JP2817625B2 - Plasma mass spectrometer - Google Patents

Plasma mass spectrometer

Info

Publication number
JP2817625B2
JP2817625B2 JP6159373A JP15937394A JP2817625B2 JP 2817625 B2 JP2817625 B2 JP 2817625B2 JP 6159373 A JP6159373 A JP 6159373A JP 15937394 A JP15937394 A JP 15937394A JP 2817625 B2 JP2817625 B2 JP 2817625B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode plate
ion
electrode
plasma
nozzle
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP6159373A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH087829A (en
Inventor
伸彦 西
健 石垣
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shimadzu Corp
Original Assignee
Shimadzu Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shimadzu Corp filed Critical Shimadzu Corp
Priority to JP6159373A priority Critical patent/JP2817625B2/en
Publication of JPH087829A publication Critical patent/JPH087829A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2817625B2 publication Critical patent/JP2817625B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、試料をプラズマにより
励起し、生成されたイオンをノズルから質量分析器に導
いて検出することにより試料の分析を行なうプラズマ質
量分析装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma mass spectrometer for analyzing a sample by exciting the sample with plasma and guiding generated ions from a nozzle to a mass analyzer for detection.

【0002】[0002]

【従来の技術】図4により、プラズマ質量分析装置の構
造及び作用を説明する。まず、プラズマ生成装置62に
よりプラズマ63を生成しておき、その中に試料61を
霧化して導入することにより試料をプラズマ化する。プ
ラズマ中のイオン18はノズル64から第2真空室72
に導入され、後述の偏向レンズ65により偏向された
後、集束レンズ66により第3真空室73内の四重極6
8に送られる。四重極68では、印加電圧の走査を行な
うことにより、複数のイオン種を含むイオン流18の質
量分離を行なう。質量分離された試料のイオンはイオン
検出器70により検出され、制御部36において試料分
析のためのデータ解析が行なわれる。
2. Description of the Related Art The structure and operation of a plasma mass spectrometer will be described with reference to FIG. First, the plasma 63 is generated by the plasma generation device 62, and the sample 61 is atomized and introduced into the plasma 63 to convert the sample into plasma. The ions 18 in the plasma are sent from the nozzle 64 to the second vacuum chamber 72.
After being deflected by a deflecting lens 65, which will be described later, the focusing lens 66 is used to deflect the quadrupole 6 in the third vacuum chamber 73.
8 In the quadrupole 68, the mass of the ion stream 18 containing a plurality of ion species is separated by scanning the applied voltage. The ions of the sample subjected to mass separation are detected by the ion detector 70, and the control unit 36 performs data analysis for sample analysis.

【0003】プラズマ質量分析装置ではイオンはプラズ
マ63により生成されるため、ノズル64からはイオン
流18の他に、プラズマ63の光19も導入される。従
って、ノズル64から四重極68までを同軸に配置する
と、強力なプラズマ光19がイオン検出器70まで到達
してしまう。イオン検出器70は一般的に、イオンによ
り二次電子を生成し、それを増幅するという検出方法を
採用しているため、強い光によっても二次電子が生成さ
れ、ノイズを構成する。もちろん、四重極68を出たイ
オンはイオン偏向板69によりイオン検出器70のイオ
ン導入口に導くようにして、イオン検出器70のイオン
導入口が四重極68の出口に対して正面を向かないよう
に配置されているが、装置内部で乱反射した迷光がイオ
ン検出器70に入るため、ある程度のノイズ生成は避け
られない。
In the plasma mass spectrometer, ions are generated by the plasma 63, so that not only the ion stream 18 but also light 19 of the plasma 63 is introduced from the nozzle 64. Therefore, if the nozzle 64 and the quadrupole 68 are coaxially arranged, the strong plasma light 19 reaches the ion detector 70. Since the ion detector 70 generally employs a detection method of generating secondary electrons by ions and amplifying the secondary electrons, the secondary electrons are generated even by intense light and constitute noise. Of course, ions exiting the quadrupole 68 are guided to the ion inlet of the ion detector 70 by the ion deflection plate 69 so that the ion inlet of the ion detector 70 faces the outlet of the quadrupole 68 in front. Although it is arranged so as not to face, stray light irregularly reflected inside the device enters the ion detector 70, so that generation of some noise is inevitable.

【0004】そこで従来より、図4に示すように、ノズ
ル64から導入されるイオン流18の軸を、イオン偏向
レンズ65により途中で偏移させ、四重極68をそのよ
うに偏移された軸に配置するという構成が用いられてい
る。これによると、プラズマ光19はノズル64から直
進して電極板等により遮られ、迷光も大きく低減され
る。
Therefore, conventionally, as shown in FIG. 4, the axis of the ion stream 18 introduced from the nozzle 64 is shifted halfway by the ion deflection lens 65, and the quadrupole 68 is shifted as such. A configuration of being arranged on a shaft is used. According to this, the plasma light 19 travels straight from the nozzle 64 and is blocked by the electrode plate or the like, and stray light is greatly reduced.

【0005】従来のイオン偏向レンズ65の具体的構成
を図5により説明する。図5(a)は、2対の電極板
(83a・83b)、(84a・84b)を用いてイオ
ンを偏移させるイオン偏向レンズ80であり、上流側の
遮蔽板81のイオン通過孔81aを通過したイオン18
は、第1電極板対(83a・83b)の間に印加された
直流電圧により偏向され、第2電極板対(84a・84
b)の間に印加された逆方向電圧により再び元と同じ方
向になるように偏向されて、下流側の遮蔽板82のイオ
ン通過孔82aを通過する。一方、プラズマ光19は、
上流側の遮蔽板81のイオン通過孔81aを通過した
後、直進して下流側遮蔽板82により遮蔽される。従っ
て、下流側遮蔽板82のイオン通過孔82aの箇所に四
重極68を配置することにより、プラズマ光19を排
し、イオン流18のみを四重極68及び検出器70の方
に導くことができる。図5(b)のイオン偏向レンズ8
5は前段四重極88と後段四重極89の2段の四重極を
用いてイオンを偏移させるものである。また、図5
(c)(d)のイオン偏向レンズ90は、図5(a)の
イオン偏向レンズ80と同様、2対の上下電極対93、
94を用いるものであるが、各電極対93、94がイオ
ン通路を囲うように形成されているところに特徴があ
る。
The specific structure of the conventional ion deflection lens 65 will be described with reference to FIG. FIG. 5A shows an ion deflecting lens 80 that shifts ions using two pairs of electrode plates (83a and 83b) and (84a and 84b). Ions that have passed 18
Is deflected by the DC voltage applied between the first pair of electrode plates (83a and 83b), and is deflected by the second pair of electrode plates (84a and 84b).
The light is deflected again by the reverse voltage applied during b) so as to be in the same direction as the original, and passes through the ion passage hole 82a of the shielding plate 82 on the downstream side. On the other hand, the plasma light 19
After passing through the ion passage hole 81a of the upstream shielding plate 81, it goes straight and is shielded by the downstream shielding plate 82. Therefore, by disposing the quadrupole 68 at the position of the ion passage hole 82a of the downstream shield plate 82, the plasma light 19 is exhausted, and only the ion flow 18 is guided toward the quadrupole 68 and the detector 70. Can be. The ion deflection lens 8 of FIG.
Numeral 5 is for shifting ions by using a two-stage quadrupole of a first-stage quadrupole 88 and a second-stage quadrupole 89. FIG.
5C, the ion deflecting lens 90 has two pairs of upper and lower electrodes 93 like the ion deflecting lens 80 of FIG.
Although the electrode 94 is used, it is characterized in that the electrode pairs 93 and 94 are formed so as to surround the ion passage.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】上記従来のイオン偏向
レンズではいずれも電極の数が多く、イオンが正しく両
イオン通過孔を通るように電位を正しく調整することが
難しいという問題がある。本発明はこのような課題を解
決するために成されたものであり、その目的とするとこ
ろは、構造が簡単であり、調整も容易なイオン偏向レン
ズを備えたプラズマ質量分析装置を提供することにあ
る。
The above-mentioned conventional ion deflecting lenses have a large number of electrodes, and have a problem that it is difficult to properly adjust the potential so that ions pass through both ion passing holes. The present invention has been made to solve such a problem, and an object of the present invention is to provide a plasma mass spectrometer having an ion deflection lens which has a simple structure and is easily adjusted. It is in.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に成された本発明では、試料をプラズマにより励起し、
生成されたイオンをノズルから質量分析器に導いて検出
することにより試料の分析を行なうプラズマ質量分析装
置において、ノズルと質量分析器との間に、 a)ノズルからのイオンの出射方向に対して略垂直に設け
られ、ノズルの正面に第1イオン通過孔を有する第1電
極板と b)イオンの移動方向に関して第1電極板の後方に第1電
極板に略平行に設けられ、ノズルと第1イオン通過孔と
を接続する立体角範囲の外部に第2イオン通過孔を有す
る第2電極板と、 c)第1電極板と第2電極板との間に設けられ、筒状部材
の両端を第1電極板及び第2電極板に対して傾斜した平
面で切断した形状を有する中間電極と、 d)第1電極板と第2電極板及び中間電極に直流電圧を印
加する直流電圧印加手段と、 を備えたイオン偏向レンズを有することを特徴としてい
る。
According to the present invention made to solve the above problems, a sample is excited by plasma,
In a plasma mass spectrometer that analyzes a sample by guiding generated ions from a nozzle to a mass analyzer and detecting the sample, a) between the nozzle and the mass analyzer, A first electrode plate that is provided substantially vertically and has a first ion passage hole in front of the nozzle; and b) is provided substantially parallel to the first electrode plate behind the first electrode plate with respect to the direction of ion movement. A second electrode plate having a second ion passage hole outside a solid angle range connecting the one ion passage hole; and c) both ends of the cylindrical member provided between the first electrode plate and the second electrode plate. And d) a DC voltage applying means for applying a DC voltage to the first electrode plate, the second electrode plate, and the intermediate electrode. And having an ion deflecting lens comprising: And

【0008】[0008]

【作用】中間電極の両端の端縁は第1電極板及び第2電
極板に対して傾斜しているため、直流電圧印加手段によ
り第1電極板と中間電極との間、及び中間電極と第2電
極板との間に異なった直流電圧が印加されると、各電極
間の電場はイオンの出射方向に対して傾斜する。このた
め、ノズルから出射され、第1電極板の第1イオン通過
孔を通過したイオンは、第1電極板と中間電極との間で
偏向され、また、中間電極と第2電極板との間で偏向さ
れる。従って、第1電極板と中間電極の間の電場と、中
間電極と第2電極板の間の電場とが丁度逆方向となるよ
うに中間電極の端縁形状及び印加電圧を設定しておくこ
とにより、第2イオン通過孔を通過するイオンが、ノズ
ルから出射されるイオン流の軸から偏移した軸を飛行す
るようにさせることができる。一方、プラズマの光は、
第1イオン通過孔を通過した後、上記立体各範囲内のみ
を照射するため、第2イオン通過孔を通過することはで
きず、第2電極板により遮蔽される。
The edges of both ends of the intermediate electrode are inclined with respect to the first electrode plate and the second electrode plate. Therefore, the DC voltage applying means applies a voltage between the first electrode plate and the intermediate electrode and a voltage between the intermediate electrode and the first electrode plate. When a different DC voltage is applied between the two electrode plates, the electric field between the electrodes is inclined with respect to the direction in which ions are emitted. For this reason, ions emitted from the nozzle and passing through the first ion passage hole of the first electrode plate are deflected between the first electrode plate and the intermediate electrode, and between the intermediate electrode and the second electrode plate. Is deflected by Therefore, by setting the edge shape and applied voltage of the intermediate electrode so that the electric field between the first electrode plate and the intermediate electrode and the electric field between the intermediate electrode and the second electrode plate are in exactly opposite directions, The ions passing through the second ion passage hole can be made to fly on an axis deviated from the axis of the ion flow emitted from the nozzle. On the other hand, the plasma light
After passing through the first ion passage hole, only the inside of each of the above three-dimensional regions is irradiated, so that the irradiation is not possible through the second ion passage hole and is blocked by the second electrode plate.

【0009】なお、イオンの飛行方向は第1電極板の前
と第2電極板の後とで必ずしも平行である必要はなく、
両イオン飛行方向に角度がついていてもよい。従って、
中間電極の両端の端縁の角度及び電圧印加手段による印
加電圧は、第1イオン通過孔及び第2イオン通過孔をイ
オンのみが通過しプラズマ光が通過しなければ、どのよ
うな設定であっても構わない。この場合、第2電極と第
1電極の電圧印加手段を別にし、第2、第1電極を別々
の電位にすることも考えられる。
The flight direction of the ions is not necessarily parallel in front of the first electrode plate and after the second electrode plate.
Both ion flight directions may be angled. Therefore,
The angles of the edges of the two ends of the intermediate electrode and the voltage applied by the voltage applying means are set to any values as long as only ions pass through the first ion passage hole and the second ion passage hole and plasma light does not pass. No problem. In this case, it is conceivable to separate the voltage applying means for the second electrode and the first electrode and to set the second and first electrodes to different potentials.

【0010】[0010]

【実施例】図2により、本発明を実施した高周波誘導結
合プラズマ質量分析装置20の構造及び作用を説明す
る。まず、高周波誘導結合プラズマ生成装置22により
プラズマ23を生成しておく。そして、試料21を霧化
してプラズマ23中に導入することにより、試料をプラ
ズマ化する。プラズマ23中のイオン18は、サンプリ
ングコーン及びスキマーコーンから成る二重コーンの先
端に設けられたノズル24から、エキストラクタ電極2
5により第2真空室32内に導入される。第2真空室3
2内では、図1に示すようなイオン偏向レンズ10によ
りイオン18の飛行経路が偏移される。
FIG. 2 shows the structure and operation of a high frequency inductively coupled plasma mass spectrometer 20 embodying the present invention. First, the plasma 23 is generated by the high-frequency inductively coupled plasma generator 22. Then, the sample 21 is atomized and introduced into the plasma 23, thereby turning the sample into plasma. The ions 18 in the plasma 23 are transmitted from a nozzle 24 provided at the tip of a double cone composed of a sampling cone and a skimmer cone to the extractor electrode 2.
5 introduces into the second vacuum chamber 32. Second vacuum chamber 3
2, the flight path of the ions 18 is shifted by the ion deflection lens 10 as shown in FIG.

【0011】本実施例のイオン偏向レンズ10は、イオ
ン飛行方向の上流側にノズル24からのイオン出射方向
に対して略垂直に設けられた第1電極板11と、その下
流側に第1電極板11に平行に設けられた第2電極板1
2と、両電極板11、12の間に設けられた中間電極1
3とで構成される。第1電極板11には第1イオン通過
孔11aが、第2電極板12には第2イオン通過孔12
aが設けられ、第1イオン通過孔11aの中心軸はノズ
ル24の中心軸と一致するように、そして、第2イオン
通過孔12aの中心は後述の四重極28の中心と一致す
るように、それぞれ設置されている。
The ion deflecting lens 10 of the present embodiment has a first electrode plate 11 provided on the upstream side in the ion flight direction and substantially perpendicular to the direction in which ions are emitted from the nozzle 24, and a first electrode plate on the downstream side. Second electrode plate 1 provided in parallel with plate 11
2 and an intermediate electrode 1 provided between both electrode plates 11 and 12
And 3. The first electrode plate 11 has a first ion passage hole 11a, and the second electrode plate 12 has a second ion passage hole 12a.
is provided so that the center axis of the first ion passage hole 11a coincides with the center axis of the nozzle 24, and the center of the second ion passage hole 12a coincides with the center of a quadrupole 28 described later. , Each is installed.

【0012】中間電極13は、金属製の円筒の両端を、
第1、第2電極板11、12に対して傾斜した平面で切
断した形状を有している。従って、ドライバ37によ
り、例えば図1(a)に示すように、第1電極板11に
直流電圧V1を、中間電極13にそれとは異なる直流電
圧V3(イオンの電荷が正の場合、V1>V3が望まし
い)を印加することにより、両者11、13間に傾斜し
た電場を形成することができる。この傾斜電場により、
第1イオン通過孔11aを通過したイオン18は図1
(a)で上方に偏向される。図1(a)では第1電極板
11と第2電極板12には同電位が印加されているた
め、中間電極13と第2電極板12との間では上記電場
に対して軸対称の電場が形成される。このため、イオン
18は中間電極13と第2電極板12の間で今度は下方
に偏移され、元の経路に対して偏移した平行な経路を飛
行するようになって第2イオン通過孔12aを通過す
る。一方、プラズマ23の光19はノズル24から第2
真空室に入り、イオン18と共に第1イオン通過孔11
aを通過するが、これらの電場に無関係に直進するた
め、第2電極板12に遮られ、第2イオン通過孔12a
を通過することはない。
The intermediate electrode 13 is formed by connecting both ends of a metal cylinder to each other.
It has a shape cut on a plane inclined with respect to the first and second electrode plates 11 and 12. Therefore, as shown in FIG. 1A, for example, a DC voltage V1 is applied to the first electrode plate 11 and a different DC voltage V3 to the intermediate electrode 13 (V1> V3 when the ion charge is positive, as shown in FIG. (Preferably) is applied to form an inclined electric field between the two. With this tilted electric field,
The ions 18 that have passed through the first ion passage hole 11a are shown in FIG.
It is deflected upward in (a). In FIG. 1A, since the same potential is applied to the first electrode plate 11 and the second electrode plate 12, the electric field between the intermediate electrode 13 and the second electrode plate 12 is axially symmetric with respect to the electric field. Is formed. For this reason, the ions 18 are now shifted downward between the intermediate electrode 13 and the second electrode plate 12 and fly on a parallel path shifted from the original path, so that the second ion passage hole is formed. Pass through 12a. On the other hand, the light 19 of the plasma 23
The vacuum chamber enters the first ion passage hole 11 together with the ions 18.
a, but goes straight irrespective of these electric fields, and is blocked by the second electrode plate 12 to form the second ion passage holes 12a.
Never go through.

【0013】以上説明した通り、本実施例のイオン偏向
レンズ10では、3個の構成部品に2種の電位を印加す
るのみでよいため、構造及び制御が非常に簡単となる。
As described above, in the ion deflecting lens 10 of the present embodiment, since only two potentials need to be applied to the three components, the structure and control are very simple.

【0014】図2に戻り、イオン偏向レンズ10の第2
イオン通過孔12aを通過したイオン18は第3真空室
33に入り、集束レンズ26により集束されて四重極2
8の中心軸に導入される。ドライバ38により、四重極
28に所定の直流電圧と交流電圧との重畳電圧を印加す
ることにより、所定の質量を有するイオンのみが四重極
28を通過することができる。四重極28を通過した目
的イオンは偏向板29により偏向され、イオン検出器3
0により検出される。検出器30の検出信号はアンプ3
5を介して制御部36に送られ、制御部36において所
定の手法により試料の分析が行なわれる。
Returning to FIG. 2, the second part of the ion deflecting lens 10 will be described.
The ions 18 that have passed through the ion passage holes 12a enter the third vacuum chamber 33, are focused by the focusing lens 26, and
8 to the central axis. By applying a superimposed voltage of a predetermined DC voltage and an AC voltage to the quadrupole 28 by the driver 38, only ions having a predetermined mass can pass through the quadrupole 28. The target ions that have passed through the quadrupole 28 are deflected by the deflection plate 29, and
0 is detected. The detection signal of the detector 30 is
The sample is sent to the control unit 36 via the control unit 5, and the control unit 36 analyzes the sample by a predetermined method.

【0015】イオン偏向レンズの他の構成例を図3に示
す。図3(a)のイオン偏向レンズ40は、両電極板4
1、42の周囲に、中間電極43の方に向かって延びる
スリーブ41b、42bを設け、中間電極43の入口及
び出口の側面周囲をスリーブ41b、42bで覆うよう
にしたものである。また、図3(b)のイオン偏向レン
ズ50は、中間電極53を前後2個53a、53bに分
割したものである。図3(b)の構成のものでは、図1
の構成のものと比較すると、各中間電極の大きさ(径及
び/又は長さ)を比較的自由に設定することができ、印
加電圧の設定を含め、電場形状の設計の自由度が向上す
るという利点がある。
FIG. 3 shows another configuration example of the ion deflection lens. The ion deflection lens 40 shown in FIG.
Sleeves 41b and 42b extending toward the intermediate electrode 43 are provided around the first and the second electrodes 42, and the side surfaces of the entrance and the exit of the intermediate electrode 43 are covered with the sleeves 41b and 42b. The ion deflection lens 50 shown in FIG. 3B is obtained by dividing the intermediate electrode 53 into two front and rear parts 53a and 53b. In the configuration of FIG.
In comparison with the configuration of the above, the size (diameter and / or length) of each intermediate electrode can be set relatively freely, and the degree of freedom in designing the electric field shape including the setting of the applied voltage is improved. There is an advantage.

【0016】[0016]

【発明の効果】本発明に係るプラズマ質量分析装置のイ
オン偏向レンズは、直流電圧を印加すべき電極の数が少
ないため、プラズマ光を遮蔽しつつイオンのみを正しく
偏移させ、両イオン通過孔を通過させるようにするため
の電位の調整が容易となる。また、構成部品点数も少な
いため、組立が容易である。
The ion deflecting lens of the plasma mass spectrometer according to the present invention has a small number of electrodes to which a DC voltage is to be applied. The adjustment of the potential for passing through is facilitated. Also, since the number of components is small, assembly is easy.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の実施例である高周波誘導結合プラズ
マ質量分析装置で用いるイオン偏向レンズの断面図
(a)及び正面図(b)。
FIG. 1 is a sectional view (a) and a front view (b) of an ion deflection lens used in a high-frequency inductively coupled plasma mass spectrometer according to an embodiment of the present invention.

【図2】 実施例の高周波誘導結合プラズマ質量分析装
置の概略構成図。
FIG. 2 is a schematic configuration diagram of a high-frequency inductively coupled plasma mass spectrometer of the embodiment.

【図3】 本発明による他の2種のイオン偏向レンズの
概略構成図。
FIG. 3 is a schematic configuration diagram of another two types of ion deflecting lenses according to the present invention.

【図4】 従来のプラズマ質量分析装置の概略構成図。FIG. 4 is a schematic configuration diagram of a conventional plasma mass spectrometer.

【図5】 従来の3種のイオン偏向レンズの概略構成
図。
FIG. 5 is a schematic configuration diagram of three conventional ion deflection lenses.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10、40、50、80、85、90…イオン偏向レン
ズ 11、41、51、81、86、91…第1電極板 12、42、52、82、87、92…第2電極板 11a、41a、81a…第1イオン通過孔 12a、42a、82a…第2イオン通過孔 13、43、53a、53b…中間電極 18…イオン流 19…プラズマ光 20…高周波誘導結合プラズマ質量分析装置 21…試料 22…高周波誘導結合プラズマ生成装置 23…プラズマ 24…ノズル 25…エキストラクタ電極 26…集束レンズ 28…四重極 30…イオン検出器 37…イオン偏向レンズ用ドライバ 38…四重極用ドライバ
10, 40, 50, 80, 85, 90: ion deflecting lens 11, 41, 51, 81, 86, 91: first electrode plate 12, 42, 52, 82, 87, 92: second electrode plate 11a, 41a 81a: First ion passage holes 12a, 42a, 82a: Second ion passage holes 13, 43, 53a, 53b: Intermediate electrode 18: Ion flow 19: Plasma light 20: High-frequency inductively coupled plasma mass spectrometer 21: Sample 22 ... High frequency inductively coupled plasma generator 23 ... Plasma 24 ... Nozzle 25 ... Extractor electrode 26 ... Converging lens 28 ... Quadrupole 30 ... Ion detector 37 ... Ion deflection lens driver 38 ... Quadrupole driver

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平4−12448(JP,A) 特開 平1−183051(JP,A) 特開 平2−30050(JP,A) 特開 昭63−91950(JP,A) 特開 昭60−211745(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01J 49/00 - 49/48 G01N 27/62 G21K 1/00 - 1/16──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-4-12448 (JP, A) JP-A-1-183051 (JP, A) JP-A-2-30050 (JP, A) JP-A-63-1988 91950 (JP, A) JP-A-60-211745 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) H01J 49/00-49/48 G01N 27/62 G21K 1/00- 1/16

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 試料をプラズマにより励起し、生成され
たイオンをノズルから質量分析器に導いて検出すること
により試料の分析を行なうプラズマ質量分析装置におい
て、ノズルと質量分析器との間に、 a)ノズルからのイオンの出射方向に対して略垂直に設け
られ、ノズルの正面に第1イオン通過孔を有する第1電
極板と b)イオンの移動方向に関して第1電極板の後方に第1電
極板に略平行に設けられ、ノズルと第1イオン通過孔と
を接続する立体角範囲の外部に第2イオン通過孔を有す
る第2電極板と、 c)第1電極板と第2電極板との間に設けられ、筒状部材
の両端を第1電極板及び第2電極板に対して傾斜した平
面で切断した形状を有する中間電極と、 d)第1電極板と第2電極板及び中間電極に直流電圧を印
加する直流電圧印加手段と、 を備えたイオン偏向レンズを有することを特徴とするプ
ラズマ質量分析装置。
1. A plasma mass spectrometer which excites a sample by plasma and guides generated ions from a nozzle to a mass analyzer to detect the sample, wherein a mass spectrometer is provided between the nozzle and the mass analyzer. a) a first electrode plate which is provided substantially perpendicular to the direction in which ions are emitted from the nozzle and has a first ion passage hole in front of the nozzle; and b) a first electrode plate behind the first electrode plate with respect to the direction of ion movement. A second electrode plate provided substantially parallel to the electrode plate and having a second ion passage hole outside a solid angle range connecting the nozzle and the first ion passage hole; c) a first electrode plate and a second electrode plate And an intermediate electrode having a shape obtained by cutting both ends of the cylindrical member at a plane inclined with respect to the first electrode plate and the second electrode plate; and d) the first electrode plate, the second electrode plate, DC voltage applying means for applying a DC voltage to the intermediate electrode, Plasma mass spectrometer, characterized in that it comprises an ion deflector lens having.
JP6159373A 1994-06-16 1994-06-16 Plasma mass spectrometer Expired - Fee Related JP2817625B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6159373A JP2817625B2 (en) 1994-06-16 1994-06-16 Plasma mass spectrometer

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6159373A JP2817625B2 (en) 1994-06-16 1994-06-16 Plasma mass spectrometer

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH087829A JPH087829A (en) 1996-01-12
JP2817625B2 true JP2817625B2 (en) 1998-10-30

Family

ID=15692413

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6159373A Expired - Fee Related JP2817625B2 (en) 1994-06-16 1994-06-16 Plasma mass spectrometer

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2817625B2 (en)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4884902B2 (en) * 2006-09-21 2012-02-29 浜松ホトニクス株式会社 Ionizer, mass analyzer, ion mobility meter, electron capture detector, and charged particle measuring device for chromatograph
JP5469823B2 (en) 2008-04-25 2014-04-16 アジレント・テクノロジーズ・インク Plasma ion source mass spectrometer
WO2010125669A1 (en) * 2009-04-30 2010-11-04 キヤノンアネルバ株式会社 Ion detection device for mass analysis, ion detection method, and production method for ion detection device
US9202679B2 (en) * 2010-11-26 2015-12-01 Analytik Jena Ag Electrically connected sample interface for mass spectrometer
CA2828967C (en) * 2011-03-04 2018-07-10 Perkinelmer Health Sciences, Inc. Electrostatic lenses and systems including the same
US8450681B2 (en) 2011-06-08 2013-05-28 Mks Instruments, Inc. Mass spectrometry for gas analysis in which both a charged particle source and a charged particle analyzer are offset from an axis of a deflector lens, resulting in reduced baseline signal offsets
US8796620B2 (en) 2011-06-08 2014-08-05 Mks Instruments, Inc. Mass spectrometry for gas analysis with a one-stage charged particle deflector lens between a charged particle source and a charged particle analyzer both offset from a central axis of the deflector lens
US8796638B2 (en) * 2011-06-08 2014-08-05 Mks Instruments, Inc. Mass spectrometry for a gas analysis with a two-stage charged particle deflector lens between a charged particle source and a charged particle analyzer both offset from a central axis of the deflector lens
US8410704B1 (en) * 2011-11-30 2013-04-02 Agilent Technologies, Inc. Ionization device
WO2022163635A1 (en) 2021-01-29 2022-08-04 アトナープ株式会社 Gas analysis device and control method

Also Published As

Publication number Publication date
JPH087829A (en) 1996-01-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4577991B2 (en) Ion optics for mass spectrometers.
JP6593548B2 (en) Mass spectrometer and ion detector
EP0237259A2 (en) Mass spectrometer
JP4965788B2 (en) Mass spectrometer including quadrupole mass analyzer configuration
US6005245A (en) Method and apparatus for ionizing a sample under atmospheric pressure and selectively introducing ions into a mass analysis region
JP2817625B2 (en) Plasma mass spectrometer
US6297501B1 (en) Simultaneous detection isotopic ratio mass spectrometer
JP2567736B2 (en) Ion scattering analyzer
US10930487B2 (en) Double bend ion guides and devices using them
US20180240657A1 (en) Collision cell having an axial field
EP0771019B1 (en) Method and apparatus for mass analysis of solution sample
US9818591B2 (en) Mirror lens for directing an ion beam
JPH0637563Y2 (en) Inductively coupled plasma mass spectrometer
JPH10142155A (en) Icp mass spectrometer
JP2508171B2 (en) Inductively coupled plasma mass spectrometer
JP3676540B2 (en) Inductively coupled plasma mass spectrometer
JP3085381B2 (en) Plasma ionization mass spectrometer
JPS61107650A (en) Quadruple electrode mass spectrograph
JP2001256916A (en) Highly sensitive flight-time mass analyzer
JP3497367B2 (en) Ion-neutral separator
JP2001351566A (en) Ion detector
JPH08222168A (en) Ion beam device
JP3740881B2 (en) Ion trap mass spectrometer
JPH0877964A (en) High frequency induction binding plasma mass spectrograph
JP2949753B2 (en) Quadrupole mass spectrometer

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070821

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080821

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080821

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090821

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090821

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100821

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110821

Year of fee payment: 13

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110821

Year of fee payment: 13

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120821

Year of fee payment: 14

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120821

Year of fee payment: 14

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130821

Year of fee payment: 15

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees