JP2835087B2 - Wavelength conversion optical element - Google Patents

Wavelength conversion optical element

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JP2835087B2
JP2835087B2 JP1196831A JP19683189A JP2835087B2 JP 2835087 B2 JP2835087 B2 JP 2835087B2 JP 1196831 A JP1196831 A JP 1196831A JP 19683189 A JP19683189 A JP 19683189A JP 2835087 B2 JP2835087 B2 JP 2835087B2
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一高 寺嶋
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    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/35Non-linear optics
    • G02F1/37Non-linear optics for second-harmonic generation
    • G02F1/372Means for homogenizing the output beam

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、光情報処理や光計測等に用いる短波長の光
源を得るための波長変換光学素子に係わり、特に光導波
路と波面変換素子とを組み合わせた波長変換光学素子に
関する。
Description: Object of the Invention (Industrial application field) The present invention relates to a wavelength conversion optical element for obtaining a short wavelength light source used for optical information processing, optical measurement, and the like, and particularly to an optical waveguide. And a wavefront conversion element.

(従来の技術) 近年、高密度光ディスクシステム,計測及び表示シス
テム等への応用を目的として、短波長のコヒーレント光
源の開発が進められている。光ディスクシステムでは、
ディスク面上に絞られる光のスポット径が光源の波長に
比例するため、高密度化を実現するには短波長の光源が
必須である。
(Prior Art) In recent years, a short-wavelength coherent light source has been developed for the purpose of application to a high-density optical disk system, a measurement and display system, and the like. In optical disk systems,
Since the spot diameter of the light focused on the disk surface is proportional to the wavelength of the light source, a short-wavelength light source is indispensable for realizing high density.

短波長の光源として、半導体レーザは小型,軽量,低
消費電力という利点を持つため、新しい材料を用いた短
波長のレーザの開発が進められており、既に0.6μm帯
(赤色)に発振波長を持つInGaAlP系半導体レーザは実
用化のレベルに至っている。しかしながら、さらに短波
長の緑色或いは青色のレーザについては研究は行われて
いるものの、室温で連続発振するレーザは得られておら
ず、実用化の見通しは未だついていない。
As a short-wavelength light source, semiconductor lasers have the advantages of small size, light weight, and low power consumption. Therefore, development of short-wavelength lasers using new materials has been promoted, and the oscillation wavelength has already been increased to the 0.6 μm band (red). InGaAlP-based semiconductor lasers have reached the level of practical use. However, although studies have been conducted on shorter wavelength green or blue lasers, lasers that continually oscillate at room temperature have not been obtained, and there is no prospect of practical application.

一方、短波長の光源を実現する他の手段として、非線
形光学結晶を用いた光第2高調波発生(SHG)があり、
従来より多くの研究が行われている。小型,低消費電力
を実現させるため、基本波光源として半導体レーザを用
い、非線形光学結晶を導波路化する試みが行われてお
り、例えば第15図に示したようなプロトン交換LiNbO3
波路を用いて、半導体レーザの光第2高調波として青色
光源が得られている(T.Taniuchi et al.:Opto-electro
nics,Vol.2,No.1,pp53-58(1987.)。なお、図中100はL
iNbO3基板、101は導波部、104は基本波、106は出射光
(光第2高調波)を示している。この方式は、チェレン
コフ放射により光第2高調波を導波路基板内へ放射させ
るもので、従来のSHG方式に比べ、角度制御,温度制御
による位相整合が不要であるという利点を持つ。
On the other hand, as another means for realizing a short wavelength light source, there is optical second harmonic generation (SHG) using a nonlinear optical crystal.
More research has been done than before. In order to realize compactness and low power consumption, attempts have been made to use a semiconductor laser as a fundamental wave light source and to make a nonlinear optical crystal into a waveguide. For example, a proton-exchanged LiNbO 3 waveguide as shown in FIG. A blue light source has been obtained as an optical second harmonic of a semiconductor laser (T. Taniuchi et al .: Opto-electro
nics, Vol.2, No.1, pp53-58 (1987.). In the figure, 100 is L
An iNbO 3 substrate, 101 indicates a waveguide, 104 indicates a fundamental wave, and 106 indicates emitted light (light second harmonic). This method emits the second harmonic of the light into the waveguide substrate by Cherenkov radiation, and has an advantage that phase matching by angle control and temperature control is not required as compared with the conventional SHG method.

しかしながら、チェレンコフ放射光は軸上に分布した
発光源から放射される複雑な波面を有しているため、出
射光の第2高調波のコリメート或いは集光を行うには特
殊な光学系を必要とし、ビームを回折限界のスポット径
にまで絞ることは困難である。等方媒質中で軸上に分布
した発光源から放射される光は円錐波と呼ばれており、
このような円錐波は例えばアクシコンと呼ばれる光学素
子(J.H.McLeod:J.Opt.Soc.Am.,Vol.44,No.8,pp.592-59
7(1954))により、コリメートすることが可能であ
る。アクシコンの代表的な例としては円錐プリズムがあ
る。
However, since Cherenkov radiation has a complicated wavefront radiated from a light source distributed on the axis, a special optical system is required to collimate or collect the second harmonic of the output light. It is difficult to narrow the beam to a diffraction-limited spot diameter. Light emitted from a light source that is distributed on an axis in an isotropic medium is called a cone wave,
Such a conical wave is generated, for example, by an optical element called an axicon (JHMcLeod: J. Opt. Soc. Am., Vol. 44, No. 8, pp. 592-59).
7 (1954)), it is possible to collimate. A typical example of an axicon is a conical prism.

ところが、先に述べたLiNbO3中のチェレンコフ放射光
は完全な円錐波とはならない。これは、一般に非線形光
学結晶の屈折率が光の伝搬方向及び偏向方向によって異
なることによる。即ち、LiNbO3基板中に放射される第2
高調波も方向によって出射角が異なり、軸対称とはなら
ない。従って、このようなビームを軸対称のアクシコン
を用いてコリメートすることはできない。
However, the aforementioned Cherenkov radiation in LiNbO 3 does not become a perfect conical wave. This is due to the fact that the refractive index of the nonlinear optical crystal generally differs depending on the direction of light propagation and the direction of deflection. That is, the second radiation radiated into the LiNbO 3 substrate
The output angles of the harmonics also differ depending on the direction, and are not axially symmetric. Therefore, such a beam cannot be collimated using an axis-symmetric axicon.

(発明が解決しようとする課題) このように従来、位相整合が不要のチェレンコフ放射
を利用するSHGでは、基板の異方性により出射ビームが
軸対称とはならないため、出射ビームをコリメート或い
は集光させることは困難であった。
(Problems to be Solved by the Invention) As described above, conventionally, in an SHG using Cherenkov radiation that does not require phase matching, the output beam is not axially symmetric due to the anisotropy of the substrate. It was difficult to do.

本発明は、上記事情を考慮してなされたもので、その
目的とするところは、チェレンコフ放射により光導波路
から出射される軸対称性を持たない第2高調波ビームを
コリメート或いは集光させることができ、小型で短波長
の光源の実用化に寄与し得る波長変換光学素子を提供す
ることにある。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to collimate or condense a second harmonic beam having no axial symmetry emitted from an optical waveguide by Cherenkov radiation. An object of the present invention is to provide a wavelength conversion optical element which can be made compact and can contribute to practical use of a short wavelength light source.

[発明の構成] (課題を解決するための手段) 本発明の骨子は、光導波路端面から出射される第2高
調波ビームのコリメート或いは集光を可能とするため
に、波面変換素子を楕円若しくは同心円パターンの回折
格子で形成し、半径方向に関する回折格子の等価的な格
子ピッチを第2高調波ビームの広がり角に応じて変える
ことにある。
[Structure of the Invention] (Means for Solving the Problems) The gist of the present invention is to provide a wavefront conversion element with an ellipse or an elliptical shape in order to enable collimation or focusing of a second harmonic beam emitted from an end face of an optical waveguide. An object of the present invention is to change the equivalent grating pitch of the diffraction grating in the radial direction according to the divergence angle of the second harmonic beam.

即ち本発明は、導波層及び基板の少なくとも一方が非
線形光学材料で形成され、基本波が導波モード,第2高
調波がチェレンコフ放射光となるように導波部層び基板
の屈折率が設定された光導波路と、この光導波路の光出
射端面に接して又は対向して設けられ、該端面から出射
された光の波面を変換する波面変換素子とを備えた波長
変換光学素子において、前記波面変換素子を楕円パター
ンの一部からなる回折格子で形成するようにしたもので
あり、望ましくは光第2高調波の波長における常光及び
異常光に対する前記基板の屈折率をそれぞれn0,neとし
たとき、前記楕円パターンの長軸と短軸との比がn0:ne
となるように設定したものである。
That is, in the present invention, at least one of the waveguide layer and the substrate is formed of a non-linear optical material, and the refractive index of the waveguide layer and the substrate is adjusted so that the fundamental wave becomes a waveguide mode and the second harmonic becomes Cherenkov radiation. In a wavelength conversion optical element comprising a set optical waveguide and a wavefront conversion element that is provided in contact with or facing the light emitting end face of the optical waveguide and converts a wavefront of light emitted from the end face, are those of the wavefront converting element so as to form a diffraction grating consisting of a portion of an ellipse pattern, preferably n 0 the refractive index of the substrate with respect to ordinary light and extraordinary light in the wavelength of the light second harmonic, respectively, n e Where the ratio of the major axis to the minor axis of the elliptical pattern is n 0 : ne
It is set so that

また本発明は、導波層及び基板の少なくとも一方が非
線形光学材料で形成され、基本波が導波モード,第2高
調波がチェレンコフ放射光となるように導波層及び基板
の屈折率が設定された光導波路と、この光導波路の光軸
に垂直な光出射端面に接して又は対向して設けられ、該
端面から出射された光の波面を変換する波面変換素子と
を備えた波長変換光学素子において、前記波面変換素子
を等間隔の同心円パターンの一部からなる回折格子で形
成し、且つ前記光出射端面及び波面変換素子の少なくと
も一方を、前記導波層に垂直な面から傾けて配置するよ
うにしたものであり、望ましくは前記光出射端面及び波
面変換素子の傾き角が同じとなるように設定したもので
ある。
Further, in the present invention, at least one of the waveguide layer and the substrate is formed of a non-linear optical material, and the refractive indices of the waveguide layer and the substrate are set so that the fundamental wave becomes a waveguide mode and the second harmonic becomes Cherenkov radiation. Wavelength conversion optics, comprising: a guided optical waveguide; and a wavefront conversion element provided in contact with or facing a light emitting end face perpendicular to the optical axis of the optical waveguide, and converting a wavefront of light emitted from the end face. In the device, the wavefront conversion element is formed by a diffraction grating composed of a part of concentric circular patterns at equal intervals, and at least one of the light emitting end face and the wavefront conversion element is arranged to be inclined from a plane perpendicular to the waveguide layer. Preferably, the light emitting end face and the wavefront conversion element are set to have the same inclination angle.

(作用) 本発明によれば、波面変換素子を形成する回折格子を
楕円パターンとすることにより、異なる半径方向で回折
格子の格子ピッチが異なることになり、異なる半径方向
でそれぞれ第2高調波ビームの広がり角に応じた格子ピ
ッチを設定することができる。従って、チェレンコフ放
射方式による光導波型SHGにおいて、軸対称性を持たな
い光第2高調波のコリメート或いは集光が可能となる。
また、回折格子を同心円パターンとしても光出射端面及
び波面変換素子の少なくとも一方を、導波層に垂直な面
から傾けて配置することにより、楕円パターンとした場
合と同様に、異なる半径方向でそれぞれ第2高調波ビー
ムの広がり角に応じた格子ピッチを設定することがで
き、軸対称性を持たない光第2高調波のコリメート或い
は集光が可能となる。
(Operation) According to the present invention, by making the diffraction grating forming the wavefront conversion element an elliptical pattern, the grating pitch of the diffraction grating is different in different radial directions, and the second harmonic beam is different in different radial directions. Grid pitch can be set according to the spread angle of. Therefore, in the optical waveguide type SHG based on the Cherenkov radiation method, it is possible to collimate or condense the optical second harmonic having no axial symmetry.
Further, even when the diffraction grating is a concentric pattern, at least one of the light emitting end face and the wavefront conversion element is disposed at an angle from a plane perpendicular to the waveguide layer, so that each of the diffraction gratings is formed in a different radial direction as in the case of the elliptical pattern. The grating pitch can be set according to the divergence angle of the second harmonic beam, and collimation or condensing of the optical second harmonic having no axial symmetry can be performed.

(実施例) 以下、本発明の詳細を図示の実施例によって説明す
る。
(Examples) Hereinafter, details of the present invention will be described with reference to the illustrated examples.

第1図は本発明の第1の実施例に係わる波長変換光学
素子の概略構成を示す斜視図である。図中10はLiNbO3
板であり、この基板10上に導波部11を形成して光導波路
が構成されている。この光導波路の光出射端面13に対向
又は接して、楕円パターンの回折格子からなる波面変換
素子12が配置されている。そして、光入射端面から導波
部11内に基本波14が入射され、基板10中に伝搬したチェ
レンコフ放射光(光第2高調波)15が光出射端面13から
出射され、さらにこの放射光15が波面変換素子12により
平行光16に変換されるものとなっている。
FIG. 1 is a perspective view showing a schematic configuration of a wavelength conversion optical element according to a first embodiment of the present invention. In the figure, reference numeral 10 denotes a LiNbO 3 substrate, on which a waveguide 11 is formed to form an optical waveguide. A wavefront conversion element 12 composed of a diffraction grating having an elliptical pattern is arranged facing or in contact with the light emitting end face 13 of the optical waveguide. Then, the fundamental wave 14 enters the waveguide 11 from the light incident end face, and the Cherenkov radiated light (light second harmonic) 15 propagated in the substrate 10 is emitted from the light emitting end face 13, and the radiated light 15 is further emitted. Are converted into parallel light 16 by the wavefront conversion element 12.

ここで、基本波14の波長λ及び光第2高調波15の波
長λ(=λ/2)に対する基板10の屈折率をそれぞれ
n1,n2とすると、 n1<nEFF<n2 …(1) を満たすように基板10の材料が選択されている。但
し、nEFFは光導波路の基本波に対する実効屈折率であ
る。LiNbO3は非線形光学定数d33が大きな値を持ってい
るため、このd33を利用できるように基板方位,基本波
の伝搬方向及び偏光方向が選ばれている。即ち、基板と
してz板を用いる場合には基本波の導波モードはy伝搬
(又はx伝搬)のTMモードであり、x板(又はy板)を
用いる場合には基本波の導波モードはy伝搬(又はx伝
搬)のTEモードである。
Here, each refractive index of the substrate 10 with respect to the wavelength lambda 2 wavelength lambda 1 and the light second harmonic 15 of the fundamental wave 14 (= λ 1/2)
Assuming that n 1 and n 2 , the material of the substrate 10 is selected so as to satisfy n 1 <n EFF <n 2 (1). Here, n EFF is the effective refractive index for the fundamental wave of the optical waveguide. LiNbO 3 Because nonlinear optical constant d 33 has a large value, the substrate orientation to take advantage of this d 33, the propagation direction and the polarization direction of the fundamental wave is selected. That is, when the z-plate is used as the substrate, the guided mode of the fundamental wave is a TM mode of y-propagation (or x-propagation), and when the x-plate (or y-plate) is used, the guided mode of the fundamental wave is This is the TE mode of y propagation (or x propagation).

波長λの基本波14がこの光導波路端面に入射する
と、LiNbO3の非線形光学効果によって、この光がλ/2
の光第2高調波に変換され、導波部11に対しθの角度
を持ったチェレンコフ放射光15として基板10中を伝搬す
る。θはnEFF及びn2と次の関係にある。
When the fundamental wave 14 having the wavelength λ 1 is incident on the end face of the optical waveguide, the light is converted to λ 1/2 by the nonlinear optical effect of LiNbO 3.
And propagates through the substrate 10 as Cerenkov radiation 15 having an angle of θ C with respect to the waveguide 11. θ C has the following relationship with n EFF and n 2 .

n2 cos θ=nEFF …(2) このチェレンコフ放射光は基板端面13で屈折され、角
度θで空気中に放射される。ここで、θとθとは以
下の関係にある。
n 2 cos θ C = n EFF (2) The Cherenkov radiation is refracted at the substrate end face 13 and emitted into the air at an angle θ. Here, θ 0 and θ C have the following relationship.

n2 sin θC=sin θ0 …(3) 空気中へ放射された第2高調波は波面変換素子12によ
って平行光16に変換される。この平行光16は、通常のレ
ンズで回折限界のスポット径にまで絞ることが可能であ
る。波面変換素子12の構造例を第2図に示す。図に示し
たように、波面変換素子12は楕円パターンの一部からな
る回折格子で形成されている。この回折格子は、直交す
る2方向でそれぞれ、Λ,Λの格子間隔を持ってい
る。
n 2 sin θ C = sin θ 0 (3) The second harmonic radiated into the air is converted by the wavefront conversion element 12 into parallel light 16. This parallel light 16 can be narrowed down to a diffraction-limited spot diameter by a normal lens. FIG. 2 shows an example of the structure of the wavefront conversion element 12. As shown in the figure, the wavefront conversion element 12 is formed by a diffraction grating composed of a part of an elliptical pattern. This diffraction grating has grating intervals of 1 1 and Λ 2 in two orthogonal directions, respectively.

次に、上記の波面変換素子の原理について説明する。
まず、第2高調波に対する基板の屈折率を求めるため、
第3図に示したような屈折率楕円体を考える。ここで、
基本波導波モードの伝搬方向をxとし、その偏光方向と
同じ方向にベクトル▲▼をとる。第2高調波の進行
方向を表わすポインティングベクトルを,第2高調波
の偏光方向に一致し、絶対値が第2高調波に対する屈折
率の大きさであるようなベクトルを▲▼とする。
とx軸とのなす角をθ、sのyz面への投影とz軸とのな
す角をψとすると、は次式で表わされる。
Next, the principle of the above wavefront conversion element will be described.
First, to determine the refractive index of the substrate for the second harmonic,
Consider an index ellipsoid as shown in FIG. here,
The propagation direction of the fundamental wave guided mode is x, and a vector ▼ is taken in the same direction as the polarization direction. A pointing vector that indicates the traveling direction of the second harmonic matches the polarization direction of the second harmonic, and the vector whose absolute value is the magnitude of the refractive index for the second harmonic is denoted by ▼.
Is defined as θ, and the angle between the projection of s on the yz plane and the z axis is defined as ψ.

=(cosθ,sinθ sinφ,sinθ cosφ) …(4) また▲▼,▲▼を とすると、各ベクトルは次の関係を満たす必要があ
る。
= (Cosθ, sinθ sinφ, sinθ cosφ)… (4) Then, each vector needs to satisfy the following relationship.

(x/n0)2+(y/n0)2+(z/ne)2=1 …(7) ここで、n0,neは第2高調波の波長における常光及び
異常光に対する屈折率を表わす。(4)〜(9)式よ
り、第2高調波に対する屈折率n2は次式で与えられる。
(x / n 0 ) 2 + (y / n 0 ) 2 + (z / ne ) 2 = 1 (7) Here, n 0, n e represents the refractive index for ordinary light and extraordinary light in the wavelength of the second harmonic. (4) than to (9) below, the refractive index n 2 with respect to the second harmonic is given by the following equation.

上式のθは第1図の構成でチェレンコフ放射角θ
相当する。(10)式のn2は(2)式を満たす必要がある
ので、(2),(10)式よりθは次式で与えられるこ
とになる。
Θ in the above equation corresponds to the Cherenkov radiation angle θ C in the configuration of FIG. Since n 2 in equation (10) needs to satisfy equation (2), θ C is given by the following equation from equations (2) and (10).

即ち、第1図のような構成では、一般にチェレンコフ
放射角θは角度ψによって異なる。ψはx板,TE偏光
を用いる場合には導波路面からの角度、またz板,TM偏
光を用いる場合にはその余角に相当する。(11)式のψ
依存性により、端面から放射される第2高調波の空気中
での角度θもψにより変わる。z軸を含む面内(ψ=
0)、及びz軸に垂直な面内(ψ=π/2)における、空
気中でのチェレンコフ放射角をそれぞれθ01及びθ02
すると、(3),(11)式より、 sinθ01=n0(1-nEFF 2/ne 2)1/2 …(12) sinθ02=nE(1-nEFF 2/ne 2)1/2 …(13) LiNbO3の場合、n0,neは波長λ[μm]及び温度T
[K]の関数として、次式で与えられる(H.V.Hobden e
t al.:Phys,Lett.,Vol.23,No.3,pp.243-244(196
6).)。
That is, in the configuration as shown in FIG. 1, the Cherenkov radiation angle θ C generally differs depending on the angle ψ. ψ corresponds to the angle from the waveguide surface when using x-plate and TE-polarized light, and the complementary angle when using z-plate and TM-polarized light. Equation (11)
Due to the dependence, the angle θ 0 in the air of the second harmonic emitted from the end face also changes depending on ψ. In the plane including the z-axis (ψ =
0) and the Cherenkov radiation angles in air in the plane perpendicular to the z-axis (ψ = π / 2) are θ 01 and θ 02 , respectively, and from equations (3) and (11), sin θ 01 = for n 0 (1-n EFF 2 / n e 2) 1/2 ... (12) sinθ 02 = n E (1-n EFF 2 / n e 2) 1/2 ... (13) LiNbO 3, n 0 , ne are the wavelength λ [μm] and the temperature T
The function of [K] is given by the following equation (HVHobden e
t al .: Phys, Lett., Vol. 23, No. 3, pp. 243-244 (196
6). ).

室温(25℃)におけるLiNbO3の屈折率の波長特性を第
4図に示す。基本波及び第2高調波の波長をそれぞれ0.
84μm,0.42μmとした場合の、(1)〜(3)式におけ
るn1,n2,nEFFの関係を図中に示した。上式を用いて計算
した基板内及び空気中での第2高調波の放射角とΔNと
の関係を第5図に示す。ここで、ΔNは導波モードに対
する実効屈折率と基板屈折率との差、即ち ΔN=nEFF−ne(ω) …(16) で与えられ、導波部と基板の屈折率差Δn=n0−n
1(n1=ne(ω))とは以下の関係にある。
FIG. 4 shows the wavelength characteristics of the refractive index of LiNbO 3 at room temperature (25 ° C.). Set the wavelength of the fundamental wave and the second harmonic to 0.
The relationship among n 1 , n 2 , and n EFF in the equations (1) to (3) when 84 μm and 0.42 μm are shown in the figure. FIG. 5 shows the relationship between ΔN and the radiation angle of the second harmonic in the substrate and in the air calculated using the above equation. Here, .DELTA.N the difference between the effective refractive index and a substrate refractive index for the guided mode, i.e. ΔN = n EFF -n e (ω ) ... given by (16), the refractive index difference between the waveguide and the substrate [Delta] n = n 0 −n
1 (n 1 = ne (ω)) has the following relationship.

0<ΔN<Δn …(17) なお、第5図の例では(11)式におけるψが0及びπ
/2の2通りの場合を示した。
0 <ΔN <Δn (17) In the example of FIG. 5, ψ in equation (11) is 0 and π
/ 2 are shown.

θが(11)式で与えられるとき、この光をコリメー
トする波面変換素子として用いる回折格子の格子間隔は
次式で与えられる。
When θ C is given by equation (11), the grating interval of a diffraction grating used as a wavefront conversion element for collimating this light is given by the following equation.

上式から判るように、チェレンコフ放射角のψ依存性
に対応して、格子間隔Λも角度ψによって変わる。ψ=
0のときのΛをΛ、ψ=π/2のときのΛをΛとする
と、Λ,Λはそれぞれ次のように表わされる。
As can be seen from the above equation, the lattice spacing 変 わ る also changes with the angle し て, corresponding to the ψ dependence of the Cherenkov radiation angle. ψ =
Assuming that Λ when 0 is Λ 1 and Λ when ψ = π / 2 is Λ 2 , Λ 1 and Λ 2 are respectively expressed as follows.

Λ=mλ/n0/(1-nEFF 2/ne 2)1/2 …(19) Λ=mλ/ne/(1-nEFF 2/ne 2)1/2 …(20) 0<ψ<π/2ではΛは(19),(20)式の中間の値を
取り、結局、波面変換素子グレーティングの等位相線は
長軸と短軸の比がn0:neの楕円となる。
Λ 1 = mλ 2 / n 0 / (1-n EFF 2 / n e 2) 1/2 ... (19) Λ 2 = mλ 2 / n e / (1-n EFF 2 / n e 2) 1/2 ... (20) When 0 <ψ <π / 2, Λ takes an intermediate value between the expressions (19) and (20), and eventually the equiphase line of the wavefront conversion element grating has a ratio of the major axis to the minor axis of n 0. : an elliptical of n e.

第6図に、1次の回折を用いる場合(m=1)の格子
間隔Λ,ΛとΔNとの関係を示す。グレーティング
加工の観点からはΛが大きい方がよいが、図から、その
ためにはΔNを大きくする必要があることが判る。第6
図より、ΔN=0.135のとき、nEFF(ω)=ne(2ω)
となって、θ=θ=0となり、このときΛ=∞とな
る。
FIG. 6 shows the relationship between ΔN and the lattice spacings Λ 1 , Λ 2 when using first-order diffraction (m = 1). From the viewpoint of the grating processing, it is better that Λ is large, but from the figure, it can be seen that ΔN needs to be increased for that purpose. Sixth
From the figure, when ΔN = 0.135, n EFF (ω) = n e (2ω)
And θ C = θ 0 = 0, and then Λ = Λ.

プロトン交換による導波路形成では、異常光に対する
屈折率差が大きくとれることが知られており、例えばΔ
n=0.13という値が報告されている(谷内他:応用物
理,Vol.56,No.12,pp.1637-1614(1987))。従って、Δ
Nを0.1程度に設定することが可能である。このとき、
第6図より、格子間隔Λは約1μmとなる。この程度の
グレーティングは、例えば電子ビーム描画等により作成
可能である(G.Hatakoshi et al.:Appl.Opt.,Vol.24,N
o.24,pp.4307-4311(1985).)。
It is known that in the formation of a waveguide by proton exchange, a large difference in refractive index with respect to extraordinary light can be obtained.
A value of n = 0.13 has been reported (Taniuchi et al .: Applied Physics, Vol. 56, No. 12, pp. 1637-1614 (1987)). Therefore, Δ
N can be set to about 0.1. At this time,
From FIG. 6, the lattice spacing Λ is about 1 μm. Such a grating can be created by, for example, electron beam lithography (G. Hatakoshi et al .: Appl. Opt., Vol. 24, N.
o.24, pp.4307-4311 (1985). ).

前記第2図に示したグレーティングは、回折効率を上
げるため、断面を鋸歯状としたブレーズ化形状となって
いるが、このようなグレーティングでも電子ビーム描画
時のドーズ量制御等によって形成可能である。なお、第
1図の例では出射光をコリメートするための波面変換素
子の例を示してあるが、グレーティングパターンを変え
ることにより、出射光を収束或いは発散する球面波に変
換する波面変換素子を可能である。この場合にもグレー
ティングパターンはやはり楕円状となる。但し、第2図
に示したようなそれぞれの方向で等間隔のグレーティン
グではなく、不等間隔のグレーティングとなる。
The grating shown in FIG. 2 has a blazed shape with a sawtooth cross section in order to increase the diffraction efficiency, but such a grating can also be formed by controlling the dose during electron beam writing. . Although the example of FIG. 1 shows an example of a wavefront conversion element for collimating the output light, a wavefront conversion element for converting the output light into a convergent or divergent spherical wave by changing the grating pattern is possible. It is. Also in this case, the grating pattern is also elliptical. However, the gratings are not equally spaced in each direction as shown in FIG. 2, but are irregularly spaced gratings.

上述したように第2図に示したグレーティングパター
ンは電子ビーム描画等により作成可能であるが、楕円パ
ターンであるため、機械加工等の他の方法による作成は
困難である。NC旋盤を用いれば同心円パターンのグレー
ティングは比較的容易に作成できるが、第1図の配置で
はこのような同心円パターンのグレーティングを波面変
換素子として利用することはできない。そこで、次に同
心円パターンのグレーティングを波面変換素子として用
いるための構成を示す。
As described above, the grating pattern shown in FIG. 2 can be created by electron beam lithography or the like, but since it is an elliptical pattern, it is difficult to create it by other methods such as machining. Although a concentric pattern grating can be relatively easily formed by using an NC lathe, the concentric pattern grating cannot be used as a wavefront conversion element in the arrangement shown in FIG. Therefore, a configuration for using a grating having a concentric pattern as a wavefront conversion element will now be described.

第7図は、本発明の第2の実施例を示したもので、波
面変換素子として同心円パターンのグレーティングを用
いている。図中20はLiNbO3基板、21は導波部、22は同心
円パターンの回折格子からなる波面変換素子である。こ
の図に示したように、同心円パターンの波面変換素子又
は導波路基板端面を傾けて使用することにより、チェレ
ンコフ放射角の異方性を補正することが可能である。こ
こで、同心円グレーティング波面変換素子及び導波路基
板端面の傾き角をそれぞれφ及びΦとする。導波路がz
板、導波モードがy伝搬のTMモードとすると、このよう
な配置で、出射光をコリメートするためには、グレーテ
ィングの格子間隔Λは(20)式で与えられるΛを用
い、またφ及びΦが次式を満たすように傾き角を設定す
ればよい。
FIG. 7 shows a second embodiment of the present invention, in which a grating having a concentric pattern is used as a wavefront conversion element. In the figure, reference numeral 20 denotes a LiNbO 3 substrate, 21 denotes a waveguide, and 22 denotes a wavefront conversion element composed of a diffraction grating having a concentric pattern. As shown in this figure, it is possible to correct the anisotropy of the Cherenkov radiation angle by using the wavefront conversion element or the waveguide substrate end face in a concentric pattern inclined. Here, the inclination angles of the concentric grating wavefront conversion element and the end face of the waveguide substrate are φ and φ, respectively. The waveguide is z
Plate, the waveguide mode is a TM mode of y propagating, in such an arrangement, in order to collimate the emitted light, the grating spacing lambda of the grating using lambda 2 given by (20), also φ and The tilt angle may be set so that Φ satisfies the following equation.

sin[sin-1{n21sin(θC1−Φ)}+Φ+φ]+sinφ =sinθ02 …(21) (2),(3)式等の関係を用いると上式は次のよう
に変形される。
sin [sin -1 {n 21 sin (θ C1 −φ)} + φ + φ] + sin φ = sin θ 02 (21) Using the relations of equations (2) and (3), the above equation is transformed as follows: .

ここで、θ01及びθ02は(12),(13)式と同じもの
である。x板導波路でy伝搬のTEモードを用いる場合に
は、格子間隔Λとして(19)式で与えられるΛを用
い、上式においてθ01とθ02を交換すればよい。
Here, θ 01 and θ 02 are the same as the expressions (12) and (13). In the case of using the TE mode y propagation in x Itashirube waveguides, using lambda 1 given by the grating spacing lambda (19) equation, to be replaced with theta 01 and theta 02 in the above equation.

第7図の例は波面変換素子及び導波路基板端面の両方
を傾けて使用する場合を示してあるが、片方のみ傾けて
も放射角の異方性の補正は可能である。なお、図中20は
LiNbO3基板、21は導波部、24は基本波、25は基板10中に
伝搬したチェレンコフ放射光(光第2高調波)、26はコ
リメートされた平行光を示している。
Although the example of FIG. 7 shows a case where both the wavefront conversion element and the end face of the waveguide substrate are used in an inclined state, it is possible to correct the anisotropy of the radiation angle by inclining only one of them. In addition, 20 in the figure
LiNbO 3 substrate, 21 is a waveguide, 24 is a fundamental wave, 25 is Cherenkov radiation light (second harmonic light) propagated in the substrate 10, and 26 is collimated parallel light.

第8図は本発明の第3の実施例を示したもので、同心
円パターンの波面変換素子を傾けることにより、放射角
を補正している。この場合の傾き角を求めるには(21)
式でΦ=0とおけばよい。即ち、同心円グレーティング
波面変換素子の傾き角φは次式で与えられる(z板,y伝
搬,TMモードの場合)。
FIG. 8 shows a third embodiment of the present invention, in which a radiation angle is corrected by tilting a wavefront conversion element having a concentric pattern. To find the tilt angle in this case (21)
It is sufficient to set Φ = 0 in the equation. That is, the inclination angle φ of the concentric grating wavefront conversion element is given by the following equation (for z-plate, y-propagation, and TM mode).

但し、 A=(1−cosθ01+sin2θ01−sin2θ02 である。同様にしてx板、TEモードの場合には、上式
は次式で置き換えられる。
Here, A = (1−cos θ 01 ) 2 + sin 2 θ 01 −sin 2 θ 02 . Similarly, in the case of x-plate and TE mode, the above equation is replaced with the following equation.

但し、 B=(1−cosθ02+sin2θ02−sin2θ01 である。φの符号はz板の場合とx板の場合とで異な
る。即ち、(23)式ではφ<0,(24)式ではφ>0とな
る。第9図に(16)式で定義されるΔNとφとの関係を
示した。
Here, B = (1−cos θ 02 ) 2 + sin 2 θ 02 −sin 2 θ 01 . The sign of φ differs between the case of the z plate and the case of the x plate. That is, φ <0 in Expression (23) and φ> 0 in Expression (24). FIG. 9 shows the relationship between ΔN and φ defined by equation (16).

第10図は本発明の第4の実施例を示したもので、導波
路端面のみを傾ける場合を示したものである。この場合
には、(22)式でφ=0と置くことにより、端面傾き角
Φが次式のように求まる(z板,TMモードの場合)。
FIG. 10 shows a fourth embodiment of the present invention, in which only the end face of the waveguide is inclined. In this case, by setting φ = 0 in equation (22), the end surface tilt angle Φ is obtained as in the following equation (in the case of a z-plate, TM mode).

tanΦ=(sinθ01−sinθ02)/(nEFF−cosθ02) ……(25) 同様にして、x板、TEモードの場合には、 tanΦ=(sinθ02−sinθ01)/(nEFF−cosθ01) ……(26) 波面変換素子を傾けて用いる場合と同様に、z板とx
板とでは、Φの符号が異なる。第11図にΔNとΦとの関
係を示した。第9図と第11図とを比較して判るように、
チェレンコフ放射角の異方性補正の効果はφよりΦの方
が大きい。即ち、波面変換素子を傾けるより、基板端面
を傾けた方が、僅かな傾きで済む。これは、ΔNが大き
い程顕著である。ΔN=0.135のとき、即ち、n
EFF(ω)=ne(2ω)のときは、Φによる補正は0で
あるにもかかわらず、φによる補正が必要となるのは矛
盾しているようであるが、これは、このときにθ01=θ
02=0となり、格子間隔が無限大となって、φが不定と
なるからである。
tanΦ = (sin θ 01 −sin θ 02 ) / (n EFF −cos θ 02 ) (25) Similarly, in the case of x-plate and TE mode, tan Φ = (sin θ 02 −sin θ 01 ) / (n EFF − cosθ 01 ) (26) As in the case where the wavefront conversion element is used at an angle, the z plate and x
The sign of Φ is different from the plate. FIG. 11 shows the relationship between ΔN and Φ. As can be seen by comparing FIG. 9 and FIG. 11,
The effect of anisotropy correction of the Cherenkov radiation angle is larger for Φ than for φ. In other words, a slight inclination is required when the substrate end surface is inclined rather than when the wavefront conversion element is inclined. This is more remarkable as ΔN increases. When ΔN = 0.135, ie, n
When the EFF (ω) = n e ( 2ω), even though the correction by Φ 0, but the required correction by φ seems contradictory, which, in this case θ 01 = θ
This is because 02 = 0, the lattice spacing becomes infinite, and φ becomes indefinite.

第12図は本発明の第5の実施例を示したもので、導波
路基板端面及び波面変換素子の両方を同じ向きに傾ける
場合を示したものである。この配置では、波面変換素子
を基板端面に接着できるので、位置合わせが容易であ
る。このときの傾き角は(22)式でΦ=φと置けばよ
い。即ち、z板、TMモードの場合、端面傾き角Φは次式
で与えられる。
FIG. 12 shows a fifth embodiment of the present invention, in which both the end face of the waveguide substrate and the wavefront conversion element are inclined in the same direction. In this arrangement, the wavefront conversion element can be bonded to the end face of the substrate, so that the alignment is easy. The inclination angle at this time may be set as Φ = φ in equation (22). That is, in the case of the z plate and the TM mode, the end surface inclination angle Φ is given by the following equation.

但し、 C=(nEFF-1)2+sin2θ01−sin2θ02 である。同様にしてx板、TMモードの場合には、上式
は次式で置き換えられる。
Here, C = (n EFF −1) 2 + sin 2 θ 01 −sin 2 θ 02 . Similarly, in the case of x-plate and TM mode, the above equation is replaced by the following equation.

但し、 C=(nEFF-1)2+sin2θ02−sin2θ01 である。なお、第13図に、(27),(28)式で与えら
れるΔNとΦとの関係を示した。
Here, C = (n EFF −1) 2 + sin 2 θ 02 −sin 2 θ 01 . FIG. 13 shows the relationship between ΔN and Φ given by equations (27) and (28).

このように、本発明の第1の実施例によれば、チェレ
ンコフ放射方式の波長変換光学素子において、第2図に
示したような楕円パターンの回折格子からなる波面変換
素子を設けることにより、光導波路から出射される第2
高調波ビームのコリメート或いは集光が可能となる。ま
た、第2乃至第5の実施例のように、波面変換素子及び
光導波路基板端面の少なくとも一方を傾けて使用する配
置を採用することにより、波面変換素子として作成が容
易な同心円パターンの回折格子を用いることができ、こ
の場合もコリメートされた第2高調波ビームを得ること
が可能となる。従って、入射光源として半導体レーザを
用いることにより、従来の半導体レーザでは得られない
短波長の緑色或いは青色の光源を実現することができ
る。
As described above, according to the first embodiment of the present invention, in the wavelength conversion optical element of the Cherenkov radiation method, by providing the wavefront conversion element including the elliptical pattern diffraction grating as shown in FIG. The second emitted from the waveguide
It becomes possible to collimate or condense the harmonic beam. Further, by adopting an arrangement in which at least one of the wavefront conversion element and the end face of the optical waveguide substrate is used in an inclined manner as in the second to fifth embodiments, a diffraction grating having a concentric pattern that can be easily formed as a wavefront conversion element. Can be used, and also in this case, a collimated second harmonic beam can be obtained. Therefore, by using a semiconductor laser as the incident light source, it is possible to realize a green or blue light source with a short wavelength, which cannot be obtained with a conventional semiconductor laser.

なお、本発明は上述した各実施例に限定されるもので
はない。例えば、光導波路の基板としては、LiNbO3の代
わりに、LiTaO3,KNbO3,LiIO3,KTP等の無機非線形材料や
MNA,DAN等の有機非線形材料を用いることができる。ま
た、光導波路の構成は、基板上に薄膜状の導波層を形成
したものに限るものではなく、第14図に示す如くLiNbO3
等の非線形材料からなる基板90の表面部に不純物拡散に
よる導波部を形成したものであってもよい。さらに、基
板及び導波層は必ずしも両方が非線形光学材料である必
要はなく、これらの少なくとも一方が非線形光学材料で
あればよい。その他、本発明の要旨を逸脱しない範囲
で、種々変形して実施することができる。
Note that the present invention is not limited to the above-described embodiments. For example, instead of LiNbO 3 , an inorganic nonlinear material such as LiTaO 3 , KNbO 3 , LiIO 3 , KTP, etc.
Organic nonlinear materials such as MNA and DAN can be used. The configuration of the optical waveguide is not limited to those of forming the thin film waveguide layer on a substrate, LiNbO 3 as shown in FIG. 14
A waveguide portion formed by impurity diffusion may be formed on the surface of the substrate 90 made of a non-linear material such as. Further, both the substrate and the waveguide layer need not necessarily be nonlinear optical materials, and at least one of them may be a nonlinear optical material. In addition, various modifications can be made without departing from the scope of the present invention.

[発明の効果] 以上詳述したように本発明によれば、波面変換素子を
楕円若しくは同心円パターンの回折格子で形成し、半径
方向に関する回折格子の等価的な格子ピッチを第2高調
波ビームの広がり角に応じて変えるようにしているの
で、チェレンコフ放射により光導波路から出射された軸
対称性を持たない光第2高調波ビームをコリメート或い
は集光させることができ、小型で短波長の光源を簡易に
実現することが可能となる。
[Effects of the Invention] As described in detail above, according to the present invention, the wavefront conversion element is formed by a diffraction grating having an elliptical or concentric pattern, and the equivalent grating pitch of the diffraction grating in the radial direction is adjusted by the second harmonic beam. Since it is changed according to the divergence angle, it is possible to collimate or condense the optical second harmonic beam having no axial symmetry emitted from the optical waveguide by Cherenkov radiation, and to use a small, short-wavelength light source. It can be easily realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は本発明の第1の実施例に係わる波長変換光学素
子の概略構成を示す断面図、第2図は上記実施例に用い
る波面変換素子の構造例を示す図、第3図はLiNbO3の屈
折率について説明するための図、第4図はLiNbO3の屈折
率と波長との関係を示す特性図、第5図はチェレンコフ
放射角とΔNとの関係を示す特性図、第6図は波面変換
素子の格子間隔とΔNとの関係を示す特性図、第7図乃
至第13図はそれぞれ本発明の他の実施例を説明するため
のもので、第7図,第8図,第10図及び,第12図は素子
構成を示す断面図、第9図,第11図及び第13図は傾き角
φとΔNとの関係を示す特性図、第14図は本発明の変形
例を示す斜視図、第15図は従来の波長変換光学素子の一
例を示す斜視図である。 10,20,30,40,50……LiNbO3基板、11,21,31,41,51……導
波部、12,22,32,42,52……波面変換素子、13……導波路
基板端面、14,24……基本波、15……チェレンコフ放射
光、16,26……出射光。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of a wavelength conversion optical element according to a first embodiment of the present invention, FIG. 2 is a view showing an example of the structure of a wavefront conversion element used in the above-described embodiment, and FIG. view for explaining the refractive index of 3, FIG. 4 is a characteristic diagram showing the relationship between the refractive index and the wavelength of LiNbO 3, Figure 5 is a characteristic diagram showing the relationship between the Cerenkov radiation angle and .DELTA.N, Figure 6 FIG. 7 is a characteristic diagram showing the relationship between the lattice spacing of the wavefront conversion element and ΔN, and FIGS. 7 to 13 are diagrams for explaining another embodiment of the present invention. 10 and 12 are cross-sectional views showing the element configuration, FIGS. 9, 11, and 13 are characteristic diagrams showing the relationship between the inclination angle φ and ΔN, and FIG. 14 is a diagram showing a modification of the present invention. FIG. 15 is a perspective view showing an example of a conventional wavelength conversion optical element. 10, 20, 30, 40, 50 ... LiNbO 3 substrate, 11, 21, 31, 41, 51 ... waveguide unit, 12, 22, 32, 42, 52 ... wavefront conversion element, 13 ... waveguide Substrate end face, 14, 24… fundamental wave, 15… Cherenkov radiation, 16, 26… outgoing light.

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】導波層及び基板の少なくとも一方が非線形
光学材料で形成され、基本波が導波モード、第2高調波
がチェレンコフ放射光となるように導波層及び基板の屈
折率が設定された光導波路と、この光導波路の光出射端
面に接して又は対向して設けられ、該端面から出射され
た光の波面を変換する波面変換素子とを備えた波長変換
光学素子において、 前記波面変換素子が楕円パターンの一部からなる回折格
子で形成されてなることを特徴とする波長変換光学素
子。
1. The refractive index of a waveguide layer or a substrate is set so that at least one of a waveguide layer and a substrate is formed of a nonlinear optical material, a fundamental wave is a waveguide mode, and a second harmonic is Cherenkov radiation. A wavelength conversion optical element, comprising: an optical waveguide that is provided, and a wavefront conversion element that is provided in contact with or opposite to a light emitting end face of the optical waveguide and converts a wavefront of light emitted from the end face. A wavelength conversion optical element, wherein the conversion element is formed by a diffraction grating composed of a part of an elliptical pattern.
【請求項2】光第2高調波の波長における常光及び異常
光に対する前記基板の屈折率をそれぞれn0,neとしたと
き、前記楕円パターンの長軸と短軸との比がn0:neであ
ることを特徴とする請求項1記載の波長変換光学素子。
Wherein when the refractive index of the substrate with respect to ordinary light and extraordinary light in the wavelength of the light second harmonic was n 0, n e, respectively, the ratio of the major axis to the minor axis of the elliptical pattern n 0: optical wavelength conversion element according to claim 1, characterized in that it is a n e.
【請求項3】導波層及び基板の少なくとも一方が非線形
光学材料で形成され、基本波が導波モード、第2高調波
がチェレンコフ放射光となるように導波層及び基板の屈
折率が設定された光導波路と、この光導波路の光軸に垂
直な光出射端面に接して又は対向して設けられ、該端面
から出射された光の波面を変換する波面変換素子とを備
えた波長変換光学素子において、 前記波面変換素子が等間隔の同心円パターンの一部から
なる回折格子で形成され、且つ前記光出射端面及び波面
変換素子の少なくとも一方が、前記導波層に垂直な面か
ら傾いていることを特徴とする波長変換光学素子。
3. The refractive index of the waveguide layer and the substrate is set so that at least one of the waveguide layer and the substrate is formed of a nonlinear optical material, the fundamental wave is in a waveguide mode, and the second harmonic is Cherenkov radiation. Wavelength conversion optics, comprising: a guided optical waveguide; and a wavefront conversion element provided in contact with or facing a light emitting end face perpendicular to the optical axis of the optical waveguide, and converting a wavefront of light emitted from the end face. In the device, the wavefront conversion element is formed of a diffraction grating composed of a part of an equidistant concentric pattern, and at least one of the light emitting end face and the wavefront conversion element is inclined from a plane perpendicular to the waveguide layer. A wavelength conversion optical element, characterized in that:
【請求項4】前記光出射端面及び波面変換素子の傾き角
が同じであることを特徴とする請求項3記載の波長変換
光学素子。
4. The wavelength conversion optical element according to claim 3, wherein the light emitting end face and the wavefront conversion element have the same inclination angle.
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