
のである。そして、チップ部品を保持穴に一部が突出す
るように弾性的に保持し、この突出面に銀等の電極ペー
ストを均一に付着させた後、チップ部品を加熱して電極
ペーストを乾燥させる。チップ部品に電極ペーストを塗
布する方法として、上記公報にはローラを用いた例が記
載されている。即ち、保持プレートの上面側にチップ部
品の一部を突出させて保持し、この保持プレートをコン
ベアによって搬送しながら周面に電極ペーストを塗布し
たローラをチップ部品の突出部に接触させることによ
り、チップ部品に電極ペーストを塗布している。ローラ
の周面に電極ペーストを均一な厚みで塗布するため、ロ
ーラを回転させながらスクレイパーと呼ばれるならし板
で余分なペーストを掻き取っている。
2. Description of the Related Art Conventionally, a holding plate having a large number of holding holes has been used in order to efficiently attach electrodes to the ends of a large number of chip components (Japanese Patent Publication No. 62-20885). This holding plate forms a large number of through holes in a thin flat plate formed in the center of the hard substrate,
A rubber-like elastic body is embedded in a concave portion formed by a flat plate portion, and a holding hole having a smaller diameter than the through hole is formed in the elastic body. Then, the chip component is elastically held so as to partially protrude from the holding hole, and an electrode paste such as silver is uniformly attached to the protruding surface, and then the chip component is heated to dry the electrode paste. As a method of applying an electrode paste to a chip component, the above publication describes an example using a roller. That is, a part of the chip component is projected and held on the upper surface side of the holding plate, and the roller coated with the electrode paste on the peripheral surface is brought into contact with the projecting portion of the chip component while transporting the holding plate by a conveyor. Electrode paste is applied to chip components. In order to apply the electrode paste with a uniform thickness to the peripheral surface of the roller, excess paste is scraped off with a leveling plate called a scraper while rotating the roller.

【0003】例えば、長さが1.6〜5.7mm程度の
チップ部品の場合、電極の厚みは0.15〜0.3mm
程度と非常に薄く、その膜厚制御には高い精度が要求さ
れる。しかしながら、上記塗布方法ではローラの回転に
つれてその周面に塗布されたペーストが流動するため、
ローラの部位によってペーストの膜厚が微妙に変化し、
チップ部品の電極厚みにばらつきが生じるという問題が
ある。また、コンベアの振動や水平度の如何によっても
電極厚みにばらつきが生じる。
For example, in the case of a chip part having a length of about 1.6 to 5.7 mm, the thickness of the electrode is 0.15 to 0.3 mm.
It is extremely thin, and high precision is required for controlling the film thickness. However, in the above-described coating method, the paste applied to the peripheral surface flows as the roller rotates,
The thickness of the paste changes slightly depending on the location of the roller,
There is a problem that the electrode thickness of the chip component varies. Further, the thickness of the electrode varies depending on the vibration and the level of the conveyor.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】チップ部品に電極ペー
ストを付着させる他の方法として、特公平3−4440
4号公報に記載のように平坦な塗布板の上面に電極ペー
ストを薄膜状に塗布し、チップ部品の一部が下側に突出
するように保持した保持プレートを塗布板に近接させ、
チップ部品の突出部を塗布板に押し当てることにより電
極ペーストを付着させる方法がある。この付着方法で
は、ローラを用いた塗布法のような不都合は生じない。
この方法の場合、チップ部品の突出部をペーストが塗布
された塗布板の底面に押し付けることにより、チップ部
品の突出長のばらつきを解消し、電極幅を均一化させる
ことができる。しかし、1回の処理を終了すると、チッ
プ部品の接触した部位のペーストの膜厚が薄くなるの
で、塗布板上のペーストを一旦掻き集め、その後で一定
の膜厚に再調整しなければならない。そのため、膜厚の
調整作業に多大の手間がかかるとともに、一定の膜厚に
再現性よく調整するのが難しいという問題があった。そ
こで、本発明の目的は、電極ペーストの膜厚を高い精度
にかつ再現性よく調整でき、均質な電極塗布を行うこと
ができる電極塗布装置を提供することにある。
As another method for attaching an electrode paste to a chip component, Japanese Patent Publication No. Hei 3-4440 is known.
No. 4, as described in JP-A No. 4 (1999), an electrode paste is applied in a thin film form on the upper surface of a flat coating plate, and a holding plate holding a part of the chip component so as to protrude downward is brought close to the coating plate.
There is a method in which an electrode paste is adhered by pressing a projecting portion of a chip component against an application plate. This adhesion method does not cause any inconvenience as in the application method using a roller.
In the case of this method, the protrusion of the chip component is pressed against the bottom surface of the coating plate on which the paste is applied, whereby the variation in the protrusion length of the chip component can be eliminated and the electrode width can be made uniform. However, once one process is completed, the thickness of the paste at the portion where the chip component has come into contact becomes thin. Therefore, the paste on the application plate must be once scraped and then adjusted again to a constant thickness. Therefore, there is a problem that it takes a lot of time and effort to adjust the film thickness, and it is difficult to adjust the film thickness to a constant value with good reproducibility. Therefore, an object of the present invention is to provide an electrode coating apparatus that can adjust the thickness of an electrode paste with high accuracy and high reproducibility and can perform uniform electrode coating.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は、保持プレートの保持穴にチップ部品を下
方へ一部突出状態で保持し、ディップ槽の底面上に塗布
された電極ペーストにチップ部品を押し付けることによ
り、チップ部品の端部に電極を塗布する電極塗布装置に
おいて、ディップ槽の底面上の電極ペーストをディップ
槽の一端側へ掻き集めるための回収用ブレードと、ディ
ップ槽の一端側へ掻き集められた電極ペーストをディッ
プ槽の他端側へ均しながら膜厚を一定に調整するレベル
出し用ブレードと、回収用ブレードとレベル出し用ブレ
ードとをディップ槽に対して相対的に水平方向に往復移
動させる駆動手段と、回収用ブレードをディップ槽の底
面に接触した位置と上方へ退避した位置との間で昇降さ
せる第1昇降手段と、レベル出し用ブレードをディップ
槽の底面に近接した位置と上方へ退避した位置との間で
昇降させる第2昇降手段とを備えたものである。回収用
ブレードおよびレベル出し用ブレードはディップ槽に対
して相対的に水平方向に往復移動すればよく、ディップ
槽が一定位置に設置され、ブレードが往復移動する場合
と、ブレードが一定位置に設置され、ディップ槽が往復
移動する場合とがある。
In order to achieve the above-mentioned object, the present invention provides an electrode paste coated on a bottom surface of a dipping tank by holding a chip component in a holding hole of a holding plate so as to partially protrude downward. In an electrode coating apparatus for applying an electrode to the end of the chip component by pressing the chip component onto a chip, a collecting blade for scraping the electrode paste on the bottom surface of the dip tank to one end of the dip tank, A leveling blade for adjusting the film thickness to a constant level while leveling the electrode paste scraped to one end to the other end of the dipping tank, and a collecting blade and a leveling blade relative to the dipping tank. Driving means for reciprocating in a horizontal direction, and first elevating means for elevating and lowering a collecting blade between a position in contact with the bottom surface of the dip tank and a position retracted upward. The blade for leveling is obtained and a second lifting means for vertically moving between a position retracted to a position and an upper proximate to the bottom of the dip tank. The collecting blade and the leveling blade need only reciprocate in the horizontal direction relative to the dip tank.The dip tank is installed at a fixed position, and when the blade reciprocates, the blade is installed at a fixed position. In some cases, the dip tank reciprocates.

【0006】[0006]

【作用】まず、両方のブレードをディップ槽の一端側へ
移動させた状態で、ディップ槽の上に所定量の電極ペー
ストを注入する。そして、第2昇降手段によって回収用
ブレードをディップ槽の底面に接触する位置まで降下さ
せ、駆動手段によって回収用ブレードをディップ槽の一
端側から他端側へ水平移動させる。なお、この時、レベ
ル出し用ブレードは上方に退避した位置にあり、回収用
ブレードと一体的に水平移動する。回収用ブレードをデ
ィップ槽の他端側まで移動させることによって、ディッ
プ槽に注入された電極ペーストの殆どすべてが他端側へ
掻き集められる。次に、第2昇降手段により回収用ブレ
ードを上昇させるとともに、第1昇降手段によりレベル
出し用ブレードをディップ槽の底面と近接する位置まで
降下させる。このレベル出し用ブレードとディップ槽の
底面との隙間が電極ペーストの膜厚となる。この状態
で、駆動手段によりレベル出し用ブレードをディップ槽
の他端側から一端側へ逆向きに水平移動させると、ディ
ップ槽の底面上にはレベル出し用ブレードによって一定
厚みのペースト膜が形成される。第1昇降手段は回収用
ブレードをディップ槽の底面に接触させるだけでよいの
で、高い精度は要求されず、シリンダ等のような直動形
アクチュエータでも構わない。一方、第2昇降手段はレ
ベル出し用ブレードとディップ槽の底面との間の隙間を
厳密に設定する必要があるので、パルスモータとボール
ネジ機構のように微調整可能な精度の高い駆動機構を用
いるのが望ましい。
First, a predetermined amount of electrode paste is injected onto the dipping tank with both blades moved to one end of the dipping tank. Then, the collecting blade is lowered to a position where the collecting blade comes into contact with the bottom surface of the dipping tank by the second lifting / lowering means, and the collecting blade is horizontally moved from one end of the dipping tank to the other end by the driving means. At this time, the leveling blade is at a position retracted upward, and horizontally moves integrally with the collecting blade. By moving the collecting blade to the other end of the dipping tank, almost all of the electrode paste injected into the dipping tank is scraped to the other end. Next, the recovery blade is raised by the second lifting means, and the leveling blade is lowered to a position close to the bottom surface of the dip tank by the first lifting means. The gap between the leveling blade and the bottom surface of the dip tank is the thickness of the electrode paste. In this state, when the leveling blade is horizontally moved in the opposite direction from the other end of the dipping tank to the one end by the driving means, a paste film having a constant thickness is formed on the bottom surface of the dipping tank by the leveling blade. You. Since the first elevating means only needs to bring the collecting blade into contact with the bottom surface of the dip tank, high accuracy is not required, and a linear actuator such as a cylinder may be used. On the other hand, since the second elevating means needs to set the gap between the leveling blade and the bottom surface of the dip tank strictly, a high-precision drive mechanism that can be finely adjusted, such as a pulse motor and a ball screw mechanism, is used. It is desirable.

【0007】[0007]

【実施例】図1は本発明にかかる電極塗布装置の一例を
示し、チップ部品Bの端部に電極を塗布するために用い
られる。チップ部品Bは図2,図3に示す保持プレート
Aの保持穴a1 に弾性的にかつ一部が突出するように保
持されている。なお、保持プレートAの具体的構造は特
公平3−44404号公報に示されたものと同様であ
る。本発明にかかる電極塗布装置は、装置本体1と、デ
ィップヘッド部2と、搬入用コンベア5と、搬出用コン
ベア6と、ディップ槽7と、ブレード部8で構成されて
いる。各部の動作を制御する制御装置(図示せず)は装
置本体1に内蔵されている。
FIG. 1 shows an example of an electrode coating apparatus according to the present invention, which is used for coating an electrode on an end of a chip component B. Chip component B is 2, resiliently and part of which is held so as to protrude into the holding hole a 1 of the holding plate A shown in FIG. The specific structure of the holding plate A is the same as that disclosed in Japanese Patent Publication No. 3-44404. The electrode coating apparatus according to the present invention includes an apparatus main body 1, a dip head unit 2, a carry-in conveyor 5, a carry-out conveyor 6, a dip tank 7, and a blade unit 8. A control device (not shown) for controlling the operation of each unit is built in the device main body 1.

【0008】ディップヘッド部2は固定柱3を介して装
置本体1の上に固定されており、その下部には、チャッ
ク部10が複数本の軸11を介して昇降可能に吊り下げ
支持されている。ディップヘッド部2の内部には図示し
ない昇降手段が内蔵されており、この昇降手段を駆動す
ることにより軸11が昇降し、チャック部10を水平度
を保ったまま昇降できる。チャック部10の前後両側に
は一対のチャック爪12が設けられ、このチャック爪1
2を前後方向に開閉させることにより、コンベア5によ
って搬入された保持プレートAの両側の溝a2 をチャッ
クできるようになっている。
The dip head 2 is fixed on the apparatus main body 1 via a fixing column 3, and a chuck 10 is supported by a lower part thereof by a plurality of shafts 11 so as to be vertically movable. I have. A not-shown elevating unit is built in the dip head unit 2, and by driving the elevating unit, the shaft 11 is moved up and down, and the chuck unit 10 can be moved up and down while maintaining the levelness. A pair of chuck claws 12 are provided on both front and rear sides of the chuck portion 10.
By opening and closing 2 in the longitudinal direction, the groove a 2 on either side of the carried-in holding plate A by the conveyor 5 so that the can chuck.

【0009】搬入用コンベア5および搬出用コンベア6
は、上下2部分よりなり、下半分の部分には上半分を装
置の中心方向へスライドさせるスライド機構が設けら
れ、上半分には保持プレートAを一方向に搬送するため
の搬送機構が搭載されている。そして、各コンベア5,
6の上半分は図1に二点鎖線で示すように中央位置まで
対向方向へ前進可能である。
A carry-in conveyor 5 and a carry-out conveyor 6
The upper half is provided with a slide mechanism for sliding the upper half toward the center of the apparatus, and the upper half is provided with a transfer mechanism for transferring the holding plate A in one direction. ing. And each conveyor 5,
The upper half of 6 can be advanced in the opposite direction to the center position as shown by the two-dot chain line in FIG.

【0010】上記コンベア5,6およびチャック部10
の動作は次のような順序で行われる。まず、搬入用コン
ベア5の上に保持プレートAを載置する。この保持プレ
ートAには図3のように下面側にチップ部品Bが突出し
た状態に保持されている。そして搬入用コンベア5の上
半分を保持プレートAと一緒に中心方向へスライドさ
せ、両コンベア5,6の上半分が最接近した位置で内蔵
された搬送機構を駆動し、保持プレートAが2つのコン
ベア5,6に跨がって支持された状態とする。この位置
でチャック部10を降下させ、チャック爪12で保持プ
レートAをチャックする。保持プレートAがチャックさ
れた後、コンベア5,6の上半分は実線位置まで後退す
る。そして、チャック部10はさらに降下し、保持プレ
ートAに保持されたチップ部品Bをディップ槽7の底面
に押しつけて電極塗布を行う。その後、チャック部10
はコンベア5,6の搬送レベルより高い位置まで上昇
し、コンベア5,6を再び図1の二点鎖線位置へ前進さ
せ、これらコンベア5,6上に保持プレートAを跨がっ
た状態に移載する。その後、コンベア5,6に内蔵され
た搬送機構を駆動して搬出用コンベア6上に保持プレー
トAを乗り移らせ、次の処理工程へと搬送する。なお、
ディップヘッド部2の昇降装置、チャック部10、コン
ベア5,6の具体的構造は特願平3−347938号に
記載のものと同様である。
The conveyors 5, 6 and the chuck 10
Are performed in the following order. First, the holding plate A is placed on the carry-in conveyor 5. As shown in FIG. 3, the chip component B is held on the holding plate A so as to protrude from the lower surface side. Then, the upper half of the carry-in conveyor 5 is slid in the center direction together with the holding plate A, and the built-in transport mechanism is driven at a position where the upper halves of both the conveyors 5 and 6 are closest to each other. It is assumed that it is supported over the conveyors 5 and 6. At this position, the chuck unit 10 is lowered, and the holding plate A is chucked by the chuck claws 12. After the holding plate A is chucked, the upper halves of the conveyors 5, 6 are retracted to the solid line position. Then, the chuck unit 10 further descends, and presses the chip component B held on the holding plate A against the bottom surface of the dip tank 7 to perform electrode application. Then, the chuck 10
Rises to a position higher than the transport level of the conveyors 5, 6, and moves the conveyors 5, 6 again to the position indicated by the two-dot chain line in FIG. Put on. Thereafter, the transport mechanism built in the conveyors 5 and 6 is driven to move the holding plate A onto the unloading conveyor 6 and transport the plate to the next processing step. In addition,
The specific structures of the lifting device of the dip head unit 2, the chuck unit 10, and the conveyors 5, 6 are the same as those described in Japanese Patent Application No. 3-347938.

【0011】図4〜図6は本発明の主要部であるディッ
プ槽7およびブレード部8の構造を示す。ディップ槽7
は保持プレートAよりやや大きい長方形のトレー状に形
成され、その長辺の両側部には一対のガイドレール20
が設置されている。ガイドレール20上にはディップ槽
7を前後方向に跨ぐようにブレード支持枠体21がスラ
イド自在に支持されている。ブレード支持枠体21に
は、電極ペーストをディップ槽7の一端部へ掻き集める
ための回収用ブレード22と、電極ペーストを所定の厚
みに調整するレベル出し用ブレード23とが夫々独立し
て上下方向に昇降可能に取り付けられている。上記ブレ
ード22,23の幅寸法は同一で、かつディップ槽7の
短辺方向の内幅寸法より僅かに小さい。回収用ブレード
22はブレード支持枠体21の上部に上下動自在に支持
された橋渡し棒24の下面に固定されており、この橋渡
し棒24はブレード支持枠体21の両端部に設置された
一対のシリンダ25によって上下に昇降駆動される。回
収用ブレード22の下端にはゴム製のブレード片26が
取り付けられ、このブレード片26がディップ槽7の底
面に密着して電極ペーストを掻き集めることができる。
FIGS. 4 to 6 show the structures of the dip tank 7 and the blade section 8, which are main parts of the present invention. Dip tank 7
Is formed in the shape of a rectangular tray slightly larger than the holding plate A, and a pair of guide rails 20
Is installed. A blade supporting frame 21 is slidably supported on the guide rail 20 so as to straddle the dip tank 7 in the front-rear direction. The blade supporting frame 21 is provided with a collecting blade 22 for scraping the electrode paste to one end of the dipping tank 7 and a leveling blade 23 for adjusting the electrode paste to a predetermined thickness. It is mounted to be able to move up and down. The width dimensions of the blades 22 and 23 are the same, and are slightly smaller than the inner width dimension of the dip tank 7 in the short side direction. The collection blade 22 is fixed to the lower surface of a bridging rod 24 supported on the upper part of the blade supporting frame 21 so as to be movable up and down. The bridging rod 24 is a pair of blades installed at both ends of the blade supporting frame 21. The cylinder 25 is driven to move up and down. A rubber blade piece 26 is attached to the lower end of the collection blade 22, and the blade piece 26 comes into close contact with the bottom surface of the dip tank 7 to scrape the electrode paste.

【0012】一方、レベル出し用ブレード23の片側面
には一対のブロック27が固定され、ブロック27には
ネジ軸28が螺合するとともに、上端部が支持板29に
固定されたスライド軸30が摺動自在に挿通されてい
る。ネジ軸28は支持板29を回転自在に貫通し、その
上端部はベルト46を介してレベル出し調整用モータ3
1によって駆動される。また、支持板29の前後両端部
には昇降用シリンダ32が固定されており、シリンダ3
2のピストンロッドはブレード支持枠体21に連結され
ている。また、支持板29の両端部にはスライド軸33
が下方へ突設され、ブレード支持枠体21に対して上下
動自在に挿通されている。そのため、昇降用シリンダ3
2を駆動することにより支持板29をブレード支持枠体
21に対して水平度を保ちながら大きく昇降させること
ができ、さらにレベル出し調整用モータ31を駆動する
ことによってレベル出し用ブレード23の位置を支持板
29に対して上下に微調整できる。支持板29の下限位
置はスライド軸33のボス部33aで設定されているの
で、ディップ槽7の底面からのレベル出し用ブレード2
3の高さを精密に設定できる。このことは、ディップ槽
7の底面上の電極ペーストの塗布厚みを精密に調整でき
ることを意味する。
On the other hand, a pair of blocks 27 is fixed to one side surface of the leveling blade 23, and a screw shaft 28 is screwed into the block 27 and a slide shaft 30 whose upper end is fixed to a support plate 29. It is slidably inserted. The screw shaft 28 rotatably penetrates the support plate 29, and the upper end of the screw shaft 28 is connected to the leveling adjustment motor 3 via a belt 46.
1 driven. A lifting cylinder 32 is fixed to both front and rear ends of the support plate 29.
The two piston rods are connected to the blade support frame 21. Further, slide shafts 33 are provided at both ends of the support plate 29.
Is protruded downward, and is inserted into the blade support frame 21 so as to be vertically movable. Therefore, the lifting cylinder 3
2, the support plate 29 can be raised and lowered greatly while maintaining the levelness with respect to the blade support frame 21, and the position of the leveling blade 23 can be changed by driving the leveling adjusting motor 31. Fine adjustment up and down with respect to the support plate 29 is possible. Since the lower limit position of the support plate 29 is set by the boss 33a of the slide shaft 33, the leveling blade 2 from the bottom surface of the dip tank 7
3 can be set precisely. This means that the thickness of the electrode paste applied on the bottom surface of the dip tank 7 can be precisely adjusted.

【0013】ディップ槽7の下面には一端側が円形で他
端側が縦断面T字形の4個の取付穴34が設けられ、装
置本体1上には取付穴34に対応する4本の頭付ピン3
5が突設されている。穴34の円形部がピン35の頭部
に係合するようにディップ槽7を装置本体1上に載置
し、かつディップ槽7を図4の右方向にスライドさせる
ことにより、ピン35の頭部が取付穴34のT字形部に
係合し、ディップ槽7は装置本体1に位置決めされる。
このディップ槽7は、ピン35をシリンダ等により下動
させることにより装置本体1に対して密着保持される。
The lower surface of the dip tank 7 is provided with four mounting holes 34 each having a circular shape at one end and a T-shaped vertical cross section at the other end, and four headed pins corresponding to the mounting holes 34 on the apparatus body 1. 3
5 are protrudingly provided. The dip tank 7 is placed on the apparatus main body 1 so that the circular portion of the hole 34 engages with the head of the pin 35, and the dip tank 7 is slid rightward in FIG. The part is engaged with the T-shaped part of the mounting hole 34, and the dip tank 7 is positioned in the apparatus main body 1.
The dip tank 7 is held in close contact with the apparatus main body 1 by lowering the pin 35 with a cylinder or the like.

【0014】また、ディップ槽7の後側には、ディップ
槽7の長辺と平行にボールネジ36が配設されており、
このボールネジ36に装置本体1上のガイドレール37
に沿ってスライド自在なナット部材38が螺合してい
る。ナット部材38にはハンドル40を備えた係合片3
9がボールネジ36と平行な軸を中心として揺動可能で
ある。ハンドル40によって係合片39をブレード支持
枠体21側へ揺動させると、係合片39がブレード支持
枠体21の後端部に形成された受け溝41に係合し、ナ
ット部材38とブレード支持枠体21とを連結できる。
上記ボールネジ36の右側端部にはプーリ42が取り付
けられ、このプーリ42をベルト43およびプーリ44
を介してモータ45によって駆動すると、ナット部材3
8とブレード支持枠体21とが一体的に左右に往復移動
する。
A ball screw 36 is disposed on the rear side of the dip tank 7 in parallel with the long side of the dip tank 7.
A guide rail 37 on the apparatus body 1 is attached to the ball screw 36.
A nut member 38 slidable along is screwed. The nut 3 has an engaging piece 3 having a handle 40.
9 can swing about an axis parallel to the ball screw 36. When the engagement piece 39 is swung toward the blade support frame 21 by the handle 40, the engagement piece 39 is engaged with the receiving groove 41 formed at the rear end of the blade support frame 21, and the nut member 38 is engaged. The blade support frame 21 can be connected.
A pulley 42 is attached to the right end of the ball screw 36. The pulley 42 is connected to a belt 43 and a pulley 44.
When driven by the motor 45 through the
8 and the blade support frame 21 reciprocally move left and right integrally.

【0015】ここで、上記ブレード部8の動作を図7に
従って説明する。まず最初に、図7(a)のように回収
用ブレード22のブレード片26をディップ槽7の底面
に押し当てた状態でブレード支持枠体21を左方向にス
トロークさせると、ディップ槽7に入った電極ペースト
Pが左側へ掻き集められる。次に、図7(b)のように
回収用ブレード22を上昇させるとともにレベル出し用
ブレード23をディップ槽7の底面に近接させる。この
時、レベル出し用ブレード23の直前には回収用ブレー
ド22によって掻き集められた電極ペーストPの溜り部
が形成されている。次に、図7(c)のようにレベル出
し用ブレード23を右方向にストロークさせると、ディ
ップ槽7の底面上にはレベル出し用ブレード23とディ
ップ槽7との隙間に対応した薄膜状の電極ペースト膜P
mが形成される。
Here, the operation of the blade unit 8 will be described with reference to FIG. First, as shown in FIG. 7A, when the blade piece 26 of the collection blade 22 is pressed against the bottom surface of the dip tank 7 and the blade support frame 21 is stroked leftward, it enters the dip tank 7. The electrode paste P is scraped to the left. Next, as shown in FIG. 7B, the recovery blade 22 is raised, and the leveling blade 23 is brought close to the bottom surface of the dip tank 7. At this time, a pool portion of the electrode paste P collected by the collecting blade 22 is formed immediately before the leveling blade 23. Next, when the leveling blade 23 is stroked to the right as shown in FIG. 7C, a thin film corresponding to the gap between the leveling blade 23 and the dip tank 7 is formed on the bottom surface of the dip tank 7. Electrode paste film P
m is formed.

【0016】つぎに、上記のように薄膜状の電極ペース
トPmが塗布されたディップ槽7を用いて、保持プレー
トAに保持されたチップ部品Bの突出部に電極を付着さ
せる方法を図8にしたがって説明する。まず、チップ部
品Bが下側に突出するように保持した保持プレートAの
溝a2にチャック爪12の先端部を係合させ、かつチャ
ック爪12を引き上げることにより、保持プレートAの
上面をチャック部10に圧着させる。チャック部10の
下面とディップ槽7の底面との平行度は予め厳密に設定
されている。ここで、ディップヘッド部2に内蔵された
昇降手段を駆動すると、チャック部10は水平度を保っ
たまま降下する。そして、チップ部品Bの突出部がディ
ップ槽7の底面に当接する位置まで降下させた後、チッ
プ部品Bが保持穴a1 に少し押し込まれるようにチャッ
ク部10を若干降下させる。これにより、チップ部品B
の突出長が一定に補正され、均一な幅の電極を形成でき
る。この時、チャック爪12の先端部は保持プレートA
のチャック溝a2 に係合しているため、ディップ槽7の
底面に接触せず、ディップ処理の邪魔にならない。1枚
の保持プレートAには数千個ものチップ部品Bが保持さ
れるため、チップ部品Bをペーストの塗布されたディッ
プ槽7の底面に押し付けた際、保持プレートAには大き
な反力が作用する。しかし、保持プレートAの上面がチ
ャック部10で面支持されているので、撓みが防止さ
れ、電極幅にばらつきが発生しない。なお、電極幅の精
度を高めるため、チップ部品Bをディップ槽7に複数回
押しつけてもよい。
FIG. 8 shows a method for attaching electrodes to the protruding portions of the chip components B held on the holding plate A using the dip tank 7 coated with the thin-film electrode paste Pm as described above. Therefore, it will be described. First, the chuck chip component B is engaged with the tip portion of the chuck pawl 12 in the groove a 2 of the holding plate A holding so as to protrude downward, and by pulling the chuck jaws 12, the upper surface of the holding plate A It is crimped to the part 10. The parallelism between the lower surface of the chuck portion 10 and the bottom surface of the dip tank 7 is strictly set in advance. Here, when the lifting / lowering means incorporated in the dip head unit 2 is driven, the chuck unit 10 descends while maintaining the levelness. After the projection of the chip component B is lowered to a position abutting the bottom surface of the dipping vessel 7, the chip component B is to slightly lower the chuck portion 10 as slightly pushed into the holding hole a 1. Thereby, the chip component B
Is corrected to be constant, and an electrode having a uniform width can be formed. At this time, the tip of the chuck claw 12 is
Since it is engaged with the chuck groove a 2 , it does not contact the bottom surface of the dipping tank 7 and does not hinder the dipping process. Since one holding plate A holds thousands of chip components B, when the chip components B are pressed against the bottom surface of the dip tank 7 coated with the paste, a large reaction force acts on the holding plate A. I do. However, since the upper surface of the holding plate A is surface-supported by the chuck portion 10, the bending is prevented, and the electrode width does not vary. Note that the chip component B may be pressed a plurality of times into the dip tank 7 in order to increase the accuracy of the electrode width.

【0017】また、電極ペーストの種類を変更する場合
には、係合片39を受け溝41から外し、かつディップ
槽7の底面の取付穴34を装置本体1のピン35から外
せば、ディップ槽7を別の槽に簡単に取り替えることが
できる。つまり、ディップ槽7およびブレード22,2
3に付着したペーストを除去することなくペーストの種
類を変更できるので、取替時間を大幅に短縮できる。ま
た、ペーストの種類変更に際しディップ槽7とブレード
22,23は一体的に取り扱われるので、高い精度が要
求されるディップ槽7の底面とレベル出し用ブレード2
3との位置関係にずれが生じない。
When the type of electrode paste is changed, the engagement piece 39 is removed from the receiving groove 41 and the mounting hole 34 on the bottom surface of the dip tank 7 is removed from the pin 35 of the apparatus main body 1. 7 can be easily replaced with another tank. That is, the dip tank 7 and the blades 22 and 2
Since the type of paste can be changed without removing the paste attached to 3, the replacement time can be greatly reduced. Further, since the dip tank 7 and the blades 22 and 23 are integrally treated when changing the type of paste, the bottom surface of the dip tank 7 and the leveling blade 2 which require high accuracy are required.
There is no shift in the positional relationship with No. 3.

【0018】なお、上記実施例ではレベル出し用ブレー
ド23を昇降用シリンダ32で昇降させ、微調整をレベ
ル出し用モータ31で行うようにしたが、これに限るも
のではなく、例えばレベル出し用ブレード23を位置精
度の高いパルスモータ等で昇降させるようにすれば、微
調整用のモータ31は不要となる。
In the above embodiment, the leveling blade 23 is raised and lowered by the lifting cylinder 32, and the fine adjustment is performed by the leveling motor 31. However, the present invention is not limited to this. If the motor 23 is moved up and down by a pulse motor or the like having high positional accuracy, the motor 31 for fine adjustment becomes unnecessary.

【0019】図9,図10は本発明の他の実施例、特に
そのディップ槽部分を示す。この実施例では、第1実施
例と異なり、回収用ブレード64およびレベル出し用ブ
レード65を一定位置に設置し、ディップ槽50を移動
させてレベル出しを行うものである。ディップ槽50は
テーブル51上に設置された一対のスライドレール52
によって図9の紙面に垂直な方向にスライド自在に支持
されている。ディップ槽50の下側には、モータ53に
よりベルト54を介して駆動されるボールネジ55が水
平に配設されており、このボールネジ55に螺合するナ
ット56がディップ槽50の下面に固定されている。そ
のため、ボールネジ55を回転駆動することにより、デ
ィップ槽50は水平にスライド移動する。
FIGS. 9 and 10 show another embodiment of the present invention, particularly a dip tank portion. In this embodiment, unlike the first embodiment, the collecting blade 64 and the leveling blade 65 are installed at fixed positions, and the dip tank 50 is moved to perform leveling. The dip tank 50 includes a pair of slide rails 52 set on a table 51.
9 so as to be slidable in a direction perpendicular to the plane of FIG. A ball screw 55 driven by a motor 53 via a belt 54 is horizontally disposed below the dip tank 50, and a nut 56 screwed to the ball screw 55 is fixed to the lower surface of the dip tank 50. I have. Therefore, when the ball screw 55 is rotationally driven, the dip tank 50 slides horizontally.

【0020】テーブル51にはディップ槽50を跨ぐよ
うに門形のブレード支持枠体57が設置されており、こ
のブレード支持枠体57の内側には2本のブレード取付
棒58,59が夫々一対のガイドピン60,61によっ
て水平状態で昇降自在に取り付けられている。ガイドピ
ン60,61にはスプリング62,63が挿通され、ブ
レード取付棒58,59を常時上方へ付勢している。ブ
レード取付棒58,59の下面には上記回収用ブレード
64とレベル出し用ブレード65がそれぞれ固定されて
いる。
On the table 51, a gate-shaped blade support frame 57 is provided so as to straddle the dip tank 50. Inside the blade support frame 57, a pair of two blade mounting rods 58, 59 are provided. The guide pins 60 and 61 are mounted so as to be able to move up and down in a horizontal state. Springs 62 and 63 are inserted through the guide pins 60 and 61, and constantly urge the blade mounting bars 58 and 59 upward. The collecting blade 64 and the leveling blade 65 are fixed to the lower surfaces of the blade mounting rods 58 and 59, respectively.

【0021】上記ブレード支持枠体57の上面には一対
の回収用ブレード降下用シリンダ66が固定され、シリ
ンダ66のロッド66aが一方のブレード取付棒58の
上面に当接している。また、ブレード支持枠体57の上
面には、一対のレベル出し用ブレード降下用パルスモー
タ67がブラケット68を介して固定されており、パル
スモータ67によって駆動されるボールネジ69は昇降
部材70に螺合している。ボールネジ69はブラケット
68に取り付けられた軸受71によって回転自在に支持
されている。ブラケット68にはボールネジ69と平行
にガイドレール72が固定されており、昇降部材70は
ガイドレール72によって摺動自在に案内されている。
昇降部材70の一端部下面にはブレード支持枠体57を
摺動自在に貫通するプッシャ73が取り付けられてお
り、このプッシャ73の下端がブレード取付棒59の上
面に当接している。したがって、シリンダ66によって
回収用ブレード64を、パルスモータ67によってレベ
ル出し用ブレード65を夫々降下させることができる。
A pair of recovery blade lowering cylinders 66 are fixed to the upper surface of the blade support frame 57, and the rod 66 a of the cylinder 66 is in contact with the upper surface of one blade mounting rod 58. A pair of leveling blade lowering pulse motors 67 are fixed to the upper surface of the blade support frame 57 via brackets 68. A ball screw 69 driven by the pulse motors 67 is screwed to the elevating member 70. doing. The ball screw 69 is rotatably supported by a bearing 71 attached to a bracket 68. A guide rail 72 is fixed to the bracket 68 in parallel with the ball screw 69, and the elevating member 70 is slidably guided by the guide rail 72.
A pusher 73 slidably penetrating the blade support frame 57 is attached to the lower surface of one end of the elevating member 70, and the lower end of the pusher 73 contacts the upper surface of the blade mounting rod 59. Therefore, the collecting blade 64 can be lowered by the cylinder 66 and the leveling blade 65 can be lowered by the pulse motor 67.

【0022】ディップ槽50内に注入された電極ペース
トを一端側へ掻き集める際には、シリンダ66を作動さ
せて回収用ブレード64の下端のブレード片64aをデ
ィップ槽50の底面に押し付け、この状態のままモータ
53を駆動してディップ槽50をスライドさせればよ
い。また、掻き集めた電極ペーストを一定の膜厚に調節
するには、まずシリンダ66を解除してスプリング62
のばね力により回収用ブレード64を上昇させた後、パ
ルスモータ67によってレベル出し用ブレード65の下
端をディップ槽50の底面に近接する位置まで降下さ
せ、この状態でモータ53を駆動してディップ槽50を
逆方向にスライドさせればよい。
When the electrode paste injected into the dipping tank 50 is scraped to one end side, the cylinder 66 is operated to press the blade piece 64a at the lower end of the collecting blade 64 against the bottom surface of the dipping tank 50. What is necessary is just to drive the motor 53 and slide the dip tank 50 as it is. In order to adjust the scraped electrode paste to a constant film thickness, the cylinder 66 is first released and the spring 62 is released.
Then, the lower end of the leveling blade 65 is lowered by the pulse motor 67 to a position close to the bottom surface of the dip tank 50, and the motor 53 is driven in this state to drive the dip tank. What is necessary is just to slide 50 in the reverse direction.

【0023】[0023]

【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明に
よれば、まず回収用ブレードをディップ槽の底面に接触
させ、ディップ槽上の電極ペーストを一端側へ掻き集め
た後、レベル出し用ブレードをディップ槽の底面に近接
させ、電極ペーストを一定の膜厚に均すようにしたの
で、電極ペーストの掻き集め,レベル出し作業を自動化
できる。そのため、電極ペーストの膜厚調整が非常に簡
単となり、一定の膜厚に再現性よく調整できる。その結
果、チップ部品の端部に均質な電極塗布を行うことがで
きる。
As apparent from the above description, according to the present invention, first, the collecting blade is brought into contact with the bottom surface of the dipping tank, and the electrode paste on the dipping tank is scraped to one end side, and then the leveling is performed. The blade is brought close to the bottom of the dipping tank so that the electrode paste is leveled to a constant thickness, so that the scraping of the electrode paste and the leveling operation can be automated. Therefore, the thickness adjustment of the electrode paste becomes very easy, and the electrode thickness can be adjusted to a constant thickness with good reproducibility. As a result, uniform electrode application can be performed on the end of the chip component.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明にかかる電極塗布装置の概略正面図であ
る。
FIG. 1 is a schematic front view of an electrode coating device according to the present invention.

【図2】本発明で使用される保持プレートの斜視図であ
る。
FIG. 2 is a perspective view of a holding plate used in the present invention.

【図3】チップ部品を保持した保持プレートの断面図で
ある。
FIG. 3 is a sectional view of a holding plate holding a chip component.

【図4】ディップ槽およびブレード部の平面図である。FIG. 4 is a plan view of a dip tank and a blade section.

【図5】図4のV−V線断面図である。FIG. 5 is a sectional view taken along line VV of FIG. 4;

【図6】図5のVI−VI線断面図である。FIG. 6 is a sectional view taken along line VI-VI of FIG. 5;

【図7】電極ペーストをディップ槽に塗布する方法を示
す動作説明図である。
FIG. 7 is an operation explanatory view showing a method of applying an electrode paste to a dip tank.

【図8】電極ペーストをチップ部品に塗布する方法を示
す動作説明図である。
FIG. 8 is an operation explanatory view showing a method of applying an electrode paste to a chip component.

【図9】本発明の電極塗布装置の他の実施例の断面図で
ある。
FIG. 9 is a sectional view of another embodiment of the electrode coating apparatus of the present invention.

【図10】図9のX−X線断面図である。FIG. 10 is a sectional view taken along line XX of FIG. 9;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 装置本体 2 ディップヘッド部 7 ディップ槽 8 ブレード部 10 チャック部 12 チャック爪 21 ブレード支持枠体 22 回収用ブレード 23 レベル出し用ブレード 25 回収用ブレード昇降用シリンダ 31 レベル出し調整用モータ 32 支持板昇降用シリンダ A 保持プレート B チップ部品 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Apparatus main body 2 Dip head part 7 Dip tank 8 Blade part 10 Chuck part 12 Chuck claw 21 Blade support frame 22 Recovery blade 23 Leveling blade 25 Recovery blade elevating cylinder 31 Leveling adjustment motor 32 Support plate elevating Cylinder A Holding plate B Chip parts

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中川 忠洋 京都府長岡京市天神2丁目26番10号 株 式会社村田製作所内 (72)発明者 高橋 秋彦 京都府長岡京市天神2丁目26番10号 株 式会社村田製作所内 (56)参考文献 特開 昭64−50406(JP,A) 特開 平1−214008(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01G 13/00 H01C 17/28 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing from the front page (72) Inventor Tadahiro Nakagawa 2-26-10 Tenjin, Nagaokakyo-shi, Kyoto Stock Company Murata Manufacturing Co., Ltd. (72) Akihiko Takahashi 2-26-10 Tenjin, Nagaokakyo-city, Kyoto Prefecture Stock (56) References JP-A-64-50406 (JP, A) JP-A-1-214008 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) H01G 13 / 00 H01C 17/28

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】保持プレートの保持穴にチップ部品を下方
へ一部突出状態で保持し、ディップ槽の底面上に塗布さ
れた電極ペーストにチップ部品を押し付けることによ
り、チップ部品の端部に電極を塗布する電極塗布装置に
おいて、 ディップ槽の底面上の電極ペーストをディップ槽の一端
側へ掻き集めるための回収用ブレードと、 ディップ槽の一端側へ掻き集められた電極ペーストをデ
ィップ槽の他端側へ均しながら膜厚を一定に調整するレ
ベル出し用ブレードと、 回収用ブレードとレベル出し用ブレードとをディップ槽
に対して相対的に水平方向に往復移動させる駆動手段
と、 回収用ブレードをディップ槽の底面に接触した位置と上
方へ退避した位置との間で昇降させる第1昇降手段と、 レベル出し用ブレードをディップ槽の底面に近接した位
置と上方へ退避した位置との間で昇降させる第2昇降手
段とを備えたことを特徴とする電極塗布装置。
A chip part is held in a holding hole of a holding plate in a partially protruding state downward, and the chip part is pressed against an electrode paste applied on a bottom surface of a dipping tank, whereby an electrode is provided on an end of the chip part. In the electrode coating device for applying the electrode paste, a collecting blade for scraping the electrode paste on the bottom of the dipping tank to one end of the dipping tank, and the electrode paste scraped to one end of the dipping tank for the other end of the dipping tank A leveling blade that adjusts the film thickness to a constant level while smoothing, a driving unit that reciprocates the collecting blade and the leveling blade horizontally relative to the dipping tank, and dips the collecting blade. First lifting means for raising and lowering between a position in contact with the bottom of the tank and a position retracted upward, and a leveling blade close to the bottom of the dip tank Position and the electrode coating apparatus is characterized in that a second elevating means for elevating between a retracted position upward.
【請求項2】請求項1に記載の電極塗布装置において、 上記ディップ槽は一定位置に水平状態に設置され、ディ
ップ槽の両側部にはスライド手段が設けられ、 上記スライド手段に沿って移動自在でかつ上記駆動手段
によって往復駆動されるブレード支持枠体がディップ槽
を跨ぐように配置され、 ブレード支持枠体には、上記回収用ブレードおよびレベ
ル出し用ブレードが夫々第1昇降手段および第2昇降手
段を介して取り付けられていることを特徴とする電極塗
布装置。
2. The electrode coating apparatus according to claim 1, wherein the dipping tank is installed at a predetermined position in a horizontal state, and slide means are provided on both sides of the dipping tank, and are movable along the slide means. And a blade supporting frame reciprocally driven by the driving means is disposed so as to straddle the dip tank. The blade supporting frame includes the collecting blade and the leveling blade, respectively, the first elevating means and the second elevating means. An electrode coating device which is attached via means.
【請求項3】請求項1に記載の電極塗布装置において、 上記ディップ槽は水平に設置されたスライド手段に沿っ
て移動自在でかつ上記駆動手段によって往復駆動され、 上記回収用ブレードおよびレベル出し用ブレードは夫々
第1昇降手段および第2昇降手段を介して一定位置に設
置されたブレード支持枠体に取り付けられていることを
特徴とする電極塗布装置。
3. The electrode coating apparatus according to claim 1, wherein the dipping tank is movable along a horizontally installed sliding means and is reciprocally driven by the driving means, so that the collecting blade and the leveling-out means are provided. An electrode coating apparatus, wherein the blade is attached to a blade support frame provided at a predetermined position via a first elevating unit and a second elevating unit, respectively.
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