JP2796295B2 - High frequency discharge pumped laser device - Google Patents
High frequency discharge pumped laser deviceInfo
- Publication number
- JP2796295B2 JP2796295B2 JP62178572A JP17857287A JP2796295B2 JP 2796295 B2 JP2796295 B2 JP 2796295B2 JP 62178572 A JP62178572 A JP 62178572A JP 17857287 A JP17857287 A JP 17857287A JP 2796295 B2 JP2796295 B2 JP 2796295B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- discharge tube
- frequency
- discharge
- laser device
- circuit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/097—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
- H01S3/0975—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser using inductive or capacitive excitation
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は金属などの切断加工用大出力用の高周波放電
励起レーザ装置に関し、特に安定した高周波放電励起が
できる高周波放電励起レーザ装置に関する。
〔従来の技術〕
高周波励起軸流CO2レーザは高出力でかつ安定した発
振が可能であり、使用が拡がりつつある。
従来の軸流型高周波放電励起レーザ装置の例を第７図
に示す。図において、１は放電管であり、図では４本の
放電管セグメントで構成した例を示しているが、出力に
応じて種々の本数が使用される。２は全反射鏡、３は出
力結合鏡であり、２個の鏡は正確に位置が決められてい
る。４はレーザ光を示す。放電管の各セグメントにはガ
スの出入口が設けられており、それは１台のルーツブロ
ーワ７に結合されている。５及び６は冷却機であり、放
電及びルーツブロワの圧縮作用で発熱したレーザガスを
冷却する。放電管及びガス送風管内のガス流の方向は矢
印で示してある。8a、8b〜11a、11bは電極であり、それ
ぞれの高周波電源12、13、14及び15に接続されている。
放電管１内のガス流は約100m/秒であり、高周波電源12
〜15からの高周波電圧によって放電が行われ、レーザビ
ームが発振増幅される。
従来の高周波放電励起レーザ装置の放電管セグメント
１個分の回路構成図を第８図に示す。図において、12は
高周波電源であり、16は高周波電源12と放電管１のイン
ピーダンスマッチングをとるためのマッチング回路であ
る。高周波電源12の出力はマッチング回路16を介して放
電管１の電極8a及び8bに接続されている。電極8bはアー
スされている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかし、このような高周波放電励起レーザ装置では、
レーザ出力が数ヘルツの程度の周期で変動する。このレ
ーザ出力変動の状態を第９図に示す。図において、横軸
は時間であり、縦軸はレーザ出力である。図に示すよう
に、約800Wのレーザ出力に対して、40W程度の出力変動
が生じる。
本発明は、上記問題点を解決し、安定した高周波放電
励起ができる高周波放電励起レーザ装置を提供すること
を目的とするものである。
〔問題点を解決するための手段〕
上記の問題点を解決するために、
複数の放電管セグメントからなるレーザ管に高周波電
圧を印加してレーザ発振を生起させる高周波放電励起レ
ーザ装置において、前記放電管セグメントに前記高周波
電圧を出力する複数の高周波電源と、前記高周波電源と
前記放電管セグメントとのインピーダンス整合を行うマ
ッチング回路とを具備し、前記マッチング回路は平衡回
路であり、前記放電管セグメントからみた前記マッチン
グ回路のリアクタンスの中点を高周波回路のアースに接
地したことを特徴とする高周波放電励起レーザ装置が、
提供される。
〔作用〕
上記の問題点の原因となるのは、各放電管セグメント
間のガス流による相互電流と、各放電管セグメントの支
持体による相互インピーダンスの影響による電流であ
る。
これらの相互電流と相互インピーダンスの影響を平衡
回路であるマッチング回路のリアクタンスの中点をアー
スすることにより、なくすることができる。マッチング
回路が平衡回路であるので、リアクタンスの中点であれ
ば、どの部分でもアース可能である。
〔実施例〕
以下本発明の一実施例を図面に基づいて説明する。
まず、放電管セグメント間の干渉について述べる。簡
単のため、２個の電極の場合について説明する。第５図
に放電管セグメント間の電流を説明するための図を示
す。1a及び1bは放電管セグメントであり、それぞれ、電
極8a、8b及び9a、9bの電極に高周波電源12及び13から高
周波電圧が印加される。Ａは放電管セグメント1aと1b間
でガス流による相互電流と、放電管１の支持体のインピ
ーダンスによる相互干渉を示す。
第５図の等価回路を第６図に示す。ここで、I1は第５
図の高周波電源12側の回路電流であり、I2は第５図の高
周波電源13側の回路電流であり、I0は両回路の相互電流
とする。Z0はガス流による電流及び放電管１の支持体の
インピーダンスによる高周波電流の両者を含めた相互イ
ンピーダンスである。Z11、Z12は放電管セグメント1aの
インピーダンスを上下で２当分したもの、Z21、Z22も同
様に放電管セグメント1bのインピーダンスを２等分した
ものである。ここで、高周波電源12の電圧をe1、角周波
数をω１とし、高周波電源13の電圧をe2、角周波数をω
２とし、
e1＝E1sinω1t
e2＝E2sinω2t
とすると、
I1＝｛（Ima）２＋（Imb）２＋2ImaImbcosω3t｝1/2
×sin｛ω4t＋tan-1k｝
但し、
ω３＝｜ω１−ω2|
ω４＝（ω１＋ω２）/2
ｋ＝（Ima−Imb）／（Ima＋Imb）
×tan（ω１−ω２）t/2
Ima＝E1｛（Z21＋Z22）（Z12＋Z0）
＋Z21Z22｝/|Z|
Imb＝−E2Z12Z22/|Z|
Zm＝Z11＋Z12
Zn＝Z21＋Z22
Zp＝Z12＋Z22＋Z0
である。
従って、e1及びe2の中点をアースすると、
Imb＝−E2Z12（Z21−Z22）/|Z|
であり、一般にZ21とZ22は等しいので、
Imb＝０
となり、
I1＝Imasinω1t
Ima＝E1/（Z11＋Z12）
が得られる。従って、e1とe2の中点をアースすることに
より、互いの放電管セグメント1aと1bの間の干渉を防止
できることが分かる。
また、第６図の等価回路から分かるように、互いの相
互電流I0は互いのアース回路が共通になっていることか
ら流れる。従って、このアース回路を切り離せば、相互
電流I0は流れない。これは放電管セグメントと高周波電
源を直流的に絶縁することによって達成できる。
次に本発明の第１の実施例のブロック図を第１図に示
す。これは、先に説明した高周波電源の中点をアースす
ることを実現したものである。
図において、12は高周波電源であり、16は高周波電源
12と放電管１のマッチングをとるためのマッチング回路
であり、インダクタンスL1、L2及びコンデンサC1、C2、
C3から構成されている。マッチング回路16は図から明ら
かなように、平衡回路である。１は放電管、8a及び8bは
電極である。
ここで先に詳細を説明したように、コンデンサC1とC2
の中点をアースしている。これによって、放電管セグメ
ント間の干渉を防ぐことができる。特にマッチング回路
16は平衡回路であるので、放電管１から高周波電源12を
見て、インピーダンスが二分されれば、どの点をアース
しても同等の効果を得ることができる。
第２図は本発明の第２の実施例であり、第１の実施例
（第１図）と異なるのはマッチング回路16の出力側が２
個のコンデンサで構成されており、このコンデンサC2、
C3の間をアースしている点である。これは先に説明した
ように、マッチング回路16が平衡回路であるために、マ
ッチング回路16の入力、出力いずれでもアースすること
ができるからである。どちらで、行うかは部品の実装条
件等によって適宜変更することができる。
第３図に第３の実施例を示す。これは先に説明したマ
ッチング回路を高周波電源から直流的に絶縁することを
実現した実施例である。図において、12は高周波電源で
あり、16は高周波電源12と放電管１のマッチングをとる
ためのマッチング回路であり、インダクタンスL1、L2及
びコンデンサC1、C2から構成されている。T1は絶縁トラ
ンスであり、高周波電源12とマッチング回路16を直流的
に絶縁している。マッチング回路16は図から明らかなよ
うに、平衡回路である。１は放電管、8a及び8bは電極で
あり、電極8bはアースされていない。
この構成では、第６図で説明した相互電流I0を流れる
ループがなく、互いの放電管セグメント間の電流の干渉
を防止することができる。
このような第１図及び第２図の構成によるレーザ出力
のグラフを第４図に示す。図において、横軸は時間であ
り、縦軸はレーザ出力である。図に示すように、約800W
のレーザ出力に対して、レーザ出力の変動は10W以下と
なり、第８図と比較して、レーザ出力変動が改善されて
いることが分かる。
また、第３図の構成による実施例でも、略第４図の程
度の効果が得られる。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明では、高周波電源と放電管
セグメント間にマッチング回路を設け、マッチング回路
を平衡回路とし、リアクタンスの中点をアースするよう
に構成したので、放電管セグメント間の干渉がなくな
り、レーザ出力の変動が大幅に減少する。Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a high power high frequency discharge excitation laser device for cutting metal and the like, and more particularly to a high frequency discharge excitation laser device capable of performing stable high frequency discharge excitation. [Prior Art] High frequency pumped axial flow CO 2 lasers are capable of high power and stable oscillation, and their use is expanding. FIG. 7 shows an example of a conventional axial flow type high frequency discharge excitation laser device. In the figure, reference numeral 1 denotes a discharge tube, and in the figure, an example in which four discharge tube segments are used is shown, but various numbers are used according to the output. 2 is a total reflection mirror, 3 is an output coupling mirror, and the two mirrors are accurately positioned. Reference numeral 4 denotes a laser beam. Each segment of the discharge vessel is provided with a gas inlet and outlet, which is connected to one root blower 7. Coolers 5 and 6 cool the laser gas generated by the discharge and the compression action of the Roots blower. The directions of the gas flows in the discharge tube and the gas blower tube are indicated by arrows. Electrodes 8a, 8b to 11a, 11b are connected to the respective high-frequency power supplies 12, 13, 14, and 15.
The gas flow in the discharge tube 1 is about 100 m / sec.
The discharge is performed by the high-frequency voltage from ~ 15, and the laser beam is oscillated and amplified. FIG. 8 shows a circuit diagram of one discharge tube segment of a conventional high-frequency discharge excitation laser device. In the figure, reference numeral 12 denotes a high-frequency power supply, and reference numeral 16 denotes a matching circuit for performing impedance matching between the high-frequency power supply 12 and the discharge tube 1. The output of the high frequency power supply 12 is connected to the electrodes 8a and 8b of the discharge tube 1 via the matching circuit 16. The electrode 8b is grounded. [Problems to be solved by the invention] However, in such a high-frequency discharge excitation laser device,
The laser output fluctuates with a period on the order of several hertz. FIG. 9 shows the state of the laser output fluctuation. In the figure, the horizontal axis is time, and the vertical axis is laser output. As shown in the figure, an output fluctuation of about 40 W occurs for a laser output of about 800 W. SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to solve the above problems and to provide a high-frequency discharge excitation laser device capable of performing stable high-frequency discharge excitation. [Means for Solving the Problems] In order to solve the above problems, in a high frequency discharge excitation laser device which generates a laser oscillation by applying a high frequency voltage to a laser tube comprising a plurality of discharge tube segments, A plurality of high-frequency power supplies that output the high-frequency voltage to the tube segment, and a matching circuit that performs impedance matching between the high-frequency power supply and the discharge tube segment, wherein the matching circuit is a balanced circuit, and A high-frequency discharge excitation laser device, characterized in that the middle point of the reactance of the matching circuit is grounded to the ground of the high-frequency circuit.
Provided. [Operation] The above-mentioned problems are caused by the mutual current caused by the gas flow between the respective discharge tube segments and the current caused by the mutual impedance caused by the support of each discharge tube segment. The influence of these mutual currents and mutual impedance can be eliminated by grounding the midpoint of the reactance of the matching circuit, which is a balanced circuit. Since the matching circuit is a balanced circuit, any portion at the midpoint of the reactance can be grounded. Embodiment An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. First, the interference between the discharge tube segments will be described. For simplicity, the case of two electrodes will be described. FIG. 5 shows a diagram for explaining the current between the discharge tube segments. Reference numerals 1a and 1b denote discharge tube segments, to which high-frequency voltages are applied from high-frequency power supplies 12 and 13 to electrodes 8a and 8b and electrodes 9a and 9b, respectively. A indicates a mutual current due to gas flow between the discharge tube segments 1a and 1b and a mutual interference due to the impedance of the support of the discharge tube 1. FIG. 6 shows the equivalent circuit of FIG. Where I 1 is the fifth
A circuit current of the high frequency power source 12 side of FIG, I 2 is the circuit current of the high frequency power source 13 side of FIG. 5, I 0 is the cross-currents of both circuits. Z 0 is a mutual impedance including both the current caused by the gas flow and the high-frequency current caused by the impedance of the support of the discharge tube 1. Z 11 and Z 12 are obtained by dividing the impedance of the discharge tube segment 1a into two equal parts at the top and bottom, and Z 21 and Z 22 are similarly obtained by dividing the impedance of the discharge tube segment 1b into two equal parts. Here, the voltage of the high frequency power source 12 e1, the angular frequency is omega 1, the voltage of the high frequency power source 13 e2, the angular frequency omega
2, and, when e1 = E 1 sinω 1 t e2 = E 2 sinω 2 t, I 1 = {(I ma) 2 + (I mb) 2 + 2I ma I mb cosω 3 t} 1/2 × sin {ω 4 t + tan -1 k｝ where ω 3 = | ω 1 −ω 2 | ω 4 = (ω 1 + ω 2 ) / 2 k = (I ma −I mb ) / (I ma + I mb ) × tan (ω 1 −ω 2 ) t / 2 I ma = E 1 ｛(Z 21 + Z 22 ) (Z 12 + Z 0 ) + Z 21 Z 22 ｝ / | Z | I mb = −E 2 Z 12 Z 22 / | Z | It is Z m = Z 11 + Z 12 Z n = Z 21 + Z 22 Z p = Z 12 + Z 22 + Z 0. Therefore, when the midpoint between e1 and e2 is grounded, I mb = −E 2 Z 12 (Z 21 −Z 22 ) / | Z |, and since Z 21 and Z 22 are generally equal, I mb = 0, and I 1 = I ma sinω 1 t I ma = E 1 / (Z 11 + Z 12) is obtained. Therefore, it can be seen that grounding the midpoint of e1 and e2 can prevent interference between the discharge tube segments 1a and 1b. As can be seen from the equivalent circuit of Figure 6, cross-current I 0 of each other flow from the mutual ground circuit is used in common. Therefore, inseparable the grounding circuit, mutual current I 0 does not flow. This can be achieved by DC-insulating the discharge tube segment and the high-frequency power supply. Next, FIG. 1 shows a block diagram of a first embodiment of the present invention. This realizes grounding of the midpoint of the high-frequency power supply described above. In the figure, 12 is a high frequency power supply, 16 is a high frequency power supply
12 is a matching circuit for matching the discharge tube 1 with the inductances L1, L2 and the capacitors C1, C2,
Consists of C3. As is apparent from the figure, the matching circuit 16 is a balanced circuit. 1 is a discharge tube, 8a and 8b are electrodes. As explained in detail above, capacitors C1 and C2
The middle point is grounded. Thereby, interference between the discharge tube segments can be prevented. Especially the matching circuit
Since 16 is a balanced circuit, if the impedance is divided into two when the high-frequency power supply 12 is viewed from the discharge tube 1, the same effect can be obtained even if any point is grounded. FIG. 2 shows a second embodiment of the present invention. The difference from the first embodiment (FIG. 1) is that the output side of the matching circuit 16 has two outputs.
This capacitor C2,
The point between C3 is grounded. This is because the input and output of the matching circuit 16 can be grounded because the matching circuit 16 is a balanced circuit as described above. Which method is used can be changed as appropriate depending on the component mounting conditions and the like. FIG. 3 shows a third embodiment. This is an embodiment in which the above-described matching circuit is DC-insulated from a high-frequency power supply. In the figure, reference numeral 12 denotes a high-frequency power supply, and reference numeral 16 denotes a matching circuit for matching the high-frequency power supply 12 and the discharge tube 1 and includes inductances L1, L2 and capacitors C1, C2. T1 is an insulating transformer, which insulates the high-frequency power supply 12 and the matching circuit 16 in a DC manner. As is apparent from the figure, the matching circuit 16 is a balanced circuit. 1 is a discharge tube, 8a and 8b are electrodes, and electrode 8b is not grounded. In this configuration, it is possible to loop through the cross current I 0 as described in FIG. 6 without, to prevent interference current between each other of the discharge tube segments. FIG. 4 shows a graph of the laser output according to the configuration of FIG. 1 and FIG. In the figure, the horizontal axis is time, and the vertical axis is laser output. As shown in the figure, about 800W
It can be seen that the fluctuation of the laser output is 10 W or less with respect to the laser output of FIG. In addition, the embodiment having the configuration shown in FIG. 3 can also provide the effect shown in FIG. [Effects of the Invention] As described above, in the present invention, a matching circuit is provided between a high-frequency power supply and a discharge tube segment, the matching circuit is a balanced circuit, and the midpoint of the reactance is grounded. Interference between them is eliminated, and the fluctuation of the laser output is greatly reduced.
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の第１の実施例のブロック図、
第２図は本発明の第２の実施例のブロック図、
第３図は第３の実施例のブロック図、
第４図は本発明の実施例によるレーザ出力の変動を示す
図、
第５図は放電管セグメント間の電流を説明するための
図、
第６図は第５図の等価回路図、
第７図は従来の軸流型高周波放電励起レーザ装置の例を
示す図、
第８図は従来の高周波放電励起レーザ装置の放電管セグ
メント１個分の回路構成を示す図、
第９図は従来の高周波放電励起レーザ装置のレーザ出力
変動の状態を示す図である。
１……放電管
1a、1b……放電管セグメント
２……全反射鏡
３……出力結合鏡
４……レーザ光
12〜15……高周波電源
16……マッチング回路
T1……絶縁トランスBRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a block diagram of a first embodiment of the present invention, FIG. 2 is a block diagram of a second embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a block of a third embodiment of the present invention. FIG. 4, FIG. 4 is a diagram showing a variation in laser output according to the embodiment of the present invention, FIG. 5 is a diagram for explaining a current between discharge tube segments, FIG. 6 is an equivalent circuit diagram of FIG. FIG. 7 is a diagram showing an example of a conventional axial flow type high frequency discharge excitation laser device, FIG. 8 is a diagram showing a circuit configuration of one discharge tube segment of the conventional high frequency discharge excitation laser device, and FIG. FIG. 3 is a diagram illustrating a state of laser output fluctuation of the high-frequency discharge excitation laser device. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Discharge tube 1a, 1b ... Discharge tube segment 2 ... Total reflection mirror 3 ... Output coupling mirror 4 ... Laser light 12-15 ... High frequency power supply 16 ... Matching circuit T1 ... Insulating transformer
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) H01S 3/097──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 6 , DB name) H01S 3/097
Claims (1)
電圧を印加してレーザ発振を生起させる高周波放電励起
レーザ装置において、 前記放電管セグメントに前記高周波電圧を出力する複数
の高周波電源と、 前記高周波電源と前記放電管セグメントとのインピーダ
ンス整合を行うマッチング回路とを具備し、前記マッチ
ング回路は平衡回路であり、 前記放電管セグメントからみた前記マッチング回路のリ
アクタンスの中点を高周波回路のアースに接地したこと
を特徴とする高周波放電励起レーザ装置。 ２．前記リアクタンス素子はコンデンサであることを特
徴とする特許請求の範囲第１項記載の高周波放電励起レ
ーザ装置。(57) [Claims] In a high-frequency discharge excitation laser device that applies a high-frequency voltage to a laser tube composed of a plurality of discharge tube segments to generate laser oscillation, a plurality of high-frequency power supplies that output the high-frequency voltage to the discharge tube segment; A matching circuit that performs impedance matching with a discharge tube segment, wherein the matching circuit is a balanced circuit, and a midpoint of the reactance of the matching circuit viewed from the discharge tube segment is grounded to the ground of a high-frequency circuit. High-frequency discharge excitation laser device. 2. 2. The high frequency discharge pump laser device according to claim 1, wherein said reactance element is a capacitor.
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62178572A JP2796295B2 (en) | 1987-07-17 | 1987-07-17 | High frequency discharge pumped laser device |
| US07/329,790 US4937834A (en) | 1987-07-17 | 1988-07-15 | High-frequency discharge pumping laser device |
| EP88906098A EP0331734B1 (en) | 1987-07-17 | 1988-07-15 | R-f discharge-excited laser |
| DE88906098T DE3884790T2 (en) | 1987-07-17 | 1988-07-15 | LASER EXTENDED BY HF DISCHARGE. |
| PCT/JP1988/000710 WO1989000776A1 (en) | 1987-07-17 | 1988-07-15 | R-f discharge-excited laser |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62178572A JP2796295B2 (en) | 1987-07-17 | 1987-07-17 | High frequency discharge pumped laser device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6422082A JPS6422082A (en) | 1989-01-25 |
| JP2796295B2 true JP2796295B2 (en) | 1998-09-10 |
Family
ID=16050824
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62178572A Expired - Fee Related JP2796295B2 (en) | 1987-07-17 | 1987-07-17 | High frequency discharge pumped laser device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2796295B2 (en) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03250677A (en) * | 1990-02-28 | 1991-11-08 | Toshiba Corp | Laser device |
| JP6162768B2 (en) | 2015-10-05 | 2017-07-12 | ファナック株式会社 | Gas laser oscillator with auxiliary electrode |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6035836A (en) * | 1983-08-05 | 1985-02-23 | Nec Corp | Intermediate frequency amplifier |
| JPS60177692A (en) * | 1984-02-24 | 1985-09-11 | Mitsubishi Electric Corp | Laser oscillator |
| JPS6179724A (en) * | 1984-09-28 | 1986-04-23 | Nippon Kokan Kk <Nkk> | Manufacture of thin plate of high-silicon iron alloy |
| JPS61208883A (en) * | 1985-03-14 | 1986-09-17 | Toshiba Corp | Alternate current discharge type gas laser apparatus |
-
1987
- 1987-07-17 JP JP62178572A patent/JP2796295B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6422082A (en) | 1989-01-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0331734B1 (en) | R-f discharge-excited laser | |
| JP2509638B2 (en) | RF discharge excitation laser device | |
| JP2796295B2 (en) | High frequency discharge pumped laser device | |
| JPH10501371A (en) | Microprocessor controlled ring laser gyro power control system | |
| JPH0787255B2 (en) | High frequency discharge excitation laser device | |
| JP2723516B2 (en) | Laser oscillation device | |
| JPH0433150B2 (en) | ||
| EP0317632B1 (en) | Gas laser device | |
| WO1988008630A1 (en) | Laser oscillator | |
| JPS639393B2 (en) | ||
| JP2509621B2 (en) | Laser oscillator | |
| JPH0736458B2 (en) | Laser oscillator | |
| JPS6367345B2 (en) | ||
| JPH0770775B2 (en) | High frequency discharge excitation laser | |
| JPH0332088Y2 (en) | ||
| JPH08204262A (en) | Method of generating high-peak output pulse by electric current synthesis in continuous oscillation laser of flash light stimulation type | |
| JP2685946B2 (en) | Gas laser oscillation device | |
| JP3265644B2 (en) | Semiconductor laser pumped solid-state laser device | |
| JPS5918699Y2 (en) | High-speed gas circulation type gas laser device | |
| JP2002148296A (en) | Ci measuring method for crystal oscillator and crystal oscillation circuit | |
| JPS60120581A (en) | Laser oscillator | |
| JP3128315B2 (en) | Differential amplifier circuit | |
| JPH1022553A (en) | Gas laser oscillator | |
| JPH0626269B2 (en) | Gas laser device | |
| JPS61283184A (en) | Silent discharge type gas laser device |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |