JP2859299B2 - Torch for plasma processing - Google Patents

Torch for plasma processing

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JP2859299B2
JP2859299B2 JP1160511A JP16051189A JP2859299B2 JP 2859299 B2 JP2859299 B2 JP 2859299B2 JP 1160511 A JP1160511 A JP 1160511A JP 16051189 A JP16051189 A JP 16051189A JP 2859299 B2 JP2859299 B2 JP 2859299B2
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plasma processing
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忠志 服部
雅彦 崎田
猛 多井作
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大阪電気株式会社
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、プラズマアークにより、被加工物を加工す
るプラズマ加工用トーチに関するものである。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma processing torch for processing a workpiece by a plasma arc.

[従来の技術] 一般に、プラズマ加工用トーチは、チップのチップオ
リフィスより噴射させる作動ガスの雰囲気中で、電極と
被加工物との間に発生するプラズマアークにより、その
被加工物の切断,溶接,溶射などの加工に用いるもので
ある。
[Prior Art] Generally, a plasma processing torch is cut and welded by a plasma arc generated between an electrode and a workpiece in an atmosphere of a working gas injected from a tip orifice of the tip. , Used for processing such as thermal spraying.

第1図は、この種のプラズマ加工用トーチの一例を示
すものである。トーチヘッド1は、電極2,電極ホルダ3,
ガスディストリビュータ4,チップ5およびシールドカッ
プ6などより構成されている。そして、電極2と被加工
物7との間に適宜供給されるプラズマアーク電流によ
り、被加工物7を加工する。8は、その電極2と被加工
物7間に発生するプラズマアークである。
FIG. 1 shows an example of this type of plasma processing torch. The torch head 1 has an electrode 2, an electrode holder 3,
It is composed of a gas distributor 4, a chip 5, a shield cup 6, and the like. Then, the workpiece 7 is processed by a plasma arc current appropriately supplied between the electrode 2 and the workpiece 7. Reference numeral 8 denotes a plasma arc generated between the electrode 2 and the workpiece 7.

なお、5aは作動ガスGaを噴射させるチップオリフィス
であり、6aはチップ5とシールドカップ6間の冷却ガス
Gbの放出孔である。また2aは、電極2の先端部に装着さ
れた、ハフニウム,ジルコニウムなどの高融点の電極材
である。
5a is a tip orifice for injecting the working gas Ga, and 6a is a cooling gas between the tip 5 and the shield cup 6.
Gb emission hole. Reference numeral 2a denotes a high-melting-point electrode material such as hafnium or zirconium, which is attached to the tip of the electrode 2.

ところで、このプラズマ加工においては、電極2と被
加工物7との間には、プラズマアーク8を維持するため
の比較的高い電圧を印加している。プラズマアーク8発
生部分である、電極2の中心部分2aは高温にさらされ、
通常の銅または銅合金を電極部材として使用したので
は、消耗が激しく実用的でない。そのためこの部分に
は、一般的には、ハフニウムやジルコニウムなどの高融
点の電極材を使用し、前記問題を解決している。一方、
従来、プラズマアーク8を狭窄するチップ5のチップ材
として、銅製の部材を用いていたため、次のような不都
合が生じていた。第2図において、電極2から直接被加
工物7へ流れるべきプラズマアーク8が、チップ5を経
て流れる場合が多々あった。チップ5が、被加工物7に
接近しすぎたり、接触したような場合、プラズマアーク
8は、電極2からチップ5,被加工物7へと流れる、いわ
ゆるダブルアーク9が発生していた。前記ダブルアーク
9により、従来のプラズマ加工用トーチでは、チップ5
の消耗,溶損が激しく、場合によってはトーチヘッド1
をも損傷させる原因となっていた。
By the way, in this plasma processing, a relatively high voltage for maintaining the plasma arc 8 is applied between the electrode 2 and the workpiece 7. The central portion 2a of the electrode 2, which is the portion where the plasma arc 8 is generated, is exposed to high temperatures,
When ordinary copper or copper alloy is used as the electrode member, it is not practical because of heavy consumption. Therefore, in general, a high-melting-point electrode material such as hafnium or zirconium is used for this portion to solve the above problem. on the other hand,
Conventionally, a copper member has been used as a chip material of the chip 5 for narrowing the plasma arc 8, and thus the following inconvenience has occurred. In FIG. 2, the plasma arc 8, which should flow directly from the electrode 2 to the workpiece 7, often flows through the tip 5. When the tip 5 comes too close to or comes into contact with the workpiece 7, the plasma arc 8 generates a so-called double arc 9, which flows from the electrode 2 to the tip 5 and the workpiece 7. In the conventional plasma processing torch, the tip 5
Of the torch head 1
Was also causing damage.

従来、これらの問題に対しては、なるべく、そのよう
な状態が起こらないように、それぞれの加工を行う作業
者の注意に頼るほかはなかった。したがって、初心者に
は、作業をまかせるのはむつかしく、いきおい熟練者に
頼ることとなる。
Conventionally, these problems have had to rely on the attention of the operator who performs each processing to prevent such a situation from occurring. Therefore, it is difficult for a beginner to leave the work, and he must rely on a highly skilled person.

[発明が解決しようとする問題点] 本発明は、このような従来の問題点を解決して、作業
者の注意に頼ることなくダブルアークの発生を防止する
目的で完成された。現在市場に出回っているプラズマ加
工用トーチにはない、ダブルアークの発生を防ぎえるチ
ップを開発し、そのチップの長寿命化を図ることによ
り、この種プラズマ加工用トーチの耐久性を高めるとと
もに、チップ製作におけるランニングコストをも低減せ
しめ、この種プラズマ加工用トーチをいかに安価に大量
に供給出来るかにかかっている。
[Problems to be Solved by the Invention] The present invention has been completed for the purpose of solving such conventional problems and preventing the occurrence of a double arc without relying on the attention of an operator. The plasma processing torch currently on the market has a chip that prevents the occurrence of double arc, which has not been developed, and by extending the life of the chip, the durability of this type of plasma processing torch has been improved. The running cost in chip manufacturing is also reduced, and it depends on how much this kind of plasma processing torch can be supplied at a low cost.

[問題点を解決するための手段] そこで、上記問題を解決するための手段として、本発
明のプラズマ加工用トーチのチップの長寿命化には、プ
ラズマアークを拘束するチップに導電性セラミック材を
採用することとした。本発明のプラズマ加工用トーチ
は、プラズマアークを拘束するチップを、ホウ化ジルコ
ニウム,ホウ化ジルコニウムと窒化ホウ素の複合セラミ
ック材または炭化クロームからなる導電性セラミック材
により形成することにより、前記した問題点を解決する
ことにある。
[Means for Solving the Problems] Therefore, as a means for solving the above problems, to extend the life of the tip of the torch for plasma processing of the present invention, a conductive ceramic material is used for the tip for restraining the plasma arc. I decided to adopt it. The torch for plasma processing according to the present invention is characterized in that the tip for restraining the plasma arc is formed of zirconium boride, a composite ceramic material of zirconium boride and boron nitride, or a conductive ceramic material made of chromium carbide, thereby causing the above-described problems. Is to solve.

[作用] 本発明のプラズマ加工用トーチは、プラズマアークを
拘束するチップを、ホウ化ジルコニウム,ホウ化ジルコ
ニウムと窒化ホウ素の複合セラミック材または炭化クロ
ームからなる前記導電性セラミック材としたものである
から、電極チップを経由して被加工物へ流れるダブルア
ークの経由が、ほぼ遮断されることとなり、前記ダブル
アークの発生は著しく抑制される。
[Function] In the torch for plasma processing of the present invention, the tip for restraining the plasma arc is made of zirconium boride, a composite ceramic material of zirconium boride and boron nitride, or the conductive ceramic material made of chromium carbide. The passage of the double arc flowing to the workpiece via the electrode tip is substantially cut off, and the occurrence of the double arc is significantly suppressed.

[発明の実施例] 以下、本発明の実施例を図面に基づいてさらに詳細に
説明する。
Embodiments of the Invention Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to the drawings.

第3図は、本発明の一実施例であり、チップ材を銅製
の部材に代えて、ホウ代ジルコニウム,ホウ化ジルコニ
ウムと窒化ホウ素の複合セラミック材または炭化クロー
ムからなる導電性セラミック材のチップ15としたもので
ある。チップ15以外は従来例と同様であり、説明を一部
省略する。また、第1図のトーチヘッド1において、チ
ップ5を、15と読み代えて、第1図とともに本発明を説
明する。
FIG. 3 shows an embodiment of the present invention, in which the chip material is replaced with a copper member, and a chip 15 made of conductive ceramic material made of zirconium boride, a composite ceramic material of zirconium boride and boron nitride, or chromium carbide is used. It is what it was. The configuration other than the chip 15 is the same as that of the conventional example, and the description is partially omitted. Further, in the torch head 1 of FIG. 1, the present invention will be described with reference to FIG.

本発明のチップ15に用いる導電性セラミック材として
は、ホウ化ジエルコニウム,ホウ化ジエルコニウムと窒
化ホウ素の複合セラミックまたは炭化クロームである。
そして、これら材料の電気比抵抗値は、それぞれの材料
を選択することにより、銅製部材の約17倍から290倍と
任意に選択しうるものである。
The conductive ceramic material used for the chip 15 of the present invention is dierconium boride, a composite ceramic of dierconium boride and boron nitride, or chromium carbide.
The electrical resistivity of these materials can be arbitrarily selected from about 17 times to 290 times that of the copper member by selecting each material.

これらの選択については、材料のコスト,加工性など
を勘案して適宜選択すればよい。従って、これらの材料
の、いずれかの導電性セラミック材のチップを、音のブ
ラズマ加工用トーチに用いることにより、電極2と被加
工物7との間に、適宜供給されるプラズマアーク電流8
は、チップ15を経由して流れることは皆無となる。つま
り、第2図により説明したダブルアーク9の経路が、ほ
ぼ遮断されることとなり、その結果いわゆるダブルアー
クの発生を防止している。
These selections may be made as appropriate in consideration of the cost and workability of the material. Accordingly, by using any conductive ceramic chip of these materials for a torch for sound plasma processing, a plasma arc current 8 appropriately supplied between the electrode 2 and the workpiece 7 is obtained.
Will not flow through the chip 15 at all. That is, the path of the double arc 9 described with reference to FIG. 2 is substantially interrupted, and as a result, the occurrence of a so-called double arc is prevented.

一方プラズマ加工時に、被加工物から飛散するドロス
や、電極溶融物が、チップオリフィス5aに付着して、こ
れもダブルアーク9が発生する大きな要因となっていた
が、導電性セラミック材は、銅製の部材に比して、その
付着をも著しく軽減しうるものであり、この面からもダ
ブルアーク発生の要因を無くすものとなった。
On the other hand, during plasma processing, dross scattered from the workpiece and electrode melt adhere to the tip orifice 5a, which was also a major cause of the double arc 9, but the conductive ceramic material was made of copper. As compared with the above member, the adhesion can be remarkably reduced, and the factor of double arc generation is eliminated from this aspect as well.

[発明の効果] 以上のように、本発明によれば、プラズマ加工用トー
チにおいて、これに用いるチップの材料を、銅材に代え
て導電性セラミック材としたものであるから、電極から
チップを経由して、被加工物へと流れるダブルアークの
経路が、ほぼ遮断されることになる。また、被加工物か
ら飛散するドロスや、電極溶融物が、チップオリフィス
に付着することも著しく軽減しうるものである。これら
により、ダブルアークの発生は著しく抑制され皆無とな
り、チップの消耗,溶損、ひいてはプラズマ加工用トー
チの損傷の防止に、優れた効果を得るに至った。このこ
とは、ダブルアークが発生しないよう注意しながら加工
作業を行う必要もなくなり、熱練度の高い作業者でなく
とも、だれでも容易に作業が行えるようになった。
[Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, in the torch for plasma processing, the material of the chip used for the torch is a conductive ceramic material instead of the copper material. The path of the double arc that flows to the workpiece via the relay is almost interrupted. Further, the dross scattered from the workpiece and the electrode melt can be significantly reduced from adhering to the chip orifice. As a result, the occurrence of double arc is remarkably suppressed and eliminated, and an excellent effect can be obtained in preventing chip wear, melting and damage of the torch for plasma processing. This eliminates the necessity of performing the processing operation while paying attention to avoid the occurrence of the double arc, so that anyone can easily perform the operation even if the operator is not highly skilled.

さらには、これらの導電性セラミック材は、成形加工
が可能なため、大量生産されるこの種のチップにとって
は、ランニングコストの面からも大きな効果を奏しえ
た。
Furthermore, since these conductive ceramic materials can be formed, a large effect can be obtained from the viewpoint of running cost for this kind of chip to be mass-produced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は、本発明を適用しうるこの種のプラズマ加工用
トーチの要部断面図である。第2図は、従来例を説明す
るための要部断面図である。第3図は、本発明を説明す
るための要部断面図である。 1……トーチヘッド 2……電極 5……銅製のチップ(従来例) 6……シールドカップ 15……導電性セラミック製のチップ(本発明)
FIG. 1 is a sectional view of a main part of a plasma processing torch of this type to which the present invention can be applied. FIG. 2 is a sectional view of an essential part for explaining a conventional example. FIG. 3 is a sectional view of an essential part for explaining the present invention. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Torch head 2 ... Electrode 5 ... Copper chip (conventional example) 6 ... Shield cup 15 ... Conductive ceramic chip (this invention)

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H05H 1/34 B23K 10/00──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on front page (58) Field surveyed (Int. Cl. 6 , DB name) H05H 1/34 B23K 10/00

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】プラズマアーク電流を供給する電極と、電
極ホルダと、プラズマアークを拘束するチップと、プラ
ズマ作動ガスを供給するガスディストリビュータおよび
シールドカップを具えてなるプラズマ加工用トーチにお
いて、前記チップをホウ化ジルコニウム,ホウ化ジルコ
ニウムと窒化ホウ素の複合セラミックまたは炭化クロー
ムからなり、これらの部材の電気比抵抗値を銅製部材の
約17倍から290倍とする導電性セラミック材より形成し
たことを特徴とするプラズマ加工用トーチ。
1. A plasma processing torch comprising an electrode for supplying a plasma arc current, an electrode holder, a tip for restraining a plasma arc, a gas distributor for supplying a plasma working gas, and a shield cup, wherein the tip is provided with It is made of zirconium boride, a composite ceramic of zirconium boride and boron nitride, or chromium carbide, and is formed of a conductive ceramic material having an electrical resistivity of about 17 to 290 times that of a copper member. Torch for plasma processing.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6885990B1 (en) 1999-05-31 2005-04-26 Nippon Telegraph And Telephone Company Speech recognition based on interactive information retrieval scheme using dialogue control to reduce user stress

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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