JP2838538B2 - Printed wiring board - Google Patents

Printed wiring board

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JP2838538B2
JP2838538B2 JP1115544A JP11554489A JP2838538B2 JP 2838538 B2 JP2838538 B2 JP 2838538B2 JP 1115544 A JP1115544 A JP 1115544A JP 11554489 A JP11554489 A JP 11554489A JP 2838538 B2 JP2838538 B2 JP 2838538B2
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通 中井
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【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、液状インクを塗布、光照射、現像、硬化処
理してなるフォトソルダーレジスト被膜を形成したプリ
ント配線板に関する。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a printed wiring board having a photo solder resist film formed by applying, irradiating, developing, and curing a liquid ink.

〔従来技術〕(Prior art)

プリント配線板にあっては,その上に形成されている
回路導体を剥離や酸化から保護するために,回路導体の
表面にソルダーレジスト被膜を形成する必要がある。
In the case of a printed wiring board, it is necessary to form a solder resist film on the surface of the circuit conductor in order to protect the circuit conductor formed thereon from peeling or oxidation.

近年のプリント配線板にあっては,その小型軽量化及
び高性能化の要望のもとに,回路導体等の高密度化を達
成する必要がある。このため,上記ソルダーレジスト被
膜についても精度よく形成できるようにするため,フォ
トソルダーレジスト被膜を形成することが行われてい
る。
In recent years, printed wiring boards have been required to achieve higher densities of circuit conductors and the like in response to demands for smaller and lighter weight and higher performance. For this reason, in order to be able to form the above-mentioned solder resist film with high accuracy, a photo solder resist film is formed.

フォトソルダーレジスト被膜としては,ドライフィル
ムタイプ,液状タイプが市販されている。上記ドライフ
ィルムタイプの場合は,回路導体幅及びその間隔が狭く
なるにしたがい,その表面凹凸へのレジストの追従性に
問題があり,またコストが高い。そのため,最近は,液
状タイプのものが主流となっている。
As the photo solder resist film, a dry film type and a liquid type are commercially available. In the case of the above-mentioned dry film type, as the circuit conductor width and its interval become narrower, there is a problem in the ability of the resist to follow the surface irregularities and the cost is high. For this reason, recently, the liquid type has become the mainstream.

他方,プリント配線板にあっては,表面実装方式の普
及により,ボンディングパッドを有するもの,外部接続
用のコネクタ端子を有するものが多い。そして,これら
は接続信頼性を高めるため,フォトソルダーレジスト被
膜形成後,所望の回路導体部分(例えばボンディングパ
ッド部,コネクタ端子部)に,ニッケル−金めっき,錫
めっき,半田めっき等を施すことが要求される。
On the other hand, many printed wiring boards have bonding pads and connector terminals for external connection due to the spread of the surface mounting method. In order to enhance connection reliability, nickel-gold plating, tin plating, solder plating, etc. are applied to desired circuit conductors (for example, bonding pads, connector terminals) after forming a photo solder resist film. Required.

しかして,上記従来法におけるフォトソルダーレジス
ト被膜の形成は,第15図〜17B図に示す方法により行わ
れている。
Thus, the formation of the photo solder resist film in the conventional method is performed by the method shown in FIGS. 15 to 17B.

即ち,まず第16B図の下方に示すごとく,基材3上に
おいて,その左端部には回路導体としてのコネクタ端子
2を,中央付近には回路導体としてのパッド25を設けた
プリント配線板を準備する。そして,該基材3の上面に
液状フォトソルダーレジストインク90を全面塗布する。
First, as shown in the lower part of FIG. 16B, on the base material 3, a printed wiring board having a connector terminal 2 as a circuit conductor at its left end and a pad 25 as a circuit conductor near the center is prepared. I do. Then, the entire surface of the substrate 3 is coated with the liquid photo solder resist ink 90.

次いで,第16A図,第16B図に示すごとく,その上方に
露光用マスク8を配置し,紫外線58を照射し,上記イン
ク90の重合を行なう。該露光用マスク8は,コネクタ端
子2の上方の1部を覆う紫外線不透過部81,パッド25の
上方を覆う紫外線不透過部81を有し,その間に露光部84
を有する。
Next, as shown in FIGS. 16A and 16B, an exposure mask 8 is disposed above the exposed mask 8 and irradiated with ultraviolet rays 58 to polymerize the ink 90. The exposure mask 8 has an ultraviolet opaque portion 81 covering a portion above the connector terminal 2 and an ultraviolet opaque portion 81 covering above the pad 25.
Having.

その後,現像,熱硬化を行なうことにより,第17A
図,第17B図に示すごとく,フォトソルダーレジスト被
膜91を設けたプリント配線板を得る。即ち,コネクタ端
子2上の1部分には,フォトソルダーレジスト被膜91の
先端部911が被覆されている。また,パッド25の周囲
は,間隙912を置いて上記被膜91が形成されている。
After that, development and heat curing are performed to obtain the 17th A
As shown in FIG. 17 and FIG. 17B, a printed wiring board provided with a photo solder resist coating 91 is obtained. That is, one portion on the connector terminal 2 is covered with the tip 911 of the photo solder resist coating 91. The coating 91 is formed around the pad 25 with a gap 912 therebetween.

しかして,上記先端部911は,第15図に示すごとく,
コネクタ端子2の上方の一部分を被覆している。また,
コネクタ端子2は,上記先端部911の前方に,めっき膜
形成用の端部21を有し,該端部21には,めっき膜28が形
成される。
Thus, the tip 911 is, as shown in FIG.
The upper part of the connector terminal 2 is covered. Also,
The connector terminal 2 has an end 21 for forming a plating film in front of the tip 911, and a plating film 28 is formed on the end 21.

そして先端部911は,下方内方に向けて浸食された状
態に形成されている。それ故,先端部911と回復導体と
しのコネクタ端子2との接点であるめっきつきつけ部分
95は,アンダーカットされた状態にある。
The tip 911 is formed so as to be eroded downward and inward. Therefore, the plated part, which is the contact point between the tip 911 and the connector terminal 2 as the recovery conductor
95 is undercut.

〔解決しようとする課題〕[Problem to be solved]

しかしながら,液状タイプを用いて形成したフォトソ
ルダーレジスト被膜においては,回路導体の端部21に形
成するめっき膜とフォトソルダーレジスト被膜の先端部
911とが接触するめっきつきつけ部分95のめっき耐性が
乏しい。
However, in the case of the photo solder resist film formed using the liquid type, the plating film formed on the end portion 21 of the circuit conductor and the tip portion of the photo solder resist film are formed.
The plating resistance of the plating-attached portion 95 in contact with 911 is poor.

即ち,フォトソルダーレジスト被膜は基材及びその表
面の回路導体上に形成されるが,ここにフォトソルダー
レジスト被膜と基材とは両者が共に樹脂であるためその
密着性は強固である。しかし,回路導体とフォトソルダ
ーレジスト被膜とは異材料(金属と樹脂)であるため密
着性はそれ程強固でない。そのため,従来は,上記めっ
きつきつけ部分95において上記被膜と回路導体との間に
めっき膜形成時にめっき薬液が浸入し,両者間の密着性
を更に弱めるという問題がある。つまりめっき耐性が低
い。
That is, the photo solder resist film is formed on the substrate and the circuit conductor on the surface thereof, and since the photo solder resist film and the substrate are both resins, the adhesion is strong. However, since the circuit conductor and the photo solder resist film are different materials (metal and resin), the adhesion is not so strong. For this reason, conventionally, there is a problem that the plating solution penetrates between the coating and the circuit conductor at the plating-attached portion 95 between the coating and the circuit conductor when the plating film is formed, thereby further weakening the adhesion between the two. That is, the plating resistance is low.

その理由は,以下のごとくである。 The reasons are as follows.

すなわち,フォトソルダーレジスト被膜は,インクの
全面塗布,指触乾燥,マスクを通しての露光,現像,熱
硬化工程により形成される。しかして,フォトソルダー
レジスト被膜においては,現像工程後の被膜の先端部の
縦断面形状は第15図の状態となる。つまり,被膜の内部
(導体回路に近い方)がカットされたアンダーカット形
状をとる。更に,第15図のめっきつきつけ部分95におい
ては,回路導体とフォトソルダーレジスト被膜の密着性
は弱い。
That is, the photo solder resist film is formed by applying the entire surface of the ink, drying by touching, exposing through a mask, developing, and thermosetting. Thus, in the case of a photo solder resist film, the longitudinal cross-sectional shape of the tip portion of the film after the development process is as shown in FIG. In other words, the inside of the coating (the one closer to the conductor circuit) is cut into an undercut shape. Further, in the plated portion 95 in FIG. 15, the adhesion between the circuit conductor and the photo solder resist film is weak.

これは,液状フォトソルダーレジストインクは,光硬
化性である為,インクの光硬化は,はじめに紫外線が照
射される表層部にはじまり,順次内部に進んでいく。し
かし,一度光硬化した部分は,紫外線を通しにくいた
め,内部のインクの紫外線照射量は少なくなり,充分な
光硬化がなされないためである。その上,めっきつきつ
け部分95は,現像液の浸食を受けているからである。
This is because the liquid photo-solder resist ink is photo-curable, so that photo-curing of the ink starts at the surface layer where ultraviolet light is first applied, and proceeds sequentially inside. However, once the photocured portion is hard to pass ultraviolet rays, the amount of ultraviolet irradiation of the ink inside is reduced, and sufficient photocuring is not performed. In addition, the plated portion 95 is eroded by the developer.

以上のごとく,現像工程後の被膜の先端部において
は,アンダーカット形状及び弱い密着性という問題があ
る。
As described above, there is a problem of an undercut shape and weak adhesion at the leading end of the film after the development process.

また,現像液この被膜は,熱硬化工程により,液状フ
ォトソルダーレジストインクを構成する骨格樹脂(一般
的にはエポキシ樹脂)のTg点(100℃〜120℃)以上にて
加熱される。この時,第1に,インクを構成する樹脂の
熱膨張率と,回路導体を形成する金属のそれとは大きな
差がある。第2に,被膜の硬化ひずみ(内部応力)は,
第15図のめっきつきつけ部分95にかかる,そして,該め
っきつきつけ部分95に関しては,アンダーカット形状を
とっている為,単位面積当たりのインク量は,他の部分
にくらべて多い。そのため,大きなひずめがめっきつき
つけ部分95にかかることになる。以上2つの理由によ
り,熱硬化工程においては,フォトソルダーレジスト被
膜と回路導体との間で,数μmオーダーの微小な剥離を
生じる。
The developing solution is heated by a thermosetting process at a temperature higher than the Tg point (100 ° C. to 120 ° C.) of the skeleton resin (generally, epoxy resin) constituting the liquid photo solder resist ink. At this time, first, there is a large difference between the coefficient of thermal expansion of the resin forming the ink and that of the metal forming the circuit conductor. Second, the curing strain (internal stress) of the coating is
In FIG. 15, the undercut shape is applied to the plated portion 95 and the plated portion 95 has a larger amount of ink per unit area than the other portions. For this reason, large hooves are applied to the plating-attached portion 95. For the above two reasons, in the thermosetting step, minute peeling on the order of several μm occurs between the photo solder resist film and the circuit conductor.

それ故,硬化後の液状フォトソルダーレジスト被膜
は,電解めっき及び無電解めっきを行った場合,めっき
つきつけ部分において,既に発生している微小な剥離部
分から,めっき薬液が浸みこみ,該被膜と回路導体間の
密着性を致命的な広い範囲で低下させることとなる。
Therefore, when the liquid photo-solder resist film after curing is subjected to electrolytic plating and electroless plating, the plating solution penetrates from the minute peeling portion that has already occurred at the plating-attached part, and the film and the circuit Adhesion between conductors is reduced in a fatally wide range.

他方,上記被膜形成後のめっき耐性を向上させるた
め,インク中に密着向上剤を添加する試みが種々なされ
ている。
On the other hand, various attempts have been made to add an adhesion improver to the ink in order to improve the plating resistance after the formation of the film.

しかし,これら密着性向上剤は,それ自身が回路導体
と反応性が高く,現像時に完全に除去できない。さら
に,インクとの相溶性が悪く,インク中へ溶かし込まれ
るために,溶解力の強い溶剤を使う必要が有り,スクリ
ーン印刷版及びスキージゴムを劣化させる等の問題を発
生させる。
However, these adhesion improvers themselves have high reactivity with the circuit conductor and cannot be completely removed during development. Further, the ink has poor compatibility with the ink, and it is necessary to use a solvent having a strong dissolving power to be dissolved in the ink, which causes problems such as deterioration of the screen printing plate and the squeegee rubber.

以上詳述したごとく,液状タイプのフォトソルダーレ
ジスト被膜を用いる場合には,前記のごとき利点がある
反面,上記のごときめっき耐性上の諸問題がある。
As described in detail above, the use of a liquid type photo solder resist film has the above-mentioned advantages, but has the above-mentioned problems in plating resistance.

本発明はかかる従来の問題点に鑑み、めっきつきつけ
部分のめっき耐性に優れた、プリント配線板を提供しよ
うとするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and has as its object to provide a printed wiring board which is excellent in plating resistance at a portion where plating is applied.

[課題の解決手段] 本発明のプリント配線板は、基材表面の回路導体上
に、写真法に用いる液状ソルダーレジストである液状イ
ンクを塗布、光照射、現像、硬化処理してなるフォトソ
ルダーレジスト被膜を形成したプリント配線板におい
て、 前記フォトソルダーレジスト被膜は、前記液状インク
をめっき膜形成用の端部を除いた前記回路導体上に塗布
し、少なくとも当該端部に接する塗布被膜を光照射して
なる被膜であって、前記回路導体上で前記端部に向かっ
てその膜厚が漸次減少する傾斜状態を有することをその
構成の特長とするプリント配線板である。
[Means for Solving the Problems] A printed wiring board according to the present invention is a photo solder resist obtained by applying, irradiating, developing, and curing a liquid ink, which is a liquid solder resist used for a photographic method, on a circuit conductor on a substrate surface. In the printed wiring board on which the coating is formed, the photo solder resist coating is formed by applying the liquid ink on the circuit conductor excluding an end for forming a plating film, and irradiating at least the coating applied in contact with the end with light. A printed wiring board, characterized in that the coating has a slanting state in which the film thickness gradually decreases toward the end portion on the circuit conductor.

本発明のプリント配線板において最も注目すべきこと
は、写真法に用いる液状ソルダーレジストである液状イ
ンクをめっき膜形成用の端部を除いた回路導体上に印刷
し、少なくとも当該端部に接する印刷被膜を光照射する
ことで、その被膜の先端部が、前記回路導体におけるめ
っき膜形成用の端部に向かってその膜厚が漸次減少する
傾斜状態にあるフォトソルダーレジスト被膜を有するこ
とである。つまり、上記先端部と回路導体とが接触する
めっきつきつけ部分において,フォトソルダーレジスト
被膜の先端部が回路導体の表面に向かって傾斜しながら
その膜厚を小さくしていることである。先端部のかかる
形状は,フォトソルダーレジスト被膜用の液状インクを
塗布する際に形成しておく。
The most remarkable thing in the printed wiring board of the present invention is that a liquid ink, which is a liquid solder resist used for a photographic method, is printed on a circuit conductor excluding an end for forming a plating film, and is printed at least in contact with the end. By irradiating the coating with light, the tip of the coating has a photo solder resist coating in an inclined state in which the thickness gradually decreases toward the plating film forming end of the circuit conductor. In other words, the thickness of the photo solder resist coating is reduced while the tip of the photo solder resist film is inclined toward the surface of the circuit conductor at the portion where the tip contacts the circuit conductor. Such a shape of the tip portion is formed when the liquid ink for the photo solder resist film is applied.

この先端部の傾斜角度は回路導体の表面に対して30〜
80度とすることが好ましい。30度未満では,レジスト被
膜としての性能(耐熱性)が不充分である。一方,80度
を越えると照射光が上記被膜の先端部の下方(回路導体
に近い部分)まで充分に到達しないため,めっきつきつ
け部分のめっき耐性が低下するおそれがある。つまり,
印刷された液状インクの下方まで光が到達し難い。
The angle of inclination of this tip is 30 to
Preferably it is 80 degrees. If it is less than 30 degrees, the performance (heat resistance) as a resist film is insufficient. On the other hand, if the angle exceeds 80 degrees, the irradiation light does not sufficiently reach below the tip of the coating (a portion close to the circuit conductor), so that the plating resistance of the plating-attached portion may be reduced. That is,
Light is difficult to reach below the printed liquid ink.

次に,プリント配線板の製造方法としては,基板表面
の回路導体上にフォトソルダーレジスト被膜を形成し,
その後上記回路導体の端部にめっき膜を設ける,プリン
ト配線板の製造方法において, 回路導体上に形成すべきフォトソルダーレジストの被
膜の先端部よりも内側方向までインク不透過部分を設け
たスクリーン印刷版を用いて,回路導体上に上記フォト
ソルダーレジスト被膜用の液状インクを印刷し,該液状
インクの流動性によりその先端部分をめっきつきつけ部
分に向って流動させて,該先端部分をその膜厚が漸次減
少する傾斜状態となし, 次いで印刷部分の先端部よりも外方まで露光部を形成
した露光用マスクを用いて光照射を行い, 次いで,現像,硬化処理を行い,然る後回路導体の端
部にめっき膜を形成することを特徴とするプリント配線
板の製造方法がある。
Next, as a method of manufacturing a printed wiring board, a photo solder resist film is formed on a circuit conductor on a substrate surface,
A method for manufacturing a printed wiring board, further comprising: providing a plating film on an end portion of the circuit conductor, wherein a screen printing method is provided in which an ink impermeable portion is provided inwardly from a tip portion of a photo solder resist film to be formed on the circuit conductor. Using a printing plate, print the liquid ink for the photo solder resist coating on the circuit conductor, flow the leading end toward the plating-attached part by the fluidity of the liquid ink, and set the leading end to the film thickness. Is gradually reduced, and then light is irradiated using an exposure mask that has an exposed part formed outside the tip of the printed part, followed by development and curing, and then the circuit conductor There is a method for manufacturing a printed wiring board, characterized in that a plating film is formed on an end of the printed wiring board.

この製造方法は,上記のごとくフォトソルダーレジス
ト被膜を形成し,光照射,現像,硬化処理を行い,その
後上記めっき膜形成を行なう一連の方法に関するもので
ある。
This manufacturing method relates to a series of methods of forming a photo solder resist film as described above, performing light irradiation, development, and curing, and then forming the plating film.

本発明において,注目すべきことは,フォトソルダー
レジスト被膜の上記傾斜状態の先端部とスクリーン印刷
版と露光用マスクとの位置関係,及び傾斜体の先端部分
の形成方法である。
What should be noted in the present invention is the positional relationship between the tip of the photo solder resist film in the inclined state, the screen printing plate, and the exposure mask, and the method of forming the tip of the inclined body.

つまり,スクリーン印刷版は,形成しようとするフォ
トソルダーレジスト被膜の先端部よりも内側方向までイ
ンク不透過部分を設けてある。換言すれば,スクリーン
印刷版におけるインクの透過部分が,形成すべきフォト
ソルダーレジスト被膜の先端部まで設けてなく,その内
側までしか形成されていない。上記インク不透過部分
は,乳剤を塗布することなどにより形成する。
In other words, the screen printing plate is provided with an ink impermeable portion to the inside of the tip of the photo solder resist film to be formed. In other words, the penetrating portion of the ink in the screen printing plate is not provided up to the tip of the photo solder resist film to be formed, but is formed only to the inside. The ink impermeable portion is formed by applying an emulsion or the like.

そして,上記傾斜状態のフォトソルダーレジスト被膜
を形成するに当たっては,実施例にも示すごとく,フォ
トソルダーレジスト被膜の液状インクの流動性によりそ
の先端部分をめっきつきつけ部分に向かって流動させる
ことにより行なう。
In the formation of the photo solder resist film in the inclined state, as shown in the embodiment, the tip of the photo solder resist film is caused to flow toward the plated portion by the fluidity of the liquid ink.

また,露光用マスクに関しては,回路導体上に印刷さ
れたインクの先端部よりも外方まで露光部が形成されて
いる。換言すれば,該露光用マスクは上記被覆の先端部
が充分に紫外線等の光を受けることができるように,構
成してある。また,上記先端部と露光部端部までは0.1
〜0.2mmとすることが好ましい。
Further, with respect to the exposure mask, an exposed portion is formed outside the tip of the ink printed on the circuit conductor. In other words, the exposure mask is configured such that the tip of the coating can sufficiently receive light such as ultraviolet rays. The distance between the tip and the exposed end is 0.1
It is preferable to set it to 0.2 mm.

また,上記光照射後は,常法により,光照射しなかっ
た被膜不要部分を除去する現像処理,フォトソルダーレ
ジスタ被膜の硬化処理(加熱)を行い,その後回路導体
の端部にめっき膜を形成する。
After the above-mentioned light irradiation, a development process for removing unnecessary portions of the film which has not been irradiated with light and a curing process (heating) for the photo solder register film are performed by a conventional method, and then a plating film is formed on the end of the circuit conductor. I do.

上記フォトソルダーレジストの被膜用の液状インクと
しては,アクリル変性エポキシ樹脂等の感光基を有する
熱硬化樹脂系をベースとしたものがある。また,その性
状として,粘度は100ps〜1000psのものを用いることが
好ましい。100ps以下では,印刷部分の厚みが薄くなる
からであり,1000ps以上では,隣接する回路導体間への
液状フォトソルダーレジスト被膜の埋設性に問題が発生
するからである。なお,更に好ましくは300ps〜500psで
ある。
As a liquid ink for coating the photo solder resist, there is a liquid ink based on a thermosetting resin having a photosensitive group such as an acrylic-modified epoxy resin. In addition, it is preferable to use a material having a viscosity of 100 ps to 1000 ps. When the thickness is less than 100 ps, the thickness of the printed portion becomes thinner. When the thickness is more than 1000 ps, a problem occurs in embedding the liquid photo solder resist film between adjacent circuit conductors. Note that the speed is more preferably 300 ps to 500 ps.

更に,インクとしては,非ニュートン流体であること
が望ましい。ニュートン流体である場合,レベリング性
が大きい為,めっきつきつけ部分におけるインクの流れ
こみ量は,回路導体の起伏(回路導体の高さのバラツ
キ)に影響される。そのため,流れこみ量の制御が難し
く,めっきつきつけ部分におけるスクリーン印刷版の乳
剤塗布部分と露光用マスクの光不透過部分との間のクリ
アランスの設定が困難となるからである。
Further, it is desirable that the ink be a non-Newtonian fluid. In the case of a Newtonian fluid, since the leveling property is large, the amount of ink flowing into the plating-attached portion is affected by the undulation of the circuit conductor (variation in the height of the circuit conductor). For this reason, it is difficult to control the amount of inflow, and it is difficult to set a clearance between the emulsion-coated portion of the screen printing plate and the light-impermeable portion of the exposure mask in the plating-attached portion.

インク塗布用のスクリーン印刷版の材質としては,合
成樹脂,メタル等が使用可能である。
As a material of the screen printing plate for ink application, a synthetic resin, a metal, or the like can be used.

露光用マスクとしては,銀塩フィルム,ジアゾフィル
ム等が使用可能である。
As an exposure mask, a silver halide film, a diazo film, or the like can be used.

本発明に適用される,めっき膜としては,電解ニッケ
ル−金めっき,無電解ニッケル−金めっき,電解銅めっ
き,無電解銅めっき,電解錫めっき,無電解錫めっき,
電解半田めっき等がある。
Plating films applied to the present invention include electrolytic nickel-gold plating, electroless nickel-gold plating, electrolytic copper plating, electroless copper plating, electrolytic tin plating, electroless tin plating,
There are electrolytic solder plating and the like.

なお,本発明のフォトソルダーレジスト被膜及びその
製造方法においては,前記めっきつきつけ部分におけ
る,フォトソルダーレジスト被膜の先端部の形状,また
該先端部とスクリーン印刷版及び露光用マスクとの関係
に関する構成を前記要件とするものであり,実施例に示
すごとく,めっきつきつけ部分以外の部分における先端
部の形状,先端部とスクリーン印刷版,露光用マスクと
の関係は任意である。即ち,めっきつきつけ部分以外の
部分に関しては,本発明と同様であっても,従来のまま
であっても良い。
In the photo solder resist coating and the method of manufacturing the same according to the present invention, the configuration relating to the shape of the tip of the photo solder resist coating in the plating-attached portion and the relationship between the tip and the screen printing plate and the exposure mask are described. As shown in the examples, the shape of the front end portion other than the plating-attached portion and the relationship between the front end portion, the screen printing plate, and the exposure mask are arbitrary. In other words, the portions other than the plating-attached portions may be the same as those of the present invention or may be the same as the conventional ones.

〔作用〕[Action]

本発明のプリント配線板においては,液状インクを塗
布、光照射、現像、硬化処理してなるフォトソルダーレ
ジスト被膜の先端部が前記めっきつきつけ部分に向かっ
て傾斜している。そのため,紫外線等の光照射時に該先
端部に充分に光が照射される。それ故,該先端部も充分
に光硬化が行われ,現像時に該先端部及びその下面側が
現像液によってエッチングされることがない。そのた
め,めっき膜形成時に,めっきつきつけ部分から被膜と
回路導体との間にめっき薬液が浸入することもない。
In the printed wiring board of the present invention, the tip of the photo solder resist film formed by applying, irradiating, developing, and curing the liquid ink is inclined toward the plating-attached portion. Therefore, when the light such as ultraviolet rays is irradiated, the tip is sufficiently irradiated with light. Therefore, the tip is also sufficiently photo-cured, and the tip and the lower surface thereof are not etched by the developing solution during development. Therefore, when forming the plating film, the plating solution does not enter between the coating and the circuit conductor from the portion where the plating is applied.

また,本発明の前記製造方法においては,スクリーン
印刷版はそのインク不透過部分が,形成しようとするフ
ォトソルダーレジスト被膜の先端部より内側まで設けて
ある。そのため,該スクリーン印刷版により印刷された
液状インクの先端部は,印刷直後においては上記被膜の
先端部まで設けられていない。
Further, in the manufacturing method of the present invention, the screen printing plate has an ink-impermeable portion provided from the front end of the photo solder resist film to be formed to the inside. Therefore, the leading end of the liquid ink printed by the screen printing plate is not provided to the leading end of the coating immediately after printing.

しかし,該液状インクは流動性を有するため,先端部
に向かって流れ,所望する被膜先端部まで到達する。な
お,そのためインク不透過部分は使用する液状インクの
流動性を考慮して,その大きさを定めることとなる。
However, since the liquid ink has fluidity, it flows toward the tip and reaches the desired tip of the coating. The size of the ink impermeable portion is determined in consideration of the fluidity of the liquid ink used.

しかして,上記流動により,被膜用インクの先端部は
めっきつきつけ部分に向かってその膜厚が減少する傾斜
状を呈することとなる。
As a result, due to the above-mentioned flow, the leading end of the coating ink has an inclined shape in which the film thickness decreases toward the plating-attached portion.

次に,前記露光用マスクを用いて上記印刷された液状
インクに光照射を行なう。該露光用マスクは,その露光
部が,インク印刷部分の先端部より外方まで設けてあ
り,かつインク印刷部分の先端部は上記傾斜状を有して
いるため,該先端部には充分に光照射が行われる。
Next, the printed liquid ink is irradiated with light using the exposure mask. In the exposure mask, the exposed portion is provided outside the tip of the ink-printed portion, and the tip of the ink-printed portion has the above-mentioned inclined shape. Light irradiation is performed.

光照射後は,通常の方法により現像,硬化処理,めっ
き膜形成を行なう。
After the light irradiation, development, curing, and plating film formation are performed by a usual method.

〔効果〕〔effect〕

本発明によれば,フォトソルダーレジスト被膜の先端
部はめっきつきつけ部分に向かってその膜厚が減少して
いるため,露光時の光照射が該先端部の下方まで充分に
到する。そのため,該先端部は,充分に光硬化され,上
記被膜と回路導体との密着性は強固である。
According to the present invention, since the thickness of the tip portion of the photo solder resist film decreases toward the portion to which plating is applied, light irradiation during exposure reaches sufficiently below the tip portion. Therefore, the tip is sufficiently photo-cured, and the adhesion between the film and the circuit conductor is strong.

また,先端部におけるめっきつきつけ部分の被膜は膜
厚が小さいので,この部分の単位面積当たりのインク量
は他の部分に比して少ない。そのため,熱硬化時等にお
いて,被膜と回路導体との間の剥離も発生しない。
In addition, since the thickness of the coating on the plating portion at the tip portion is small, the amount of ink per unit area in this portion is smaller than in other portions. For this reason, peeling between the coating and the circuit conductor does not occur at the time of thermosetting or the like.

したがって,硬化後において回路導体の端部にめっき
膜を形成する場合,フォトソルダーレジスト被膜と回路
導体との間にめっき薬液が浸入することもない。
Therefore, when the plating film is formed on the end of the circuit conductor after curing, the plating solution does not enter between the photo solder resist film and the circuit conductor.

また,インク塗布の際にインクのにじみ,飛び散り等
によって被膜不要部分にインクが付着した場合において
も,かかるインクは露光用マスクによって覆われ露光さ
れないので,現像時に容易に除去することができる。
Further, even when ink adheres to an unnecessary portion of the coating due to bleeding or scattering of the ink at the time of ink application, such ink can be easily removed at the time of development because it is covered with the exposure mask and is not exposed.

したがって,本発明によれば,めっきつきつけ部分の
めっき耐性に優れたプリント配線板を提供することがで
きる。
Therefore, according to the present invention, it is possible to provide a printed wiring board having excellent plating resistance at a portion where plating is applied.

〔実施例〕〔Example〕

第1実施例 本発明の実施例にかかるプリント配線板及びその製造
方法につき,第1図〜第6B図を用いて説明する。
First Embodiment A printed wiring board and a method of manufacturing the same according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 6B.

本例のプリント配線板は,メモリーモジュール用プリ
ント配線板である(第3A図,第3B図)。しかして,該プ
リント配線板は,フォトソルダーレジスト被膜形成前
は,第3A図,第3B図に示すごとく,基材3と,その表面
上においてその端部(左方)に設けた回路導体としての
コネクタ端子2と,基材3の表面の中央付近に設けた回
路導体としてのパッド25とよりなる。上記コネクタ端子
2は,第2図に示すごとくフォトソルダーレジスト被膜
1の硬化後,Ni−Auめっき28を施す端子である。一方,
パッド25は,半導体搭載用パッケージの表面実装用パッ
ドであり,この部分はNi−Auめっきは施さない部分であ
る。
The printed wiring board of this example is a printed wiring board for a memory module (FIGS. 3A and 3B). Before the formation of the photo solder resist film, the printed wiring board is formed of a base material 3 and a circuit conductor provided at the end (left side) on the surface, as shown in FIGS. 3A and 3B. And a pad 25 as a circuit conductor provided near the center of the surface of the substrate 3. The connector terminal 2 is a terminal to which a Ni-Au plating 28 is applied after the photo solder resist film 1 is cured as shown in FIG. on the other hand,
The pad 25 is a surface mounting pad of a package for mounting a semiconductor, and this portion is a portion on which Ni-Au plating is not performed.

次に,上記プリント配線板にフォトソルダーレジスト
被膜を形成し,その後めっき膜を形成する工程につき説
明する。なお,以降においては,フォトソルダーレジス
ト被膜は,単に「被膜」と称する。また,該被膜を形成
するための液状フォトソルダーレジストインクは「液状
インク」と称し,該液状インクが印刷された部分は印刷
部分と称する。したがって,印刷部分が露光,現像,硬
化されたものが被膜となり,該被膜と回路導体との接点
部分がめっきつきつけ部分である。
Next, a process of forming a photo solder resist film on the printed wiring board and thereafter forming a plating film will be described. Hereinafter, the photo solder resist coating is simply referred to as “coating”. Further, the liquid photo solder resist ink for forming the coating is referred to as “liquid ink”, and a portion on which the liquid ink is printed is referred to as a printed portion. Therefore, the printed portion exposed, developed and cured forms a coating, and the contact portion between the coating and the circuit conductor is a plating-attached portion.

しかして,第3A図,第3B図に示した前記プリント配線
板に液状インクを印刷するためのスクリーン印刷版4
は,第4A図,第4B図に示すごとく,インク不透過部分41
とインクを透過させて印刷するインク通過部42とを有す
る。そして,上記インク不透過部分41は,第4B図に示す
ごとく,基材3上に設けた前記コネクタ端子2上方の1
部分に位置するよう構成されている。即ち,コネクタ端
子2上に形成すべき被膜の先端部12(第2図)よりも内
側方向までインク不透過部分41が設けられ,その内方部
にインク通過部42がある。
Thus, a screen printing plate 4 for printing liquid ink on the printed wiring board shown in FIGS. 3A and 3B.
4A and 4B, as shown in FIGS. 4A and 4B.
And an ink passage section 42 for printing by transmitting ink. Then, as shown in FIG. 4B, the ink impermeable portion 41 is located above the connector terminal 2 provided on the base material 3.
It is configured to be located on a portion. That is, an ink impermeable portion 41 is provided to the inside of the tip portion 12 (FIG. 2) of the coating to be formed on the connector terminal 2, and an ink passage portion 42 is provided inside the portion.

なお,スクリーン印刷版4の他の部分はパッド25の部
分も含めて被膜を形成する為,インク不透部分41は設け
られていない。
Since the other portions of the screen printing plate 4 form a coating including the portion of the pad 25, the ink impermeable portion 41 is not provided.

次に,上記プリント配線板上に,第4B図に示すごと
く,スクリーン印刷版4を配置し,次いで液状インクを
用いてスクリーン印刷を行なう。これにより,第1図,
第5B図に示すごとく,コネクタ端子2の端部21を除い
て,上面が液状インクの印刷部分10によって被覆された
プリント配線板を得る。上記の端部21は,めっき膜形成
用端部である。
Next, a screen printing plate 4 is placed on the printed wiring board as shown in FIG. 4B, and then screen printing is performed using liquid ink. As a result, FIG.
As shown in FIG. 5B, a printed wiring board whose upper surface is covered with the printed portion 10 of the liquid ink except for the end 21 of the connector terminal 2 is obtained. The end 21 is an end for plating film formation.

次に,上記プリント配線板の上方に,第5A図,第5B
図,第1図に示すごとく,露光用マスク5を配置する。
該露光用マスク5は,左端及び中央部に紫外線不透過部
51,54を有する。該紫外線不透過部51は,液状インクの
印刷部分10における先端部12よりも外方に位置するよう
設けてある。また,紫外線不透過部54は,プリント配線
板の中央に設けた6個のパッド25の上方及び周縁に位置
している。その他は露光部523を形成している。
Next, above the printed wiring board, see FIGS. 5A and 5B
As shown in FIG. 1 and FIG. 1, an exposure mask 5 is arranged.
The exposure mask 5 has an ultraviolet opaque portion at the left end and the center.
51,54. The ultraviolet opaque portion 51 is provided so as to be located outside the tip portion 12 of the printing portion 10 of the liquid ink. The ultraviolet opaque portions 54 are located above and around the six pads 25 provided at the center of the printed wiring board. Others form an exposure part 523.

また,第1図は上記したスクリーン印刷版4,露光用マ
スク5とプリント配線板上の印刷部分10の先端部12との
位置関係を示している。第1図に示すごとく,インク不
透過部分41の内方と印刷部分10の先端部12とは長さl1
の,また紫外線不透過部51の内方と印刷部分10の先端部
12とは長さl2の距離がある。ここに,l1は約0.3mm,l2は
約0.45mmである。
FIG. 1 shows the positional relationship between the screen printing plate 4, the exposure mask 5, and the leading end 12 of the printed portion 10 on the printed wiring board. As shown in FIG. 1, the inside of the ink impermeable portion 41 and the leading end 12 of the print portion 10 have a length l1.
Of the inside of the ultraviolet opaque part 51 and the tip of the printed part 10
There is a distance of length l2 from 12. Here, l1 is about 0.3 mm and l2 is about 0.45 mm.

しかして,上記露光用マスク5は,第1図,第5B図に
示すごとく位置させて,紫外線58を照射し,印刷部分10
を光重合させる。そして,現像処理を施す(図示せ
ず)。これにより,光照射されなかった部分の液状イン
クが除去される。その後,加熱により印刷部分10を熱硬
化させて被膜を形成し,更に通常の方法により該被膜上
にめっきマスクを形成する。
Then, the exposure mask 5 is positioned as shown in FIGS.
Is photopolymerized. Then, a developing process is performed (not shown). As a result, the liquid ink in the portion not irradiated with light is removed. Thereafter, the printed portion 10 is thermally cured by heating to form a coating, and a plating mask is formed on the coating by a conventional method.

第6A図,第6B図は,このようにして得たプリント配線
板を示している。即ち,該プリント配線板は,コネクタ
端子2のめっき膜形成用の端部21と,これに隣接する被
膜1の先端部分とを除いて,その上面全体にめっきマス
ク60が設けてある。また,パッド25,25,25の間には,間
隔を置いて,被膜1が形成されている。
6A and 6B show the printed wiring board obtained in this manner. That is, the printed wiring board is provided with a plating mask 60 on the entire upper surface thereof, except for an end portion 21 for forming a plating film of the connector terminal 2 and a tip portion of the coating film 1 adjacent thereto. The coating 1 is formed between the pads 25, 25, 25 at intervals.

上記のごとく構成されたプリント配線板は,上記コネ
クタ端子2の端部21に,電解メッキによりNi−Auのめっ
き膜28を施した(第2図参照)。
In the printed wiring board configured as described above, a Ni-Au plating film 28 was applied to the end 21 of the connector terminal 2 by electrolytic plating (see FIG. 2).

しかして,上記において,第1図及び第2図に示すご
とく,回路導体としてのコネクタ端子2上に設けた被膜
1は,その先端部12がめっきつきつけ部分15に向かって
その膜厚みを減少させているので,先端部12の下面まで
充分に紫外線が到達する。そのため,液状インクの印刷
部分10の該先端部12が現像時に侵食されることがなく,
被膜1とコネクタ端子2とが強固に接着する。また,該
先端部12は,傾斜11を有して膜厚みを減少させているの
で,先端部12の膜厚が薄く,熱硬化時にコネクタ端子2
より剥離することがない。
In the above, as shown in FIGS. 1 and 2, the coating 1 provided on the connector terminal 2 as a circuit conductor has its tip 12 reduced in thickness toward the plated portion 15. Therefore, the ultraviolet rays sufficiently reach the lower surface of the distal end portion 12. Therefore, the leading end portion 12 of the printing portion 10 of the liquid ink is not eroded during development, and
The coating 1 and the connector terminal 2 adhere firmly. Further, since the end portion 12 has a slope 11 to reduce the thickness of the film, the thickness of the end portion 12 is small, and the connector terminal 2 is hardened during thermosetting.
No more peeling.

したがって,めっきつきつけ部分15のめっき耐性に優
れたプリント配線板を得ることができる。
Therefore, it is possible to obtain a printed wiring board having excellent plating resistance of the plated portion 15.

また,上記において,液状インクとしては,溶剤現像
タイプのPSR−1000(太陽インク(株)製)を用いた。
また,印刷部分10を形成した後の指触乾燥は約80℃で行
った。また,露光量は800mj/cm2とした。現像はスプレ
ー現像,硬化は150℃,60分間行った。Ni−Auめっきの膜
厚はNiが約5μm,Auが約0.5μmであった。
In the above, a solvent developing type PSR-1000 (manufactured by Taiyo Ink Co., Ltd.) was used as the liquid ink.
The touch drying after forming the printed portion 10 was performed at about 80 ° C. The exposure amount was 800 mj / cm 2 . Development was performed by spray development, and curing was performed at 150 ° C for 60 minutes. The film thickness of the Ni—Au plating was about 5 μm for Ni and about 0.5 μm for Au.

次に,めっき膜形成後,めっきつきつけ部分の接合強
度を検査するため,JIS−Z1522に規定するセロファン接
着テープを,上記めっきつきつけ部分の方向に向けて完
全に付着させ,直ちにテープの一端を,プリント配線板
面に直角に保ち,瞬間的に引っ張った。そして,上記粘
着テープの粘着面を顕微鏡(40倍)にて観察した。その
結果,被膜の付着は何ら見られず,被膜1とコネクタ端
子2との密着性は極めて良好であることが確認された。
Next, after the plating film is formed, a cellophane adhesive tape specified in JIS-Z1522 is completely adhered in the direction of the plated part to check the bonding strength of the plated part. It was kept perpendicular to the surface of the printed wiring board and pulled instantaneously. Then, the adhesive surface of the adhesive tape was observed with a microscope (40 ×). As a result, no adhesion of the coating was observed, and it was confirmed that the adhesion between the coating 1 and the connector terminal 2 was extremely good.

第2実施例 本例は,第7A図〜第10B図に示すごとく,半導体搭載
用パッケージの表面実装型プリント配線板に本発明を適
用したものである。
Second Embodiment In this embodiment, as shown in FIGS. 7A to 10B, the present invention is applied to a surface mount type printed wiring board of a semiconductor mounting package.

まず,本例における被膜を形成した状態のプリント配
線板は,第10A図及び第10B図に示すごとく,基材3上
に,半導体表面実装用の,回路導体としてのパッド26を
有し,該パッド26の外方及び内方に被膜1を設けたもの
である。そして,パッド26の外方先端部261は被膜1の
先端部12によって覆われ,両者の接点部がめっきつきつ
け部分15を形成する。また,パッド26の内方は,該パッ
ド26と間隔262をおいて被膜1を有している。
First, as shown in FIGS. 10A and 10B, the printed wiring board in the state where the coating in this example is formed has a pad 26 as a circuit conductor for semiconductor surface mounting on the base material 3 as shown in FIGS. 10A and 10B. The coating 1 is provided on the outside and inside of the pad 26. The outer distal end 261 of the pad 26 is covered by the distal end 12 of the coating 1, and the contact between the two forms the plated part 15. The inside of the pad 26 has the coating 1 at a distance 262 from the pad 26.

次に,上記プリント配線板を形成するための基本プリ
ント配線板は,第7A図,第7B図に示すごとく,基材3上
に,パッド26を3個づつ四方向に有する。
Next, as shown in FIGS. 7A and 7B, the basic printed wiring board for forming the printed wiring board has three pads 26 in four directions on the base material 3 as shown in FIGS. 7A and 7B.

そして,該基本プリント配線板に液状インクを印刷す
るためのスクリーン印刷版4は,第8A図,第8B図に示す
ごとく,インク不透過部分43とインク通過部42とを有す
る。インク不透過部分43は,パッド26の外端部261の上
方に位置するよう構成してある。そして,該インク不透
過部分43の内側面432,432と外側面431,431は,形成すべ
き被膜1(第10A図,第10B図)よりも内方にある。しか
して,該スクリーン印刷版4によって印刷される印刷部
分10は,第9B図に示すごとく,パッド26の外端部261の
1部を残して形成されている。即ち,印刷部分10の先端
部12,12の間に間隔がある。
The screen printing plate 4 for printing liquid ink on the basic printed wiring board has an ink impermeable portion 43 and an ink passage portion 42 as shown in FIGS. 8A and 8B. The ink impermeable portion 43 is configured to be located above the outer end 261 of the pad 26. Then, the inner side surfaces 432, 432 and the outer side surfaces 431, 431 of the ink impermeable portion 43 are located inside the coating 1 to be formed (FIGS. 10A and 10B). Thus, the printing portion 10 to be printed by the screen printing plate 4 is formed leaving a part of the outer end portion 261 of the pad 26 as shown in FIG. 9B. That is, there is an interval between the leading ends 12, 12 of the print portion 10.

しかして,第9A図,第9B図に示すごとく,露光用マス
ク5は,紫外線不透過部55と露光部52とを有する。紫外
線不透過部55は,パッド26の上方に位置するよう構成さ
れている。そして,紫外線不透過部55の内側面552はパ
ッド26よりも内方にあり,その外側面551はパッド26の
外端部261の上方にあり,印刷部分10の先端部12,12の中
間部分に位置している。
Thus, as shown in FIGS. 9A and 9B, the exposure mask 5 has an ultraviolet opaque portion 55 and an exposure portion 52. The ultraviolet opaque section 55 is configured to be located above the pad 26. Further, the inner side surface 552 of the ultraviolet ray opaque portion 55 is located inside the pad 26, and the outer side surface 551 is located above the outer end portion 261 of the pad 26, and the intermediate portion between the leading end portions 12 and 12 of the printed portion 10. It is located in.

それ故,該露光用マスク5を用いて紫外線照射を行
い,現像,熱硬化処理を経て得られたプリント配線板
は,前記第10A図,第10B図に示すごとき形状となる(前
記参照)。その他の構成作用は第1実施例と同様であ
る。
Therefore, the printed wiring board obtained by performing ultraviolet irradiation using the exposure mask 5 and developing and thermosetting has a shape as shown in FIGS. 10A and 10B (see above). Other components and operations are the same as those of the first embodiment.

しかして,本例により得られたプリント配線板は,第
1実施例と同様の効果を有する。
Thus, the printed wiring board obtained according to the present embodiment has the same effects as the first embodiment.

第3実施例 本例は,第11A図〜第14B図に示すごとく,パートリー
アディティブ法によるプリント配線板に,本発明を適用
したものである。
Third Embodiment In this embodiment, as shown in FIGS. 11A to 14B, the present invention is applied to a printed wiring board by the partly additive method.

即ち,該プリント配線板は,サブトラクティブ法によ
り外層回路導体を形成した後,液状インクの印刷を行
い,その後スルーホール部分のみ,無電解銅メッキを行
うことにより,導体化するものである。
That is, the printed wiring board is formed into a conductor by forming an outer layer circuit conductor by a subtractive method, printing liquid ink, and then performing electroless copper plating only on the through-hole portion.

まず,本例において得られる被膜を形成した状態のプ
リント配線板は,第14A図,第14B図に示すごとく,基板
3にスルーホール35を設け,該スルーホールの上方に環
状の回路導体27を設け,下方には同様の回路導体29を設
けたものである。そして,該回路導体29の先端部271側
にはめっき形成用の端部270を残して被膜1を被覆し,
環状の本体の周囲には間隙272を隔てて,基材3上に被
膜1を被覆したものである。そして,上記めっき形成用
の端部270と被膜1の先端部12との接点部にめっきつき
つけ部分15を有する。
First, as shown in FIGS. 14A and 14B, a printed wiring board having a coating film obtained in this example is provided with a through hole 35 in the substrate 3 and an annular circuit conductor 27 above the through hole. A similar circuit conductor 29 is provided below. Then, the coating 1 is coated on the end 271 side of the circuit conductor 29 except for the end 270 for plating.
The coating 1 is coated on the base material 3 with a gap 272 around the annular body. The contact portion between the plating-forming end portion 270 and the tip portion 12 of the coating film 1 has a plating-attached portion 15.

次に,上記プリント配線板を形成するための基本プリ
ント配線板は,第11A図,第11B図に示すごとく,基材3
にスルーホール35を穿設し,該スルーホール35の上方に
前記回路導体27,下方に回路導体29を有する。回路導体2
9は先端部291を有する。
Next, as shown in FIGS. 11A and 11B, the basic printed wiring board for forming the printed wiring board
The circuit conductor 27 is provided above the through hole 35, and the circuit conductor 29 is provided below the through hole 35. Circuit conductor 2
9 has a tip 291.

次に,液状インク印刷用のスクリーン印刷版4は,第
12A図,第12B図に示すごとく,回路導体27の上方の一部
に位置するインク不透過部分44を有する。該インク不透
過部分44の左側面441は回路導体27の先端部271上にあ
り,右端面442は回路導体27本体の上方にある。そし
て,上記スクリーン印刷版4によって形成された液状イ
ンクの印刷部分10は,第13図に示すごとく,その先端部
12が回路導体27の先端部271を被覆しており,また回路
導体27本体は印刷部分10によって被覆されている。
Next, the screen printing plate 4 for liquid ink printing is
As shown in FIGS. 12A and 12B, an ink impermeable portion 44 is provided at a part above the circuit conductor 27. The left side 441 of the ink impermeable portion 44 is located on the tip 271 of the circuit conductor 27, and the right end 442 is located above the circuit conductor 27 main body. The printing portion 10 of the liquid ink formed by the screen printing plate 4 has a tip portion as shown in FIG.
Reference numeral 12 covers the front end portion 271 of the circuit conductor 27, and the main body of the circuit conductor 27 is covered with the printed portion 10.

しかして,露光用マスク5は第13A図,第13B図に示す
ごとく,円上の紫外線不透過部56を有して,回路導体27
の環状の本体よりも若干大き目の外周を有する。そし
て,該紫外線不透過部56の左方は,印刷部分10の先端部
12よりも外方(スルーホール35の方向)に位置してい
る。
As shown in FIGS. 13A and 13B, the exposure mask 5 has a circular ultraviolet opaque portion 56 and a circuit conductor 27.
Has an outer periphery slightly larger than the annular main body. The left side of the ultraviolet ray opaque portion 56 is the tip of the printed portion 10.
It is located outside (in the direction of through-hole 35) than 12.

それ故,上記露光用マスク5により紫外線照射を行
い,現像,熱硬化処理を行なうことにより,前記第14A
図,第14B図に示した形状のプリント配線板を得ること
ができる。その他は,第1実施例と同様である。
Therefore, by irradiating ultraviolet rays with the above-mentioned exposure mask 5 and performing development and thermosetting treatment, the 14th A
A printed wiring board having the shape shown in FIG. 14 and FIG. 14B can be obtained. Others are the same as the first embodiment.

本例においても第1実施例と同様の効果を得ることが
できる。
In this embodiment, the same effects as in the first embodiment can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図〜第6B図は第1実施例を示し,第1図は印刷部分
とスクリーン印刷版及び露光用マスクとの位置関係を示
す説明図,第2図はフォトソルダーレジスト被膜とめっ
き膜との位置関係を示す断面図,第3A図は被膜形成前の
プリント配線板の平面図,第3B図は第3A図のA−A線矢
視断面図,第4A図はスクリーン印刷版の平面図,第4B図
は第4A図のB−B線矢視断面図,第5A図は露光用マスク
の平面図,第5B図は第5A図のC−C線矢視断面図,第6A
図はめっきマスクを形成したプリント配線板の平面図,
第6B図は第6A図のD−D線矢視断面図,第7A図〜第10B
図は第2実施例を示し第7A図は被膜形成前のプリント配
線板の平面図,第7B図は第7A図のE−E線矢視断面図,
第8A図はスクリーン印刷版の平面図,第8B図は第8A図の
F−F線矢視断面図,第9A図は露光用マスクの平面図,
第9B図は第9A図のG−G線矢視断面図,第10A図は被膜
形成後のプリント配線板の平面図,第10B図は第10A図の
H−H線矢視断面図,第11A図〜第14B図は第3実施例を
示し,第11A図は被膜形成前のプリント配線板の平面
図,第11B図は第11図のI−I線矢視断面図,第12A図は
スクリーン印刷版の平面図,第12B図は第12A図のJ−J
線矢視断面図,第13A図は露光用マスクの平面図,第13B
図は第13A図のK−K線矢視断面図,第14A図は被膜形成
後のプリント配線板の平面図,第14B図は第14A図のL−
L線矢視断面図,第15図〜第17B図は従来例を示し第15
図はフォトソルダーレジスト被膜の状態を示す断面図,
第16A図は露光用マスクの平面図,第16B図は第16A図の
M−M線矢視断面図,第17A図は被膜形成後のプリント
配線板の平面図,第17B図は第17A図のN−N線矢視断面
図である。 1……フォトソルダーレジスト被膜, 10……印刷部分, 12……先端部, 15……めっきつきつけ部分, 2……コネクタ端子, 21……めっき膜形成用の端部, 25,26……パッド, 27……回路導体, 28……めっき膜, 3……基材, 4……スクリーン印刷版, 41,43,44……インク不透過部分, 42……インク透通部, 5……露光用マスク, 51,54,55,56……紫外線不透過部, 60……めっきマスク,
1 to 6B show a first embodiment, FIG. 1 is an explanatory view showing a positional relationship between a printing portion, a screen printing plate, and an exposure mask, and FIG. 2 is a photo solder resist coating, a plating film, and the like. 3A is a plan view of the printed wiring board before the film is formed, FIG. 3B is a cross-sectional view taken along line AA of FIG. 3A, and FIG. 4A is a plan view of a screen printing plate. 4B is a sectional view taken along line BB of FIG. 4A, FIG. 5A is a plan view of an exposure mask, FIG. 5B is a sectional view taken along line CC of FIG. 5A, and FIG.
The figure is a plan view of a printed wiring board with a plating mask,
FIG. 6B is a sectional view taken along line DD of FIG. 6A, and FIGS. 7A to 10B.
FIG. 7A is a plan view of the printed wiring board before the film is formed, FIG. 7B is a cross-sectional view taken along line EE of FIG. 7A,
8A is a plan view of a screen printing plate, FIG. 8B is a cross-sectional view taken along line FF of FIG. 8A, FIG. 9A is a plan view of an exposure mask,
9B is a sectional view taken along the line GG of FIG. 9A, FIG. 10A is a plan view of the printed wiring board after the coating is formed, FIG. 10B is a sectional view taken along the line HH of FIG. 11A to 14B show a third embodiment, FIG. 11A is a plan view of a printed wiring board before a film is formed, FIG. 11B is a cross-sectional view taken along the line II of FIG. 11, and FIG. 12B is a plan view of the screen printing plate, and FIG.
13A is a plan view of an exposure mask, and FIG.
FIG. 13A is a cross-sectional view taken along the line KK of FIG. 13A, FIG. 14A is a plan view of the printed wiring board after the film is formed, and FIG.
FIG. 15 to FIG. 17B are cross-sectional views taken along the line L, and FIG.
The figure is a cross-sectional view showing the state of the photo solder resist film.
16A is a plan view of an exposure mask, FIG. 16B is a cross-sectional view taken along line MM of FIG. 16A, FIG. 17A is a plan view of a printed wiring board after a film is formed, and FIG. 17B is FIG. 17A. 3 is a sectional view taken along line NN of FIG. 1 ... Photo solder resist coating, 10 ... Printed part, 12 ... Tip, 15 ... Plating part, 2 ... Connector terminal, 21 ... Plating film forming end, 25,26 ... Pad , 27 ... circuit conductor, 28 ... plating film, 3 ... base material, 4 ... screen printing plate, 41, 43, 44 ... ink-impermeable part, 42 ... ink-permeable part, 5 ... exposure Mask, 51,54,55,56 …… UV opaque part, 60 …… Plating mask,

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H05K 3/00──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 6 , DB name) H05K 3/00

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】基材表面の回路導体上に、写真法に用いる
液状ソルダーレジストである液状インクを塗布、光照
射、現像、硬化処理してなるフォトソルダーレジスト被
膜を形成したプリント配線板において、 前記フォトソルダーレジスト被膜は、前記液状インクを
めっき膜形成用の端部を除いた前記回路導体上に塗布
し、少なくとも当該端部に接する塗布被膜を光照射して
なる被膜であって、前記回路導体上で前記端部に向かっ
てその膜厚が漸次減少する傾斜状態を有することを特長
とするプリント配線板。
A printed wiring board having a photo solder resist film formed by applying, irradiating, developing, and curing a liquid ink which is a liquid solder resist used for a photographic method on a circuit conductor on a substrate surface, The photo solder resist film is a film formed by applying the liquid ink on the circuit conductor except for an end portion for forming a plating film, and irradiating at least a coating film in contact with the end portion, wherein the circuit A printed wiring board having an inclined state on a conductor, the thickness of which gradually decreases toward the end.
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