JP2872253B2 - Semiconductor integrated circuit device - Google Patents

Semiconductor integrated circuit device

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JP2872253B2
JP2872253B2 JP63298111A JP29811188A JP2872253B2 JP 2872253 B2 JP2872253 B2 JP 2872253B2 JP 63298111 A JP63298111 A JP 63298111A JP 29811188 A JP29811188 A JP 29811188A JP 2872253 B2 JP2872253 B2 JP 2872253B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、半導体集積回路装置に関するものである。Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device.

〔従来技術〕(Prior art)

短時間に少量で多品種の設計ができるマスタスライス
方式を採用する半導体集積回路装置の一つにケートアレ
イがある。ゲートアレイは、主に、CPU(central proce
ssing unit)のインターフェイスとして用いられる。ゲ
ートアレイは、論理領域に構成されたゲートに、周辺部
の入力バッファ回路を通して外部の信号を入力し、また
論理領域のゲートからの出力信号を前記周辺部の出力バ
ッファ回路を通して外部へ出力している。このように、
ゲートアレイを構成する半導体チップの周辺部には多く
の入力バッファ回路及び出力バッファ回路が設けられ
る。これら入力バッファ回路及び出力バッファ回路を構
成しているトランジスタへは電源電位Vcc例えば5Vを給
電し、また基準電位Vss例えば(接地電位)OVを給電し
なければならないが、これら電源電圧Vcc及び基準電圧V
ssは、前記入力バッファ回路及び出力バッファ回路上を
延在する電源電圧用配線又は基準電圧用配線によって給
電する。
One of the semiconductor integrated circuit devices adopting the master slice method that can design many kinds in a small amount in a short time is a gate array. Gate arrays are mainly CPU (central process)
ssing unit). The gate array inputs an external signal to a gate formed in a logic region through an input buffer circuit in a peripheral portion, and outputs an output signal from a gate in the logic region to the outside through an output buffer circuit in the peripheral portion. I have. in this way,
Many input buffer circuits and many output buffer circuits are provided in the peripheral portion of the semiconductor chip constituting the gate array. A power supply potential Vcc, for example, 5 V, and a reference potential Vss, for example, (ground potential) OV must be supplied to the transistors constituting the input buffer circuit and the output buffer circuit. V
ss is supplied by a power supply voltage wiring or a reference voltage wiring extending on the input buffer circuit and the output buffer circuit.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problems to be solved by the invention]

本発明者は、前記電源配線及び接地配線について検討
した結果、次の問題点を見出した。
As a result of studying the power supply wiring and the ground wiring, the present inventors have found the following problems.

前記入力バッファ回路及び出力バッファ回路の半導体
チップ上における配置は、ユーザの希望によって様々に
変る。この変更は、マスタウェーハに施す配線パターン
(配線形成工程のマスクパターン)の変更により行うこ
とができる。ほとんどの場合、不使用のバッファ回路が
存在する。一方、CPUが8ビット,16ビット等のようにパ
ラレル動作をするため、これに伴って、ゲートアレイの
出力バッファ回路の中にも、“H"レベルから“L"レベル
へ、“L"レベルから“H"レベルへ同時に切換わるものが
8個あるいは16個等のようにバイトの整数倍で存在す
る。このように、隣接する出力バッファ回路が多数同時
に切換ると、それらに接続している電源電圧用配線ある
いは基準電圧用配線の電位が大きく変動する。特に、基
準電圧用配線では、これに接続されている前記多数同時
に切換わる出力バッファが“H"レベルから“L"レベルへ
切換わると、同時に切換わる多数の出力バッファの負荷
容量に蓄積されていた電荷がディスチャージされ、過大
な電流が流れるため、基準電圧用配線の電位が上昇す
る。これにより、他のバッファ回路が誤動作を起し易く
なる。
The arrangement of the input buffer circuit and the output buffer circuit on the semiconductor chip varies depending on the user's desire. This change can be made by changing the wiring pattern (mask pattern in the wiring forming step) applied to the master wafer. In most cases, there are unused buffer circuits. On the other hand, since the CPU operates in parallel, such as 8 bits or 16 bits, the output buffer circuit of the gate array also changes from “H” level to “L” level to “L” level. There are switches which simultaneously switch from "H" level to "H" level, such as 8 or 16, which are integer multiples of bytes. As described above, when a large number of adjacent output buffer circuits are switched at the same time, the potential of the power supply voltage wiring or the reference voltage wiring connected thereto greatly fluctuates. In particular, in the case of the reference voltage wiring, when the large number of simultaneously switched output buffers are switched from the "H" level to the "L" level, they are accumulated in the load capacities of the multiple simultaneously switched output buffers. The discharged charge is discharged and an excessive current flows, so that the potential of the reference voltage wiring rises. As a result, other buffer circuits are likely to malfunction.

本発明の目的は、不使用のバッファ回路に対応するボ
ンディングパッドを有効利用することである。
An object of the present invention is to effectively use bonding pads corresponding to unused buffer circuits.

本発明の目的と新規な特徴は、本明細書の記述及び添
付図面によって明らかになるであろう。
The objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.

〔課題を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

本願において開示される発明のうち、代表的なものの
概要を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
The outline of a typical invention disclosed in the present application is briefly described as follows.

すなわち、半導体集積回路装置において、不使用のバ
ッファ回路に対応するボンディングパッドに、第1の電
位を供給する第1の電位供給配線を接続した。
That is, in the semiconductor integrated circuit device, the first potential supply line for supplying the first potential is connected to the bonding pad corresponding to the unused buffer circuit.

〔作 用〕(Operation)

上述した手段によれば、本来不使用であったボンディ
ングパッドを使用し、またこれを介して第1の電位を供
給することができる。
According to the above-described means, it is possible to use the bonding pad which was originally unused, and to supply the first potential via the bonding pad.

〔発明の実施例〕(Example of the invention)

本発明をマスタスライス方式を採用する半導体集積回
路装置に適用した実施例と共に説明する。
The present invention will be described together with an embodiment in which the present invention is applied to a semiconductor integrated circuit device employing a master slice system.

なお、全図において、同一の機能を有するものに同一
の符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。
In all of the drawings, components having the same function are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will not be repeated.

第1図は、本発明の実施例である半導体集積回路装置
の概略を示した平面図である。
FIG. 1 is a plan view schematically showing a semiconductor integrated circuit device according to an embodiment of the present invention.

第1図において、1は単結晶シリコンからなる半導体
基板であり、ゲートアレイ型の半導体集積回路装置を構
成する。半導体チップ1の周辺にはボンディングパッド
2,2A,2B,2Cが配置してある。ボンディングパッド2が入
力信号あるいは出力信号のためのものであり、ボンディ
ングパッド2A,2Bが基準電位例えばOV用のもの、ボンデ
ィングパッド2Cが電源電位例えば5V用のものである。ボ
ンディングパッド2,2A,2B,2Cより内側には、半導体集積
回路装置の入力バッファ回路あるいは出力バッファ回路
が構成されるI/O領域がある。このI/O領域によって囲ま
れている内側の領域が内部回路領域であり、例えば特願
昭60−146518号に開示されているように、例えば3つの
PチャネルMISFETが直列接続されたMISFET列と3つのN
チャネルMISFETが直列接続されたMISFET列からなるC−
MISFETで基本セル4Aを構成し、これを繰り返し配置して
基本セル列4を構成している。基本セル4Aの間及び基本
セル列4の間をアルミニウム配線によって接続して、種
々の論理ゲートやクロックバッファ等を構成する。I/O
領域上には、I/O領域の出力バッファ回路に基準電位例
えばOVを給電する基準電圧用配線5,5A及びそれより内側
に電源電位例えば5Vを給電する電源電圧用配線6が設け
てあり、さらに内部回路に基準電位を給電する基準電圧
用配線7及び電源電位を給電する電源電圧用配線8が延
在している。入力バッファ回路は、基準電圧用配線7及
び電源電圧用配線8から基準電位及び電源電位を給電さ
れる。これら基準電圧用配線5,5A,7,電源電圧用配線6,8
は、例えば第2層目のアルミニウム膜によって形成して
いる。また、例えば電源電圧用配線6,8と同一方向に延
在する補助用の電源電圧用配線(図示していない)を例
えば第3層目のアルミニウム膜によって形成してもよ
い。
In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a semiconductor substrate made of single-crystal silicon, which constitutes a gate array type semiconductor integrated circuit device. Bonding pads around the semiconductor chip 1
2,2A, 2B, 2C are arranged. The bonding pad 2 is for input signals or output signals, the bonding pads 2A and 2B are for reference potentials such as OV, and the bonding pads 2C are for power supply potentials such as 5V. Inside the bonding pads 2, 2A, 2B, and 2C, there are I / O regions in which an input buffer circuit or an output buffer circuit of the semiconductor integrated circuit device is formed. An inner area surrounded by the I / O area is an internal circuit area. For example, as disclosed in Japanese Patent Application No. 146518/1985, for example, a MISFET array in which three P-channel MISFETs are connected in series is provided. Three N
C- composed of a MISFET array in which channel MISFETs are connected in series
The basic cell 4A is composed of MISFETs, and these are repeatedly arranged to form the basic cell row 4. The basic cells 4A and the basic cell columns 4 are connected by aluminum wiring to form various logic gates, clock buffers, and the like. I / O
On the area, there are provided reference voltage wirings 5, 5A for supplying a reference potential, for example, OV to the output buffer circuit in the I / O area, and a power supply wiring 6, for supplying a power supply potential, for example, 5 V to the inside thereof, Further, a reference voltage wiring 7 for supplying a reference potential to the internal circuit and a power supply voltage wiring 8 for supplying a power supply potential extend. The input buffer circuit is supplied with the reference potential and the power supply potential from the reference voltage wiring 7 and the power supply voltage wiring 8. These reference voltage wires 5, 5A, 7, power supply voltage wires 6, 8
Is formed of, for example, a second-layer aluminum film. Further, for example, an auxiliary power supply voltage wiring (not shown) extending in the same direction as the power supply voltage wirings 6 and 8 may be formed of, for example, a third-layer aluminum film.

基準電圧用配線5Aは、多数の出力バッファ回路のう
ち、“H"レベルから“L"レベルへ及び“L"レベルから
“H"レベルへ同時に切換わる出力バッファ回路のために
専用に設けたものであり、同時に切換ることがない出力
バッファ回路及び入力バッファ回路は接続されていな
い。同時に切換る出力バッファ回路以外の出力バッファ
回路へは、基準電位用配線5Aとは別の基準電位用配線5
によって基準電位Vssを給電するようにしている。この
ように、同時に切換わる出力バッファ回路と、その他の
出力バッファ回路に基準電位を給電する基準電位用配線
を基準電位用配線5Aと、基準電位用配線5とに分けて設
けることにより、同時に切換る出力バッファ回路の出力
が、“H"レベルから“L"レベルへ切換るときのディスチ
ャージによって生じる基準電位用配線5Aの電位の上昇
が、前記同時に切換らない出力バッファ回路及び入力バ
ッファ回路に影響を与えないようにしている。
The reference voltage wiring 5A is provided exclusively for an output buffer circuit that simultaneously switches from “H” level to “L” level and from “L” level to “H” level among many output buffer circuits. The output buffer circuit and the input buffer circuit which are not switched at the same time are not connected. An output buffer circuit other than the output buffer circuit that is switched at the same time is connected to a reference potential wiring 5A different from the reference potential wiring 5A.
Supply the reference potential Vss. In this way, by simultaneously providing the output buffer circuit that switches simultaneously and the reference potential wiring that supplies the reference potential to the other output buffer circuits separately to the reference potential wiring 5A and the reference potential wiring 5, the switching is performed simultaneously. When the output of the output buffer circuit changes from "H" level to "L" level, the rise in the potential of the reference potential wiring 5A caused by the discharge affects the output buffer circuit and the input buffer circuit which do not switch at the same time. Not to give.

ここで、第2図に、同時に切換る出力バッファ回路を
模式的に示す。
Here, FIG. 2 schematically shows output buffer circuits that are simultaneously switched.

第2図において、3Aは、これと同時に切換る出力バッ
ファ回路が出力バッファ回路であり、基準電位を基準電
位用配線5で給電している。3B1〜3B8は同時に切換え動
作が行なわれる出力バッファ回路であり、基準電位を基
準電位用配線5Aによって給電している。3Cは、出力バッ
ファ回路3A,3B1〜3B8と同時に切換ることがない出力バ
ッファ回路であり、基準電位を基準電位用配線5によっ
て給電している。電源電位は、出力バッファ回路3A,3B1
〜3B8,3Cの全てに、同一の電源配線6によって給電して
いる。なお、同時に切換え動作がなされるものは、出力
バッファ回路3B1〜3B8の8個に限られたものではなく、
2個以上、例えば16個,24個,32個等ユーザの要望によっ
て様々に変る。
In FIG. 2, reference numeral 3A denotes an output buffer circuit which switches at the same time as the output buffer circuit, and supplies a reference potential via a reference potential wiring 5. 3B 1 ~3B 8 is an output buffer circuit switching operation is performed at the same time, it is powered by the reference potential wirings 5A to reference potential. 3C, the output buffer circuit 3A, 3B 1 the output buffer circuit is not ~3B 8 simultaneously Setsu換Ru, are powered by the reference potential wirings 5 and the reference potential. The power supply potential is the output buffer circuit 3A, 3B 1
33B 8 , 3C are all supplied by the same power supply wiring 6. Incidentally, at the same time that the switching operation is performed, not limited to the eight output buffer circuit 3B 1 ~3B 8,
Two or more, for example, 16, 24, 32, etc., vary depending on the user's request.

ここで、3Aは、これと同時に切換る出力バッファ回路
が、基準電位用配線の電位に影響を与えない程度、すな
わち2個〜3個程度あるものでもよい。
Here, 3A may be such that the number of output buffer circuits that are switched at the same time does not affect the potential of the reference potential wiring, that is, about two to three.

前記基準電圧用配線5,5A,電源電圧用配線6を等価的
に示すと第4図のように表すことができる。第3図は、
出力バッファの回路図である。なお第4図は、図面を簡
略化するため、出力バッファ回路を3A,3B1〜3B4,3Cのみ
示している。そして、これら出力バッファ回路3A,3B1
3B4,3Cが“H"レベルから“L"レベルへ変るときのタイム
チャートを第5図に示している。
The reference voltage wirings 5, 5A and the power supply voltage wiring 6 can be equivalently represented as shown in FIG. FIG.
FIG. 3 is a circuit diagram of an output buffer. Note Fig. 4, for simplification of the drawing shows an output buffer circuit 3A, 3B 1 ~3B 4, 3C only. Then, these output buffer circuits 3A, 3B 1 to
FIG. 5 shows a time chart when 3B 4 and 3C change from “H” level to “L” level.

第4図において、L1は電源電圧用配線6のインダクタ
ンスであり、同様に、L2は基準電圧用配線5Aの、L3は出
力バッファ回路3Aの方から基準電圧用配線5を見たとき
の、L4は出力バッファ回路3Cの方から基準電圧用配線5
を見たときのそれぞれのインダクタンスである。C0〜C5
はそれぞれ出力バッファ回路3A,3B1〜3B4,3Cが有する負
荷容量である。今、出力バッファ回路3A,3B1〜3B4の出
力が“H"レベルにあり、出力バッファ回路3Cの出力が
“L"レベルにあるとする。次に、出力バッファ回路3B1
〜3B4が同時に“H"レベルから“L"レベルに切換ると、
負荷容量C1〜C4に蓄積されていた電荷は、基準電圧用配
線5Aにディスチャージされる。このとき、基準電圧用配
線5AにインダクタンスL2があるため、第5図のように基
準電圧用配線5Aの電位VL2が上昇する。論理レベルのし
きい値は、1.4V程度の低い値に設定されているため、前
記のようにディスチャージによって上昇した電位がその
しきい値を上まわることがある。しかし、本願では、基
準電圧用配線5Aと、基準電圧用配線5を切り離している
ため、基準電圧用配線5Aの電位上昇により、“L"レベル
にある出力バッファ回路3Cの出力が反転してしまうこと
がない。一方、出力バッファ回路3B1〜3B4が“L"レベル
から“H"レベルへ立ち上がるときには、基準電圧用配線
6の電位がインダクタンスL1によって低下するが、電源
電位Vcc例えば5Vから論理のしきい値例えば1.4Vまでの
幅が大きいので、前記電位の低下がそのしきい値より低
くなることはない。そこで本願では、同一の電源電圧用
配線6で出力バッファ回路3A,3B1〜3B4(第2図では3B1
〜3B8),3C及び入力バッファ回路に電源電圧Vccを給電
している。
In Figure 4, L 1 is the inductance of the power supply voltage line 6, similarly, L 2 is the reference voltage wiring 5A, L 3 when viewed reference voltage line 5 from the side of the output buffer circuit 3A of, L 4 is a wiring reference voltage from the side of the output buffer circuit 3C 5
Are the respective inductances when looking at. C 0 -C 5
Is the load capacitance of each output buffer circuit 3A, 3B 1 ~3B 4, 3C has. Now, the output buffer circuit 3A, the output of the 3B 1 ~3B 4 is in the "H" level, the output of the output buffer circuit 3C is referred to as being "L" level. Next, the output buffer circuit 3B 1
When 3B 4 switches from “H” level to “L” level at the same time,
Load capacitance C 1 -C 4 charges accumulated in is discharged to the reference voltage wiring 5A. At this time, since the reference voltage wiring 5A is an inductance L 2, the potential V L2 of the reference voltage wiring 5A as in the fifth view is increased. Since the threshold value of the logic level is set to a low value of about 1.4 V, the potential increased by the discharge may exceed the threshold value as described above. However, in the present application, since the reference voltage wiring 5A is separated from the reference voltage wiring 5, the output of the output buffer circuit 3C at the “L” level is inverted due to the rise in the potential of the reference voltage wiring 5A. Nothing. On the other hand, the output when the buffer circuit 3B 1 ~3B 4 rises from the "L" level to the "H" level is, the potential of the reference voltage wiring 6 is reduced by the inductance L 1, logic threshold from the power supply potential Vcc example 5V Since the width up to a value of, for example, 1.4 V is large, the decrease in the potential does not fall below its threshold. In the present application therefore, 3B 1 in the output buffer circuit 3A, 3B 1 ~3B 4 (FIG. 2 with the same supply voltage wiring 6
~ 3B 8 ), 3C and the input buffer circuit are supplied with the power supply voltage Vcc.

なお、電源電位Vccから論理のしきい値までの幅があ
まり大きくない場合には、出力が同時に切換る出力バッ
ファ回路3B1〜3B4に電源電圧Vccを給電する電源電圧用
配線を他の出力バッファ回路3A,3C及び入力バッファ回
路に給電する電源電圧用配線から独立させてもよい。
The power supply in the case where the width of the up logic threshold is not so large from the potential Vcc, the output simultaneously Setsu換Ru output buffer circuit 3B 1 ~3B 4 to the supply voltage source voltage wiring other output to power the Vcc The power supply voltage wiring for supplying power to the buffer circuits 3A and 3C and the input buffer circuit may be independent.

基準電圧用配線5Aに対しては、基準電圧用配線5,7が
接続されているボンディングパッド2Bと別に、専用のボ
ンディングパッド2Aを設けている。電源電圧用配線6,8
は、同一のボンディングパッド2Cに接続させている。
For the reference voltage wiring 5A, a dedicated bonding pad 2A is provided separately from the bonding pad 2B to which the reference voltage wirings 5, 7 are connected. Power supply voltage wiring 6,8
Are connected to the same bonding pad 2C.

なお、同時に切換る出力バッファ回路の数が多くなる
と、“L"レベルから“H"レベルへ立上がるときの電源電
圧用配線6の電位の低下が大きくなるので、同時に切換
え動作がなされる出力バッファ回路の部分だけ切り離し
て設けるようにしてもよい。この同時に切換え動作がな
される出力バッファ回路の部分だけ切り離して設けた電
源電圧用配線6は、ボンディングパッド2Cと別に、電源
電位Vccを給電するための専用のボンディングパッド2
を設けるようにするのがよい。
When the number of output buffer circuits that are simultaneously switched increases, the potential of the power supply voltage wiring 6 decreases when rising from the “L” level to the “H” level. The circuit portion may be provided separately. The power supply voltage wiring 6, which is provided separately from only the portion of the output buffer circuit in which the switching operation is performed at the same time, is provided separately from the bonding pad 2C, with a dedicated bonding pad 2 for supplying the power supply potential Vcc.
Should be provided.

次に、前記基準電圧用配線5,5A,7,電源電圧用配線6,8
の配線設計について説明する。
Next, the reference voltage wirings 5, 5A, 7 and the power supply voltage wirings 6, 8
Will be described.

第6図及び第7図は、基準電圧用配線5,5A,7,電源電
圧用配線6,8の配線設計を説明するための図である。
6 and 7 are diagrams for explaining the wiring design of the reference voltage wirings 5, 5A, 7 and the power supply voltage wirings 6, 8. FIG.

基本セル4AI/Oセルの回路素子、即ち例えばMIS(Meta
l Insulator Semiconductor)型電界効果トランジスタ
(MISFET)や抵抗、1層目のアルミニウム配線は、固定
パターンとしてレイアウトされる。この1層目のアルミ
ニウム配線は、I/Oセル内の入出力回路を構成するため
の配線を含んでいる。第6図において、8X,7X,6X,5Xの
それぞれは、基準電圧用配線5,5A,7,電源電圧用配線6,8
のパターンを設計する上での例えば第2層目のアルミニ
ウム膜の固定パターンであり、構成されるバッファ回路
がどのようなものであるかに係らず、DA(Design Autom
ation)によってそれぞれのI/O領域に所定の間隔を持っ
てレイアウトされる。この固定パターン8Xと8Xの間、7X
と7Xの間、6Xと6Xの間、5Xと5Xの間のそれぞれに、すな
わち点線で示した部分に第2層目のアルミニウム膜から
なる接続パターンYを配置するかどうかによって第7図
に示しているように、基準電圧用配線5,5A,7,電源電圧
用配線6,8を設計する。この方法により、同時に切換る
出力バッファ回路のチップ1上における配置が、様々に
変化しても、それに対して、基準電圧用配線5A及び基準
電圧用配線5Aと基準電圧用配線5の切り離し部分を半導
体チップ1上のどこにでも配置することができる。な
お、基準電圧用配線5,5A,7,電源電圧用配線6,8の設計に
おいて、固定パターン8X−8X間,7X−7X間,6X−6X間,5X
−5X間のそれぞれを接続するか否かはユーザーの要求に
より決定され、この情報に基づいて、DAにより、接続パ
ターンYが配置されレイアウトされる。
Circuit elements of the basic cell 4AI / O cell, for example, MIS (Meta
l Insulator semiconductor field effect transistors (MISFETs), resistors, and first-layer aluminum wiring are laid out as fixed patterns. The first-layer aluminum wiring includes a wiring for forming an input / output circuit in the I / O cell. In FIG. 6, each of 8X, 7X, 6X, 5X is a reference voltage wire 5, 5A, 7, a power supply voltage wire 6, 8
Is a fixed pattern of, for example, the second layer of aluminum film in designing the pattern of the second pattern. Regardless of what kind of buffer circuit is configured, the DA (Design Automated
ation), layout is performed at a predetermined interval in each I / O area. 7X between this fixed pattern 8X and 8X
7 and 7X, between 6X and 6X, and between 5X and 5X, that is, in FIG. 7 depending on whether or not the connection pattern Y made of the second-layer aluminum film is arranged at the portion indicated by the dotted line. As described above, the reference voltage wirings 5, 5A, 7 and the power supply voltage wirings 6, 8 are designed. According to this method, even if the arrangement of the output buffer circuits to be switched simultaneously on the chip 1 is variously changed, the reference voltage wiring 5A and the separated portions of the reference voltage wiring 5A and the reference voltage wiring 5 are changed. It can be placed anywhere on the semiconductor chip 1. In the design of the reference voltage wirings 5, 5A and 7, and the power supply voltage wirings 6 and 8, the fixed patterns 8X-8X, 7X-7X, 6X-6X, 5X
Whether or not to connect between −5X is determined by the user's request, and based on this information, the connection pattern Y is arranged and laid out by the DA.

また、本実施例では基準電圧用配線7,電源電圧用配線
6,8に切り離し部分が必要ではないので、基準電圧用配
線7,電源電圧用配線6,8は固定パターン6X,7X,8Xと接続
パターンYで設計するのでなく、基準電圧用配線7,電源
電圧用配線6,8全体を固定パターンとしておいてもよ
い。
In this embodiment, the reference voltage wiring 7 and the power supply voltage wiring are used.
Since there is no need for a disconnection part in 6, 8, the reference voltage wiring 7 and the power supply voltage wiring 6, 8 are not designed with the fixed patterns 6X, 7X, 8X and the connection pattern Y, but the reference voltage wiring 7, power supply The entirety of the voltage wirings 6, 8 may be a fixed pattern.

次に、基準電圧用配線5Aに基準電圧を給電するための
ボンディングパッド2Aの設置について第8図において説
明する。ユーザーからの情報により出力バッファ回路3B
1〜3B8は出力レベルが同時に切換る出力バッファ回路で
あり、他の出力バッファ回路及び入力バッファ回路が接
続されている基準電圧用配線5とは切離された基準電圧
用配線5Aに接続される。各々の出力バッファ回路に対応
するボンディングパッドが設置され、各々対応する出力
バッファと接続されるようになっている。ユーザーから
の情報で3B1〜3B8の8個の出力バッファを専用の基準電
圧用配線5Aに接続する場合には、8+1個、すなわち出
力バッファ3B1〜3B′を専用の基準電圧用配線5Aに接続
するものとし、出力バッファ3B′に対応しているボンデ
ィングパッドを基準電圧用配線5Aに基準電圧を給電する
ためのパッド2Aとする。同時に切換る出力バッファ回路
の数が様々に変化しても、同時に切換る出力バッファ回
路数n+1個の出力バッファ回路を専用の基準電圧用配
線に接続するものとし、実質的には余分な出力バッファ
回路に対応するボンディングパッドを専用の基準電圧用
配線への基準電位給電用パッドとすることにより、給電
用のパッドを追加することなく、専用の基準電圧用配線
へ給電することができる。
Next, installation of the bonding pad 2A for supplying the reference voltage to the reference voltage wiring 5A will be described with reference to FIG. Output buffer circuit 3B according to information from user
1 to 3B 8 are output buffer circuits whose output levels are simultaneously switched, and are connected to a reference voltage wiring 5A separated from the reference voltage wiring 5 to which other output buffer circuits and input buffer circuits are connected. You. A bonding pad corresponding to each output buffer circuit is provided, and is connected to each corresponding output buffer. When connecting the eight output buffers 3B 1 ~3B 8 with information from the user to a dedicated reference voltage wiring. 5A, 8 + 1, i.e. the output buffer 3B 1 ~3B 'dedicated reference voltage wiring 5A The bonding pad corresponding to the output buffer 3B 'is a pad 2A for supplying a reference voltage to the reference voltage wiring 5A. Even if the number of output buffer circuits switched simultaneously changes variously, n + 1 output buffer circuits switched simultaneously are connected to a dedicated reference voltage wiring, and an extra output buffer is practically used. By using the bonding pad corresponding to the circuit as a reference potential power supply pad to the dedicated reference voltage wiring, power can be supplied to the dedicated reference voltage wiring without adding a power supply pad.

以上、本発明を実施例にもとづき具体的に説明した
が、本発明は、前記実施例に限定されるものではなく、
その要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能である
ことは言うまでもない。
As mentioned above, although the present invention was explained concretely based on an example, the present invention is not limited to the above-mentioned example.
It goes without saying that various changes can be made without departing from the scope of the invention.

例えば、第9図(a)に示すように、前記固定パター
ン6X,7X,8Xの間を接続するための接続パターンYは第3
層目のアルミニウム膜で形成するようにしてもよい。こ
の接続パターンYと、固定パターン6X,7X,8Xの接続部分
を便宜的に●で示している。又、この接続パターンYを
ワイヤに変えてもよい。又、第9図(b)に示すように
接続パターンYは、全ての固定パターン5Xと5Xの間,6X
と6Xの間,7Xと7Xの間,8Xと8Xの間に設けるようにし、接
続パターンYと、固定パターン5X,6X,7X,8Xとの間に接
続部分●を設けるか否かで、配線5,5A,6,7,8を設計する
ようにしてもよい。また、本実施例はゲートアレイに本
発明を適用した場合を一例として説明したが、特に限定
することなく、半導体基板上にRAM,ROM,ALU等のマクロ
セル及びスタンダードセルを搭載するように構成しても
よい。
For example, as shown in FIG. 9A, the connection pattern Y for connecting the fixed patterns 6X, 7X, 8X is the third pattern.
It may be formed by a layer of aluminum film. The connection between the connection pattern Y and the fixed patterns 6X, 7X, 8X is indicated by a circle for convenience. Further, the connection pattern Y may be changed to a wire. Further, as shown in FIG. 9 (b), the connection pattern Y is between all the fixed patterns 5X and 5X, 6X
And between 6X, 7X and 7X, between 8X and 8X, and whether or not to provide a connection portion ● between the connection pattern Y and the fixed pattern 5X, 6X, 7X, 8X, 5,5A, 6,7,8 may be designed. Further, in the present embodiment, the case where the present invention is applied to the gate array is described as an example.However, the present invention is not limited to this, and is configured such that macro cells and standard cells such as RAM, ROM, and ALU are mounted on a semiconductor substrate. You may.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

本願において開示される発明のうち代表的なものによ
って得られる効果を簡単に説明すれば、下記のとおりで
ある。
The effects obtained by the representative inventions among the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.

不使用のバッファ回路に対応するボンディングパッド
を有効活用できる。
The bonding pads corresponding to the unused buffer circuits can be effectively used.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は、半導体チップの平面の概略図、 第2図は、同時に切換る出力バッファ回路を模式的に示
した回路図、 第3図は出力バッファの回路図、 第4図は、基準電圧用配線,電源電圧用配線を等価的に
示した図、 第5図は、出力バッファ回路が“H"レベルから“L"レベ
ルへ変るときのタイムチャート、 第6〜第8図は、基準電圧用配線,電源電圧用配線の配
線設計を説明するための図、 第9図(a),(b)は、配線設計の変形例を示した図
である。 図中、1……半導体チップ、2,2A,2B,2C……ボンディン
グパッド、I/O……入力バッファ回路又は出力バッファ
回路が構成される領域、4……基本セル列、4A……基本
セル、5,5A,7……接地配線、6,8……電位配線、3A,3B1
〜3B8,3C……出力バッファ回路、5X,6X,7X,8X……固定
パターン、Y……接続パターン。
FIG. 1 is a schematic plan view of a semiconductor chip, FIG. 2 is a circuit diagram schematically showing output buffer circuits that are simultaneously switched, FIG. 3 is a circuit diagram of an output buffer, and FIG. FIG. 5 is a time chart when the output buffer circuit changes from the “H” level to the “L” level, and FIGS. 6 to 8 are the reference voltages. 9A and 9B are diagrams for explaining the wiring design of the wiring for power supply and the wiring for power supply voltage, and FIGS. 9A and 9B are diagrams showing a modification of the wiring design. In the drawing, 1... Semiconductor chip, 2, 2A, 2B, 2C... Bonding pad, I / O... Area where input buffer circuit or output buffer circuit is formed, 4... Basic cell row, 4A. Cell, 5,5A, 7 …… ground wiring, 6,8 …… potential wiring, 3A, 3B 1
33B 8 , 3C… output buffer circuit, 5X, 6X, 7X, 8X… fixed pattern, Y… connection pattern.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭59−161856(JP,A) 特開 昭62−169464(JP,A) 特開 昭63−202938(JP,A) ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of front page (56) References JP-A-59-161856 (JP, A) JP-A-62-169464 (JP, A) JP-A-63-202938 (JP, A)

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】トランジスタを有する内部回路と、 上記内部回路と信号を相互伝達する複数のバッファ回路
と、 上記複数のバッファ回路の各バッファ回路にそれぞれ対
応するボンディングパッドと、 上記複数のバッファ回路に第1の電位を供給する第1の
電位供給配線と、 上記複数のバッファ回路に第2の電位を供給する第2の
電位供給配線とを半導体基板上に具備してなる半導体集
積回路装置において、 不使用のバッファ回路に対応するボンディングパッド
と、上記第1の電位供給配線とを接続し、 上記複数のバッファ回路が同時に切換るバッファ回路群
に分けられ、該バッファ回路群毎に少なくとも一つのバ
ッファ回路を不使用とし、該不使用のバッファ回路に対
応するボンディングパッドと上記第1の電位供給配線と
を接続したことを特徴とする半導体集積回路装置。
An internal circuit having a transistor; a plurality of buffer circuits for transmitting signals to and from the internal circuit; bonding pads respectively corresponding to the buffer circuits of the plurality of buffer circuits; In a semiconductor integrated circuit device including a first potential supply line for supplying a first potential and a second potential supply line for supplying a second potential to the plurality of buffer circuits on a semiconductor substrate, A bonding pad corresponding to an unused buffer circuit is connected to the first potential supply wiring, and the plurality of buffer circuits are divided into buffer circuit groups that are simultaneously switched, and at least one buffer is provided for each of the buffer circuit groups. The circuit is not used, and the bonding pad corresponding to the unused buffer circuit is connected to the first potential supply wiring. The semiconductor integrated circuit device according to claim.
【請求項2】上記半導体集積回路装置がゲートアレイで
あることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の半導
体集積回路装置。
2. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein said semiconductor integrated circuit device is a gate array.
【請求項3】上記第1の電位が基準電位であり、第2の
電位が電源電位であることを特徴とする特許請求の範囲
第1項または第2項記載の半導体集積回路装置。
3. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein said first potential is a reference potential, and said second potential is a power supply potential.
【請求項4】上記複数のバッファ回路がそれぞれ出力バ
ッファ回路であることを特徴とする特許請求の範囲第1
項から第3項のいずれかに記載の半導体集積回路装置。
4. The method according to claim 1, wherein each of said plurality of buffer circuits is an output buffer circuit.
Item 4. The semiconductor integrated circuit device according to any one of Items 3 to 3.
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JPS59161856A (en) * 1983-03-04 1984-09-12 Nec Corp Integrated circuit device
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