JP2849294B2 - Method and apparatus for manufacturing plastic three-dimensional circuit board - Google Patents

Method and apparatus for manufacturing plastic three-dimensional circuit board

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JP2849294B2
JP2849294B2 JP30945492A JP30945492A JP2849294B2 JP 2849294 B2 JP2849294 B2 JP 2849294B2 JP 30945492 A JP30945492 A JP 30945492A JP 30945492 A JP30945492 A JP 30945492A JP 2849294 B2 JP2849294 B2 JP 2849294B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、表面に薄金属層の回路
パターンを持ったプラスチック製立体形状回路基板の製
造方法と、その方法を実施するための製造装置に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a plastic three-dimensional circuit board having a circuit pattern of a thin metal layer on the surface, and a manufacturing apparatus for implementing the method.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、レジスト形成法としては、成形型
を用いて回路基板形状のプラスチック体を作製した後に
スプレー法やディッピング法で液状レジストを塗布した
り、ドライフィルムを貼り付け、または無電解メッキ法
で成形品表面に薄金属層を形成した後に電着でレジスト
被覆を行う等の方法を採っている。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a method of forming a resist, a liquid resist is applied by a spraying method or a dipping method, a dry film is adhered, or an electroless film is formed after a plastic body having a circuit board shape is prepared using a molding die. A method of forming a thin metal layer on the surface of a molded article by plating and then coating the resist by electrodeposition is employed.

【0003】レジスト形成の後の回路パターン形成に
は、回路基板となる成形品形状に合致した形状を有する
立体形状のフォトリソマスクを別個に作製して、レジス
トを表面に形成した回路基板の成形品に密着させて露光
・パターニングを行っている。その従来技術としては、
例えば特開昭54−27367号公報,特開平1−29
8792号公報,特開平2−251959号公報に示さ
れる技術がある。
In the formation of a circuit pattern after the formation of a resist, a three-dimensional photolithographic mask having a shape conforming to the shape of a molded product to be a circuit substrate is separately manufactured, and a molded product of a circuit substrate having a resist formed on its surface is formed. And exposure and patterning. As the prior art,
For example, JP-A-54-27367, JP-A-1-29
There is a technique disclosed in JP-A-8792 and JP-A-2-251959.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来技
術では成形型による回路基板の成形と、レジストの成形
とを別々の工程で行っている。そのため、形成されたレ
ジストを成形品の立体形状に追従させることが困難であ
り、レジストの膜厚も不均一になりがちである。
However, in the prior art, the molding of the circuit board using the mold and the molding of the resist are performed in separate steps. Therefore, it is difficult to make the formed resist follow the three-dimensional shape of the molded product, and the thickness of the resist tends to be uneven.

【0005】また、従来技術では立体形状フォトリソマ
スクを回路基板となる成形品に密着させることが難し
い。そして、密着不良の場合、照射された光が回り込ん
で、回路が目的パターン通りに作製できなくなる。
In the prior art, it is difficult to bring a three-dimensional photolithographic mask into close contact with a molded product to be a circuit board. In the case of poor adhesion, the irradiated light goes around and the circuit cannot be manufactured according to the target pattern.

【0006】本発明は、上記の事情に鑑みてなされたも
ので、その目的とするところは、回路基板の成形,レジ
スト層の形成,パターニングを少ない工程数で行うこと
ができ、レジスト層を回路基板の立体形状に容易に追従
させることができ、露光パターニングによるパターン位
置精度およびパターン形成歩留りの向上を図ることがで
き、しかもレジスト層の厚さを薄くかつ均一に形成し得
るプラスチック製立体形状回路基板の製造方法を提供し
ようとするものである。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to form a circuit board, form a resist layer, and perform patterning in a small number of steps. A plastic three-dimensional circuit that can easily follow the three-dimensional shape of the substrate, improve pattern position accuracy and pattern formation yield by exposure patterning, and can form the resist layer thinly and uniformly. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a substrate.

【0007】さらに、本発明の他の目的は、前記製造方
法を確実に実施化し得るプラスチック製立体形状回路基
板の製造装置を提供しようとするものである。
Still another object of the present invention is to provide an apparatus for manufacturing a plastic three-dimensional circuit board capable of reliably implementing the manufacturing method.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明方法では成形型中で回路基板を成形した後、
同じ成形型内で、前記回路基板の回路形成面と、成形型
の型面間の微小すき間にレジスト液を注入し、回路基板
の回路形成面側にレジスト層を形成し、同じ成形型内
で、前記レジスト層に露光を施し、パターニングを行っ
た後、成形品である回路基板とレジスト層の一体化物を
成形型から取り出し、続いて回路パターン導電層を形成
するようにしている。
In order to achieve the above object, in the method of the present invention, after forming a circuit board in a mold,
In the same molding die, the circuit forming surface of the circuit board, a resist solution is injected into a small gap between the mold surfaces of the molding die, a resist layer is formed on the circuit forming surface side of the circuit substrate, and in the same molding die. After exposing and patterning the resist layer, an integrated product of the circuit board and the resist layer, which is a molded product, is taken out of a mold, and then a circuit pattern conductive layer is formed.

【0009】また、上記目的を達成するため、本発明方
法では前記成形型内で形成されたレジスト層の全部また
は一部を、同じ成形型内で硬化させた後、成形品である
回路基板とレジスト層の一体化物を成形型から取り出
し、続いてレジスト層を回路に対応したパターン状に残
してから、回路パターン導電層を形成するようにしてい
る。
In order to achieve the above object, according to the method of the present invention, all or a part of the resist layer formed in the molding die is cured in the same molding die, and then the molded circuit board is formed. An integrated product of the resist layer is taken out of the mold, and the resist layer is left in a pattern corresponding to the circuit, and then a circuit pattern conductive layer is formed.

【0010】さらに、上記目的を達成するため、本発明
装置では成形型と、少なくとも一方の面に回路パターン
に対応する光遮蔽体を有し、かつこの光遮蔽体をキャビ
ティ側に配して前記成形型に取り付けられた光透過性の
ガラス板と、前記成形型内で回路基板の回路形成面にレ
ジスト液を注入し、レジスト層を形成するレジスト液注
入手段と、成形型内で成形された回路基板の回路形成面
に形成されたレジスト層に、前記ガラス板を通して露光
を施し、回路パターンを形成するパターン形成手段とを
備えて構成している。
Further, in order to achieve the above object, the apparatus of the present invention has a molding die, and a light shield corresponding to a circuit pattern on at least one surface, and the light shield is arranged on the cavity side, and A light-transmitting glass plate attached to a mold, a resist solution injecting means for injecting a resist solution into a circuit forming surface of a circuit board in the mold, and forming a resist layer; The resist layer formed on the circuit formation surface of the circuit board is exposed through the glass plate to form a circuit pattern.

【0011】[0011]

【作用】本発明方法では、回路基板の成形と、この回路
基板の回路成形面へのレジスト層の形成と、露光による
パターニングとを同じ成形型を用い、しかも同じ型締め
中で行うようにしている。したがって、回路基板の成
形,レジスト層の形成,パターニングを少ない工程数で
行うことができるし、レジスト層を回路基板の立体形状
に容易に追従させることができるし、フォトリソマスク
である成形型とレジスト層とを密着させた状態で露光を
行い得るので、露光時の光の回り込みを防止できるた
め、露光パターニングによるパターン位置精度およびパ
ターン形成歩留りの向上を図ることができる。
According to the method of the present invention, the molding of a circuit board, the formation of a resist layer on the circuit molding surface of the circuit board, and the patterning by exposure are performed using the same molding die and in the same mold clamping. I have. Therefore, the formation of the circuit board, the formation of the resist layer, and the patterning can be performed in a small number of steps, the resist layer can easily follow the three-dimensional shape of the circuit board, and the mold and the resist, which are photolithographic masks, can be formed. Since exposure can be performed in a state in which the layer is in close contact with the layer, it is possible to prevent light from wrapping around at the time of exposure, so that pattern position accuracy and pattern formation yield by exposure patterning can be improved.

【0012】また、本発明方法では成形型中で回路基板
と成形型の型面間の微小すき間にレジスト液を注入し、
回路基板の回路形成面側にレジスト層を形成するように
している。その結果、成形型の圧力およびレジスト液注
入圧の制御により、レジスト層の膜厚を薄くかつ均一に
形成することが可能となり、ひいては回路線幅と回路線
間隔の小さい高性能回路を製造することができる。
Further, in the method of the present invention, a resist solution is injected into a minute gap between the circuit board and the mold surface of the mold in the mold,
A resist layer is formed on the circuit forming surface side of the circuit board. As a result, by controlling the pressure of the mold and the injection pressure of the resist solution, it is possible to form a thin and uniform resist layer, thereby producing a high-performance circuit having a small circuit line width and circuit line interval. Can be.

【0013】さらに、本発明方法では成形型内で形成さ
れたレジスト層の全部または一部を、同じ成形型内で硬
化させた後、成形型から取り出し、続いてレジスト層を
回路に対応したパターン状に残してから、回路パターン
導電層を形成するようにしているので、高精度の立体形
状回路基板を製造することができる。
Further, in the method of the present invention, all or a part of the resist layer formed in the mold is cured in the same mold, taken out of the mold, and then the resist layer is patterned into a pattern corresponding to the circuit. Since the circuit pattern conductive layer is formed after being left in the shape, a high-precision three-dimensional circuit board can be manufactured.

【0014】そして、本発明装置では成形型と、光透過
性のガラス板と、レジスト液注入手段と、パターン形成
手段とを備えている。しかして、前記成形型のキャビテ
イ内に溶融樹脂を注入し、冷却・固化させ、回路基板を
成形する。ついで、同じ成形型内で、回路基板の回路形
成面と、成形型の型面間の微小すき間に、レジスト液注
入手段によりレジスト液を注入する。このとき、レジス
ト液が回路基板の回路形成面の全面に行き渡るように注
入圧力を制御し、回路基板の回路形成面にレジスト層を
形成する。その後、パターン形成手段によりガラス板を
通して、成形型内で成形された回路基板の回路形成面に
形成されたレジスト層に、露光を施す。前記ガラス板に
は、少なくとも一方の面に回路パターンに対応する光遮
蔽体が設けられ、かつこの光遮蔽体をキャビティ側に配
して成形型に取り付けられている。その結果、前記ガラ
ス板を通してレジスト層に露光を施すことにより、成形
型におけるガラスが露出している個所に接しているレジ
スト層が露光により変化する。これにより、レジスト層
に回路パターンを形成することが可能となる。続いて、
成形型の型開きを行い、成形品である回路基板とレジス
ト層の一体化物を取り出す。ついで、取り出した成形品
を例えば洗浄して未硬化のレジストを除去し、レジスト
層の導電層形成部を露出させ、その露出された部分に回
路パターン導電層を形成する。したがって、本発明装置
によれば、前記本発明方法を確実に実施化することがで
きる。
The apparatus of the present invention includes a mold, a light-transmitting glass plate, a resist liquid injecting means, and a pattern forming means. Then, a molten resin is injected into the cavity of the mold, cooled and solidified to form a circuit board. Next, in the same mold, a resist solution is injected by a resist solution injecting means into a minute gap between the circuit forming surface of the circuit board and the mold surface of the mold. At this time, the injection pressure is controlled so that the resist solution spreads over the entire circuit forming surface of the circuit board, and a resist layer is formed on the circuit forming surface of the circuit board. Thereafter, the resist layer formed on the circuit forming surface of the circuit board formed in the mold is exposed through a glass plate by the pattern forming means. A light shield corresponding to a circuit pattern is provided on at least one surface of the glass plate, and the light shield is disposed on the cavity side and attached to a mold. As a result, by exposing the resist layer through the glass plate, the resist layer in contact with the exposed portion of the glass in the mold changes due to the exposure. This makes it possible to form a circuit pattern on the resist layer. continue,
The mold is opened, and the integrated product of the circuit board and the resist layer, which is a molded product, is taken out. Next, the removed molded article is washed, for example, to remove the uncured resist, exposing the conductive layer forming portion of the resist layer, and forming a circuit pattern conductive layer on the exposed portion. Therefore, according to the apparatus of the present invention, the method of the present invention can be reliably implemented.

【0015】[0015]

【実施例】以下、本発明を図面に基づいて説明する。図
1は本発明方法を実施するための製造装置の一例を示
し、図2はこの製造装置に取り付けられているガラス板
を示す。その図1に示す製造装置は、成形樹脂材料の射
出ユニット1と、下型締めプレート2と、上型締めプレ
ート3と、成形型5と、成形型5の温度調節機器(図示
せず)と、レジスト液注入手段と、パターン成形手段を
構成している紫外線光源灯14とを備え、この実施例で
は成形される回路基板の一方の面(上面)にのみ、回路
パターンを形成するようにしている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows an example of a manufacturing apparatus for carrying out the method of the present invention, and FIG. 2 shows a glass plate attached to the manufacturing apparatus. The manufacturing apparatus shown in FIG. 1 includes an injection unit 1 of a molding resin material, a lower mold clamping plate 2, an upper mold clamping plate 3, a molding die 5, and a temperature control device (not shown) for the molding die 5. And a UV light source lamp 14 constituting a pattern forming means. In this embodiment, a circuit pattern is formed only on one surface (upper surface) of a circuit board to be formed. I have.

【0016】前記上型締めプレート3には、型締め用の
油圧機4が連結されている。
A hydraulic machine 4 for mold clamping is connected to the upper mold clamping plate 3.

【0017】前記成形型5は、金属製のコア型6と、同
じく金属製のキャビティ型部7と、フォトリソマスクで
あるガラス板8と、これらの部材に囲まれて形成された
キャビティ10とを有して構成されている。前記ガラス
板8の一方の面には、図2に示すように、形成すべき回
路パターンに対応する光遮蔽体9が設けられている。こ
の光遮蔽体9は、ガラス板8の表面に、最終的に回路と
なるパターンと同じパターン状にエッチング処理で微小
深さの溝を作り、ついでガラス板8の表面にアルミニウ
ムを蒸着し、その後表面を研磨し、ガラス板8の表面と
アルミニウムの光遮蔽体9の表面とを同一平面に仕上
げ、前記溝にアルミニウムの光遮蔽体9を埋め込んだ構
造に形成される。そして、前記光遮蔽体9を有するガラ
ス板8は、図1に示すように、光遮蔽体9をキャビティ
10側に配して、つまり形成される回路基板の回路形成
面側に光遮蔽体9を向けて、キャビティ型部7に取り付
けられている。
The molding die 5 includes a metal core die 6, a metal cavity die 7, a glass plate 8 serving as a photolithographic mask, and a cavity 10 surrounded by these members. It is configured to have. As shown in FIG. 2, a light shield 9 corresponding to a circuit pattern to be formed is provided on one surface of the glass plate 8. The light shielding body 9 forms a groove having a minute depth by etching on the surface of the glass plate 8 in the same pattern as the pattern that will eventually become a circuit, and then deposits aluminum on the surface of the glass plate 8, The surface is polished, the surface of the glass plate 8 and the surface of the aluminum light shield 9 are finished to be flush with each other, and the aluminum light shield 9 is embedded in the groove. As shown in FIG. 1, the glass plate 8 having the light shield 9 is provided with the light shield 9 on the cavity 10 side, that is, on the circuit forming surface side of the formed circuit board. And is attached to the cavity mold part 7.

【0018】前記レジスト液注入手段は、図1に示すよ
うに、レジスト液注入機11と、レジスト液供給パイプ
12と、レジスト液注入口13とを有している。前記レ
ジスト液注入機11は、ピストンによりレジスト液を加
圧して送り込むようになっている。前記レジスト液注入
口13は、成形された回路基板の回路形成面と、ガラス
板8の光遮蔽体9が設けられている側の面との間の微小
すき間に、レジスト液を注入するようになっている。
As shown in FIG. 1, the resist liquid injection means has a resist liquid injector 11, a resist liquid supply pipe 12, and a resist liquid inlet 13. The resist liquid injector 11 is configured to pressurize and send the resist liquid by a piston. The resist liquid inlet 13 is provided so as to inject a resist liquid into a minute gap between the circuit forming surface of the molded circuit board and the surface of the glass plate 8 on which the light shield 9 is provided. Has become.

【0019】前記紫外線光源灯14は、ガラス板8にお
ける光遮蔽体9が設けられている側とは反対側に配置さ
れ、キャビティ型部7に取り付けられており、ガラス板
8を通してレジスト層に紫外線を照射するようになって
いる。
The ultraviolet light source lamp 14 is disposed on the side of the glass plate 8 opposite to the side on which the light shield 9 is provided, is attached to the cavity mold 7, and passes through the glass plate 8 to the resist layer. Is illuminated.

【0020】次に、図3〜図9は前記製造装置を用いて
実施する本発明方法の一例を工程順に示し、図10は完
成品を示す。これらの図に示す製造方法では、溶融樹脂
射出工程と、レジスト液注入工程と、紫外線照射・露光
パターニング工程と、成形品取り出し・洗浄工程と、非
レジスト部の粗面化工程と、レジスト層の剥離工程と、
回路パターン導電層の形成工程とを経てプラスチック製
立体形状回路基板を製造するようになっている。
Next, FIG. 3 to FIG. 9 show an example of the method of the present invention carried out by using the manufacturing apparatus in the order of steps, and FIG. 10 shows a finished product. In the manufacturing method shown in these figures, a molten resin injection step, a resist liquid injection step, an ultraviolet irradiation / exposure patterning step, a molded article removal / cleaning step, a non-resist part roughening step, and a resist layer A peeling step;
Through the step of forming a circuit pattern conductive layer, a plastic three-dimensional circuit board is manufactured.

【0021】(1):溶融樹脂射出工程 この工程では、図1に示す下型締めプレート2と、上型
締めプレート3と、油圧機4とにより成形型5の型締め
を行い、続いて図3に示すように、成形樹脂材料の射出
ユニット1から成形型5のキャビティ10内に溶融樹脂
を射出する。成形樹脂材料には、例えばミネラル充填の
ポリフェニレンスルファイド(PPS)熱可塑性樹脂を
用いる。ついで、前記キャビティ10内に射出された溶
融材料を温度調節機器(図示せず)により冷却・固化
し、回路基板15を成形する。
(1): Injection step of molten resin In this step, the molding die 5 is clamped by the lower clamping plate 2, the upper clamping plate 3 and the hydraulic machine 4 shown in FIG. As shown in FIG. 3, the molten resin is injected into the cavity 10 of the molding die 5 from the molding resin injection unit 1. As the molding resin material, for example, a mineral-filled polyphenylene sulfide (PPS) thermoplastic resin is used. Next, the molten material injected into the cavity 10 is cooled and solidified by a temperature control device (not shown) to form a circuit board 15.

【0022】(2):レジスト液注入工程 この工程では、回路基板15の成形後、同じ成形型5を
用い、かつ型締めしたままの状態で、図4に示すよう
に、回路基板15の回路形成面と成形型5の型面である
ガラス板8の光遮蔽体9が設けられている面間の微小す
き間16内にレジスト液17を注入する。このレジスト
液17には、露光部が硬化するネガティブ型のものを用
いている。また、前記レジスト液17の注入はレジスト
液供給パイプ12からレジスト液注入口13に供給し、
このレジスト液注入口13を通じて前記すき間16内に
注入し、レジスト液注入機11のピストンによりレジス
ト液17の注入圧力を制御し、前記すき間16内のレジ
スト液17が回路基板15の回路形成面の全面に均一な
厚さに行き渡るようにし、レジスト層18を形成する。
(2): Resist Liquid Injection Step In this step, after the circuit board 15 is formed, the same molding die 5 is used and the circuit board 15 is closed as shown in FIG. A resist solution 17 is injected into a minute gap 16 between the surface on which the light shield 9 of the glass plate 8 which is the mold surface of the mold 5 and the mold surface is provided. As the resist liquid 17, a negative type liquid in which an exposed portion is cured is used. Further, the resist liquid 17 is supplied from the resist liquid supply pipe 12 to the resist liquid inlet 13,
The resist solution is injected into the gap 16 through the resist solution inlet 13, and the injection pressure of the resist solution 17 is controlled by the piston of the resist solution injector 11, so that the resist solution 17 in the gap 16 is formed on the circuit forming surface of the circuit board 15. A resist layer 18 is formed so as to have a uniform thickness over the entire surface.

【0023】(3):紫外線照射・露光パターニング工
程 この工程では、同じ成形型5を用い、かつ型締めしたま
まの状態で、紫外線光源灯14に点灯し、図5から分か
るように、ガラス板8を通して回路基板15上のレジス
ト層18に紫外線を照射する。前述のごとく、ネガティ
ブ型のレジスト層18に紫外線を照射すると、図5に示
すように、ガラス板8の露出しているレジスト層18の
部分が硬化し、光遮蔽体9が設けられているレジスト層
18の部分は軟化状態を維持する。したがって、回路パ
ターンに対応する光遮蔽体9の作用により、レジスト層
18に回路パターンに対応するパターンの硬化部19が
形成される。
(3): Ultraviolet irradiation / exposure patterning step In this step, the same molding die 5 is used, and the ultraviolet light source lamp 14 is turned on while the mold is clamped, and as shown in FIG. 8, the resist layer 18 on the circuit board 15 is irradiated with ultraviolet rays. As described above, when the negative resist layer 18 is irradiated with ultraviolet rays, the exposed portion of the resist layer 18 of the glass plate 8 is hardened as shown in FIG. Portions of layer 18 remain softened. Therefore, the cured portion 19 of the pattern corresponding to the circuit pattern is formed on the resist layer 18 by the action of the light shield 9 corresponding to the circuit pattern.

【0024】(4):成形品取り出し・洗浄工程 この工程では、成形型5を型開きし、成形品である回路
基板15とレジスト層18の一体化物を取り出す。つい
で、取り出した成形品を洗浄し、図6に示すように、レ
ジスト層18の未硬化の部分を除去する。この洗浄によ
り、回路基板15における回路形成面の導電層形成部が
露出される。
(4) Mold Removal / Cleaning Step In this step, the mold 5 is opened, and the integrated product of the circuit board 15 and the resist layer 18 as a molded product is removed. Next, the removed molded article is washed, and the uncured portion of the resist layer 18 is removed as shown in FIG. By this cleaning, the conductive layer forming portion on the circuit forming surface of the circuit board 15 is exposed.

【0025】(5):非レジスト部の粗面化工程 この工程では、前述のごとく、レジスト層18の導電形
成部を露出したのち、回路基板15とレジスト層の硬化
部19の一体化物を、アルカリ性のエッチング液に浸漬
し、図7に示すように、回路基板15の導電層形成部を
粗面化する。この粗面化された導電層形成部を、図7に
符号20で示す。
(5) Step of Roughening Non-Resist Part In this step, as described above, after exposing the conductive part of the resist layer 18, the integrated product of the circuit board 15 and the cured part 19 of the resist layer is removed. The substrate is immersed in an alkaline etching solution to roughen the conductive layer forming portion of the circuit board 15 as shown in FIG. The roughened conductive layer forming portion is indicated by reference numeral 20 in FIG.

【0026】(6):レジスト層の剥離工程 この工程では、前記回路基板15の導電層形成部を粗面
化したのち、残っているレジスト層18の硬化部19を
剥離し、図8から分かるように除去する。
(6): Step of stripping the resist layer In this step, after the conductive layer forming portion of the circuit board 15 is roughened, the hardened portion 19 of the remaining resist layer 18 is stripped, as can be seen from FIG. To remove.

【0027】(7):回路パターン導電層の形成工程 この工程では、前述のごとく、回路基板15における粗
面化された導電層形成部20に表面活性化、核付け処理
および無電解メッキ処理を施すことにより、前記導電層
形成部20に図9に示すごとく、回路パターン導電層2
1を形成する。この実施例では、フルアディティブ工法
のため、無電解メッキ処理により、厚付けの回路パター
ン導電層21を形成している。なお、レジスト層18を
剥離した後の、粗面化されていない個所には、メッキ核
が付着しにくいため、無電解メッキによる金属析出の発
生が少ないうえに、たとえ金属析出があっても回路基板
15への密着力が極めて小さいため、無電解メッキ処理
後の洗浄処理による付着金属除去過程で除去される。
(7): Step of Forming Circuit Pattern Conductive Layer In this step, surface activation, nucleation and electroless plating are performed on the roughened conductive layer forming portion 20 of the circuit board 15 as described above. As a result, the circuit pattern conductive layer 2 is formed in the conductive layer forming portion 20 as shown in FIG.
Form one. In this embodiment, a thick circuit pattern conductive layer 21 is formed by electroless plating due to a full additive method. In addition, since plating nuclei do not easily adhere to unroughened parts after the resist layer 18 is peeled off, the occurrence of metal deposition by electroless plating is small, and even if there is metal deposition, circuit Since the adhesion to the substrate 15 is extremely small, it is removed in the process of removing the adhered metal by the cleaning process after the electroless plating process.

【0028】以上の(1)〜(7)の工程を経ることに
より、図10に示す完成品である回路基板15の回路形
成面に回路パターン導電層21を形成したプラスチック
製立体形状回路基板を製造することができる。
Through the above steps (1) to (7), a plastic three-dimensional circuit board having the circuit pattern conductive layer 21 formed on the circuit forming surface of the circuit board 15 as a completed product shown in FIG. Can be manufactured.

【0029】次に、本発明の他の色々な実施例について
説明する。
Next, various other embodiments of the present invention will be described.

【0030】(A):本発明では、回路基板15の表・
裏面の一方の面に回路パターン導電層21を形成する実
施例に限らず、回路基板15の表・裏両面に回路パター
ン導電層21を形成する、いわゆる両面基板にも適用で
きるし、必要により表・裏面のほかに回路基板15の端
面(垂直面)に回路パターン導電層21を形成する場合
にも適用できる。これら複数の面に回路パターン導電層
21を形成する場合には、回路基板15の回路形成面に
対応させて、光遮蔽体9を有するガラス板8、レジスト
液注入手段のレジスト液注入口13、回路パターン形成
手段の紫外線光源灯14等を配備するものとする。
(A): In the present invention, the surface of the circuit board 15
The present invention is not limited to the embodiment in which the circuit pattern conductive layer 21 is formed on one surface of the back surface, and can be applied to a so-called double-sided substrate in which the circuit pattern conductive layer 21 is formed on both front and back surfaces of the circuit board 15. The present invention can be applied to a case where the circuit pattern conductive layer 21 is formed on the end surface (vertical surface) of the circuit board 15 in addition to the back surface. When the circuit pattern conductive layer 21 is formed on the plurality of surfaces, the glass plate 8 having the light shield 9, the resist solution inlet 13 of the resist solution injecting means, It is assumed that an ultraviolet light source lamp 14 and the like as circuit pattern forming means are provided.

【0031】(B):ガラス板8に設ける光遮蔽体9を
形成する材料は、特に限定されないが、金属を用いれ
ば、光遮蔽体9の厚さを薄くして光の遮断性を大きくす
ることができるため有利である。
(B): The material for forming the light shield 9 provided on the glass plate 8 is not particularly limited. However, if metal is used, the thickness of the light shield 9 is reduced to increase the light blocking property. This is advantageous because it can be performed.

【0032】(C):前記レジスト液注入口13は、回
路基板15の一つの回路形成面に対して1個宛設けるも
のに限らず、複数個設けてもよい。
(C): The number of the resist liquid inlets 13 is not limited to one for one circuit formation surface of the circuit board 15 but may be plural.

【0033】(D):前記レジスト層18は、回路基板
15における回路形成面の全面に形成するものに限ら
ず、回路パターンに対応する部分にレジスト層18の硬
化部19を形成すれば足りるので、回路基板18の回路
形成面に部分的に形成してもよい。
(D): The resist layer 18 is not limited to the one formed on the entire surface of the circuit board 15 on which the circuit is formed, and it is sufficient to form the cured portion 19 of the resist layer 18 in a portion corresponding to the circuit pattern. May be partially formed on the circuit forming surface of the circuit board 18.

【0034】(E):レジスト液としては、露光部が硬
化するネガティブ型のものと、露光部が可溶化するポジ
ティブ型のもののどちらでも使用できるが、スルホール
を形成する場合には、スルホール部の露光の必要のない
ネガティブ型の方が有利である。
(E): As the resist liquid, either a negative type in which the exposed part is cured or a positive type in which the exposed part is solubilized can be used. Negative types that do not require exposure are more advantageous.

【0035】(F):レジスト層18の露光に用いる光
源には、紫外線光源灯14に限らず、可視線やレーザ光
を発生する光源を用いることができる。
(F): The light source used for exposing the resist layer 18 is not limited to the ultraviolet light source lamp 14, and a light source that generates visible light or laser light can be used.

【0036】[0036]

【発明の効果】以上のように、本発明方法では成形型中
で回路基板を成形した後、同じ成形型内で、前記回路基
板の回路形成面と、成形型の型面間の微小すき間にレジ
スト液を注入し、回路基板の回路形成面側にレジスト層
を形成し、同じ成形型内で、前記レジスト層に露光を施
し、パターニングを行った後、成形品である回路基板と
レジスト層の一体化物を成形型から取り出し、続いて回
路パターン導電層を形成するようにしているので、成形
型の圧力およびレジスト液注入圧の制御により、レジス
ト層の膜厚を薄く、例えば15μm以下に抑えることが
でき、しかも膜厚を均一に形成することが可能となり、
ひいては回路線幅を例えば100μmと小さく、かつ回
路線間隔の小さい、つまり回路パターンピッチの小さい
高性能回路を持った立体形状回路基板を製造し得る効果
がある。
As described above, according to the method of the present invention, after a circuit board is formed in a molding die, a small gap between the circuit forming surface of the circuit board and the die surface of the molding die is formed in the same molding die. After injecting a resist solution, forming a resist layer on the circuit forming surface side of the circuit board, exposing the resist layer to light in the same mold, and performing patterning. The integrated product is taken out of the mold, and subsequently the circuit pattern conductive layer is formed. Therefore, by controlling the pressure of the mold and the injection pressure of the resist solution, the thickness of the resist layer is reduced to, for example, 15 μm or less. Can be formed, and the film thickness can be formed uniformly.
As a result, there is an effect that a three-dimensional circuit board having a high-performance circuit having a small circuit line width of, for example, 100 μm and a small circuit line interval, that is, a small circuit pattern pitch can be produced.

【0037】また、本発明方法では成形型内で形成され
たレジスト層の全部または一部を、同じ成形型内で硬化
させた後、成形型から取り出し、続いてレジスト層を回
路に対応したパターン状に残してから、回路パターン導
電層を形成するようにしているので、高精度の立体形状
回路基板を製造し得る効果がある。
Further, in the method of the present invention, all or a part of the resist layer formed in the mold is cured in the same mold, taken out of the mold, and then the resist layer is patterned into a pattern corresponding to the circuit. Since the circuit pattern conductive layer is formed after being left in the shape, there is an effect that a highly accurate three-dimensional circuit board can be manufactured.

【0038】さらに、本発明装置では成形型と、少なく
とも一方の面に回路パターンに対応する光遮蔽体を有
し、かつこの光遮蔽体をキャビティ側に配して前記成形
型に取り付けられた光透過性のガラス板と、前記成形型
内で回路基板の回路形成面にレジスト液を注入し、レジ
スト層を形成するレジスト液注入手段と、成形型内で成
形された回路基板の回路形成面に形成されたレジスト層
に、前記ガラス板を通して露光を施し、回路パターンを
形成するパターン形成手段とを備えて構成しているの
で、前記本発明方法を確実に実施化し得る効果がある。
Further, the apparatus of the present invention has a molding die and a light shield corresponding to a circuit pattern on at least one surface, and the light shield is disposed on the cavity side and is attached to the molding die. A transparent glass plate, a resist solution injecting means for injecting a resist solution into a circuit forming surface of a circuit board in the mold, and forming a resist layer, and a circuit forming surface of the circuit board molded in the mold. Since the formed resist layer is provided with pattern forming means for exposing the formed resist layer through the glass plate to form a circuit pattern, there is an effect that the method of the present invention can be surely implemented.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明方法を実施する製造装置の一例を示す縦
断面図である。
FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing an example of a manufacturing apparatus for performing a method of the present invention.

【図2】図1に示す製造装置に使用している光遮蔽体を
有するガラス板の一例を示す斜視図である。
FIG. 2 is a perspective view showing an example of a glass plate having a light shield used in the manufacturing apparatus shown in FIG.

【図3】本発明方法における溶融樹脂射出工程の説明図
である。
FIG. 3 is an explanatory view of a molten resin injection step in the method of the present invention.

【図4】図3に続くレジスト液注入工程の説明図であ
る。
FIG. 4 is an explanatory view of a resist liquid injecting step following FIG. 3;

【図5】図4に続く紫外線照射・露光パターニング工程
の説明図である。
FIG. 5 is an explanatory view of an ultraviolet irradiation / exposure patterning step following FIG. 4;

【図6】図5に続く成形品取り出し・洗浄工程の説明図
である。
FIG. 6 is an explanatory diagram of a molded article taking-out / cleaning step following FIG. 5;

【図7】図6に続く非レジスト部の粗面化工程の説明図
である。
FIG. 7 is an explanatory view of the step of roughening the non-resist part following FIG. 6;

【図8】図7に続くレジスト層の剥離工程の説明図であ
る。
FIG. 8 is an explanatory view of the resist layer removing step following FIG. 7;

【図9】図8に続く回路パターン導電層の形成工程の説
明図である。
FIG. 9 is an explanatory view of the step of forming the circuit pattern conductive layer following FIG. 8;

【図10】完成品であるプラスチック製立体形状回路基
板の斜視図である。
FIG. 10 is a perspective view of a completed plastic three-dimensional circuit board.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 成形樹脂材料の射出ユニット 2 下型締めプレート 3 上型締めプレート 5 成形型 6 成形型のコア型 7 成形型のキャビティ型部 8 ガラス板 9 光遮蔽体 10 キャビティ 11 レジスト液注入機 12 レジスト液供給パイプ 13 レジスト液注入口 14 紫外線光源灯 15 回路基板 16 回路基板の回路形成面と成形型の型面間の微小す
き間 17 レジスト液 18 レジスト層 19 レジスト層の硬化部 20 粗面化した導電層形成部 21 回路パターン導電層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Injection unit of molding resin material 2 Lower mold clamping plate 3 Upper mold clamping plate 5 Mold 6 Mold core 7 Mold cavity 8 Glass plate 9 Light shield 10 Cavity 11 Resist liquid injector 12 Resist liquid Supply pipe 13 Resist liquid inlet 14 Ultraviolet light source lamp 15 Circuit board 16 Micro gap between circuit forming surface of circuit board and mold surface of mold 17 Resist liquid 18 Resist layer 19 Hardened portion of resist layer 20 Roughened conductive layer Forming part 21 Circuit pattern conductive layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI // B29L 31:34 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI // B29L 31:34

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 成形型中で回路基板を成形した後、同じ
成形型内で、前記回路基板の回路形成面と、成形型の型
面間の微小すき間にレジスト液を注入し、回路基板の回
路形成面側にレジスト層を形成し、同じ成形型内で、前
記レジスト層に露光を施し、パターニングを行った後、
成形品である回路基板とレジスト層の一体化物を成形型
から取り出し、続いて回路パターン導電層を形成するこ
とを特徴とするプラスチック製立体形状回路基板の製造
方法。
After a circuit board is molded in a mold, a resist solution is injected into a small gap between a circuit forming surface of the circuit board and a mold surface of the mold in the same mold to form a circuit board. After forming a resist layer on the circuit forming surface side, in the same mold, exposed to the resist layer, after patterning,
A method for producing a plastic three-dimensional circuit board, comprising taking out a molded article of a circuit board and a resist layer from a mold and subsequently forming a circuit pattern conductive layer.
【請求項2】 前記成形型内で形成されたレジスト層の
全部または一部を、同じ成形型内で硬化させた後、成形
品である回路基板とレジスト層の一体化物を成形型から
取り出し、続いてレジスト層を回路に対応したパターン
状に残してから、回路パターン導電層を形成することを
特徴とする請求項1記載のプラスチック製立体形状回路
基板の製造方法。
2. After all or a part of the resist layer formed in the mold is cured in the same mold, an integrated product of the circuit board and the resist layer, which is a molded product, is taken out from the mold. 2. The method according to claim 1, wherein the circuit pattern conductive layer is formed after the resist layer is left in a pattern corresponding to the circuit.
【請求項3】 成形型と、少なくとも一方の面に回路パ
ターンに対応する光遮蔽体を有し、かつこの光遮蔽体を
キャビティ側に配して前記成形型に取り付けられた光透
過性のガラス板と、前記成形型内で回路基板の回路形成
面にレジスト液を注入し、レジスト層を形成するレジス
ト液注入手段と、成形型内で成形された回路基板の回路
形成面に形成されたレジスト層に、前記ガラス板を通し
て露光を施し、回路パターンを形成するパターン形成手
段とを備えていることを特徴とするプラスチック製立体
形状回路基板の製造装置。
3. A light-transmitting glass having a mold and a light shield corresponding to a circuit pattern on at least one surface, and the light shield is disposed on the cavity side and attached to the mold. A plate, a resist liquid injecting means for injecting a resist liquid into the circuit forming surface of the circuit board in the molding die to form a resist layer, and a resist formed on the circuit forming surface of the circuit substrate molded in the molding die Pattern forming means for exposing a layer to light through the glass plate to form a circuit pattern. A manufacturing apparatus for a plastic three-dimensional circuit board, comprising:
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