JP2785357B2 - Process for producing polyimide isoindoloquinazolinedione and its precursor - Google Patents

Process for producing polyimide isoindoloquinazolinedione and its precursor

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JP2785357B2
JP2785357B2 JP19490689A JP19490689A JP2785357B2 JP 2785357 B2 JP2785357 B2 JP 2785357B2 JP 19490689 A JP19490689 A JP 19490689A JP 19490689 A JP19490689 A JP 19490689A JP 2785357 B2 JP2785357 B2 JP 2785357B2
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利彦 加藤
正己 湯佐
信生 宮寺
康夫 宮寺
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ポリイミドイソインドロキナゾリンジオン
及びその前駆体の製造法に関する。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for producing polyimide isoindoloquinazolinedione and a precursor thereof.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、ポリイミドイソインドロキナゾリンジオン及び
ポリイミドは,耐熱性電気絶縁材として、半導体用層間
絶縁膜,表面保護膜,α線遮蔽膜など電子部品の構成材
料として用いられてきた。これらのポリマーは、一般に
その前駆体をシリコンウエハ,ガラス板,金属板等の基
板上に塗布し、熱処理により一部分をイミド化した膜を
形成し、この膜上にレジストを所望のパターンに形成
後、エツチング液に浸漬して不溶部分を溶解除去し、次
に、レジストを剥離し、再度熱処理を行い、完全に硬化
させ、種々の膜として作成されていた。
Hitherto, polyimide isoindoloquinazolinedione and polyimide have been used as heat-resistant electric insulating materials as constituent materials of electronic components such as interlayer insulating films for semiconductors, surface protective films, and α-ray shielding films. In general, these polymers are prepared by applying a precursor to a substrate such as a silicon wafer, a glass plate, or a metal plate, forming a partially imidized film by heat treatment, and forming a resist on the film in a desired pattern. The resist was then immersed in an etching solution to dissolve and remove the insoluble portion, and then the resist was peeled off, heat-treated again, and completely cured to prepare various films.

上記ポリイミドイソインドロキナゾリンジオンとして
は、3,3′,4,4′−ビフエニルテトラカルボン酸二無水
物等の酸二無水物、4,4′−ジアミノジフエニルエーテ
ル−3−カルボンアミド等のジアミノアミド化合物、1,
3−ビス(アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン
等のジアミノシロキサン及びジアミンを反応させて得ら
れるものなどが知られている(例えば特公昭60−43370
号公報)。
Examples of the polyimide isoindoloquinazolinedione include acid dianhydrides such as 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride and 4,4'-diaminodiphenyl ether-3-carbonamide. A diaminoamide compound of 1,
Those obtained by reacting a diaminosiloxane such as 3-bis (aminopropyl) tetramethyldisiloxane and a diamine are known (for example, Japanese Patent Publication No. 60-43370).
No.).

一方、ポリイミド系のポリマーは、特開昭60−124625
号公報に示されているように、ラジカル反応型架橋剤,
加硫促進剤等を用いて架橋させることにより耐溶剤性が
向上することが知られており、その他、ポリイミド系の
ポリマーを300℃以上に加熱する方法,アセチレン基等
の末端基を有するポリイミド系のポリマーを250℃以上
に加熱する方法等によつて、ポリイミド系の架橋ポリマ
ーを得る方法がある。
On the other hand, polyimide-based polymers are disclosed in JP-A-60-124625.
As shown in the official gazette, a radical reaction type crosslinking agent,
It is known that crosslinking by using a vulcanization accelerator improves solvent resistance. Other methods include heating a polyimide-based polymer to 300 ° C or higher, and a polyimide-based polymer having an end group such as an acetylene group. There is a method of obtaining a polyimide-based crosslinked polymer by, for example, heating the above polymer to 250 ° C. or higher.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problems to be solved by the invention]

特公昭60−43370号公報に記載されるような従来のポ
リイミドイソインドロキナゾリンジオンは、完全に硬化
させるためには、250℃を越える温度を必要とするた
め、250℃を越える耐熱性を有しないデバイスには適用
できないという欠点がある。また、従来のポリイミドイ
ソインドロキナゾリンジオンは、弾性率が高く、クラツ
ク発生及び基材からのはがれの心配がある。
Conventional polyimide isoindoloquinazolinedione as described in JP-B-60-43370 requires a temperature exceeding 250 ° C. in order to completely cure, and thus has a heat resistance exceeding 250 ° C. The disadvantage is that it cannot be applied to devices that do not. Further, the conventional polyimide isoindoloquinazolinedione has a high elastic modulus, and there is a fear of cracking and peeling off from the substrate.

一方、従来のポリイミドの多くは、やはり、完全に硬
化させるためには、250℃を越える温度が必要である。2
50℃以下の温度で硬化させることができるポリイミドも
あるが、一般に、ポリイミドは引張り強度が低いという
欠点がある。さらに、250℃以下の温度で処理できるも
のとして、前記特開昭61−4700号公報に記載されるよう
にすでにイミド化が完結しているポリイミド樹脂がある
が、イミド化が完結しているポリイミドは、先に述べた
エツチング液に浸漬して、不要部分を溶解除去する場合
には、その速度が、一部分しかイミド化の進んでいない
樹脂に比較して非常に遅いことが知られており(機能材
料、1984年5月号及び6月号)先に述べた加工(エツチ
ング加工)を、行なう必要のある用途には使用できな
い。
On the other hand, many of the conventional polyimides still require a temperature exceeding 250 ° C. for complete curing. Two
Although some polyimides can be cured at temperatures below 50 ° C., polyimides generally have the disadvantage of low tensile strength. Further, as a material that can be treated at a temperature of 250 ° C. or less, there is a polyimide resin which has already been completely imidized as described in JP-A-61-4700, but a polyimide which has been completely imidized. It is known that the rate of dissolving and removing unnecessary portions by immersing in the above-mentioned etching solution is much slower than that of a resin in which only a part of imidization has progressed ( (Functional materials, May and June 1984) The above-mentioned processing (etching processing) cannot be used for applications that need to be performed.

一方、特開昭60−124625号公報などによる方法による
と、架橋剤を入れることにより、硬化温度が高くなつた
りポリマーの物性が大きく変化し、加工性や作業性が低
下するという問題が生じる。
On the other hand, according to the method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-124625 or the like, the addition of the crosslinking agent causes a problem that the physical properties of the polymer are greatly changed as the curing temperature is increased, and the processability and workability are reduced.

本発明は、このような問題点を解決するものであつ
て、250℃以下で完全硬化でき、エツチング加工がで
き、シリコンウエハ,金属板等の基板との密着性に優れ
たポリイミドイソインドロキナゾリンジオン及びその前
駆体の製造法を提供するものである。さらに、本発明
は、上記方法とは異なつた方法で架橋構造を導入するこ
とにより耐溶剤性が改良され、加工性がより優れたポリ
イミドイソインドロキナゾリンジオンの製造法を提供す
るものである。
The present invention is intended to solve such a problem, and can be completely cured at 250 ° C. or less, can be etched, and has excellent adhesion to substrates such as silicon wafers and metal plates. It is intended to provide a method for producing dione and its precursor. Further, the present invention provides a method for producing a polyimide isoindoloquinazolinedione which has improved solvent resistance by introducing a crosslinked structure by a method different from the above method, and which is more excellent in processability.

〔課題を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

本発明は、a)ヘキサカルボン酸三無水物1〜35モル
% 及び b)一般式(I) (ただし、式中、nは2〜16の整数を示す)で表わさ
れるアルキレンビストリメリテート二無水物を含むテト
ラカルボン酸二無水物99〜65モル% を含むカルボン酸無水物、 並びに c)一般式(II) (ただし、式中、Arは芳香族基、Yは 基と2個の−NH2基のうち少なくとも1個がArの隣接
炭素原子に結合している) で表わされるジアミノアミド化合物、 d)分子中に反応性不飽和基及び芳香族環を有するジア
ミン(ジアミンI) 及び e)少なくとも一つのアミノ基に対してオルト位に少な
くとも一つの置換基を有する芳香族ジアミン〔上記d〕
を除く、ジアミンII〕 を反応させることを特徴とするポリイミドイソインドロ
キナゾリンジオン前駆体の製造法に関する。
The present invention relates to a composition comprising a) 1-35 mol% of hexacarboxylic trianhydride and b) a compound of the general formula (I) Wherein n represents an integer of 2 to 16; a carboxylic anhydride containing 99 to 65 mol% of a tetracarboxylic dianhydride containing an alkylenebistrimellitate dianhydride; and c) a general formula Formula (II) (Wherein, Ar is an aromatic group, Y is Group and diaminoamide compound in which at least one is represented by are bonded to adjacent carbon atoms of Ar) of the two -NH 2 group, d) a diamine having a reactive unsaturated group and an aromatic ring in the molecule (Diamine I) and e) an aromatic diamine having at least one substituent ortho to the at least one amino group [d] above
And a process for producing a polyimide isoindoloquinazolinedione precursor, characterized by reacting a diamine II].

前記酸三無水物は、アミノ基を3個もつ化合物(例え
ば、3,3′,5−トリアミノベンゾフエノン等)、水酸基
を3個もつ化合物と無水トリメリツト酸クロライドをア
ミド結合又はエステル結合を形成するように反応させて
得ることができ、また、上記のアミノ基又は水酸基を3
個もつ化合物と3,4−ジメチル安息香酸クロライド等の
互いにオルト位関係のメチル基2個と 1個を置換基として有するベンゼン(ジメチル安息香酸
クロライド)をアミド結合又はエステル結合を形成する
ように反応させたのち、メチル基を酸化してカルボキシ
ル基としたのち、脱水して得ることができる。1,3,5−
トリクロロベンゼンとジメチル安息香酸クロライドをカ
ツプリング反応させた後、メチル基を酸化し、さらに脱
水することによつて製造することができる。さらに、水
酸基を3個もつ化合物と1,2−ジメチル−4−クロロベ
ンゼン等のジメチルクロロベンゼンをエーテル結合を形
成するように反応させた後、メチル基を酸化してカルボ
キシル基とした後脱水して製造することができる。
The acid trianhydride may be a compound having three amino groups (for example, 3,3 ', 5-triaminobenzophenone, etc.) or a compound having three hydroxyl groups and trimellitic anhydride chloride having an amide bond or an ester bond. The amino group or the hydroxyl group can be obtained by reacting
Compound and two methyl groups in ortho-position with each other, such as 3,4-dimethylbenzoic acid chloride. It can be obtained by reacting benzene (dimethylbenzoic acid chloride) having one substituent as a substituent to form an amide bond or an ester bond, oxidizing a methyl group to form a carboxyl group, and then dehydrating. 1,3,5-
After a coupling reaction between trichlorobenzene and dimethylbenzoic acid chloride, the compound can be produced by oxidizing a methyl group and further dehydrating. Furthermore, after reacting a compound having three hydroxyl groups with dimethylchlorobenzene such as 1,2-dimethyl-4-chlorobenzene to form an ether bond, the methyl group is oxidized to a carboxyl group, and then dehydrated to produce a product. can do.

このようにして得られる酸三無水物は、例えば、一般
式(III) (ただし、式中、Rは三価の有機基を示す)で表わすこ
とができる。
The acid trianhydride thus obtained is, for example, of the general formula (III) (Wherein, R represents a trivalent organic group).

上記の酸三無水物は、その製造の容易なことから、分
子内に水酸基を3個もつ化合物と、無水トリメリツト酸
クロライドを、3級アミンの存在下,有機溶媒中で反応
させて得るのが好ましい。分子内に水酸基を3個もつ化
合物としては、グリセリン、トリメチロールエタン、ト
リメチロールプロパン、1,2,6−ヘキサントリオール、
2,4−ジヒドロキシ−3−ヒドロキシメチルペンタン、
2,6−ビス(ヒドロキシメチル)ブタン−3−オール、
3−メチルペンタン−1,3,5−トリオール、1,3,5−トリ
ヒドロキシベンゼン、1,2,3−トリヒドロキシベンゼ
ン、1,2,4−トリヒドロキシベンゼン、2,4,5−トリヒド
ロキシブチルフエノン、2,3,4−トリヒドロキシベンズ
アルデヒド、α,α′,α″−(4−ヒドロキシフエニ
ル)−1,3,5−トリイソプロピルベンゼン、2,6−ビス
〔(2−ヒドロキシ−5−メチルフエニル)メチル〕−
4−メチルフエノール、2,3,4−トリヒドロキシアセト
フエノンなどがある。分子内に水酸基を3個もつ化合物
1モルに対して無水トリメリツト酸クロライドが3モル
になるような割合で用いるのが好ましい有機溶媒として
は、ベンゼン、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラ
ン、1,4−ジオキサン、ジエチルエーテル、1,2−ジクロ
ロエタン、クロロベンゼン、ジクロロメタンなどがあ
り、2種類以上を混合して用いても良い。上記有機溶媒
はモレキユラーシーブスなどで乾燥したものを用いた方
が良い。3級アミンとしては、ピリジン,トリエチルア
ミン,トリブチルアミンなどがあり、2種類以上を混合
して用いても良い。3級アミンの使用量としては無水ト
リメリツト酸クロライドに対して、1〜2倍当量用いる
ことが好ましい。反応温度,反応時間については、特に
限定されないが、好ましくは、50℃以下,3時間以内であ
る。これ以内になると、オリゴマ状物質が生成し、収率
が低下することがある。
Since the above-mentioned acid trianhydride is easy to produce, it can be obtained by reacting a compound having three hydroxyl groups in a molecule with trimellitic anhydride chloride in an organic solvent in the presence of a tertiary amine. preferable. Compounds having three hydroxyl groups in the molecule include glycerin, trimethylolethane, trimethylolpropane, 1,2,6-hexanetriol,
2,4-dihydroxy-3-hydroxymethylpentane,
2,6-bis (hydroxymethyl) butan-3-ol,
3-methylpentane-1,3,5-triol, 1,3,5-trihydroxybenzene, 1,2,3-trihydroxybenzene, 1,2,4-trihydroxybenzene, 2,4,5-triol Hydroxybutylphenone, 2,3,4-trihydroxybenzaldehyde, α, α ′, α ″-(4-hydroxyphenyl) -1,3,5-triisopropylbenzene, 2,6-bis [(2- (Hydroxy-5-methylphenyl) methyl]-
4-methylphenol, 2,3,4-trihydroxyacetophenone and the like. Organic solvents that are preferably used in such a ratio that trimellitic anhydride chloride is 3 moles per mole of the compound having three hydroxyl groups in the molecule include benzene, toluene, xylene, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, There are diethyl ether, 1,2-dichloroethane, chlorobenzene, dichloromethane and the like, and two or more kinds may be used in combination. It is better to use the organic solvent dried with a molecular sieve or the like. Examples of the tertiary amine include pyridine, triethylamine, and tributylamine, and two or more of them may be used in combination. The tertiary amine is preferably used in an amount of 1 to 2 equivalents based on trimellitic anhydride chloride. The reaction temperature and reaction time are not particularly limited, but are preferably 50 ° C. or lower and within 3 hours. Within this range, an oligomer-like substance may be formed, and the yield may decrease.

このようにして得られる酸三無水物は、一般式(IV) (ただし、R1は三価の有機基である)で表わされる。The acid trianhydride thus obtained has the general formula (IV) (Where R 1 is a trivalent organic group).

前記酸三無水物は、酸無水物の総量に対して、1〜35
モル%使用され、特に2〜30モル%用いるのが好まし
い。1モル%より少ないと架橋の効果が少なく、35モル
%より多いと前記前駆体の合成時にゲル化がおこり、均
一なワニスができない。また上記範囲であれば、2種類
以上を混合して用いても良い。
The acid trianhydride is from 1 to 35 based on the total amount of the acid anhydride.
Mol%, particularly preferably 2 to 30 mol%. If it is less than 1 mol%, the effect of crosslinking is small, and if it is more than 35 mol%, gelation occurs during the synthesis of the precursor, and a uniform varnish cannot be obtained. Further, within the above range, two or more kinds may be used in combination.

本発明で使用することができる酸二無水物としては、
前記前駆体を比較的低温で閉環反応させることができる
ことから、一般式(I) (ただし、式中、nは2〜16の整数を示す)で表わされ
るアルキレンビストリメリテート二無水物が好ましい。
このような酸二無水物としては、エチレングリコールビ
ス(トリメリツト酸無水物)、プロパンジオールビス
(トリメリツト酸無水物)、ブタンジオールビス(トリ
メリツト酸無水物)、ペンタンジオールビス(トリメリ
ツト酸無水物)、ヘキサンジオールビス(トリメリツト
酸無水物)、オクタンジオールビス(トリメリツト酸無
水物)、デカンジオールビス(トリメリツト酸無水
物)、ヘキサデカンジオールビス(トリメリツト酸無水
物)などがあり、これらの酸無水物は2種以上を併用す
ることもでき、酸無水物の全量に対して50〜99モル%
(特に50〜98モル%)使用されるのが好ましい。これら
の酸二無水物が少ないと硬化温度が高くなり、該温度を
250℃以下にしにくくなる。
Acid dianhydrides that can be used in the present invention include:
Since the precursor can be subjected to a ring-closing reaction at a relatively low temperature, the general formula (I) (Wherein, n represents an integer of 2 to 16), and an alkylenebistrimellitate dianhydride represented by the following formula is preferable.
Examples of such acid dianhydrides include ethylene glycol bis (trimellitic anhydride), propanediol bis (trimellitic anhydride), butanediol bis (trimellitic anhydride), pentanediol bis (trimellitic anhydride), There are hexane diol bis (trimellitic anhydride), octane diol bis (trimellitic anhydride), decane diol bis (trimellitic anhydride), hexadecane diol bis (trimellitic anhydride), and the like. More than one kind can be used in combination, and 50 to 99 mol% based on the total amount of the acid anhydride.
(Especially 50 to 98 mol%) are preferably used. When these acid dianhydrides are small, the curing temperature increases, and the curing temperature increases.
It is difficult to reach 250 ° C or less.

また上記酸二無水物以外に使用できるその他の酸二無
水物としては、 ピロメリツト酸無水物、 2,2ビス(2,3−ジカルボキシフエニル)ヘキサフルオロ
プロパン二無水物、 3,3′,4,4′−ジフエニルテトラカルボン酸二無水物、 1,2,5,6−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、 2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、 2,2′,3,3′−ジフエニルテトラカルボン酸二無水物、 2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフエニル)プロパン二無
水物、 ビス(3,4−ジカルボキシフエニル)スルホン二無水
物、 3,4,9,10−ペリレンテトラカルボン酸二無水物、 ビス(3,4−ジカルボキシフエニル)エーテル二無水
物、 ナフタレン−1,2,4,5−テトラカルボン酸二無水物、 ナフタレン−1,4,5,8−テトラカルボン酸二無水物、 2,6−ジクロルナフタレン−1,4,5,8−テトラカルボン酸
二無水物、 2,7−ジクロルナフタレン−1,4,5,8−テトラカルボン酸
二無水物、 2,3,6,7−テトラクロルナフタレン−1,4,5,8−テトラカ
ルボン酸二無水物、 フエナンスレン−1,8,9,10−テトラカルボン酸二無水
物、 2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフエニル)プロパン二無
水物、 1,1−ビス(2,3−ジカルボキシフエニル)エタン二無水
物、 1,1−ビス(3,4−ジカルボキシフエニル)エタン二無水
物、 ビス(2,3−ジカルボキシフエニル)メタン二無水物、 ビス(3,4−ジカルボキシフエニル)メタン二無水物、 ビス(3,4−ジカルボキシフエニル)スルホン二無水
物、 ベンゼン−1,2,3,4−テトラカルボン酸二無水物、 3,4,3′,4′−ベンゾフエノンテトラカルボン酸二無水
物、 2,3,2′,3′−ベンゾフエノンテトラカルボン酸二無水
物、 2,3,3′,4′−ベンゾフエノンテトラカルボン酸二無水
物、 ピラジン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、 チオフエン−2,3,4,5−テトラカルボン酸二無水物、 エチレンテトラカルボン酸二無水物、 デカヒドロナフタレン−1,4,5,8−テトラカルボン酸二
無水物、 4,8−ジメチル−1,2,3,5,6,7−ヘキサヒドロナフタレン
−1,2,5,6−テトラカルボン酸二無水物、 シクロペンタン−1,2,3,4−テトラカルボン酸二無水
物、 ピロリジン−2,3,4,5−テトラカルボン酸二無水物、 1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物、 ビシクロ−(2,2,2)−オクト(7)−エン−2,3,5,6−
テトラカルボン酸二無水物、 2,3,3′,4′−ビフエニルテトラカルボン酸二無水物、 3,4,3′,4′−ビフエニルテトラカルボン酸二無水物、 2,3,2′,3′−ビフエニルテトラカルボン酸二無水物、 ビス(3,4−ジカルボキシフエニル)ジメチルシラン二
無水物、 ビス(3,4−ジカルボキシフエニル)メチルフエニルシ
ラン二無水物、 ビス(3,4−ジカルボキシフエニル)ジフエニルシラン
二無水物、 ビス(2,3−ジカルボキシフエニル)ジメチルシラン二
無水物、 1,4−ビス(3,4−ジカルボキシフエニルジメチルシリ
ル)ベンゼン二無水物、 1,3−ビス(3,4−ジカルボキシフエニル)−1,1,3,3−
テトラメチルジシクロヘキサン二無水物、 p−フエニルビス(トリメリツト酸モノエステル酸無水
物)、 2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフエニル)ヘキサフルオ
ロプロパン二無水物、 2,2−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシフエノキシ)フエ
ニル〕ヘキサフルオロプロパン二無水物、 4,4′−ビス(3,4−ジカルボキシフエノキシ)ジフエニ
ルスルフイド二無水物 などがあげられ、これら1種又は2種以上が用いられ
る。
Other acid dianhydrides that can be used in addition to the above acid dianhydride include pyromellitic anhydride, 2,2 bis (2,3-dicarboxyphenyl) hexafluoropropane dianhydride, 3,3 ′, 4,4'-diphenyltetracarboxylic dianhydride, 1,2,5,6-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 2,2 '2,3,3'-Diphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride 3,4,9,10-perylenetetracarboxylic dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) ether dianhydride, naphthalene-1,2,4,5-tetracarboxylic dianhydride, Naphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic dianhydride, 2,6-dichloronaphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic Acid dianhydride, 2,7-dichloronaphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic dianhydride, 2,3,6,7-tetrachloronaphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic acid Acid dianhydride, phenanthrene-1,8,9,10-tetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 1,1-bis (2, 3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis ( 3,4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride, benzene-1,2,3,4-tetracarboxylic dianhydride, 3,4 , 3 ', 4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,3,2', 3'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,3,3 ', 4'-benzophenone Tet Lacarboxylic dianhydride, pyrazine-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, thiophene-2,3,4,5-tetracarboxylic dianhydride, ethylenetetracarboxylic dianhydride, decahydro Naphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic dianhydride, 4,8-dimethyl-1,2,3,5,6,7-hexahydronaphthalene-1,2,5,6-tetracarboxylic acid Dianhydride, cyclopentane-1,2,3,4-tetracarboxylic dianhydride, pyrrolidine-2,3,4,5-tetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid Acid dianhydride, bicyclo- (2,2,2) -oct (7) -ene-2,3,5,6-
Tetracarboxylic dianhydride, 2,3,3 ', 4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,4,3', 4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,3,2 ', 3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) dimethylsilane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) methylphenylsilane dianhydride, Bis (3,4-dicarboxyphenyl) diphenylsilane dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) dimethylsilane dianhydride, 1,4-bis (3,4-dicarboxyphenyldimethylsilyl) Benzene dianhydride, 1,3-bis (3,4-dicarboxyphenyl) -1,1,3,3-
Tetramethyldicyclohexane dianhydride, p-phenylbis (trimellitic acid monoester anhydride), 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoropropane dianhydride, 2,2-bis [4 -(3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl] hexafluoropropane dianhydride, 4,4'-bis (3,4-dicarboxyphenoxy) diphenyl sulfide dianhydride and the like. , One or more of these are used.

これらの他の酸二無水物は、酸無水物の総量が100モ
ル%になるように必要に応じ使用される。
These other acid dianhydrides are used as needed so that the total amount of the acid anhydride is 100 mol%.

一般式(II)で表わされるジアミノアミド化合物とし
ては、例えば次の式 で示される化合物が用いられる。
As the diaminoamide compound represented by the general formula (II), for example, The compound shown by is used.

上記においてYはSO2又はCOを示す。またXはO,CH2,S
O2,S,COなどを示し1個のアミノ基とY−NH2とは互いに
オルト位に位置する。具体的に例をあげれば、4,4′−
ジアミノジフエニルエーテル−3−スルホンアミド、3,
4′−ジアミノジフエニルエーテル−4−スルホンアミ
ド、3,4′−ジアミノジフエニルエーテル−3′−スル
ホンアミド、3,3′−ジアミノジフエニルエーテル−4
−スルホンアミド、4,4′−ジアミノジフエニルメタン
−3−スルホンアミド、3,4′−ジアミノジフエニルメ
タン−4−スルホンアミド、3,4′−ジアミノジフエニ
ルメタン−3′−スルホンアミド、3,3′−ジアミノジ
フエニルメタン−4−スルホンアミド、4,4′−ジアミ
ノジフエニルスルホン−3−スルホンアミド、3,4′−
ジアミノジフエニルスルホン−4−スルホンアミド、3,
4′−ジアミノジフエニルスルホン−3′−スルホンア
ミド、3,3′−ジアミノジフエニルスルホン−4−スル
ホンアミド、4,4′−ジアミノジフエニルサルフアイド
−3−スルホンアミド、3,4′−ジアミノジフエニルサ
ルフアイド−4−スルホンアミド、3,3′−ジアミノジ
フエニルサルフアイド−4−スルホンアミド、3,4′−
ジアミノジフエニルサルフアイド−3′−スルホンアミ
ド、1,4−ジアミノベンゼン−2−スルホンアミド、4,
4′−ジアミノジフエニルエーテル−3−カルボンアミ
ド、3,4′−ジアミノジフエニルエーテル−4−カルボ
ンアミド、3,4′−ジアミノジフエニルエーテル−3′
−カルボンアミド、3,3′−ジアミノジフエニルエーテ
ル−4−カルボンアミド、4,4′−ジアミノジフエニル
メタン−3−カルボンアミド、3,4′−ジアミノジフエ
ニルメタン−4−カルボンアミド、3,4′−ジアミノジ
フエニルメタン−3′−カルボンアミド、3,3′−ジア
ミノジフエニルメタン−4−カルボンアミド、4,4′−
ジアミノジフエニルスルホン−3−カルボンアミド、3,
4′−ジアミノジフエニルスルホン−4−カルボンアミ
ド、3,4′−ジアミノジフエニルスルホン−3′−カル
ボンアミド、3,3′−ジアミノジフエニルスルホン−4
−カルボンアミド、4,4′−ジアミノジフエニルサルフ
アイド−3−カルボンアミド、3,4′−ジアミノジフエ
ニサルフアイド−4−カルボンアミド、3,3′−ジアミ
ノジフエニルサルフアイド−4−カルボンアミド、3,
4′−ジアミノジフエニルサルフアイド−3′−スルホ
ンアミド、1,4−ジアミノベンゼン−2−カルボンアミ
ドなどがある。
In the above, Y represents SO 2 or CO. X is O, CH 2 , S
It represents O 2 , S, CO, etc., and one amino group and Y—NH 2 are located at ortho positions to each other. To give a concrete example, 4,4'-
Diaminodiphenyl ether-3-sulfonamide, 3,
4'-diaminodiphenyl ether-4-sulfonamide, 3,4'-diaminodiphenyl ether-3'-sulfonamide, 3,3'-diaminodiphenyl ether-4
-Sulfonamide, 4,4'-diaminodiphenylmethane-3-sulfonamide, 3,4'-diaminodiphenylmethane-4-sulfonamide, 3,4'-diaminodiphenylmethane-3'-sulfonamide, 3,3'-diaminodiphenylmethane-4-sulfonamide, 4,4'-diaminodiphenylsulfone-3-sulfonamide, 3,4'-
Diaminodiphenylsulfone-4-sulfonamide, 3,
4'-diaminodiphenylsulfone-3'-sulfonamide, 3,3'-diaminodiphenylsulfone-4-sulfonamide, 4,4'-diaminodiphenylsulfide-3-sulfonamide, 3,4'- Diaminodiphenyl sulfide-4-sulfonamide, 3,3'-diaminodiphenyl sulfide-4-sulfonamide, 3,4'-
Diaminodiphenyl sulfide-3'-sulfonamide, 1,4-diaminobenzene-2-sulfonamide, 4,
4'-diaminodiphenyl ether-3-carbonamide, 3,4'-diaminodiphenyl ether-4-carbonamide, 3,4'-diaminodiphenyl ether-3 '
-Carbonamide, 3,3'-diaminodiphenylether-4-carbonamide, 4,4'-diaminodiphenylmethane-3-carbonamide, 3,4'-diaminodiphenylmethane-4-carbonamide, 3 4,4'-diaminodiphenylmethane-3'-carbonamide, 3,3'-diaminodiphenylmethane-4-carbonamide, 4,4'-
Diaminodiphenylsulfone-3-carbonamide, 3,
4'-diaminodiphenylsulfone-4-carbonamide, 3,4'-diaminodiphenylsulfone-3'-carbonamide, 3,3'-diaminodiphenylsulfone-4
-Carbonamide, 4,4'-diaminodiphenyl sulfide-3-carbonamide, 3,4'-diaminodiphenyl sulphide-4-carbonamide, 3,3'-diaminodiphenyl sulphide-4-carboxylic Amide, 3,
4'-diaminodiphenyl sulfide-3'-sulfonamide, 1,4-diaminobenzene-2-carbonamide and the like.

これらのジアミノアミド化合物は、2種以上を併用す
ることもできる。
These diaminoamide compounds may be used in combination of two or more.

ジアミノアミド化合物の使用量は、ジアミノアミド化
合物、及びジアミンの総量に対して10〜50モル%とする
のが好ましい。ジアミノアミド化合物が少なすぎると耐
熱性向上の効果が小さくなる傾向があり、多すぎると本
発明で得られる前駆体の硬化温度が高くなる傾向があ
る。
The amount of the diaminoamide compound used is preferably 10 to 50 mol% based on the total amount of the diaminoamide compound and the diamine. If the amount of the diaminoamide compound is too small, the effect of improving the heat resistance tends to decrease, and if it is too large, the curing temperature of the precursor obtained in the present invention tends to increase.

前記ジアミンIとしては、2−(2−メタクリロイル
オキシ)エチルオキシカルボニル−4,4′−ジアミノジ
フエニルエーテル、2,2′−ジ−(2−メタクリロイル
オキシ)エチルオキシカルボニル−4,4′−ジアミノジ
フエニルエーテル等があり、一般式(V) (ただし、式中、Xは 又は−CH2−O−を示し、R2はエチレン性不飽和基を含
む有機基を示す)で表わされるジアミンが好ましい。一
般式(V)で表わされるジアミンにおいてR2で示される
エチレン性不飽和基として、例えば などがある。
Examples of the diamine I include 2- (2-methacryloyloxy) ethyloxycarbonyl-4,4'-diaminodiphenyl ether and 2,2'-di- (2-methacryloyloxy) ethyloxycarbonyl-4,4'- Diaminodiphenyl ether and the like; (Where X is Or -CH 2 -O- are shown, R 2 is a diamine represented by an organic group containing an ethylenically unsaturated group). As the ethylenically unsaturated group represented by R 2 in the diamine represented by the general formula (V), for example, and so on.

一般式(V)で表わされるジアミンとしては、3,5−
ジアミノ安息香酸エチルアクリル酸エステル、3,5−ジ
アミノ安息香酸エチルメタクリル酸エステル、3,5−ジ
アミノ安息香酸グリシジルアクリレートエステル、3,5
−ジアミノ安息香酸グリシジルメタクリレートエステ
ル、3,5−ジアミノ安息香酸ケイ皮酸エステル、2,4−ジ
アミノ安息香酸エチルアクリル酸エステル、2,4−ジア
ミノ安息香酸エチルメタクリル酸エステル、2,4−ジア
ミノ安息香酸グリシジルアクリレートエステル、2,4−
ジアミノ安息香酸グリシジルメタクリレートエステル、
2,4−ジアミノ安息香酸ケイ皮酸エステル、3,5−ジアミ
ノベンジルアクリレート、3,5−ジアミノベンジルメタ
クリレートなどがある。
As the diamine represented by the general formula (V), 3,5-
Ethyl diaminobenzoate acrylic acid ester, 3,5-diaminobenzoic acid ethyl methacrylate, 3,5-diaminobenzoic acid glycidyl acrylate ester, 3,5
Glycidyl methacrylate diaminobenzoate, cinnamate 3,5-diaminobenzoate, ethyl acrylate 2,4-diaminobenzoate, ethyl methacrylate 2,4-diaminobenzoate, 2,4-diaminobenzoate Glycidyl acrylate ester, 2,4-
Glycidyl methacrylate diaminobenzoate,
Examples include 2,4-diaminobenzoic acid cinnamate, 3,5-diaminobenzyl acrylate, and 3,5-diaminobenzyl methacrylate.

前記ジアミンIは、2種以上を併用することもでき
る。またジアミンIの使用量はジアミノアミド化合物及
びジアミンの総量に対して5〜80モル%とするのが好ま
しい。少ないと架橋の効果が小さくなる傾向にあり、多
すぎると本発明で得られる樹脂の耐熱性が低下する傾向
がある。
The diamine I may be used in combination of two or more. The amount of the diamine I used is preferably 5 to 80 mol% based on the total amount of the diaminoamide compound and the diamine. If the amount is too small, the effect of crosslinking tends to be small.

前記ジアミIIとしては一般式(VI) 〔ただし、R3,R4,R5及びR6はそれぞれ独立に水素,メチ
ル基,エチル基,イソプロピル基,ブチル基等のアルキ
ル基,フツ素置換アルキル基,メトキシ基,エトキシ
基,ブトキシ基等のアルコキシ基又はハロゲン(塩素,
臭素,フツ素若しくはヨウ素)を示し、R3,R4,R5及びR6
のうち少なくとも一つは水素以外の基であり、X′は −SO2−若しくは−S−又は結合を示す〕 で示されるジアミンが好ましい。一般式(VI)中、R3
R4のうち少なくとも一方及びR5とR6のうち少なくとも一
方が水素以外の基であるものが特に好ましい。
The diami II has the general formula (VI) [However, R 3 , R 4 , R 5 and R 6 are each independently hydrogen, an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, a butyl group, a fluorine-substituted alkyl group, a methoxy group, an ethoxy group, a butoxy group. And other alkoxy groups or halogens (chlorine,
Bromine, fluorine or iodine), R 3 , R 4 , R 5 and R 6
At least one of them is a group other than hydrogen, and X ′ is —SO 2 — or —S— or a bond]. In the general formula (VI), R 3 and
Those in which at least one of the at least one and R 5 and R 6 of R 4 is a group other than hydrogen are particularly preferred.

上記一般式(VI)で示されるジアミンとしては、 3,3′−ジメチル−4,4′−ジアミノジフエニルメタン、 3,3′−ジエチル−4,4′−ジアミノジフエニルメタン、 3,3′−ジメトキシ−4,4′−ジアミノジフエニルメタ
ン、 3,3′−ジエトキシ−4,4′−ジアミノジフエニルメタ
ン、 3,3′−ジフルオロ−4,4′−ジアミノジフエニルメタ
ン、 3,3′−ジクロロ−4,4′−ジアミノジフエニルメタン、 3,3′−ジブロモ−4,4′−ジアミノジフエニルメタン、 3,3′−ジ(トリフルオロメチル)−4,4′−ジアミノジ
フエニルメタン、 3,3′−ジメチル−4,4′−ジアミノジフエニルエーテ
ル、 3,3′−ジイソプロピル−4,4′−ジアミノジフエニルエ
ーテル、 3,3′−ジメトキシ−4,4′−ジアミノジフエニルエーテ
ル、 3,3′−ジエトキシ−4,4′−ジアミノジフエニルエーテ
ル、 3,3′−ジフルオロ−4,4′−ジアミノジフエニルエーテ
ル、 3,3′−ジクロロ−4,4′−ジアミノジフエニルエーテ
ル、 3,3′−ジブロモ−4,4′−ジアミノジフエニルエーテ
ル、 3,3′−ジ(トリフルオロメチル)−4,4′−ジアミノジ
フエニルエーテル、 3,3′−ジメチル−4,4′−ジアミノジフエニルスルホ
ン、 3,3′−ジメトキシ−4,4′−ジアミノジフエニルスルホ
ン、 3,3′−ジエトキシ−4,4′−ジアミノジフエニルスルホ
ン、 3,3′−ジフルオロ−4,4′−ジアミノジフエニルスルホ
ン、 3,3′−ジクロロ−4,4′−ジアミノジフエニルスルホ
ン、 3,3′−ジブロモ−4,4′−ジアミノジフエニルスルホ
ン、 3,3′−ジ(トリフルオロメチル)−4,4′−ジアミノジ
フエニルスルホン、 3,3′−ジメチル−4,4′−ジアミノジフエニルプロパ
ン、 3,3′−ジメトキシ−4,4′−ジアミノジフエニルプロパ
ン、 3,3′−ジエトキシ−4,4′−ジアミノジフエニルプロパ
ン、 3,3′−ジフルオロ−4,4′−ジアミノジフエニルプロパ
ン、 3,3′−ジクロロ−4,4′−ジアミノジフエニルプロパ
ン、 3,3′−ジブロモ−4,4′−ジアミノジフエニルプロパ
ン、 3,3′−ジ(トリフルオロメチル)−4,4′−ジアミノジ
フエニルプロパン、 3,3′−ジメチル−4,4′−ジアミノジフエニルスルフイ
ド、 3,3′−ジメトキシ−4,4′−ジアミノジフエニルスルフ
イド、 3,3′−ジエトキシ−4,4′−ジアミノジフエニルスルフ
イド、 3,3′−ジフルオロ−4,4′−ジアミノジフエニルスルフ
イド、 3,3′−ジクロロ−4,4′−ジアミノジフエニルスルフイ
ド、 3,3′−ジブロモ−4,4′−ジアミノジフエニルスルフイ
ド、 3,3′−ジ(トリフルオロメチル)−4,4′−ジアミノジ
フエニルスルフイド、 3,3′−ジメチル−4,4′−ジアミノジフエニルヘキサフ
ルオロプロパン、 3,3′−ジメトキシ−4,4′−ジアミノジフエニルヘキサ
フルオロプロパン、 3,3′−ジエトキシ−4,4′−ジアミノジフエニルヘキサ
フルオロプロパン、 3,3′−ジフルオロ−4,4′−ジアミノジフエニルヘキサ
フルオロプロパン、 3,3′−ジクロロ−4,4′−ジアミノジフエニルヘキサフ
ルオロプロパン、 3,3′−ジブロモ−4,4′−ジアミノジフエニルヘキサフ
ルオロプロパン、 3,3′−ジ(トリフルオロメチル)−4,4′−ジアミノジ
フエニルヘキサフルオロプロパン、 3,3′−ジメチル−4,4′−ジアミノベンゾフエノン、 3,3′−ジメトキシ−4,4′−ジアミノベンゾフエノン、 3,3′−ジエトキシ−4,4′−ジアミノベンゾフエノン、 3,3′−ジフルオロ−4,4′−ジアミノベンゾフエノン、 3,3′−ジクロロ−4,4′−ジアミノベンゾフエノン、 3,3′−ジブロモ−4,4′−ジアミノベンゾフエノン、 3,3′−ジ(トリフルオロメチル)−4,4′−ジアミノベ
ンゾフエノン、 3,3′−ジメチルベンジジン、 3,3′,5,5′−テトラメチル−4,4′−ジアミノジフエニ
ルメタン、 3,3′,5,5′−テトライソプロピル−4,4′−ジアミノジ
フエニルメタン、 3,3′,5,5′−テトラメトキシ−4,4′−ジアミノジフエ
ニルメタン、 3,3′,5,5′−テトラエトキシ−4,4′−ジアミノジフエ
ニルメタン、 3,3′,5,5′−テトラフルオロ−4,4′−ジアミノジフエ
ニルメタン、 3,3′,5,5′−テトラクロロ−4,4′−ジアミノジフエニ
ルメタン、 3,3′,5,5′−テトラブロモ−4,4′−ジアミノジフエニ
ルメタン、 3,3′,5,5′−テトラ(トリフルオロメチル)−4,4′−
ジアミノジフエニルメタン、 3,3′,5,5′−テトラメチル−4,4′−ジアミノジフエニ
ルエーテル、 3,3′,5,5′−テトラエチル−4,4′−ジアミノジフエニ
ルエーテル、 3,3−5,5′−テトラメトキシ−4,4′−ジアミノジフエ
ニルエーテル、 3,3′,5,5′−テトラエトキシ−4,4′−ジアミノジフエ
ニルエーテル、 3,3′,5,5′−テトラフルオロ−4,4′−ジアミノジフエ
ニルエーテル、 3,3′,5,5′−テトラクロロ−4,4′−ジアミノジフエニ
ルエーテル、 3,3′,5,5′−テトラブロモ−4,4′−ジアミノジフエニ
ルエーテル、 3,3′,5,5′−テトラ(トリフルオロメチル)−4,4′−
ジアミノジフエニルエーテル、 3,3′,5,5′−テトラメチル−4,4′−ジアミノジフエニ
ルスルホン、 3,3′,5,5′−テトラメトキシ−4,4′−ジアミノジフエ
ニルスルホン、 3,3′,5,5′−テトラエトキシ−4,4′−ジアミノジフエ
ニルスルホン、 3,3′,5,5′−テトラフルオロ−4,4′−ジアミノジフエ
ニルスルホン、 3,3′,5,5′−テトラクロロ−4,4′−ジアミノジフエニ
ルスルホン、 3,3′,5,5′−テトラブロモ−4,4′−ジアミノジフエニ
ルスルホン、 3,3′,5,5′−テトラ(トリフルオロメチル)−4,4′−
ジアミノジフエニルスルホン、 3,3′,5,5′−テトラメチル−4,4′−ジアミノジフエニ
ルプロパン、 3,3′,5,5′−テトラメトキシ−4,4′−ジアミノジフエ
ニルプロパン、 3,3′,5,5′−テトラエトキシ−4,4′−ジアミノジフエ
ニルプロパン、 3,3′,5,5′−テトラフルオロ−4,4′−ジアミノジフエ
ニルプロパン、 3,3′,5,5′−テトラクロロ−4,4′−ジアミノジフエニ
ルプロパン、 3,3′,5,5′−テトラブロモ−4,4′−ジアミノジフエニ
ルプロパン、 3,3′,5,5′−テトラ(トリフルオロメチル)−4,4′−
ジアミノジフエニルプロパン、 3,3′,5,5′−テトラメチル−4,4′−ジアミノジフエニ
ルスルフイド、 3,3′,5,5′−テトラメトキシ−4,4′−ジアミノジフエ
ニルスルフイド、 3,3′,5,5′−テトラエトキシ−4,4′−ジアミノジフエ
ニルスルフイド、 3,3′,5,5′−テトラフルオロ−4,4′−ジアミノジフエ
ニルスルフイド、 3,3′,5,5′−テトラクロロ−4,4′−ジアミノジフエニ
ルスルフイド、 3,3′,5,5′−テトラブロモ−4,4′−ジアミノジフエニ
ルスルフイド、 3,3′,5,5′−テトラ(トリフルオロメチル)−4,4′−
ジアミノジフエニルスルフイド、 3,3′,5,5′−テトラメチル−4,4′−ジアミノジフエニ
ルヘキサフルオロプロパン、 3,3′,5,5′−テトラメトキシ−4,4′−ジアミノジフエ
ニルヘキサフルオロプロパン、 3,3′,5,5′−テトラエトキシ−4,4′−ジアミノジフエ
ニルヘキサフルオロプロパン、 3,3′,5,5′−テトラフルオロ−4,4′−ジアミノジフエ
ニルヘキサフルオロプロパン、 3,3′,5,5′−テトラクロロ−4,4′−ジアミノジフエニ
ルヘキサフルオロプロパン、 3,3′,5,5′−テトラブロモ−4,4′−ジアミノジフエニ
ルヘキサフルオロプロパン、 3,3′,5,5′−テトラ(トリフルオロメチル)−4,4′−
ジアミノジフエニルヘキサフルオロプロパン、 3,3′,5,5′−テトラメチル−4,4′−ジアミノベンゾフ
エノン、 3,3′,5,5′−テトラメトキシ−4,4′−ジアミノベンゾ
フエノン、 3,3′,5,5′−テトラエトキシ−4,4′−ジアミノベンゾ
フエノン、 3,3′,5,5′−テトラフルオロ−4,4′−ジアミノベンゾ
フエノン、 3,3′,5,5′−テトラクロロ−4,4′−ジアミノベンゾフ
エノン、 3,3′,5,5′−テトラブロモ−4,4′−ジアミノベンゾフ
エノン、 3,3′,5,5′−テトラ(トリフルオロメチル)−4,4′−
ジアミノベンゾフエノン、 3,3′,5,5′−テトライソプロピル−4,4′−ジアミノジ
フエニルメタン、 3,3′−ジイソプロピル−5,5′−ジメチル−4,4′−ジ
アミノジフエニルメタン、 3,3′−ジイソプロピル−5,5′−ジエチル−4,4′−ジ
アミノジフエニルメタン、 3,3′−ジイソプロピル−5,5′−ジメチル−4,4′−ジ
アミノジフエニルエーテル、 3,3′−ジイソプロピル−5,5′−ジエチル−4,4′−ジ
アミノジフエニルエーテル、 3,3′−ジイソプロピル−5,5′−ジメチル−4,4′−ジ
アミノジフエニルプロパン、 3,3′−ジイソプロピル−5,5′−ジメチル−4,4′−ジ
アミノジフエニルプロパン、 3,3′−ジイソプロピル−5,5′−ジメチル−4,4′−ジ
アミノジフエニルスルホン、 3,3′−ジイソプロピル−5,5′−ジエチル−4,4′−ジ
アミノジフエニルスルホン、 などがあり、2種類以上併用しても良い。
Examples of the diamine represented by the above general formula (VI) include 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-diethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3 '-Dimethoxy-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-diethoxy-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-difluoro-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3, 3'-dichloro-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-dibromo-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-di (trifluoromethyl) -4,4'-diamino Diphenylmethane, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diisopropyl-4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-dimethoxy-4,4'- Diaminodiphenyl ether, 3,3'-diethoxy-4,4'-diaminodiphenyl ether 3,3'-difluoro-4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-dichloro-4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-dibromo-4,4'-diaminodiphenyl ether 3,3'-di (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,3'-dimethoxy-4,4 '-Diaminodiphenylsulfone, 3,3'-diethoxy-4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-difluoro-4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-dichloro-4, 4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-dibromo-4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-di (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3 '-Dimethyl-4,4'-diaminodiphenylpropane, 3,3'-dimethoxy 4,4'-diaminodiphenylpropane, 3,3'-diethoxy-4,4'-diaminodiphenylpropane, 3,3'-difluoro-4,4'-diaminodiphenylpropane, 3,3'-dichloro -4,4'-diaminodiphenylpropane, 3,3'-dibromo-4,4'-diaminodiphenylpropane, 3,3'-di (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenylpropane, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 3,3'-dimethoxy-4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 3,3'-diethoxy-4,4'- Diaminodiphenyl sulfide, 3,3'-difluoro-4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 3,3'-dichloro-4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 3,3'- Dibromo-4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 3,3'-di (trifluoromethyl) -4,4 ' -Diaminodiphenyl sulfide, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenylhexafluoropropane, 3,3'-dimethoxy-4,4'-diaminodiphenylhexafluoropropane, 3,3 '-Diethoxy-4,4'-diaminodiphenylhexafluoropropane,3,3'-difluoro-4,4'-diaminodiphenylhexafluoropropane,3,3'-dichloro-4,4'-diaminodiphenylhexa Fluoropropane, 3,3'-dibromo-4,4'-diaminodiphenylhexafluoropropane, 3,3'-di (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenylhexafluoropropane, 3,3 '-Dimethyl-4,4'-diaminobenzophenone,3,3'-dimethoxy-4,4'-diaminobenzophenone,3,3'-diethoxy-4,4'-diaminobenzophenone, 3,3 '-Difluo -4,4'-diaminobenzophenone, 3,3'-dichloro-4,4'-diaminobenzophenone, 3,3'-dibromo-4,4'-diaminobenzophenone, 3,3'- Di (trifluoromethyl) -4,4'-diaminobenzophenone, 3,3'-dimethylbenzidine, 3,3 ', 5,5'-tetramethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3, 3 ', 5,5'-tetraisopropyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3', 5,5'-tetramethoxy-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3 ', 5 , 5'-tetraethoxy-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3 ', 5,5'-tetrafluoro-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3', 5,5'- Tetrachloro-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3 ', 5,5'-tetrabromo-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3', 5,5'-tetra (trifluoromethyl 4,4'
Diaminodiphenylmethane, 3,3 ', 5,5'-tetramethyl-4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3', 5,5'-tetraethyl-4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3-5,5'-tetramethoxy-4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3 ', 5,5'-tetraethoxy-4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3', 5,5'-tetrafluoro-4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3 ', 5,5'-tetrachloro-4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3', 5,5 '-Tetrabromo-4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3 ', 5,5'-tetra (trifluoromethyl) -4,4'-
Diaminodiphenyl ether, 3,3 ', 5,5'-tetramethyl-4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3', 5,5'-tetramethoxy-4,4'-diaminodiphenylsulfone 3,3 ', 5,5'-tetraethoxy-4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3', 5,5'-tetrafluoro-4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3 ', 5,5'-tetrachloro-4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3', 5,5'-tetrabromo-4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3 ', 5,5 '-Tetra (trifluoromethyl) -4,4'-
Diaminodiphenylsulfone, 3,3 ', 5,5'-tetramethyl-4,4'-diaminodiphenylpropane, 3,3', 5,5'-tetramethoxy-4,4'-diaminodiphenylpropane 3,3 ', 5,5'-tetraethoxy-4,4'-diaminodiphenylpropane, 3,3', 5,5'-tetrafluoro-4,4'-diaminodiphenylpropane, 3,3 ', 5,5'-tetrachloro-4,4'-diaminodiphenylpropane, 3,3', 5,5'-tetrabromo-4,4'-diaminodiphenylpropane, 3,3 ', 5,5 '-Tetra (trifluoromethyl) -4,4'-
Diaminodiphenylpropane, 3,3 ', 5,5'-tetramethyl-4,4'-diaminodiphenylsulfide, 3,3', 5,5'-tetramethoxy-4,4'-diaminodi Phenyl sulfide, 3,3 ', 5,5'-tetraethoxy-4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 3,3', 5,5'-tetrafluoro-4,4'-diaminodi Phenyl sulfide, 3,3 ', 5,5'-tetrachloro-4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 3,3', 5,5'-tetrabromo-4,4'-diaminodiphen Nylsulfide, 3,3 ', 5,5'-tetra (trifluoromethyl) -4,4'-
Diaminodiphenyl sulfide, 3,3 ', 5,5'-tetramethyl-4,4'-diaminodiphenylhexafluoropropane, 3,3', 5,5'-tetramethoxy-4,4'- Diaminodiphenylhexafluoropropane, 3,3 ', 5,5'-tetraethoxy-4,4'-diaminodiphenylhexafluoropropane, 3,3', 5,5'-tetrafluoro-4,4'- Diaminodiphenylhexafluoropropane, 3,3 ', 5,5'-tetrachloro-4,4'-diaminodiphenylhexafluoropropane, 3,3', 5,5'-tetrabromo-4,4'-diamino Diphenylhexafluoropropane, 3,3 ', 5,5'-tetra (trifluoromethyl) -4,4'-
Diaminodiphenylhexafluoropropane, 3,3 ', 5,5'-tetramethyl-4,4'-diaminobenzophenone, 3,3', 5,5'-tetramethoxy-4,4'-diaminobenzo Phenone, 3,3 ', 5,5'-tetraethoxy-4,4'-diaminobenzophenone, 3,3', 5,5'-tetrafluoro-4,4'-diaminobenzophenone, 3 , 3 ', 5,5'-Tetrachloro-4,4'-diaminobenzophenone, 3,3', 5,5'-Tetrabromo-4,4'-diaminobenzophenone, 3,3 ', 5 , 5'-Tetra (trifluoromethyl) -4,4'-
Diaminobenzophenone, 3,3 ', 5,5'-tetraisopropyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-diisopropyl-5,5'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenyl Methane, 3,3'-diisopropyl-5,5'-diethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-diisopropyl-5,5'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenylether, 3,3'-diisopropyl-5,5'-diethyl-4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diisopropyl-5,5'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenylpropane, 3, 3'-diisopropyl-5,5'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenylpropane, 3,3'-diisopropyl-5,5'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3 '-Diisopropyl-5,5'-diethyl-4,4'-diaminodiphenylsulfone, Etc. There are, may be used in combination of two or more.

一般式(VI)で表わされるジアミン以外のジアミンII
としてm−キシリレンジアミン、2,4−ジアミノトルエ
ン、2,6−ジアミノトルエン等がある。
Diamines other than the diamine represented by the general formula (VI) II
Examples thereof include m-xylylenediamine, 2,4-diaminotoluene, and 2,6-diaminotoluene.

前記ジアミンIIの使用量としてはジアミン及びジアミ
ノアミド化合物の総量に対して0.5〜85モル%使用され
るのが好ましい。0.5モル%未満であるとポリイミド合
成時にゲル化がおこり、均一なワニスができないことが
ある。
The diamine II is preferably used in an amount of 0.5 to 85 mol% based on the total amount of the diamine and diaminoamide compound. If it is less than 0.5 mol%, gelation may occur during the synthesis of the polyimide, and a uniform varnish may not be obtained.

前記のジアミンI及びジアミンIIと併用して用いても
よいジアミンとしては、 4−アミノフエニル−3−アミノ安息香酸、 2,2−ビス(4−アミノフエニル)プロパン、 2,6−ジアミノピリジン、 ビス−(4−アミノフエニル)ジエチルシラン、 ビス−(4−アミノフエニル)ジフエニルシラン、 ビス−(4−アミノフエニル)エチルホスフインオキサ
イド、 ビス−(4−アミノフエニル)−N−ブチルアミン、 ビス−(4−アミノフエニル)−N−メチルアミン、 N−(3−アミノフエニル)−4−アミノベンズアミ
ド、 4−アミノフエニル−3−アミノ安息香酸、 3,3′−ジアミノジフエニルメタン、 3,3′−ジアミノジフエニルエーテル、 3,3′−ジアミノジフエニルスルホン、 3,3′−ジアミノジフエニルプロパン、 3,3′−ジアミノジフエニルスルフイド、 p−フエニレンジアミン、 m−フエニレンジアミン、 4,4′−ジアミノジフエニルプロパン、 4,4′−ジアミノジフエニルメタン、 3,3′−ジアミノベンゾフエノン、 4,4′−ジアミノジフエニルスルフイド、 4,4′−ジアミノジフエニルスルホン、 4,4′−ジアミノジフエニルエーテル、 3,4′−ジアミノジフエニルエーテル、 1,5−ジアミノナフタレン、 2,4−ビス(β−アミノ−t−ブチル)トルエン、 ビス(p−β−アミノ−t−ブチル−フエニル)エーテ
ル、 ビス(p−β−メチル−γ−アミノ−ペンチル)ベンゼ
ン、 ビス−p−(1,1−ジメチル−5−アミノペンチル)ベ
ンゼン、 ヘキサメチレンジアミン、 ヘプタメチレンジアミン、 オクタメチレンジアミン、 ノナメチレンジアミン、 デカメチレンジアミン、 テトラメチレンジアミン、 プロピレンジアミン、 3−メチルヘプタメチレンジアミン、 4,4′−ジメチルヘプタメチレンジアミン、 2,11−ジアミノドデカン、 1,2−ビス(3−アミノプロポキシ)エタン、 2,2−ジメチルプロピレンジアミン、 3−メトキシ−ヘキサメチレンジアミン、 2,5−ジメチルヘキサメチレンジアミン、 2,5−ジメチルヘプタメチレンジアミン、 5−メチルノナメチレンジアミン、 2,17−ジアミノアイコサデカン、 1,4−ジアミノシクロヘキサン、 1,10−ジアミノ−1,10−ジメチルデカン、 1,12−ジアミノオクタデカン などがあり、2種類以上を併用しても良い。これらのジ
アミンのうち芳香族系ジアミンは耐熱性の点で好まし
い。
Examples of the diamine that may be used in combination with the diamine I and the diamine II include 4-aminophenyl-3-aminobenzoic acid, 2,2-bis (4-aminophenyl) propane, 2,6-diaminopyridine, and bis- (4-aminophenyl) diethylsilane, bis- (4-aminophenyl) diphenylsilane, bis- (4-aminophenyl) ethylphosphoxide, bis- (4-aminophenyl) -N-butylamine, bis- (4-aminophenyl) -N -Methylamine, N- (3-aminophenyl) -4-aminobenzamide, 4-aminophenyl-3-aminobenzoic acid, 3,3'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-diaminodiphenyl ether, 3,3 '-Diaminodiphenylsulfone, 3,3'-diaminodiphenylpropane, 3,3'-diaminodi Enylsulfide, p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-diaminobenzophenone, 4,4'-diamino Diphenyl sulfide, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 1,5-diaminonaphthalene, 2,4-bis (β -Amino-t-butyl) toluene, bis (p-β-amino-t-butyl-phenyl) ether, bis (p-β-methyl-γ-amino-pentyl) benzene, bis-p- (1,1- Dimethyl-5-aminopentyl) benzene, hexamethylenediamine, heptamethylenediamine, octamethylenediamine, nonamethylenediamine, decamethylenediamine, tetra Tylenediamine, propylenediamine, 3-methylheptamethylenediamine, 4,4'-dimethylheptamethylenediamine, 2,11-diaminododecane, 1,2-bis (3-aminopropoxy) ethane, 2,2-dimethylpropylenediamine 3-methoxy-hexamethylenediamine, 2,5-dimethylhexamethylenediamine, 2,5-dimethylheptamethylenediamine, 5-methylnonamethylenediamine, 2,17-diaminoicosadecane, 1,4-diaminocyclohexane, There are 1,10-diamino-1,10-dimethyldecane, 1,12-diaminooctadecane and the like, and two or more kinds may be used in combination. Among these diamines, aromatic diamines are preferred in terms of heat resistance.

ポリイミドイソインドロキナゾリンジオンのシリコン
ウエハー,ガラス等への接着性を高めるために適宜ジア
ミノシロキサンをジアミンの一部として用いてもよい。
Diaminosiloxane may be appropriately used as a part of the diamine in order to enhance the adhesion of the polyimide isoindoloquinazolinedione to a silicon wafer, glass, or the like.

ジアミノシロキサンは、例えば、一般式(VII) (ただし、式中、R′は2価の炭化水素基、R″は1価
の炭化水素基及びmは1以上の整数であり、2個のR′
及び複数個のR″は、それぞれにおいて、同じでも異な
つていてもよい)で表わされるもの好ましい。
The diaminosiloxane is, for example, represented by the general formula (VII) (Where R 'is a divalent hydrocarbon group, R "is a monovalent hydrocarbon group, m is an integer of 1 or more, and two R'
And a plurality of R ″ s may be the same or different).

ジアミノシロキサンとしては、具体的には、 などの化合物があげられる。As the diaminosiloxane, specifically, And the like.

ジアミノシロキサンは、例えば米国特許第3,185,719
号明細書に示される方法によつて合成される。
Diaminosiloxanes are described, for example, in U.S. Pat.
It is synthesized by the method described in the specification.

ジアミノシロキサンは2種以上を併用することもでき
る。
Two or more diaminosiloxanes can be used in combination.

ジアミノシロキサンを共重合する割合は、接着性とエ
ツチング加工性の点から、上記のジアミノアミド化合物
及びジアミンの総量に対して0.2〜10モル%とすること
が好ましく、特に好ましくは、0.2〜5モル%とされ
る。
The proportion of diaminosiloxane copolymerized is preferably from 0.2 to 10 mol%, particularly preferably from 0.2 to 5 mol%, based on the total amount of the above diaminoamide compound and diamine, from the viewpoint of adhesion and etching processability. %.

ジアミン及びジアミノアミド化合物は、これらの総量
が100モル%になるように調整される。
The diamine and diaminoamide compounds are adjusted so that their total amount is 100 mol%.

本発明においてポリイミドイソインドロキナゾリンジ
オン前駆体は、前記酸無水物とジアミノアミド化合物及
びジアミンの総量とが等モル又はほぼ当量になるように
使用し、これらを反応させて得られる。
In the present invention, the polyimide isoindoloquinazolinedione precursor is obtained by using the acid anhydride and the total amount of the diaminoamide compound and the diamine in equimolar or substantially equivalent amounts, and reacting them.

この反応は有機溶媒中で行なわれるものが好ましく、
該有機溶媒としては、N−メチル−2−ピロリドン、N,
N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、N,N−ジエチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド、ヘキサメチルホスホルアミド等の有機極性溶媒が、
前記前駆体を溶解しやすいことから好ましく、トルエ
ン,クレゾール,フエノール等の芳香族系溶媒は、前記
前駆体の溶解を妨げない程度に、上記有機極性溶媒と併
用してもよく、この場合、溶媒の総量に対して30重量%
以下が好ましい。
This reaction is preferably performed in an organic solvent,
As the organic solvent, N-methyl-2-pyrrolidone, N,
Organic polar solvents such as N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, N, N-diethylformamide, dimethylsulfoxide, hexamethylphosphoramide,
Preferably, the precursor is easily dissolved, and an aromatic solvent such as toluene, cresol, or phenol may be used in combination with the organic polar solvent to such an extent that the dissolution of the precursor is not hindered. 30% by weight based on the total amount of
The following is preferred.

前記反応は、先ず、ジアミノアミド化合物及びジアミ
ンを有機溶媒に溶解し、次いで、酸二無水物及び酸三無
水物を添加して、80℃以下、好ましくは0〜50℃で行う
のが望ましい。これにより反応は速やかに進行し、反応
液の粘度が除去に上昇する。
The reaction is preferably carried out by first dissolving a diaminoamide compound and a diamine in an organic solvent, and then adding an acid dianhydride and an acid trianhydride at 80 ° C. or lower, preferably 0 to 50 ° C. As a result, the reaction proceeds quickly, and the viscosity of the reaction solution increases for removal.

また、前記ジアミンIIがジアミノアミド化合物及びジ
アミン全量に対して0.5〜50モル%の場合には、特に0.5
〜40モル%の場合には、ポリイミドイソインドロキナゾ
リンジオン前駆体の製造は、酸二無水物とジアミンII以
外のジアミン及びジアミノアミド化合物を反応させ、そ
の後、ジアミンIIを添加して反応させ、さらにこの後酸
三無水物を反応させるのが好ましい。ジアミンII以外の
ジアミン及びジアミノアミド化合物をジアミン及びジア
ミノアミド化合物の全量に対して99.5〜50モル%使用す
るときは、反応中のゲル化防止に細心の注意を払わなけ
ればならないが、上記方法によればゲル化の心配なく容
易に反応させることができる。
Further, when the diamine II is 0.5 to 50 mol% based on the total amount of the diaminoamide compound and the diamine, particularly 0.5 to 50 mol% is preferable.
In the case of 4040 mol%, the production of the polyimide isoindoloquinazolinedione precursor is carried out by reacting an acid dianhydride with a diamine other than diamine II and a diaminoamide compound, and then reacting by adding diamine II, Further, it is preferable to react the acid trianhydride thereafter. When a diamine other than diamine II and a diaminoamide compound are used in an amount of 99.5 to 50 mol% based on the total amount of the diamine and diaminoamide compound, great care must be taken to prevent gelation during the reaction. According to this, the reaction can be easily performed without concern about gelation.

前記前駆体は、有機溶剤に溶解された状態(ワニス)
で使用するのが好ましい。
The precursor is dissolved in an organic solvent (varnish)
It is preferable to use them.

ポリイミドイソインドロキナゾリンジオンは、前駆体
を脱水閉環させて(硬化させて)得ることができる。該
脱水閉環は150〜250℃、好ましくは170〜220℃の温度で
熱処理することにより行なうことができる。この熱処理
の際に、エチレン性不飽和基による重合が生じ、ポリイ
ミドイソインドロキナゾリンジオンはさらに架橋され
る。また、この脱水閉環に際し、無水酢酸,リン酸等の
脱水剤を使用してもよい。
Polyimide isoindoloquinazolinedione can be obtained by subjecting the precursor to dehydration ring closure (curing). The dehydration ring closure can be performed by heat treatment at a temperature of 150 to 250 ° C, preferably 170 to 220 ° C. During this heat treatment, polymerization by the ethylenically unsaturated groups occurs, and the polyimide isoindoloquinazolinedione is further crosslinked. In this dehydration ring closure, a dehydrating agent such as acetic anhydride or phosphoric acid may be used.

ポリイミドイソインドロキナゾリンジオンの生成は、
前記ポリイミドイソインドロキナゾリンジオン前駆体を
含む反応液をそのまま又は濃縮若しくは希釈した後(す
なわち前記体ワニスを形成した後)、シリコンウエハ
ー、ガラス、金属板等に塗布し、成膜した後に行なつて
もよい。
The production of polyimide isoindoloquinazolinedione is
After the reaction solution containing the polyimide isoindoloquinazolinedione precursor is directly or after being concentrated or diluted (that is, after forming the body varnish), the reaction solution is applied to a silicon wafer, glass, a metal plate, or the like, and then formed. You may.

このようにして得られるポリイミドイソインドロキナ
ゾリンジオン膜のエツチングは、ヒドラジン,エチレン
ジアミン混合物,水酸化テトラメチルアンモニウム等の
よく知られたエツチング液を用い、常法により行なうこ
とができる。
Etching of the thus obtained polyimide isoindoloquinazolinedione film can be performed by a conventional method using a well-known etching solution such as hydrazine, an ethylenediamine mixture, and tetramethylammonium hydroxide.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明を実施例により説明するが、本発明の範
囲はこれらの実施例によつて限定されるものではない。
Hereinafter, the present invention will be described with reference to examples, but the scope of the present invention is not limited by these examples.

酸三無水物Aの合成 温度計,かくはん装置,乾燥管を備えた4つ口フラス
コに、無水トリメリツト酸クロライド84.2g(0.4mo
l)、キシレン600mlを入れかくはんする。無水トリメリ
ツト酸クロライドが溶解したら、グリセリン12.28g(0.
13mol)、ピリジン31.64g(0.4mol)を、キシレン100ml
に溶解したものを室温で滴下する。滴下終了後、約1時
間かくはんを続ける。反応終了後、得られた結晶を口別
し、メタノール,ヘキサンで洗浄後、無水酢酸で再結晶
を行い、トリメリツト酸トリグリセライド(以下、酸無
水物Aという)を得た。
Synthesis of acid trianhydride A In a four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a drying tube, 84.2 g (0.4 mol) of trimellitic anhydride chloride was placed.
l) Add 600 ml of xylene and stir. When the trimellitic anhydride chloride is dissolved, 12.28 g of glycerin (0.
13mol), pyridine 31.64g (0.4mol), xylene 100ml
Is added dropwise at room temperature. After completion of the dropwise addition, stirring is continued for about 1 hour. After completion of the reaction, the obtained crystals were separated, washed with methanol and hexane, and then recrystallized with acetic anhydride to obtain trimellitate triglyceride (hereinafter, referred to as acid anhydride A).

酸三無水物Bの合成 温度計,かくはん装置,乾燥管を備えた4つ口フラス
コに、無水トリメリツト酸クロライド84.2g(0.4mo
l)、トルエン600mlを入れかくはんする。無水トリメリ
ツト酸クロライドが溶解したら、トリメチロールプロパ
ン17.89g(0.13mol)、トリエチルアミン60.7g(0.6mo
l)を、テトラヒドロフラン100mlに溶解したものを氷浴
中で冷却しながら滴下した。滴下終了後、酸三無水物A
の場合と同様な操作を行い1,1,1−トリス(トリメリツ
ト酸メチル)プロパン(以下酸三無水物Bという)を得
た。
Synthesis of acid trianhydride B In a four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a drying tube, add 84.2 g (0.4 mol) of trimellitic anhydride chloride.
l) Add 600 ml of toluene and stir. When the trimellitic anhydride chloride was dissolved, 17.89 g (0.13 mol) of trimethylolpropane and 60.7 g (0.6 mol of triethylamine) were added.
l) was dissolved in 100 ml of tetrahydrofuran and added dropwise while cooling in an ice bath. After completion of the dropwise addition, acid trianhydride A
By performing the same operation as in the above case, 1,1,1-tris (methyl trimellitate) propane (hereinafter referred to as acid trianhydride B) was obtained.

酸三無水物Bの合成 温度計,かくはん装置,乾燥管を備えた4つ口フラス
コに、無水トリメリツト酸クロライド84.2g(0.4mo
l)、ベンゼン600mlを入れかくはんする。無水トリメリ
ツト酸クロライドが溶解したら、トリメチロールエタン
16.02g(0.13mol)、ピリジン63.2g(0.8mol)1,4−ジ
オキサン200mlに溶解したものを50℃で滴下した。滴下
終了後、酸三無水物Aの場合と同様な操作を行い1,1,1
−トリス(トリメリツト酸メチル)エタン(以下酸三無
水物Cという)を得た。
Synthesis of acid trianhydride B In a four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a drying tube, add 84.2 g (0.4 mol) of trimellitic anhydride chloride.
l), stir in 600ml of benzene. Once the trimellitic anhydride chloride is dissolved, trimethylolethane
A solution of 16.02 g (0.13 mol) and 63.2 g (0.8 mol) of pyridine in 200 ml of 1,4-dioxane was added dropwise at 50 ° C. After completion of the dropwise addition, the same operation as in the case of the acid trianhydride A is performed to perform 1,1,1
-Tris (methyl trimellitate) ethane (hereinafter referred to as acid trianhydride C) was obtained.

上記酸無水物A,B及びCは、それぞれ高速液体クロマ
トグラフイーにより単一成分であることを確認した。測
定条件は次のとおりである。
The acid anhydrides A, B and C were each confirmed to be a single component by high performance liquid chromatography. The measurement conditions are as follows.

測定条件:装 置 東洋曹達製 HLC−801型 溶 媒 テトラヒドロフラン カラム 東洋曹達製 G2000H×1本 +G3000H×3本 流 量 1ml/min 実施例1 温度計,かくはん装置,乾燥管を備えた4つ口フラス
コに、4,4′−ジアミノジフエニルエーテル−3−カル
ボンアミド47.1g(0.20mol)、3,5−ジアミノ安息香酸
エチルメタクリル酸エステル71.3g(0.27mol)、3,3′,
5,5′−テトラメチル−4,4′−ジアミノジフエニルメタ
ン127.0g(0.50mol)、1,3−ビス(3−アミノプロピ
ル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン7.5g(0.03m
ol)、及びN,N′−ジメチルアセトアミド2500gを入れ、
均一溶液になるまでかくはんした。内容物を氷冷し、約
5℃の温度でエチレングリコールビス(トリメリツト酸
無水物)369.3g(0.90mol)と酸無水物A54.2g(0.10mo
l)の混合物を徐々に添加した。5℃で5時間反応さ
せ、ポリイミドイソインドロキナゾリンジオン前駆体を
得た。
Measurement conditions: Equipment Toyo Soda's HLC-801 type solvent tetrahydrofuran column Toyo Soda's G2000H x 1 + G3000H x 3 Flow rate 1 ml / min Example 1 Thermometer, stirring device, four-necked flask equipped with a drying tube In addition, 4,4'-diaminodiphenyl ether-3-carbonamide 47.1 g (0.20 mol), 3,5-diaminobenzoic acid ethyl methacrylate 71.3 g (0.27 mol), 3,3 ',
127.0 g (0.50 mol) of 5,5'-tetramethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, 7.5 g of 1,3-bis (3-aminopropyl) -1,1,3,3-tetramethyldisiloxane (0.03m
ol), and 2500 g of N, N'-dimethylacetamide,
Stir until a homogeneous solution is obtained. The contents were cooled on ice and, at a temperature of about 5 ° C., 369.3 g (0.90 mol) of ethylene glycol bis (trimellitic anhydride) and 54.2 g (0.10 mol) of acid anhydride A
The mixture of l) was added slowly. The reaction was carried out at 5 ° C. for 5 hours to obtain a polyimide isoindoloquinazolinedione precursor.

実施例2 温度計,かくはん装置,乾燥管を備えた4つ口フラス
コに、4,4′−ジアミノジフエニルエーテル−3−カル
ボンアミド47.1g(0.20mol)、3,5−ジアミノ安息香酸
エチルメタクリル酸エステル79.2g(0.30mol)、3,3′,
5,5′−テトラメチル−4,4′−ジアミノジフエニルメタ
ン127.0g(0.50mol)、及びN,N−ジメチルアセトアミド
2500gを入れ、均一溶液になるまでかくはんした。内容
物を氷冷し、約5℃の温度でエチレングリコールビス
(トリメリツト酸無水物)369.3g(0.90mol)と酸無水
物A54.2g(0.10mol)の混合物を徐々に添加した。5℃
で5時間反応させ、ポリイミドイソインドロキナゾリン
ジオン前駆体を得た。
Example 2 In a four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a drying tube, 47.1 g (0.20 mol) of 4,4'-diaminodiphenylether-3-carbonamide, ethyl methacryl 3,5-diaminobenzoate were added. 79.2 g (0.30 mol) of acid ester, 3,3 ',
127.0 g (0.50 mol) of 5,5'-tetramethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane and N, N-dimethylacetamide
2500 g was added and stirred until a homogeneous solution was obtained. The contents were ice-cooled, and a mixture of 369.3 g (0.90 mol) of ethylene glycol bis (trimellitic anhydride) and 54.2 g (0.10 mol) of acid anhydride A was gradually added at a temperature of about 5 ° C. 5 ℃
For 5 hours to obtain a polyimide isoindoloquinazolinedione precursor.

比較例1 温度計,かくはん装置,乾燥管を備えた4つ口フラス
コに、3,5′−ジアミノ安息香酸エチルメタクリル酸エ
ステル71.3g(0.27mol)、3,3′,5,5′−テトラメチル
−4,4′−ジアミノジフエニルメタン177.8g(0.70mo
l)、1,3−ビス(3−アミノプロピル)−1,1,3,3−テ
トラメチルジシロキサン7.5g(0.03mol)、及びN,N−ジ
メチルアセトアミド2500gを入れ、均一溶液になるまで
かくはんした。内容物を氷冷し、約5℃の温度でエチレ
ングリコールビス(トリメリツト酸無水物)369.3g(0.
90mol)と酸無水物A54.2g(0.10mol)の混合物を徐々に
添加した。5℃で5時間反応させ、ポリイミド樹脂前駆
体を得た。
Comparative Example 1 In a four-necked flask equipped with a thermometer, a stirring device, and a drying tube, 71.3 g (0.27 mol) of 3,5'-diaminobenzoic acid ethyl methacrylate, 3,3 ', 5,5'-tetra 177.8 g of methyl-4,4'-diaminodiphenylmethane (0.70mo
l), 7.5 g (0.03 mol) of 1,3-bis (3-aminopropyl) -1,1,3,3-tetramethyldisiloxane and 2500 g of N, N-dimethylacetamide are added until a homogeneous solution is obtained. Stirred. The contents were cooled on ice and, at a temperature of about 5 ° C., 369.3 g of ethylene glycol bis (trimellitic anhydride) (0.
A mixture of 90 mol) and 54.2 g (0.10 mol) of acid anhydride A was slowly added. The reaction was performed at 5 ° C. for 5 hours to obtain a polyimide resin precursor.

実施例3 温度計,かくはん装置,乾燥管を備えた4つ口フラス
コに、4,4′−ジアミノジフエニルエーテル−3−カル
ボンアミド35.3g(0.15mol)、2,4−ジアミノ安息香酸
エチルメタクリル酸エステル39.6g(0.15mol)、3,3′,
5,5′−テトライソプロピル−4,4′−ジアミノジフエニ
ルメタン155.0g(0.50mol)、4,4′−ジアミノジフエニ
ルエーテル54.0g(0.27mol)、1,3−ビス(3−アミノ
プロピル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン7.5g
(0.03mol)及びN,N−ジメチルホルムアミド3000gを入
れ、均一溶液になるまでかくはんした。内容物を氷冷
し、約5℃の温度でペンタンジオールビス(トリメリツ
ト酸無水物)226.0g(0.50mol)、3,3′,4,4′−ビスフ
エニルテトラカルボン酸二無水物58.9g(0.20mol)及び
酸無水物B196.8g(0.30mol)の混合物を徐々に添加し
た。5℃で5時間反応させ、ポリイミドイソインドロキ
ナゾリンジオン前駆体を得た。
Example 3 In a four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a drying tube, 35.3 g (0.15 mol) of 4,4'-diaminodiphenylether-3-carbonamide, ethyl methacryl 2,4-diaminobenzoate were placed. Acid ester 39.6g (0.15mol), 3,3 ',
5,5'-tetraisopropyl-4,4'-diaminodiphenylmethane 155.0 g (0.50 mol), 4,4'-diaminodiphenyl ether 54.0 g (0.27 mol), 1,3-bis (3-aminopropyl ) -1,1,3,3-tetramethyldisiloxane 7.5 g
(0.03 mol) and 3000 g of N, N-dimethylformamide were added and stirred until a homogeneous solution was obtained. The contents were cooled on ice and, at a temperature of about 5 ° C., 226.0 g (0.50 mol) of pentanediol bis (trimellitic anhydride), 58.9 g of 3,3 ′, 4,4′-bisphenyltetracarboxylic dianhydride (0.20 mol) and a mixture of 196.8 g (0.30 mol) of acid anhydride B were slowly added. The reaction was carried out at 5 ° C. for 5 hours to obtain a polyimide isoindoloquinazolinedione precursor.

比較例2 温度計,かくはん装置,乾燥管を備えた4つ口フラス
コに、4,4′−ジアミノジフエニルエーテル−3−カル
ボンアミド35.3g(0.15mol)、2,4−ジアミノ安息香酸
エチルメタクリル酸エステル39.6g(0.15mol)、3,3′,
5,5′−テトライソプロピル−4,4′−ジアミノジフエニ
ルメタン155.0g(0.50mol)、4,4′−ジアミノジフエニ
ルエーテル54.0g(0.27mol)、1,3−ビス(3−アミノ
プロピル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン7.5g
(0.03mol)及びN,N−ジメチルホルムアミド3000gを入
れ、均一溶液になるまでかくはんした。内容物を氷冷
し、約5℃の温度で3,3′,4,4′−ビスフエニルテトラ
カルボン酸二無水物205.0g(0.70mol)、と酸無水物B19
6.8g(0.30mol)の混合物も徐々に添加した。その後、
5℃で5時間反応させ、ポリイミドイソインドロキナゾ
リンジオン前駆体を得た。
Comparative Example 2 In a four-necked flask equipped with a thermometer, a stirring device, and a drying tube, 35.3 g (0.15 mol) of 4,4'-diaminodiphenyl ether-3-carbonamide, ethyl methacryl 2,4-diaminobenzoate were added. Acid ester 39.6g (0.15mol), 3,3 ',
5,5'-tetraisopropyl-4,4'-diaminodiphenylmethane 155.0 g (0.50 mol), 4,4'-diaminodiphenyl ether 54.0 g (0.27 mol), 1,3-bis (3-aminopropyl ) -1,1,3,3-tetramethyldisiloxane 7.5 g
(0.03 mol) and 3000 g of N, N-dimethylformamide were added and stirred until a homogeneous solution was obtained. The contents were cooled on ice, and at a temperature of about 5 ° C., 205.0 g (0.70 mol) of 3,3 ′, 4,4′-bisphenyltetracarboxylic dianhydride and acid anhydride B19
6.8 g (0.30 mol) of the mixture was also added slowly. afterwards,
The reaction was carried out at 5 ° C. for 5 hours to obtain a polyimide isoindoloquinazolinedione precursor.

実施例4 温度計,かくはん装置,乾燥管を備えた4つ口フラス
コに、4,4′−ジアミノジフエニルエーテル−3−カル
ボンアミド47.1g(0.20mol)、3,5−ジアミノ安息香酸
エチルアクリル酸エステル125.0g(0.5mol)、4,4′−
ジアミノジフエニルメタン33.7g(0.17mol)、1,3−ビ
ス(3−アミノプロピル)−1,1,3,3−テトラメチルジ
シロキサン7.5g(0.03mol)及びN−メチル−2−ピロ
リドン2500gを入れ、均一溶液になるまでかくはんし
た。内容物を氷冷し、約5℃の温度でブタンジオールビ
ス(トリメリツト酸無水物)424.9g(0.97mol)を徐々
に添加した。5℃で約2時間反応した後、室温で3,3′
−ジメチル−4,4′−ジアミノジフエニルメタン22.6g
(0.10mol)を加え30分間かくはんし、さらにその後、
酸無水物C12.8g(0.02mol)を加えた。室温で3時間反
応し、ポリイミドイソインドロキナゾリンジオン前駆体
を得た。
Example 4 In a four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a drying tube, 47.1 g (0.20 mol) of 4,4'-diaminodiphenylether-3-carbonamide, ethyl acryl 3,5-diaminobenzoate were added. Acid ester 125.0 g (0.5 mol), 4,4'-
33.7 g (0.17 mol) of diaminodiphenylmethane, 7.5 g (0.03 mol) of 1,3-bis (3-aminopropyl) -1,1,3,3-tetramethyldisiloxane and 2500 g of N-methyl-2-pyrrolidone And stirred until a homogeneous solution was obtained. The content was cooled on ice, and 424.9 g (0.97 mol) of butanediol bis (trimellitic anhydride) was gradually added at a temperature of about 5 ° C. After reacting at 5 ℃ for about 2 hours, at room temperature 3,3 '
-Dimethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane 22.6 g
(0.10mol), stir for 30 minutes, and then
12.8 g (0.02 mol) of acid anhydride C was added. The mixture was reacted at room temperature for 3 hours to obtain a polyimide isoindoloquinazolinedione precursor.

比較例3 温度計,かくはん装置,乾燥管を備えた4つ口フラス
コに、4,4′−ジアミノジフエニルエーテル−3−カル
ボンアミド47.1g(0.20mol)、4,4′−ジアミノジフエ
ニルメタン132.7g(0.67mol)、1,3−ビス(3−アミノ
プロピル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン7.5g
(0.03mol)及びN−メチル−2−ピロリドン2500gを入
れ、均一溶液になるまでかくはんした。内容物を氷冷
し、約5℃の温度でブタンジオールビス(トリメリツト
酸無水物)429.9g(0.97mol)を徐々に添加した。5℃
で約2時間反応した後、室温で3,3′−ジメチル−4,4′
−ジアミノジフエニルメタン22.6g(0.10mol)を加え30
分間かくはんし、さらにその後、酸無水物C12.8g(0.02
mol)を加えた。室温で3時間反応し、ポリイミドイソ
インドロキナゾリンジオン前駆体を得た。
Comparative Example 3 In a four-necked flask equipped with a thermometer, a stirring device, and a drying tube, 47.1 g (0.20 mol) of 4,4'-diaminodiphenylether-3-carbonamide, 4,4'-diaminodiphenylmethane were added. 132.7 g (0.67 mol), 7.5 g of 1,3-bis (3-aminopropyl) -1,1,3,3-tetramethyldisiloxane
(0.03 mol) and 2500 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added and stirred until a homogeneous solution was obtained. The content was cooled on ice, and 429.9 g (0.97 mol) of butanediol bis (trimellitic anhydride) was gradually added at a temperature of about 5 ° C. 5 ℃
And then react at room temperature for 3,2'-dimethyl-4,4 '.
-Add 22.6 g (0.10 mol) of diaminodiphenylmethane and add 30
After stirring for 1 minute, acid anhydride C12.8 g (0.02
mol) was added. The mixture was reacted at room temperature for 3 hours to obtain a polyimide isoindoloquinazolinedione precursor.

実施例5 温度計,かくはん装置,乾燥管を備えた4つ口フラス
コに、4,4′−ジアミノジフエニルエーテル−3−カル
ボンアミド23.5g(0.10mol)、3,5−ジアミノ安息香酸
エチルアクリル酸エステル200.0g(0.80mol)、1,3−ビ
ス(3−アミノプロピル)−1,1,3,3−テトラメチルジ
シロキサン7.5g(0.03mol)及びN,N−ジメチルホルムア
ミド3000gを入れ、均一溶液になるまでかくはんした。
次に室温でエチレングリコールビス(トリメリツト酸無
水物)246.0g(0.60mol)と3,3′,4,4′−ビスフエニル
テトラカルボン酸二無水物88.4g(0.30mol)の混合物を
徐々に添加した。室温で3時間かくはんした後、3,3′,
5,5′−テトラエチル−4,4′−ジアミノジフエニルメタ
ン21.7g(0.07mol)を加え、30分間かくはんし、さらに
その後酸無水物B64.6g(0.10mol)を添加した。さらに
室温で2時間反応させ、ポリイミドイソインドロキナゾ
リンジオン前駆体を得た。
Example 5 In a four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a drying tube, 23.5 g (0.10 mol) of 4,4'-diaminodiphenylether-3-carbonamide, ethyl acryl 3,5-diaminobenzoate were placed. 200.0 g (0.80 mol) of acid ester, 7.5 g (0.03 mol) of 1,3-bis (3-aminopropyl) -1,1,3,3-tetramethyldisiloxane and 3000 g of N, N-dimethylformamide were added. Stir until a homogeneous solution is obtained.
Next, at room temperature, a mixture of 246.0 g (0.60 mol) of ethylene glycol bis (trimellitic anhydride) and 88.4 g (0.30 mol) of 3,3 ', 4,4'-bisphenyltetracarboxylic dianhydride was gradually added. Was added. After stirring at room temperature for 3 hours,
2,5 g (0.07 mol) of 5,5'-tetraethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane was added, stirred for 30 minutes, and then 64.6 g (0.10 mol) of acid anhydride B was added. The reaction was further performed at room temperature for 2 hours to obtain a polyimide isoindoloquinazolinedione precursor.

実施例6 温度計,かくはん装置,乾燥管を備えた4つ口フラス
コに、4,4′−ジアミノジフエニルエーテル−3−カル
ボンアミド23.5g(0.10mol)、3,5−ジアミノ安息香酸
エチルアクリル酸エステル75.0g(0.30mol)、3,4′−
ジアミノジフエニルエーテル94.0g(0.47mol)、1,3−
ビス(3−アミノプロピル)−1,1,3,3−テトラメチル
ジシロキサン7.5g(0.03mol)及びN−メチル−2−ピ
ロリドン2500gを入れ、均一溶液になるまでかくはんし
た。内容物を氷冷し、約5℃の温度でデカンジオールビ
ス(トリメリツト酸無水物)469.8g(0.90mol)を添加
し3時間反応させた。その後、室温で3,3′−ジメチル
−4,4′−ジアミノジフエニルメタン22.6g(0.10mol)
を添加し、約30分間かくはんさせ、さらにその後、酸無
水物C64.2g(0.10mol)を添加した。室温で2時間反応
させ、ポリイミドイソインドロキナゾリンジオン前駆体
を得た。
Example 6 In a four-necked flask equipped with a thermometer, a stirring device, and a drying tube, 23.5 g (0.10 mol) of 4,4'-diaminodiphenyl ether-3-carbonamide, ethyl acryl 3,5-diaminobenzoate were placed. Acid ester 75.0 g (0.30 mol), 3,4'-
94.0 g (0.47 mol) of diaminodiphenyl ether, 1,3-
7.5 g (0.03 mol) of bis (3-aminopropyl) -1,1,3,3-tetramethyldisiloxane and 2500 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added and stirred until a homogeneous solution was obtained. The content was cooled on ice, and at a temperature of about 5 ° C., 469.8 g (0.90 mol) of decanediol bis (trimellitic anhydride) was added and reacted for 3 hours. Thereafter, at room temperature, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane 22.6 g (0.10 mol)
Was added and the mixture was stirred for about 30 minutes, and then 64.2 g (0.10 mol) of acid anhydride C was added. The reaction was carried out at room temperature for 2 hours to obtain a polyimide isoindoloquinazolinedione precursor.

比較例4 温度計,かくはん装置,乾燥管を備えた4つ口フラス
コに、4,4′−ジアミノジフエニルエーテル−3−カル
ボンアミド23.5g(0.10mol)、3,5−ジアミノ安息香酸
エチルアクリル酸エステル75.0g(0.30mol)、3,3′−
ジメチル−4,4′−ジアミノジフエニルメタン22.6g(0.
10mol)、3,4′−ジアミノジフエニルエーテル94.0g
(0.47mol)、1,3−ビス(3−アミノプロピル)−1,1,
3,3−テトラメチルジシロキサン7.5g(0.03mol)及びN
−メチル−2−ピロリドン2500gを入れ、均一溶液にな
るまでかくはんした。内容物を氷冷し、約5℃の温度で
デカンジオールビス(トリメリツト酸無水物)522.0g
(1.00mol)を添加した。約5℃で5時間反応させてポ
リイミドイソインドロキナゾリンジオン前駆体を得た。
Comparative Example 4 In a four-necked flask equipped with a thermometer, a stirring device, and a drying tube, 23.5 g (0.10 mol) of 4,4'-diaminodiphenylether-3-carbonamide, ethyl acryl 3,5-diaminobenzoate were placed. Acid ester 75.0 g (0.30 mol), 3,3'-
Dimethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane 22.6 g (0.
10mol), 94.0 g of 3,4'-diaminodiphenyl ether
(0.47 mol), 1,3-bis (3-aminopropyl) -1,1,1
7.5 g (0.03 mol) of 3,3-tetramethyldisiloxane and N
2500 g of -methyl-2-pyrrolidone was added and stirred until a homogeneous solution was obtained. The contents are cooled on ice and, at a temperature of about 5 ° C., 522.0 g of decanediol bis (trimellitic anhydride)
(1.00 mol) was added. The mixture was reacted at about 5 ° C. for 5 hours to obtain a polyimide isoindoloquinazolinedione precursor.

実施例7 温度計,かくはん装置,乾燥管を備えた4つ口フラス
コに、4,4′−ジアミノジフエニルエーテル−3−カル
ボンアミド70.6g(0.30mol)、3,5−ジアミノ安息香酸
エチルメタクリル酸エステル150.5g(0.57mol)、1,3−
ビス(3−アミノプロピル)−1,1,3,3−テトラメチル
ジシロキサン7.5g(0.03mol)及びN,N−ジメチルアセト
アミド2500gを入れ、均一になるまでかくはんした。内
容物を氷冷し、約5℃の温度でオクタンジオールビス
(トリメリツト酸無水物)395.2g(0.80mol)を添加し
3時間反応させた。その後室温で3,3′5,5′−テトラメ
チル−4,4′−ジアミノジフエニルメタン25.4g(0.10mo
l)を添加し、約30分間かくはんさせ、さらにその後、
酸無水物A108.4g(0.20mol)を添加した。室温で2時間
反応させ、ポリイミドイソインドロキナゾリンジオン前
駆体を得た。
Example 7 In a four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a drying tube, 70.6 g (0.30 mol) of 4,4'-diaminodiphenylether-3-carbonamide, ethyl methacryl 3,5-diaminobenzoate were added. 150.5 g (0.57 mol) of acid ester, 1,3-
7.5 g (0.03 mol) of bis (3-aminopropyl) -1,1,3,3-tetramethyldisiloxane and 2500 g of N, N-dimethylacetamide were added and stirred until uniform. The content was ice-cooled, and at a temperature of about 5 ° C., 395.2 g (0.80 mol) of octanediol bis (trimellitic anhydride) was added and reacted for 3 hours. Thereafter, at room temperature, 3,5.4 g of 3,3'5,5'-tetramethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane (0.10 mol
l), stir for about 30 minutes, and then
108.4 g (0.20 mol) of acid anhydride A were added. The reaction was carried out at room temperature for 2 hours to obtain a polyimide isoindoloquinazolinedione precursor.

比較例5 温度計,かくはん装置,乾燥管を備えた4つ口フラス
コに、4,4′−ジアミノジフエニルエーテル−3−カル
ボンアミド70.6g(0.30mol)、3,5−ジアミノ安息香酸
エチルメタクリル酸エステル176.9g(0.67mol)、1,3−
ビス(3−アミノプロピル)−1,1,3,3−テトラメチル
ジシロキサン7.5g(0.03mol)及びN,N−ジメチルアセト
アミド2500gを入れ、均一になるまでかくはんした。内
容物を氷冷し、約5℃の温度でオクタンジオール(ビス
トリメリツト酸無水物)395.2g(0.80mol)と酸無水物A
108.4g(0.20mol)の混合物を徐々に添加した。添加終
了後、約10分間でゲル化した。
Comparative Example 5 In a four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a drying tube, 70.6 g (0.30 mol) of 4,4'-diaminodiphenyl ether-3-carbonamide, ethyl methacryl 3,5-diaminobenzoate were added. 176.9 g (0.67 mol) of acid ester, 1,3-
7.5 g (0.03 mol) of bis (3-aminopropyl) -1,1,3,3-tetramethyldisiloxane and 2500 g of N, N-dimethylacetamide were added and stirred until uniform. The content was cooled on ice and, at a temperature of about 5 ° C., 395.2 g (0.80 mol) of octanediol (bistrimelitic anhydride) and acid anhydride A
108.4 g (0.20 mol) of the mixture was slowly added. It gelled in about 10 minutes after the addition was completed.

上記実施例1〜7及び比較例1〜4で得られたポリイ
ミドイソインドロキナゾリンジオン前駆体及びポリイミ
ド樹脂前駆体をシリコンウエハにスピンコートにより塗
布し、100℃,150℃,230℃(比較例2については100℃,2
00℃,300℃)で各々30分間ずつ順次加熱することにより
ポリイミドイソインドロキナゾリンジオン及びポリイミ
ド樹脂皮膜つきシリコンウエハを作製し、密着性試験に
供した。
The polyimide isoindoloquinazolinedione precursor and the polyimide resin precursor obtained in the above Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 4 were applied to a silicon wafer by spin coating, and then 100 ° C, 150 ° C, 230 ° C (Comparative Example 100 ℃ for 2、2
(00.degree. C., 300.degree. C.) for 30 minutes each to produce a silicon wafer with a polyimide isoindoloquinazolinedione and a polyimide resin film, which was subjected to an adhesion test.

また前記前駆体ワニスをガラス板上に流延塗布し、前
記の条件で加熱することにより約3μmのポリイミドイ
ソインドロキナゾリンジオン及びポリイミド樹脂皮膜を
得た。得られた皮膜を用いて耐溶剤性,熱分解温度,機
械的特性試験に供した。
The precursor varnish was cast on a glass plate and heated under the above conditions to obtain a polyimide isoindoloquinazolinedione and polyimide resin film of about 3 μm. The obtained film was subjected to solvent resistance, thermal decomposition temperature, and mechanical property tests.

さらに前記前駆体ワニスは硬化温度の測定に供され
た。
Further, the precursor varnish was subjected to measurement of a curing temperature.

測定条件は以下に示す通りである。 The measurement conditions are as shown below.

1)硬化温度 ガラス板上にポリイミドイソインドロキナゾリンジオ
ン前駆体ワニスを塗布し、蒸留水に浸漬してポリイミド
イソインドロキナゾリンジオン前駆体膜を析出させた
後、80℃,0.5mmHg以下で3時間真空乾燥したものを試料
とし、高速示差熱天秤を用い、種々の温度で脱水量を測
定し、脱水量の一定になる温度を求める。
1) Curing temperature A polyimide isoindoloquinazolinedione precursor varnish is applied on a glass plate, immersed in distilled water to deposit a polyimide isoindoloquinazolinedione precursor film, and then cured at 80 ° C and 0.5 mmHg or less. A sample obtained by vacuum drying for a time is used as a sample, and the dehydration amount is measured at various temperatures using a high-speed differential thermal balance, and a temperature at which the dehydration amount becomes constant is determined.

2)熱分解温度 熱天秤を用い、昇温温度10℃/min、試料量約8mgで測
定し、5%重量減少温度を熱分解温度とした。
2) Thermal decomposition temperature Using a thermobalance, the temperature was measured at a temperature increase of 10 ° C./min and the sample amount was about 8 mg, and the 5% weight loss temperature was defined as the thermal decomposition temperature.

3)引張り強度及び引張り弾性率 巾10mm,長さ50mmに試験片を切り取り、テンシロンを
用いて支点間距離30mm、引張り速度5mm/min及び測定温
度は室温の条件で行つた。
3) Tensile strength and modulus of elasticity A test piece was cut to a width of 10 mm and a length of 50 mm, and the distance between fulcrums was 30 mm, the tensile speed was 5 mm / min, and the measurement temperature was room temperature using Tensilon.

4)密着性 試験片を121℃、2気圧(飽和水蒸気中)の条件下で1
00時間処理し、JIS K−5400に準じた碁ばん目試験に
より評価した。
4) Adhesion The test piece was tested at 121 ° C and 2 atm (in saturated steam) for 1 hour.
The samples were treated for 00 hours, and evaluated by a go-batch test according to JIS K-5400.

5)耐溶剤性 試験片を各種溶剤中に室温で10分間浸漬し、外観を目
視で評価した。
5) Solvent resistance The test pieces were immersed in various solvents at room temperature for 10 minutes, and the appearance was visually evaluated.

表1から明らかなように実施例1は実施例2(ジアミ
ノシロキサン不使用)に比し密着性に優れ、実施例1及
び2は比較例1に比し引張り強度が著しく優れている。
また実施例1〜7は比較例2に比し、硬化温度及び弾性
率が著しく低い。さらに実施例1〜7は比較例3(エチ
レン性不飽和基を持つジアミン不使用)及び比較例4
(酸三無水物不使用)に比べ耐溶剤性に優れる。
As is clear from Table 1, Example 1 is superior in adhesion to Example 2 (without using diaminosiloxane), and Examples 1 and 2 are significantly superior to Comparative Example 1 in tensile strength.
Examples 1 to 7 are significantly lower in curing temperature and elastic modulus than Comparative Example 2. Further, Examples 1 to 7 are Comparative Examples 3 (no diamine having an ethylenically unsaturated group was used) and Comparative Example 4
Excellent solvent resistance compared to (no acid trianhydride used).

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

請求項1〜8により得られるポリイミドイソインドロ
キナゾリンジオン前駆体を請求項9〜10の方法によつて
閉環反応させるときに、硬化温度を低くすることがで
き、しかも得られるポリイミドイソインドロキナゾリン
は、優れた耐溶剤性を示し、、特に請求項8の方法によ
り得られる前駆体は、優れた密着性を有するものとな
る。また、請求項4で得られる前駆体は、さらに硬化温
度を低くすることができる。
When the polyimide isoindoloquinazolinedione precursor obtained according to claims 1 to 8 is subjected to a ring closure reaction according to the method according to claims 9 to 10, the curing temperature can be lowered, and the obtained polyimide isoindoloquinazoline dione is obtained. Shows excellent solvent resistance, and particularly the precursor obtained by the method of claim 8 has excellent adhesion. The precursor obtained in claim 4 can further lower the curing temperature.

請求項9〜10の方法により得られるポリイミドイソイ
ンドロキナゾリンジオンは、これらの特性がバランスよ
く優れている。
The polyimide isoindoloquinazolinedione obtained by the method according to claims 9 to 10 is excellent in these properties in a well-balanced manner.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 宮寺 康夫 茨城県つくば市和台48番地 日立化成工 業株式会社筑波開発研究所内 (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C08G 73/10 C08G 73/14 C08G 73/06 CAS(STN) REGISTRY(STN)────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Yasuo Miyadera 48 Tsukuba, Tsukuba, Ibaraki Pref. Hitachi Chemical Co., Ltd. Tsukuba Development Laboratory (58) Field surveyed (Int.Cl. 6 , DB name) C08G 73 / 10 C08G 73/14 C08G 73/06 CAS (STN) REGISTRY (STN)

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】a)一般式(IV) (ただし、式中、R1は分子内に水酸基を3個もつ化合物
から3個の水酸基を除いた三価の残基を示す) で表わされるヘキサカルボン酸三無水物:1〜35モル% 及び b)一般式(I) (ただし、式中、nは2〜16の整数を示す)で表わされ
るアルキレンビストリメリテート二無水物を含むテトラ
カルボン酸二無水物:99〜65モル% を含むカルボン酸無水物と、 c)次のいずれかのジアミノアミド化合物 (ただし、式中、YはSO2又はCOを示し、X″はO、C
H2、SO2、S又はCOを示し、1個のアミノ基とY−NH2
は互いにオルト位に位置する)、 並びに d)一般式(V) (ただし、式中、Xは 又は−CH2−O−を示し、 R2は炭素−炭素二重結合を有する基を示す) で表わされるジアミン 及び e)一般式(VI) (ただし、式中、R3、R4、R5及びR6はそれぞれ独立に水
素、アルキル基、フツ素置換アルキル基、アルコキシ基
又はハロゲンを示し、R3、R4、R5及びR6のうち少なくと
も一つは水素以外の基であり、X′は−CH2−、 又は結合を示す)で示されるジアミン を含むジアミンとを反応させることを特徴とするポリイ
ミドイソインドロキナゾリンジオン前駆体の製造法。
1. a) General formula (IV) (Wherein, R 1 represents a trivalent residue obtained by removing three hydroxyl groups from a compound having three hydroxyl groups in the molecule): 1 to 35 mol% of hexacarboxylic trianhydride represented by the following formula: b) general formula (I) (Wherein, n represents an integer of 2 to 16) tetracarboxylic dianhydride containing an alkylenebistrimellitate dianhydride represented by the following formula: a carboxylic anhydride containing 99 to 65 mol%; c) Any of the following diaminoamide compounds (Wherein, Y represents SO 2 or CO, and X ″ represents O, C
H 2 , SO 2 , S or CO, wherein one amino group and Y—NH 2 are located ortho to each other), and d) a general formula (V) (Where X is Or -CH 2 -O- are shown, R 2 is a carbon - diamine represented by a group having a carbon double bond) and e) the general formula (VI) (Wherein, R 3 , R 4 , R 5 and R 6 each independently represent hydrogen, an alkyl group, a fluorine-substituted alkyl group, an alkoxy group or a halogen, and R 3 , R 4 , R 5 and R 6 At least one of them is a group other than hydrogen, X ′ is —CH 2 —, Or a bond containing a diamine represented by the following formula:
【請求項2】一般式(I)で表わされるアルキレンビス
トリメリテート二無水物をカルボン酸無水物全量に対し
て50〜99モル%使用する請求項1に記載のポリイミドイ
ソインドロキナゾリンジオン前駆体の製造法。
2. The polyimide isoindoloquinazolinedione precursor according to claim 1, wherein the alkylenebistrimellitate dianhydride represented by the general formula (I) is used in an amount of 50 to 99 mol% based on the total amount of the carboxylic anhydride. Manufacturing method.
【請求項3】ジアミノアミド化合物(c)及びジアミン
の総量に対して、 芳香族ジアミン(e)を0.5〜50モル%と芳香族ジアミ
ン(e)以外のジアミン及びジアミノアミド化合物
(c)を併せて99.5〜50モル%とを使用し、テトラカル
ボン酸二無水物(b)と芳香族ジアミン(e)以外のジ
アミン及びジアミノアミド化合物(c)を反応させた
後、芳香族ジアミン(e)を添加して反応させ、さらに
この後、ヘキサカルボン酸三無水物(a)を添加して反
応させる請求項1又は2のいずれかに記載のポリイミド
イソインドロキナゾリンジオン前駆体の製造法。
3. An aromatic diamine (e) in an amount of 0.5 to 50 mol% based on the total amount of the diaminoamide compound (c) and the diamine, and a diamine other than the aromatic diamine (e) and the diaminoamide compound (c). After reacting the tetracarboxylic dianhydride (b) with a diamine other than the aromatic diamine (e) and the diaminoamide compound (c), the aromatic diamine (e) is The method for producing a polyimide isoindoloquinazolinedione precursor according to claim 1, wherein the precursor is added and reacted, and thereafter, hexacarboxylic trianhydride (a) is added and reacted.
【請求項4】ジアミノアミド化合物(c)及びジアミン
の総量に対してジアミノシロキサン0.2〜10モル%を使
用する請求項1乃至3のいずれかに記載のポリイミドイ
ソインドロキナゾリンジオン前駆体の製造法。
4. The process for producing a polyimide isoindoloquinazolinedione precursor according to claim 1, wherein 0.2 to 10 mol% of diaminosiloxane is used based on the total amount of diaminoamide compound (c) and diamine. .
【請求項5】請求項1乃至4のいずれかに記載の方法に
よって、ポリイミドイソインドロキナゾリンジオン前駆
体を製造した後、該前駆体を脱水閉環させることを特徴
とするポリイミドイソインドロキナゾリンジオンの製造
法。
5. A polyimide isoindoloquinazolinedione prepared by the method according to claim 1, wherein the precursor is dehydrated and ring-closed. Manufacturing method.
【請求項6】ポリイミドイソインドロキナゾリンジオン
前駆体を成膜した後脱水閉環させる請求項5に記載のポ
リイミドイソインドロキナゾリンジオンの製造法。
6. The method for producing a polyimide isoindoloquinazolinedione according to claim 5, wherein the polyimide isoindoloquinazolinedione precursor is formed into a film, followed by dehydration ring closure.
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