JP2833373B2 - Imaging infrared detector and method of manufacturing the same - Google Patents

Imaging infrared detector and method of manufacturing the same

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JP2833373B2
JP2833373B2 JP4243419A JP24341992A JP2833373B2 JP 2833373 B2 JP2833373 B2 JP 2833373B2 JP 4243419 A JP4243419 A JP 4243419A JP 24341992 A JP24341992 A JP 24341992A JP 2833373 B2 JP2833373 B2 JP 2833373B2
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知史 上田
幸広 ▲吉▼田
耕治 ▲廣▼田
浩幸 土田
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は赤外線を画像情報として
検出するために所定の配列ピッチで配置された多数の赤
外線検出素子からなる撮像用赤外線検出器およびその製
造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an imaging infrared detector comprising a large number of infrared detecting elements arranged at a predetermined pitch for detecting infrared light as image information, and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、赤外線検出器の赤外線検出素子
はサファイア基板上に搭載されたHgCdTe結晶部からな
り、このHgCdTe結晶部には一対の電極が接続される。一
対の電極間に所定の電圧を印加させた状態でHgCdTe結晶
部に赤外線を照射すると、その照射量に応じて該一対の
電極間の電圧が変動する。このような赤外線検出素子を
用いて画像情報を検出するためには、図8に図示するよ
うに、サファイア基板10上に多数の赤外線検出素子1
2が一直線上に所定の配列ピッチで配置され、このよう
な赤外線検出素子配列領域には撮像用走査光学系によっ
て得られた画像情報検出光(赤外線)が入射させられ
る。各時間間隔で赤外線検出素子配列領域に入射させら
れた画像情報検出光は個々の赤外線検出素子12で電圧
変動として検出され、各赤外線検出素子10の電圧変動
値は再生画像の一画素データとして処理される。
2. Description of the Related Art Generally, an infrared detecting element of an infrared detector comprises an HgCdTe crystal part mounted on a sapphire substrate, and a pair of electrodes is connected to the HgCdTe crystal part. When the HgCdTe crystal part is irradiated with infrared rays while a predetermined voltage is applied between the pair of electrodes, the voltage between the pair of electrodes fluctuates according to the irradiation amount. In order to detect image information using such an infrared detecting element, a large number of infrared detecting elements 1 are placed on a sapphire substrate 10 as shown in FIG.
2 are arranged at a predetermined arrangement pitch on a straight line, and image information detection light (infrared rays) obtained by the imaging scanning optical system is made incident on such an infrared detection element arrangement area. The image information detection light incident on the infrared detection element array area at each time interval is detected as voltage fluctuation by each infrared detection element 12, and the voltage fluctuation value of each infrared detection element 10 is processed as one pixel data of a reproduced image. Is done.

【0003】このような撮像用赤外線検出器で良好な画
像情報を検出するためには、個々の赤外線検出素子10
の検出感度を上げることが必要である。詳述すると、各
赤外線検出素子10には上述の撮像用走査光学系によっ
て絞られた画像情報検出光だけが入射させられるべきで
あり、その他の赤外線すなわちノイズとなる背景光の入
射は可及的に排除されなけらばならない。そこで、従来
では、図8に示すように、赤外線検出素子配列領域には
コールドアパチャーと呼ばれる背景光規制部材14が設
けられ、この背景光規制部材12には各赤外線検出素子
12の位置に対応した箇所にアパチャーすなわち開口1
6が形成される。開口16の横断面形状は矩形状および
円形状のいずれでもよいが、その開口寸法については画
像情報検出光の入射角αに見合うような大きさとされ、
これにより各赤外線検出素子10への背景光の入射が可
及的に阻止されて、個々の赤外線検出10の検出感度が
高められることになる。なお、作動時、背景光規制部材
すなわちコールドアパチャー14自体はその名称からも
明らかなように80K(-200C)程度まで冷却され、該コール
ドアパチャー14からの赤外線輻射(ノイズ)が可及的
に抑えられる。
In order to detect good image information with such an infrared detector for imaging, it is necessary to use individual infrared detecting elements 10
It is necessary to increase the detection sensitivity. More specifically, only the image information detection light focused by the above-described imaging scanning optical system should be made incident on each infrared detection element 10, and the incidence of other infrared rays, that is, background light that is noise, is as large as possible. Must be eliminated. Therefore, conventionally, as shown in FIG. 8, a background light regulating member 14 called a cold aperture is provided in the infrared detecting element array region, and the background light regulating member 12 corresponds to the position of each infrared detecting element 12. Aperture or opening 1 in place
6 are formed. The cross-sectional shape of the opening 16 may be any of a rectangular shape and a circular shape, and the size of the opening is set to a size corresponding to the incident angle α of the image information detection light.
As a result, the incidence of background light to each infrared detecting element 10 is prevented as much as possible, and the detection sensitivity of each infrared detecting element 10 is enhanced. During operation, the background light regulating member, that is, the cold door aperture 14 itself is cooled down to about 80 K (-200 C) as the name implies, and infrared radiation (noise) from the cold door aperture 14 is suppressed as much as possible. Can be

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする問題点】ところで、上述した
撮像用光学系によって規定される入射角αの角度領域に
は不可避的にノイズ光が存在し、このようなノイズ光の
中には、図9に示すように、個々の赤外線検出素子12
の側面に入射するようになったノイズ光Nも含まれる。
なお、開口16は赤外線検出素子10の検出領域よりも
大きな寸法を持つ。かかるノイズ光Nは赤外線検出素子
12の側面で乱反射して迷光となって、隣接した赤外線
検出素子12によって検出され、かくして再生画像が不
鮮明になったり、また著しい場合にはゴーストが発生し
たりする。したがって、本発明の目的は、赤外線を画像
情報として検出するために所定の配列ピッチで配置され
た多数の赤外線検出素子からなる撮像用赤外線検出器で
あって、個々の赤外線検出素子の側面に入射したノイズ
光が隣接した赤外線検出素子によって検出されないよう
に構成された撮像用赤外線検出器を提供することであ
る。また、本発明は上述したような撮像用赤外線検出器
を低コストで経済的に製造する製造方法を提供すること
も目的とする。
However, noise light inevitably exists in the angle region of the incident angle α defined by the above-described imaging optical system. As shown in FIG.
The noise light N that is incident on the side surface is also included.
Note that the opening 16 has a size larger than the detection area of the infrared detection element 10. Such noise light N is diffusely reflected on the side surface of the infrared detecting element 12 to become stray light, and is detected by the adjacent infrared detecting element 12, so that the reproduced image becomes unclear or, in a remarkable case, a ghost occurs. . Therefore, an object of the present invention is to provide an imaging infrared detector including a large number of infrared detection elements arranged at a predetermined arrangement pitch for detecting infrared light as image information, the light being incident on a side surface of each infrared detection element. An object of the present invention is to provide an imaging infrared detector configured to prevent the noise light from being detected by an adjacent infrared detection element. Another object of the present invention is to provide a manufacturing method for manufacturing the above-described infrared detector for imaging at low cost and economically.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明によれば、基板上
に所定の配列ピッチで配置された複数の赤外線検出素子
からなる撮像用赤外線検出器において、互いに隣接する
2つの赤外線検出素子の中間箇所に遮光用障壁を設け、
前記遮光用障壁が前記赤外線検出素子と同じ材料からな
ことが特徴とされる。また、本発明による製造方法に
おいては、先ず、基板上に赤外線検出素子材料層が形成
され、該赤外線検出素子材料層上に赤外線検出素子の配
列箇所に対応して第1のレジストが適用されると共にそ
の隣接した2つの配列箇所の中間箇所でその横切り方向
に沿ってしかも少なくとも該赤外線検出素子の寸法以上
に亘って第2のレジストが適用される。その後、赤外線
検出素子材料層にエッチング処理が施されて、第1およ
び第2のレジストの適用箇所以外の赤外線検出素子材料
が除去され、これにより所定の配列ピッチで赤外線検出
素子が形成されると共にその隣接した2つの赤外線検出
素子の中間箇所に遮光用障壁が形成され、次いで第1お
よび第2のレジストが除去される。
According to the present invention, there is provided an imaging infrared detector comprising a plurality of infrared detectors arranged at a predetermined arrangement pitch on a substrate, the intermediate between two adjacent infrared detectors. setting a light-shielding barrier position,
The light shielding barrier is made of the same material as the infrared detecting element.
That it is characterized. In the manufacturing method according to the present invention, first, an infrared detecting element material layer is formed on a substrate, and a first resist is applied on the infrared detecting element material layer in correspondence with the arrangement of the infrared detecting elements. At the same time, the second resist is applied in the middle of the two adjacent arrangement points along the cross direction and at least over the size of the infrared detecting element. Thereafter, the infrared detecting element material layer is subjected to an etching treatment to remove the infrared detecting element material other than the application locations of the first and second resists, thereby forming the infrared detecting elements at a predetermined arrangement pitch and A light-shielding barrier is formed at an intermediate position between the two adjacent infrared detecting elements, and then the first and second resists are removed.

【0006】[0006]

【作用】以上の記載から明らかなように、本発明による
撮像用赤外線検出器にあっては、互いに隣接する2つの
赤外線検出素子の中間箇所に遮光用障壁が設けられるの
で、その一方の赤外線検出素子の側面に入射したノイズ
光が他方の赤外線検出素子に向かって反射したとして
も、その反射ノイズ光は遮光用障壁に遮られて該他方の
赤外線検出素子に到達することはない。また、本発明に
よる製造方法においては、赤外線検出素子材料層上に赤
外線検出素子の配列箇所に対応して第1のレジストが適
用される際には、その隣接した2つの配列箇所の中間箇
所でその横切り方向に沿ってしかも少なくとも該赤外線
検出素子の寸法以上に亘って第2のレジストも適用され
るので、該赤外線検出素子材料層にエッチング処理が施
された後には、所定の配列ピッチで赤外線検出素子が形
成されると共にその隣接した2つの赤外線検出素子の中
間箇所に遮光用障壁が形成されることになる。すなわ
ち、本発明による製造方法にあっては、赤外線検出素子
の形成時に遮光用障壁も同時に得られることになる。
As apparent from the above description, in the infrared detector for imaging according to the present invention, a light-shielding barrier is provided at an intermediate portion between two infrared detecting elements adjacent to each other. Even if the noise light incident on the side surface of the element is reflected toward the other infrared detecting element, the reflected noise light is not blocked by the light shielding barrier and does not reach the other infrared detecting element. Further, in the manufacturing method according to the present invention, when the first resist is applied to the infrared detection element material layer in correspondence with the arrangement of the infrared detection elements, the first resist is applied at an intermediate point between the two adjacent arrangement points. Since the second resist is also applied along the transverse direction and at least over the dimensions of the infrared detecting element, after the infrared detecting element material layer is subjected to the etching treatment, the infrared ray is applied at a predetermined arrangement pitch. The detection element is formed, and a light-shielding barrier is formed at an intermediate position between two adjacent infrared detection elements. That is, in the manufacturing method according to the present invention, a light-shielding barrier can be obtained at the same time when the infrared detecting element is formed.

【0007】[0007]

【実施例】次に、添付図面の図1ないし図6を参照し
て、本発明による撮像用赤外線検出器ならびにその製造
方法について詳細に説明する。図1には本発明による撮
像用赤外線検出器の一部が断面図として図示され、この
赤外線検出器は基本的には図8に示したものと同様な構
成を持つものである。なお、図1では、図8と同様な構
成要素については同じ参照符号が用いられる。図1に示
す実施例では、基板10はサファイア基板として形成さ
れ、このサファイア基板10上にはHgCdTe結晶からなる
多数の赤外線検出素子12が搭載される。これら赤外線
検出素子12は所定の配列ピッチ例えば100 ミクロンの
間隔で互いに一直線上に配置され、各赤外線検出素子1
2の寸法形状は例えば50×50ミクロンとされる。このよ
うな赤外線検出素子配列領域には背景光規制部材すなわ
ちコールドアパチャー14が設けられ、このコールドア
パチャー14には開口16が形成される。先に述べたよ
うに、コールドアパチャー14は個々の赤外線検出素子
12への背景光の入射を可及的に阻止するためのもので
あり、これにより各赤外線検出素子12の検出感度が高
められる。
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a perspective view of an infrared detector for imaging according to the present invention; FIG. FIG. 1 is a cross-sectional view of a part of an imaging infrared detector according to the present invention. This infrared detector has basically the same configuration as that shown in FIG. In FIG. 1, the same reference numerals are used for the same components as those in FIG. In the embodiment shown in FIG. 1, the substrate 10 is formed as a sapphire substrate, on which a number of infrared detecting elements 12 made of HgCdTe crystal are mounted. These infrared detecting elements 12 are arranged in a straight line at a predetermined arrangement pitch, for example, at an interval of 100 microns.
The dimensional shape of the second is, for example, 50 × 50 microns. A background light regulating member, that is, a cold door aperture 14 is provided in such an infrared detecting element array region, and an opening 16 is formed in the cold door aperture 14. As described above, the cold aperture 14 serves to prevent the background light from being incident on the individual infrared detecting elements 12 as much as possible, thereby increasing the detection sensitivity of each infrared detecting element 12.

【0008】本発明によれば、互いに隣接する2つの赤
外線検出素子12の中間箇所には遮光用障壁18が設け
られ、この遮光用障壁18は該2つの赤外線検出素子1
2の横切り方向に沿ってしかも少なくとも該赤外線検出
素子の寸法以上に亘って延在する。このため図1に示す
ように、一方の赤外線検出素子12の側面に入射したノ
イズ光Nが乱反射されて迷光となって、その隣接した赤
外線検出素子12に向かったとしても、その迷光は遮光
用障壁18に遮られて該隣接赤外線検出素子12に到達
することはない。
According to the present invention, a light-shielding barrier 18 is provided at an intermediate position between two infrared detecting elements 12 adjacent to each other, and the light-shielding barrier 18 is provided between the two infrared detecting elements 1.
2 and extends over at least the dimension of the infrared detecting element. For this reason, as shown in FIG. 1, even if the noise light N incident on the side surface of one of the infrared detection elements 12 is irregularly reflected and becomes stray light, even if it goes to the adjacent infrared detection element 12, the stray light is It does not reach the adjacent infrared detecting element 12 because it is blocked by the barrier 18.

【0009】図2を参照すると、図1に示した本発明に
よる撮像用赤外線検出器の変形実施例が示され、この変
形実施例では、コールドアパチャー14の厚みが増大さ
れ、これにより遮光用障壁18の頂面が該コールドアパ
チャー14に対して支承面を提供するようになってい
る。撮像用赤外線検出器がその作動中に外力による振動
を受けた際にコールドアパチャー14も振動し易く、こ
のとき再生画像が乱れることになるが、しかし遮光用障
壁18の頂面をコールドアパチャー14に対する支承面
とすることにより、該コールドアパチャー14を効果的
に抑えることができる。なお、遮光用障壁18の頂面と
コールドアパチャー14との間を接着剤等で適宜固着す
ることが好ましい。
Referring to FIG. 2, there is shown a modified embodiment of the imaging infrared detector according to the present invention shown in FIG. 1, in which the thickness of the cold door aperture 14 is increased, whereby the light shielding barrier is increased. A top surface 18 provides a bearing surface for the cold aperture 14. When the imaging infrared detector is vibrated by an external force during its operation, the cold door aperture 14 is also likely to vibrate. At this time, the reproduced image is disturbed. By using the bearing surface, the cold door aperture 14 can be effectively suppressed. Note that it is preferable that the top surface of the light-shielding barrier 18 and the cold door aperture 14 are appropriately fixed with an adhesive or the like.

【0010】図1および図2に示した実施例において、
遮光用障壁18を赤外線検出素子12と同じ材料で形成
することが好ましく、この場合には撮像用赤外線検出器
の製造工程に遮光用障壁18を形成するための特別なプ
ロセスを導入することが排除され得る。以下に図3ない
し図6を参照して、そのような撮像用赤外線検出器の製
造方法について説明する。
In the embodiment shown in FIGS. 1 and 2,
It is preferable that the light-shielding barrier 18 is formed of the same material as that of the infrared detecting element 12. In this case, it is not necessary to introduce a special process for forming the light-shielding barrier 18 in the manufacturing process of the imaging infrared detector. Can be done. Hereinafter, a method for manufacturing such an imaging infrared detector will be described with reference to FIGS.

【0011】先ず、図3に示すように、サファイア基板
10上に赤外線検出素子材料層すなわちHgCdTe結晶層2
0が周知の方法で形成され、次いで図4に示すように、
HgCdTe結晶層20上に赤外線検出素子12の配列箇所に
対応して第1のレジスト22が適用され、このとき同時
にその互いに隣接する2つの配列箇所の中間箇所でその
横切り方向に沿ってしかも少なくとも赤外線検出素子1
2の寸法以上に亘って第2のレジスト24が適用され
る。その後、HgCdTe結晶層20にエッチング処理が施さ
れて、図5に示すように第1および第2のレジスト22
および24の適用箇所以外のHgCdTe結晶材料が除去さ
れ、これにより所定の配列ピッチで赤外線検出素子12
が形成されると共にその隣接した2つの赤外線検出素子
の中間箇所に遮光用障壁18が形成され、次いで図6に
示すように第1および第2のレジストが除去される。続
いて、各赤外線検出素子12に対してサファイア基板1
0上に一対の電極(図示されない)が周知の方法で形成
され、その後にコールドアパチャーを設置することによ
り、図1および図2に示すような撮像用赤外線検出器が
得られる。なお、上述したように、遮光用障壁18を赤
外線検出素子12と共に形成した場合には、従来の撮像
用赤外線検出器の製造プロセスを実質的に変更すること
なく本発明による撮像用赤外線検出器が得られるという
利点はあるが、しかしながら必要に応じて遮光用障壁1
8をサファイア基板10に赤外線検出素子12とは別の
材料で付加的に形成してもよいことは言うまでもない。
First, as shown in FIG. 3, an infrared detecting element material layer, that is, an HgCdTe crystal layer 2 is formed on a sapphire substrate 10.
0 is formed in a known manner, and then as shown in FIG.
A first resist 22 is applied on the HgCdTe crystal layer 20 in correspondence with the arrangement of the infrared detecting elements 12, and at the same time, at the middle of the two adjacent arrangements, along the transverse direction and at least the infrared. Detection element 1
The second resist 24 is applied over a dimension of 2 or more. After that, the HgCdTe crystal layer 20 is subjected to an etching process, and as shown in FIG.
And the HgCdTe crystal material other than the application location of 24 is removed, and thereby the infrared detecting elements 12 are arranged at a predetermined arrangement pitch.
Is formed and a light-shielding barrier 18 is formed at an intermediate position between two adjacent infrared detecting elements, and then the first and second resists are removed as shown in FIG. Subsequently, the sapphire substrate 1 is
A pair of electrodes (not shown) are formed on the substrate 0 by a well-known method, and thereafter, a cold aperture is installed to obtain an imaging infrared detector as shown in FIGS. As described above, when the light-shielding barrier 18 is formed together with the infrared detection element 12, the imaging infrared detector according to the present invention can be used without substantially changing the manufacturing process of the conventional imaging infrared detector. However, if necessary, the light-shielding barrier 1 may be used.
Needless to say, 8 may be additionally formed on the sapphire substrate 10 using a material different from the infrared detecting element 12.

【0012】図7を参照すると、本発明による撮像用赤
外線検出器の別の実施例が示され、この実施例では、遮
光用障壁18’はコールドアパチャー14から吊下する
態様で一体的に形成される。コールドアパチャー14は
精密加工が可能な適当な金属材料例えばコバール、ステ
ンレススチール、アルミニウム等を用いてもよく、ある
いはSi、ZnS のような半導体材料やセラミック等も適し
ており、このとき遮光用障壁18’は該コールドアパチ
ャー14と同一材料でもって一体的に形成される。この
ような実施例では、コールドアパチャー14の振動を効
果的に阻止され得る。なお、好ましくは、遮光用障壁1
8’の底面はサファイア基板10上に適宜固着される。
Referring to FIG. 7, another embodiment of the imaging infrared detector according to the present invention is shown. In this embodiment, the light shielding barrier 18 ′ is integrally formed so as to be suspended from the cold door aperture 14. Is done. The cold aperture 14 may be made of an appropriate metal material capable of precision processing, for example, Kovar, stainless steel, aluminum, or the like, or a semiconductor material such as Si or ZnS, or a ceramic. 'Is formed integrally with the same material as the cold aperture 14. In such an embodiment, the vibration of the cold door aperture 14 can be effectively prevented. Preferably, the light shielding barrier 1 is used.
The bottom surface of 8 'is appropriately fixed on the sapphire substrate 10.

【0013】[0013]

【発明の効果】以上の記載から明らかなように、本発明
による撮像用赤外線検出器にあっては、各赤外線検出素
子の側面に入射したノイズ光がそこで乱反射して迷光と
なっても、その迷光が隣接した赤外線検出素子に到達す
ることが遮光用障壁によって確実に阻止されるので、鮮
明な再生画像を得ることができる。また、本発明による
製造方法においては、従来の撮像用赤外線検出器の製造
プロセスを実質的に変更することなく利用することがで
きるので、、本発明による撮像用赤外線検出器を付加的
なコストなしに得ることが可能である。
As is clear from the above description, in the imaging infrared detector according to the present invention, even if noise light incident on the side surface of each infrared detection element is irregularly reflected there and becomes stray light, The stray light is reliably prevented from reaching the adjacent infrared detecting element by the light-shielding barrier, so that a clear reproduced image can be obtained. In addition, in the manufacturing method according to the present invention, since the manufacturing process of the conventional imaging infrared detector can be used without substantially changing the same, the imaging infrared detector according to the present invention can be used without additional cost. It is possible to obtain.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明による撮像用赤外線検出器の一実施例を
示す部分縦断面図である。
FIG. 1 is a partial longitudinal sectional view showing an embodiment of an imaging infrared detector according to the present invention.

【図2】図1と同様な縦断面図であって、図1の実施例
の変形例を示す図である。
FIG. 2 is a longitudinal sectional view similar to FIG. 1, showing a modification of the embodiment of FIG. 1;

【図3】本発明による製造方法の最初のプロセスを示す
部分断面図である。
FIG. 3 is a partial sectional view showing an initial process of the manufacturing method according to the present invention.

【図4】図3と同様な部分断面図であって、図3に示し
たプロセスに引き続くプロセスを示す図である。
FIG. 4 is a partial cross-sectional view similar to FIG. 3, showing a process that follows the process shown in FIG. 3;

【図5】図4と同様な部分断面図であって、図4に示し
たプロセスに引き続くプロセスを示す図である。
5 is a partial cross-sectional view similar to FIG. 4, illustrating a process subsequent to the process illustrated in FIG. 4;

【図6】図5と同様な部分断面図であって、図5に示し
たプロセスに引き続くプロセスを示す図である。
6 is a partial cross-sectional view similar to FIG. 5, showing a process that follows the process shown in FIG. 5;

【図7】本発明による撮像用赤外線検出器の別の実施例
を示す部分縦断面図である。
FIG. 7 is a partial vertical sectional view showing another embodiment of the imaging infrared detector according to the present invention.

【図8】従来の撮像用赤外線検出器を示す部分縦断面図
である。
FIG. 8 is a partial longitudinal sectional view showing a conventional imaging infrared detector.

【図9】図8と同様な部分断面図であって、従来の撮像
用赤外線検出器の問題点を説明する説明図である。
FIG. 9 is a partial cross-sectional view similar to FIG. 8, and is an explanatory view illustrating a problem of a conventional infrared detector for imaging.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…サファイア基板 12…赤外線検出素子 14…コールドアパチャー 16…開口 18・18’…遮光用障壁 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Sapphire board 12 ... Infrared ray detection element 14 ... Cold door aperture 16 ... Opening 18.18 '... Light-shielding barrier

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ▲廣▼田 耕治 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (72)発明者 土田 浩幸 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (56)参考文献 特開 平2−165672(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01L 27/14 - 27/148 H01L 29/762 - 29/768──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor ▲ Hiro ▼ Ta Koji 1015 Uedanaka, Nakahara-ku, Kawasaki City, Kanagawa Prefecture Inside Fujitsu Limited (72) Inventor Hiroyuki Tsuchida 1015 Kamiodanaka, Nakahara-ku, Kawasaki City, Kanagawa Prefecture Fujitsu Stock In-company (56) References JP-A-2-165672 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) H01L 27/14-27/148 H01L 29/762-29/768

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 基板(10)上に所定の配列ピッチで配
置された複数の赤外線検出素子(12)からなる撮像用
赤外線検出器において、互いに隣接する2つの赤外線検
出素子(12)の中間箇所に遮光用障壁(18、1
8’)を設け、前記遮光用障壁(18)が前記赤外線検
出素子(12)と同じ材料からなることを特徴とする撮
像用赤外線検出器。
1. An imaging infrared detector comprising a plurality of infrared detecting elements (12) arranged at a predetermined pitch on a substrate (10), an intermediate point between two adjacent infrared detecting elements (12). Shielding barriers (18, 1
8 ') a set only, the light-shielding barrier (18) is the infrared detection
An infrared detector for imaging, comprising the same material as the output element (12) .
【請求項2】 請求項1に記載の撮像用赤外線検出器に
おいて、前記赤外線検出素子(12)の配列領域に該赤
外線検出素子(12)の個々への背景光の入射を規制す
べくコールドアパチャー(14)が設けられ、前記遮光
用障壁(18)が前記コールドアパチャー(14)に対
する支承面を提供することを特徴とする撮像用赤外線検
出器。
2. An infrared detector for imaging according to claim 1 , wherein a cold aperture is provided in an array area of said infrared detecting elements (12) so as to restrict incidence of background light to each of said infrared detecting elements (12). (14), wherein the light-shielding barrier (18) provides a bearing surface for the cold door aperture (14).
【請求項3】 請求項1に記載の撮像用赤外線検出器に
おいて、前記赤外線検出素子(12)の配列領域に該赤
外線検出素子(12)の個々への背景光の入射を規制す
べくコールドアパチャー(14)が設けられ、前記遮光
用障壁(18’)が前記コールドアパチャー(14)に
一体的に形成されることを特徴とする撮像用赤外線検出
器。
3. An infrared detector for imaging according to claim 1, wherein a cold aperture is provided in an array area of said infrared detecting elements (12) to restrict incidence of background light to each of said infrared detecting elements (12). (14), wherein the light shielding barrier (18 ') is formed integrally with the cold door aperture (14).
【請求項4】 基板(10)上に所定の配列ピッチで配
置された複数の赤外線検出素子(12)からなる撮像用
赤外線検出器の製造方法であって、前記基板(10)上
に赤外線検出素子材料層(20)を形成し、該赤外線検
出素子材料層(20)上に前記赤外線検出素子(12)
の配列箇所に対応して第1のレジスト(22)を適用す
ると共にその隣接した2つの配列箇所の中間箇所でその
横切り方向に沿ってしかも少なくとも該赤外線検出素子
(12)の寸法以上に亘って第2のレジスト(24)を
適用し、前記赤外線検出素子材料層(20)にエッチン
グ処理を施して前記第1および第2のレジスト(22、
24)の適用箇所以外の赤外線検出素子材料を除去して
所定の配列ピッチで赤外線検出素子(12)を形成する
と共にその隣接した2つの赤外線検出素子(12)の中
間箇所に遮光用障壁(18)を形成し、次いで前記第1
および第2のレジスト(22、24)を除去することか
らなる製造方法。
4. A method of manufacturing an infrared detector for imaging comprising a plurality of infrared detecting elements (12) arranged at a predetermined arrangement pitch on a substrate (10), the method comprising detecting infrared light on the substrate (10). An element material layer (20) is formed, and the infrared detection element (12) is formed on the infrared detection element material layer (20).
The first resist (22) is applied corresponding to the arrangement position of (1), and the intermediate position between the two adjacent arrangement positions along the transverse direction and at least over the size of the infrared detecting element (12). A second resist (24) is applied to the first and second resists (22,
The infrared detecting element material other than the application point of 24) is removed to form an infrared detecting element (12) at a predetermined arrangement pitch, and a light shielding barrier (18) is provided at an intermediate point between two adjacent infrared detecting elements (12). ) And then the first
And removing the second resist (22, 24).
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