JP2847579B2 - レーザー焼結による３次元物体の製造装置 - Google Patents
レーザー焼結による３次元物体の製造装置Info
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- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C64/00—Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
- B29C64/10—Processes of additive manufacturing
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- B29C64/153—Processes of additive manufacturing using only solid materials using layers of powder being selectively joined, e.g. by selective laser sintering or melting
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Description
【発明の詳細な説明】 本発明は、請求項１の前文によるレーザー焼結により
３次元物体を製造する装置に関する。
３次元物体を製造する装置に関する。
この種の装置は、文献国際公開公報WO 92/08566号に
より公知である。この装置では、供給された粉末層が、
粉末層の上方に水平に配置された円環状のエネルギー放
射器によって加熱される。焼結用レーザービームが円環
状のエネルギー放射器の円形開口の内側表面を介して粉
末層上に向けられる。この装置は特に円形の作業領域に
とっては利点がある。
より公知である。この装置では、供給された粉末層が、
粉末層の上方に水平に配置された円環状のエネルギー放
射器によって加熱される。焼結用レーザービームが円環
状のエネルギー放射器の円形開口の内側表面を介して粉
末層上に向けられる。この装置は特に円形の作業領域に
とっては利点がある。
形成されるべき物体を層状に築造するための作業領
域、すなわち作業場が、円形の横断面よりむしろ長方形
かあるいは正方形の横断面を有する場合、円環状エネル
ギー放射器を利用するには制限がある。円環状エネルギ
ー放射器の直径は少なくとも長方形の作業領域の対角線
と等しくなければならない。したがって、特に、縦／横
比が1.5から２長方形の作業場に対して、円環状エネル
ギー放射器の直径を大きくせざるを得ないという欠点が
ある。粉末層の表面からエネルギー放射器までに距離が
必要なことと、レーザー焼結装置内へエネルギー放射器
を実装する必要性があることは相反したことである。両
者を妥協して解決すると、粉末層に非均一温度分布が生
じる。しかしながら、物体の高品質および工程の高い安
全性に鑑みて、粉末材料の均一温度、典型的にはその溶
解温度よりわずかに低い温度は必須である。
域、すなわち作業場が、円形の横断面よりむしろ長方形
かあるいは正方形の横断面を有する場合、円環状エネル
ギー放射器を利用するには制限がある。円環状エネルギ
ー放射器の直径は少なくとも長方形の作業領域の対角線
と等しくなければならない。したがって、特に、縦／横
比が1.5から２長方形の作業場に対して、円環状エネル
ギー放射器の直径を大きくせざるを得ないという欠点が
ある。粉末層の表面からエネルギー放射器までに距離が
必要なことと、レーザー焼結装置内へエネルギー放射器
を実装する必要性があることは相反したことである。両
者を妥協して解決すると、粉末層に非均一温度分布が生
じる。しかしながら、物体の高品質および工程の高い安
全性に鑑みて、粉末材料の均一温度、典型的にはその溶
解温度よりわずかに低い温度は必須である。
本発明の目的は、特に非円形作業領域を用いても、物
体の品質および工程の安全性を向上できるレーザー焼結
により３次元物体を製造する装置を提供することであ
る。
体の品質および工程の安全性を向上できるレーザー焼結
により３次元物体を製造する装置を提供することであ
る。
この目的は請求項１による装置によって達成される。
更なる展開は従属請求項に定義されている。
本発明の更なる特徴や利点は、実施例の説明から図面
を参照して明らかになるであろう。
を参照して明らかになるであろう。
図１は、本発明装置の側部横断面概略図である。
図２は、作業場上方のエネルギー放射加熱器の透視図
である。
である。
図３は、エネルギー放射加熱器の上面図を示す。
図４は、加熱されるべき粉末層の熱伝導特性の一例を
示す。
示す。
図１に示されるように、本装置は、周囲が密閉した長
方形あるいは正方形の輪郭の側壁２のみによって形成さ
れたタンク１を備えている。作業面30は側壁２即ちタン
ク１の上縁３により画定されている。上縁３と実質的に
水平かつ平行な上面５を有する支持台４が、形成される
べき物体６を支持するためにタンク１内に配置されてい
る。支持台４の上面５上には、上面５と平行に延在し電
磁放射により固化され得る粉末状の成形物質７からなる
複数の層によってさらに以下で説明される方法によって
形成される物体６がある。支持台４は、支持台と直角を
なす側壁２の輪郭に適合した正方形あるいは長方形の横
断面を有し、その全面積は側壁２の全開口よりわずかに
小さい。支持台４と側壁２との間の支持台の端に、成形
物質７の浸透を阻止する封止を行うために、周囲部シー
ルが設けられる。さらに、支持台４は垂直に、すなわち
タンク１の側壁２と平行な方向に、高さ調節装置９によ
って変位可能である。したがって、作業面30に対する支
持台４の位置を調節することが可能である。
方形あるいは正方形の輪郭の側壁２のみによって形成さ
れたタンク１を備えている。作業面30は側壁２即ちタン
ク１の上縁３により画定されている。上縁３と実質的に
水平かつ平行な上面５を有する支持台４が、形成される
べき物体６を支持するためにタンク１内に配置されてい
る。支持台４の上面５上には、上面５と平行に延在し電
磁放射により固化され得る粉末状の成形物質７からなる
複数の層によってさらに以下で説明される方法によって
形成される物体６がある。支持台４は、支持台と直角を
なす側壁２の輪郭に適合した正方形あるいは長方形の横
断面を有し、その全面積は側壁２の全開口よりわずかに
小さい。支持台４と側壁２との間の支持台の端に、成形
物質７の浸透を阻止する封止を行うために、周囲部シー
ルが設けられる。さらに、支持台４は垂直に、すなわち
タンク１の側壁２と平行な方向に、高さ調節装置９によ
って変位可能である。したがって、作業面30に対する支
持台４の位置を調節することが可能である。
上部開口および側壁100を有する成形物質７用の貯蔵
容器10がタンク１の側面に備えられている。タンク１の
側壁２と隣接した貯蔵容器10の側壁100の上縁11は、タ
ンク１の上縁３と同一平面である。貯蔵容器10は、タン
ク１と隣接する上縁11よりわずかに上のレベルまで粉末
状成形物質７で常に充填されている。このために、図１
には示されていないが、支持台４と同様のピストンある
いは変位可能な底部材が、貯蔵容器10内に垂直方向にス
ライド可能にぴったりと嵌め込まれている。
容器10がタンク１の側面に備えられている。タンク１の
側壁２と隣接した貯蔵容器10の側壁100の上縁11は、タ
ンク１の上縁３と同一平面である。貯蔵容器10は、タン
ク１と隣接する上縁11よりわずかに上のレベルまで粉末
状成形物質７で常に充填されている。このために、図１
には示されていないが、支持台４と同様のピストンある
いは変位可能な底部材が、貯蔵容器10内に垂直方向にス
ライド可能にぴったりと嵌め込まれている。
粉末状の成形物質７として、金属あるいはセラミック
粉末が用いられることが好ましい。更に、樹脂被覆金
属、セラミック粉末、あるいは樹脂被覆石英砂からなる
鋳物砂も用いることができる。
粉末が用いられることが好ましい。更に、樹脂被覆金
属、セラミック粉末、あるいは樹脂被覆石英砂からなる
鋳物砂も用いることができる。
塗工装置12がその下端を作業面30に位置させて、タン
ク１の上方即ち作業面30の上方に備えられ、支持台の上
面５もしくは製造中の物体６の先に形成された層へ成形
物質７を供給する。駆動装置13により、塗工装置12はタ
ンク１を横切りタンク１の上縁３に平行な方向に、貯蔵
容器10上の第１の位置から貯蔵容器10と反対側の第２の
位置へ、そしてまた逆方向へ、移動することができる。
ク１の上方即ち作業面30の上方に備えられ、支持台の上
面５もしくは製造中の物体６の先に形成された層へ成形
物質７を供給する。駆動装置13により、塗工装置12はタ
ンク１を横切りタンク１の上縁３に平行な方向に、貯蔵
容器10上の第１の位置から貯蔵容器10と反対側の第２の
位置へ、そしてまた逆方向へ、移動することができる。
作業面30に隣接した物体６の各最上層を固化するため
の固化装置14が、タンク１即ち作業面30の上方に備えら
れる。固化装置14は、収束光ビーム15を発生するレーザ
ーとしてのエネルギー放射源を有する。偏向鏡16がタン
ク１の上方のほぼ中央に配置される。偏向鏡はジンバル
上に吊され、鏡16上に向けられた光ビーム15を反射光ビ
ーム18として作業面13のどのポイントにも向けるよう
に、図式化して示された回転装置17によって回転され
る。
の固化装置14が、タンク１即ち作業面30の上方に備えら
れる。固化装置14は、収束光ビーム15を発生するレーザ
ーとしてのエネルギー放射源を有する。偏向鏡16がタン
ク１の上方のほぼ中央に配置される。偏向鏡はジンバル
上に吊され、鏡16上に向けられた光ビーム15を反射光ビ
ーム18として作業面13のどのポイントにも向けるよう
に、図式化して示された回転装置17によって回転され
る。
更に、図１には単に図式的に示された加熱装置８が、
タンク１あるいは作業面30上に配置されている。加熱装
置は少なくとも１個の垂直な管状のエネルギー放射ヒー
ター81を有し、作業面30からあらかじめ定められた距離
ｚだけ離されている。加熱装置８は、塗工装置12により
供給された粉末層をレーザービーム焼結に必要な予備温
度まで加熱する役目を果たす。
タンク１あるいは作業面30上に配置されている。加熱装
置は少なくとも１個の垂直な管状のエネルギー放射ヒー
ター81を有し、作業面30からあらかじめ定められた距離
ｚだけ離されている。加熱装置８は、塗工装置12により
供給された粉末層をレーザービーム焼結に必要な予備温
度まで加熱する役目を果たす。
加熱装置８の位置は較正によって決定される。作業面
30上のエネルギー放射ヒーター81の高度ｚおよび作業面
30に対するエネルギー放射ヒーター81の角度は手動で調
節される。エネルギー放射ヒーター81は、エネルギー放
射ヒーター81の加熱力を制御するための制御装置84に接
続されている。
30上のエネルギー放射ヒーター81の高度ｚおよび作業面
30に対するエネルギー放射ヒーター81の角度は手動で調
節される。エネルギー放射ヒーター81は、エネルギー放
射ヒーター81の加熱力を制御するための制御装置84に接
続されている。
高さ調節装置９、駆動装置13、および回転装置17は、
中央統御によってこれらの装置を統制する共通の制御ユ
ニット50に接続されている。制御ユニット50はコンピュ
ーターに接続されている。
中央統御によってこれらの装置を統制する共通の制御ユ
ニット50に接続されている。制御ユニット50はコンピュ
ーターに接続されている。
供給された粉末層は、図２に示されるように、タンク
やそのタンクにより画定される作業場の形状に適合した
方法で、好ましくは作業面30と平行な長方形あるいは正
方形の形状に配置された少なくとも２個、むしろ４個の
垂直なエネルギー放射ヒーター81によって加熱される。
エネルギー放射ヒーター81の個々の長さは、カバーすべ
き作業場の幅と実質的に一致している。粉末層とエネル
ギー放射ヒーターとの間の距離ｚは約220ミリメートル
であるが、この距離は境界条件にもとづいて、高さ調節
装置83により変えることができ、その結果、供給された
粉末層の上面で予め定められた温度が調節された熱流の
作用として得られる。
やそのタンクにより画定される作業場の形状に適合した
方法で、好ましくは作業面30と平行な長方形あるいは正
方形の形状に配置された少なくとも２個、むしろ４個の
垂直なエネルギー放射ヒーター81によって加熱される。
エネルギー放射ヒーター81の個々の長さは、カバーすべ
き作業場の幅と実質的に一致している。粉末層とエネル
ギー放射ヒーターとの間の距離ｚは約220ミリメートル
であるが、この距離は境界条件にもとづいて、高さ調節
装置83により変えることができ、その結果、供給された
粉末層の上面で予め定められた温度が調節された熱流の
作用として得られる。
各エネルギー放射ヒーター81は図３に示されるように
形成されている。エネルギー放射器は２個の溝86aおよ
び86bを備えた石英ガラス体85を有する。一方の溝には
連続したタングステン加熱コイル87がある。エネルギー
放射ヒーター81全体に渡って延在する加熱コイルを用い
る場合、エネルギー放射器の中央で放射力は最大とな
る。したがって、本発明のエネルギー放射ヒーター81
は、他方の溝に加熱コイルをコイル88aおよび88bと分離
して配置するように設計されている。分離コイル88aお
よび88bを用いることにより、連続コイル87の端部での
放射力の低下を補うことができる。エネルギー放射ヒー
ターの放射エネルギーの密度は上記エネルギー放射ヒー
ターの中央部よりその両端部において大きい。結果とし
て、エネルギー放射器81の長さに沿って一定の放射力が
得られる。さらに、分離コイル88aおよび88bにより、加
熱温度領域を作業場の幾何学的図形により良く適合させ
ることができる。
形成されている。エネルギー放射器は２個の溝86aおよ
び86bを備えた石英ガラス体85を有する。一方の溝には
連続したタングステン加熱コイル87がある。エネルギー
放射ヒーター81全体に渡って延在する加熱コイルを用い
る場合、エネルギー放射器の中央で放射力は最大とな
る。したがって、本発明のエネルギー放射ヒーター81
は、他方の溝に加熱コイルをコイル88aおよび88bと分離
して配置するように設計されている。分離コイル88aお
よび88bを用いることにより、連続コイル87の端部での
放射力の低下を補うことができる。エネルギー放射ヒー
ターの放射エネルギーの密度は上記エネルギー放射ヒー
ターの中央部よりその両端部において大きい。結果とし
て、エネルギー放射器81の長さに沿って一定の放射力が
得られる。さらに、分離コイル88aおよび88bにより、加
熱温度領域を作業場の幾何学的図形により良く適合させ
ることができる。
エネルギー放射ヒーターには赤外線放射器が用いられ
ることが好ましい。
ることが好ましい。
エネルギー放射ヒーター81は、作業領域の互いに対称
な線がエネルギー放射ヒーターの配置の互いに対称な線
と一致するように作業領域の上方に配置されている。す
なわち、正方形のエネルギー放射ヒーターの配置は正方
形の作業領域に用いられ、長方形のエネルギー放射ヒー
ターの配置は長方形の作業領域に用いられる。
な線がエネルギー放射ヒーターの配置の互いに対称な線
と一致するように作業領域の上方に配置されている。す
なわち、正方形のエネルギー放射ヒーターの配置は正方
形の作業領域に用いられ、長方形のエネルギー放射ヒー
ターの配置は長方形の作業領域に用いられる。
加熱装置８はさらに、粉末層あるいは作業台30上の予
め定められた位置に配置される高温計等の非接触温度セ
ンサーとしてのセンサー90を備えている。
め定められた位置に配置される高温計等の非接触温度セ
ンサーとしてのセンサー90を備えている。
制御装置84は、加熱力を制御するためのPID制御装置
あるいはPI制御装置等の工業用制御器を有している。
あるいはPI制御装置等の工業用制御器を有している。
ここに説明した装置の変更は可能である。用いるエネ
ルギー放射ヒーターは４個より多くても少なくてもよ
い。エネルギー放射ヒーターの数や配置は、作業領域１
の幾何学的図形に応じて、あるいは、製造されるべき物
体の寸法によって選択してもよい。また、エネルギー放
射ヒーターのすぐれた構成によって、エネルギー放射器
全長に渡り一定の放射強度が得られるという条件の下で
のみ、各単一のエネルギー放射ヒーターを、加熱コイル
あるいは分離加熱コイルを有する複数の溝を備えるよう
にすることも可能である。
ルギー放射ヒーターは４個より多くても少なくてもよ
い。エネルギー放射ヒーターの数や配置は、作業領域１
の幾何学的図形に応じて、あるいは、製造されるべき物
体の寸法によって選択してもよい。また、エネルギー放
射ヒーターのすぐれた構成によって、エネルギー放射器
全長に渡り一定の放射強度が得られるという条件の下で
のみ、各単一のエネルギー放射ヒーターを、加熱コイル
あるいは分離加熱コイルを有する複数の溝を備えるよう
にすることも可能である。
３次元物体を製造する際、まず、物体６の形状を限定
するデータが制御ユニット50に接続されたコンピュータ
ーに設計プログラムとともに生成される。これらのデー
タは、物体製造のために物体６を物体の寸法と比較して
薄い約0.1〜1mmの厚さを有する複数の水平な層に分割す
るように処理され、この層の形状データが得られる。
するデータが制御ユニット50に接続されたコンピュータ
ーに設計プログラムとともに生成される。これらのデー
タは、物体製造のために物体６を物体の寸法と比較して
薄い約0.1〜1mmの厚さを有する複数の水平な層に分割す
るように処理され、この層の形状データが得られる。
その後、下記の工程が各層に対して行われる。
第１の層のために支持台の上面５、あるいは、もし先
に固化された層がある場合は先に固化された層の上面
が、タンク１の縁３より所望の層厚ｈ分だけ下になるよ
うに、高さ調節装置９がタンク１内の支持台４の位置を
決定するために用いられる。次に、成形物質７の層が、
貯蔵容器10から塗工装置12によって、支持台４の上面上
あるいは先に形成された層上に供給される。この新しく
供給された粉末は貯蔵容器10からの冷たい粉末である。
この新しい粉末層は、その下にある層の過冷却を避ける
ために直ちに加熱されなければならない。エネルギー放
射ヒーター81から出射された放射熱は新しい粉末層の表
面のみを加熱するので、粉末層全体がこの層内の熱移動
により所望の温度に達するまでにある程度の時間を要す
る。エネルギー放射ヒーター81の加熱力はこの目的のた
めに制御される。図４に示されるように、制御パラメー
ターを決定するために制御される粉末床のシステムが調
査されている。システムの動的特性が記録されている
（図４）。制御されるシステムは、いわゆるPT1−要素
であり、それにより、予め定められた温度差Ｐが遅延時
間T1で得られる。ヒーターはPID制御器によって制御さ
れる。制御パラメーターはシステムの動的特性を基に公
知の方法で決定される。
に固化された層がある場合は先に固化された層の上面
が、タンク１の縁３より所望の層厚ｈ分だけ下になるよ
うに、高さ調節装置９がタンク１内の支持台４の位置を
決定するために用いられる。次に、成形物質７の層が、
貯蔵容器10から塗工装置12によって、支持台４の上面上
あるいは先に形成された層上に供給される。この新しく
供給された粉末は貯蔵容器10からの冷たい粉末である。
この新しい粉末層は、その下にある層の過冷却を避ける
ために直ちに加熱されなければならない。エネルギー放
射ヒーター81から出射された放射熱は新しい粉末層の表
面のみを加熱するので、粉末層全体がこの層内の熱移動
により所望の温度に達するまでにある程度の時間を要す
る。エネルギー放射ヒーター81の加熱力はこの目的のた
めに制御される。図４に示されるように、制御パラメー
ターを決定するために制御される粉末床のシステムが調
査されている。システムの動的特性が記録されている
（図４）。制御されるシステムは、いわゆるPT1−要素
であり、それにより、予め定められた温度差Ｐが遅延時
間T1で得られる。ヒーターはPID制御器によって制御さ
れる。制御パラメーターはシステムの動的特性を基に公
知の方法で決定される。
粉末層を加熱する際、短いサイクル時間によって制御
に最大の重点が生じる。これは、もし作業領域周囲のフ
レームおよび小さな加工品を作業領域に形成した場合で
ある。さらなる影響力のある要因は、センサーの感知領
域における粉末層の照度である。この照度によって温度
は基準温度をはるかに越えてしまう。これはすべて、加
熱力を制御することにより吸収される。
に最大の重点が生じる。これは、もし作業領域周囲のフ
レームおよび小さな加工品を作業領域に形成した場合で
ある。さらなる影響力のある要因は、センサーの感知領
域における粉末層の照度である。この照度によって温度
は基準温度をはるかに越えてしまう。これはすべて、加
熱力を制御することにより吸収される。
新たに供給された粉末層が焼結に必要な温度に達する
と、回転装置17が、その層の形状データの相関的要素と
して制御され偏向光ビーム18が物体６の横断面に相当す
るポイントでその層に当たり、そこで成形物質７を固化
し、あるいは焼結する。
と、回転装置17が、その層の形状データの相関的要素と
して制御され偏向光ビーム18が物体６の横断面に相当す
るポイントでその層に当たり、そこで成形物質７を固化
し、あるいは焼結する。
その後、支持台４は次の層の層厚分だけ降下される。
上記の工程は物体が完成するまで繰り返される。その後
すぐに、支持台４がタンクの外に移動され、物体が取り
出される。
上記の工程は物体が完成するまで繰り返される。その後
すぐに、支持台４がタンクの外に移動され、物体が取り
出される。
ここに説明した装置の特有の利点は、エネルギー放射
ヒーターの特別な設計および作業領域に対応したそのヒ
ーターの配置の故に、たとえ作業領域が円形でなくと
も、粉末層が均一に加熱され得ることである。さらに、
上記の制御により、新たに供給された粉末層がレーザー
ビームによって固化される際に必要な温度に常に保たれ
ることが確実となる。作業台30からエネルギー放射ヒー
ターまでの距離と作業台に対するエネルギー放射ヒータ
ーの角度を変化することができるので、作業領域の表面
上の温度を調節された加熱力の関数として選択すること
ができる。最後に、エネルギー放射ヒーターを、正方形
あるいは長方形の作業領域を有するレーザー焼結装置に
適当に取り付けることが可能である。
ヒーターの特別な設計および作業領域に対応したそのヒ
ーターの配置の故に、たとえ作業領域が円形でなくと
も、粉末層が均一に加熱され得ることである。さらに、
上記の制御により、新たに供給された粉末層がレーザー
ビームによって固化される際に必要な温度に常に保たれ
ることが確実となる。作業台30からエネルギー放射ヒー
ターまでの距離と作業台に対するエネルギー放射ヒータ
ーの角度を変化することができるので、作業領域の表面
上の温度を調節された加熱力の関数として選択すること
ができる。最後に、エネルギー放射ヒーターを、正方形
あるいは長方形の作業領域を有するレーザー焼結装置に
適当に取り付けることが可能である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特表 平１−502890（ＪＰ，Ａ) 特表 平７−501765（ＪＰ，Ａ) 米国特許5155321（ＵＳ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) B22F 3/105,7/02 - 7/04 B29C 67/04 B23K 26/00
Claims (15)
- 【請求項１】エネルギー放射（18）を用いて物体の各横
断面に相当する場所で固化可能な物質（７）の層を順次
連続して固化することにより３次元物体を製造する装置
であって、 製造される上記物体（６）を支持する支持台（４）と、 上記固化可能な物質（７）の層を上記支持台（４）ある
いは先に固化された層上に供給するための塗工装置（1
2）と、 上記物体の各横断面に相当する場所で上記物質（７）の
層を固化するための固化装置（14）と、 動作位置において上記支持台（４）上に配置され上記固
化可能な物質（７）を加熱するための加熱装置（８）と
を有する装置において、 上記加熱装置（８）は少なくとも１個の直線状のエネル
ギー放射ヒーター（81）を有し、これにより上記エネル
ギー放射ヒーター（81）の放射エネルギーの密度は上記
エネルギー放射ヒーターの中央部よりその両端部におい
て大きいことを特徴とする３次元物体の製造装置。 - 【請求項２】上記エネルギー放射ヒーター（81）はその
両端部にのみ備えられた２個の加熱抵抗器（88a,88b）
を有することを特徴とする請求項１に記載の装置。 - 【請求項３】上記エネルギー放射ヒーター（81）はその
全長に沿って延在する加熱抵抗器（87）を有することを
特徴とする請求項２に記載の装置。 - 【請求項４】上記エネルギー放射ヒーター（81）は各々
が対応する加熱コイル（87,88a,88b）を備えた２個の溝
（86a,86b）を有し、上記加熱コイルの一方（88a,88b）
は分離コイルであり他方は連続コイル（87）であること
を特徴とする請求項３に記載の装置。 - 【請求項５】上記支持台（４）の高度は調節可能であり
上記支持台（４）あるいは先に固化された層に供給され
た上記物質（７）の層は作業領域を画定することを特徴
とする請求項１乃至４のいずれかに記載の装置。 - 【請求項６】複数の上記エネルギー放射ヒーター（81）
が装備され、それにより上記エネルギー放射ヒーターは
密閉された多角形を形成するように配置されることを特
徴とする請求項１乃至５に記載の装置。 - 【請求項７】該作業領域は正方形であり、長さの等しい
４個の上記エネルギー放射ヒーター（81）が該作業領域
と予め定められた距離だけ離れて平行にかつ正方形の形
状に配置されていることを特徴とする請求項６に記載の
装置。 - 【請求項８】該作業領域は長方形であり、４個の上記エ
ネルギー放射ヒーター（81）が長方形の形状に配置さ
れ、各上記エネルギー放射ヒーターと該作業領域は限定
された距離だけ離れていることを特徴とする請求項６に
記載の装置。 - 【請求項９】上記加熱装置（８）と該作業領域の表面と
の距離は調節可能であることを特徴とする請求項１乃至
８のいずれかに記載の装置。 - 【請求項１０】上記エネルギー放射ヒーター（81）は赤
外線放射器として構成されることを特徴とする請求項１
乃至９のいずれかに記載の装置。 - 【請求項１１】上記加熱装置（８）用の制御装置（84）
および上記供給された物質の層の温度を検査するための
センサー（90）によって特徴づけられる請求項１乃至10
のいずれかに記載の装置。 - 【請求項１２】上記センサー（90）は非接触温度センサ
ーとして構成されていることを特徴とする請求項11に記
載の装置。 - 【請求項１３】上記制御装置（84）はPID制御器を有す
ることを特徴とする請求項11あるいは12に記載の装置。 - 【請求項１４】上記制御器（84）はPI制御器を有するこ
とを特徴とする請求項11あるいは12に記載の装置。 - 【請求項１５】上記作業領域に対する上記エネルギー放
射ヒーター（81）の角度は調節可能であることを特徴と
する請求項１乃至14のいずれかに記載の装置。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP19516972.7 | 1995-05-09 | ||
| DE19516972.7 | 1995-05-09 | ||
| EP95106972A EP0684465B1 (de) | 1994-05-27 | 1995-05-09 | Verfahren zur Raffung gemessener, mehraxialer Belastungszeitfunktionen, insbesondere für Schwingfestigkeitsuntersuchungen von Bauteilen |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09507882A JPH09507882A (ja) | 1997-08-12 |
| JP2847579B2 true JP2847579B2 (ja) | 1999-01-20 |
Family
ID=8219234
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8533690A Expired - Lifetime JP2847579B2 (ja) | 1995-05-09 | 1996-04-04 | レーザー焼結による３次元物体の製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2847579B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SE524420C2 (sv) * | 2002-12-19 | 2004-08-10 | Arcam Ab | Anordning samt metod för framställande av en tredimensionell produkt |
| DE102005022308B4 (de) * | 2005-05-13 | 2007-03-22 | Eos Gmbh Electro Optical Systems | Vorrichtung und Verfahren zum Herstellen eines dreidimensionalen Objekts mit einem beheizten Beschichter für pulverförmiges Aufbaumaterial |
| WO2014144319A1 (en) | 2013-03-15 | 2014-09-18 | 3D Systems, Inc. | Chute for laser sintering systems |
| JP6273578B2 (ja) * | 2014-03-31 | 2018-02-07 | 日本電子株式会社 | ３次元積層造形装置及び３次元積層造形方法 |
| CN111344092B (zh) * | 2017-10-31 | 2022-06-14 | 株式会社Ihi | 三维造型装置以及三维造型方法 |
-
1996
- 1996-04-04 JP JP8533690A patent/JP2847579B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH09507882A (ja) | 1997-08-12 |
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