JP2769324B2 - Exhaust gas treatment equipment - Google Patents
Exhaust gas treatment equipmentInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この発明は排ガス処理装置に関する。Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to an exhaust gas treatment device.
この発明の排ガス処理装置は、半導体、化学薬品など
の製造工場、試験研究室等で発生した排ガスを捕集する
場合などに用いられる。The exhaust gas treatment apparatus of the present invention is used for collecting exhaust gas generated in a factory for manufacturing semiconductors and chemicals, a test laboratory, and the like.
［従来の技術］ 半導体、化学薬品などの製造工程で発生した排ガスの
処理に、スクラバーが広く用いられている。スクラバー
は水その他の液体を利用してガス中に浮遊する固体また
は液体粒子を捕集する。スクラバーでは、使用する中和
剤あるいは吸収液などの液体の種類と吸収されるガスの
種類とによっては、液体とガスとがスクラバー内で反応
して多量の白煙（ミスト）が生じることがある。このミ
ストは液体微粒子よりなっており、そのほとんどが粒径
１μｍ以上である。[Prior Art] Scrubbers are widely used for treating exhaust gas generated in manufacturing processes of semiconductors, chemicals, and the like. Scrubbers utilize water and other liquids to collect solid or liquid particles suspended in a gas. In a scrubber, depending on the type of liquid used, such as a neutralizing agent or an absorbing solution, and the type of gas to be absorbed, the liquid and the gas may react in the scrubber to generate a large amount of white smoke (mist). . This mist is composed of liquid fine particles, most of which have a particle size of 1 μm or more.
しかし、スクラバー内で完全にミストを吸収すること
ができず、かなりの量のミストがスクラバーから排出さ
れていた。そこで、従来ではスクラバーの出側に湿式電
気集塵機を設け、これにより微細な粒子を捕集してい
た。However, the mist could not be completely absorbed in the scrubber, and a considerable amount of mist was discharged from the scrubber. Therefore, conventionally, a wet-type electrostatic precipitator was provided on the exit side of the scrubber to collect fine particles.
［発明が解決しようとする課題］ スクラバーから排出されるミストはHClなどの強酸を
含んでいる。このため、多量の強酸が湿式電気集塵機に
持ち込まれ、湿式電気集塵機の構成部材は腐食してい
た。構成部材がステンレス鋼製であっても寿命はせいぜ
い１年位であった。また、湿式電気集塵機は高価であ
り、保守が面倒であった。[Problems to be Solved by the Invention] The mist discharged from the scrubber contains a strong acid such as HCl. For this reason, a large amount of strong acid was brought into the wet electrostatic precipitator, and the components of the wet electric precipitator were corroded. Even if the components were made of stainless steel, the life was at most about one year. Also, the wet electric dust collector is expensive and maintenance is troublesome.
そこで、この発明は長期間の使用に耐え、廉価である
とともに保守が容易な排ガス処理装置を提供しようとす
るものである。Accordingly, an object of the present invention is to provide an exhaust gas treatment apparatus that can withstand long-term use, is inexpensive, and easy to maintain.
［課題を解決するための手段］ この発明の排ガス処理装置は、半導体製造工程で発生
する排ガスを処理する装置であって、スクラバーに連絡
する下部室、複数の連通孔を有する仕切板を介して前記
下部室の頂部に接続され、かつ大気に通じている上部
室、および前記仕切板上に垂直に支持され、頂部が塞が
れているとともに底部開口が連通孔を介して前記下部室
に連絡している複数の複層円筒フィルターとからなり、
外径寄りのフィルター層ほど緻密となっている。[Means for Solving the Problems] An exhaust gas treatment apparatus of the present invention is an apparatus for treating exhaust gas generated in a semiconductor manufacturing process, and includes a lower chamber connected to a scrubber, and a partition plate having a plurality of communication holes. The upper chamber connected to the top of the lower chamber and communicating with the atmosphere, and vertically supported on the partition plate, the top is closed and the bottom opening communicates with the lower chamber via a communication hole. It consists of multiple multilayer cylindrical filters
The filter layer closer to the outer diameter is denser.
フィルター本体は、PVC（ポリ塩化ビニル）繊維など
の可撓性のある布よりなっている。このフィルター布材
の複数枚を重ねて支持体に巻き付け、複層円筒フィルタ
ーを構成する。支持体として、円筒状に形成した金網あ
るいは円筒状フレームなどを用いる。フィルター布材の
重ね合せる枚数すなわち層数は、２〜４程度が適当であ
る。フィルター布材のかさ比重は５〜20kg/m3程度が適
当であり、また各層の厚みは５〜15mm程度が適当であ
る。The filter body is made of a flexible cloth such as PVC (polyvinyl chloride) fiber. A plurality of the filter cloth materials are stacked and wound around a support to form a multilayer cylindrical filter. As the support, a wire mesh or a cylindrical frame formed in a cylindrical shape is used. The number of layers of the filter cloth material, that is, the number of layers, is suitably about 2 to 4. The bulk specific gravity of the filter cloth material is suitably about 5 to 20 kg / m 3 , and the thickness of each layer is suitably about 5 to 15 mm.
［作用］ スクラバーからの排ガスは、ファンにより下部室に押
し込まれ、または吸引されたて円筒フィルターの底部開
口からフィルター内に入る。そして、排ガスはフィルタ
ーを内径側から外径側に通過し、上部室に流出する。こ
のとき、排ガスの液体微粒子は粗なものから順次フィル
ターにより吸着される。そして、液体微粒子は、いわゆ
るセルフクリーニング効果によって円筒フィルターから
排出される。すなわち、フィルターで捕集された液体微
粒子は成長しつつ液滴となってフィルターを流下する。
そして、液滴は気流の上昇力に抗しつつフィルターから
離れて重力により下部室に落下し、再びもとの液体とな
りドレンとして排出される。また、排ガスに固体微粒子
が含まれている場合には、円筒フィルターは次第に目詰
り状態となるので、適当な時期に洗浄する。[Effect] The exhaust gas from the scrubber is pushed into the lower chamber by the fan or sucked and enters the filter from the bottom opening of the cylindrical filter. Then, the exhaust gas passes through the filter from the inner diameter side to the outer diameter side, and flows out to the upper chamber. At this time, the liquid fine particles of the exhaust gas are adsorbed by the filter in order from the coarser ones. The liquid fine particles are discharged from the cylindrical filter by a so-called self-cleaning effect. That is, the liquid fine particles collected by the filter grow as droplets while flowing down the filter.
Then, the droplets separate from the filter and fall into the lower chamber by gravity while resisting the upward force of the airflow, become the original liquid again, and are discharged as drain. When the exhaust gas contains solid fine particles, the cylindrical filter gradually becomes clogged, so that it is cleaned at an appropriate time.
［実施例］ 第１図はこの発明の排ガス処理装置の配置を示す立面
図である。この排ガス処理装置は、半導体製造設備に設
けられている。FIG. 1 is an elevational view showing an arrangement of an exhaust gas treatment apparatus according to the present invention. This exhaust gas treatment device is provided in a semiconductor manufacturing facility.
スクラバー１の出側からダクト３が延びており、ダク
ト３の先端にファン５が接続されている。そして、ファ
ン５の排気側に排ガス処理装置11が設けられている。A duct 3 extends from the outlet side of the scrubber 1, and a fan 5 is connected to a tip of the duct 3. An exhaust gas treatment device 11 is provided on the exhaust side of the fan 5.
第２図は排ガス処理装置11の縦断面図である。 FIG. 2 is a longitudinal sectional view of the exhaust gas treatment apparatus 11.
排ガス処理装置11は、下部室12および上部室14とを備
えている。下部室12は上記ファン５に連絡している。ま
た、上部室14は複数の連通孔18を有する仕切板17を介し
て前記下部室12の頂部に接続されている。The exhaust gas treatment device 11 includes a lower chamber 12 and an upper chamber 14. The lower chamber 12 communicates with the fan 5. The upper chamber 14 is connected to the top of the lower chamber 12 via a partition plate 17 having a plurality of communication holes 18.
上部室14内には複数の支持体21が配置されている。支
持体21は円筒状に形成された金網22を備えており、金網
22の下端にフランジ24が、また上端にカバー25がそれぞ
れ取り付けられている。支持体21は第３図に示すように
フランジ24においてボルト26により上記仕切板17に、ま
たカバー25においてスペーサー27およびボルト28により
上部室14の頂板15にそれぞれ固定されている。In the upper chamber 14, a plurality of supports 21 are arranged. The support 21 includes a wire mesh 22 formed in a cylindrical shape.
A flange 24 is attached to a lower end of 22 and a cover 25 is attached to an upper end thereof. As shown in FIG. 3, the support 21 is fixed to the partition plate 17 by bolts 26 at the flange 24, and to the top plate 15 of the upper chamber 14 by spacers 27 and bolts 28 at the cover 25.
円筒状金網22の外周に、第３図に示すように円筒フィ
ルター31が取り付けられている。円筒フィルター31は、
PVC布材よりなり、第１層32、第２層33および第３層34
の三つの層からなっている。フィルター布材の密度は第
１層32が最も粗く、第３層34がもっとも密となってい
る。この実施例では、第１層31、第２層33および第３層
34のフィルター布材のかさ比重は、それぞれ9kg/m3,10k
g/m3および15kg/m3である。また、各層のフィルター布
材の厚みは10mmである。第３層34の外周にポリプロピレ
ン布を巻き付け、さらにバンド（いずれも図示しない）
で締め付けて、各層のフィルター布材を円筒状金網22に
固定する。円筒フィルター31は底部36が連通孔18を介し
て前記下部室12に連絡しており、頂部はカバー25により
閉じている。なお、この実施例では、円筒フィルター31
の内径は180mm、高さは、2.5mであり、フィルター１本
の排ガス処理能力は6m3/minである。A cylindrical filter 31 is attached to the outer periphery of the cylindrical wire mesh 22 as shown in FIG. The cylindrical filter 31
The first layer 32, the second layer 33, and the third layer 34 are made of a PVC cloth material.
Consists of three layers. The first layer 32 has the lowest density of the filter cloth material, and the third layer 34 has the highest density. In this embodiment, the first layer 31, the second layer 33 and the third layer
The bulk specific gravity of the 34 filter cloth materials is 9 kg / m 3 and 10 k, respectively.
g / m 3 and 15 kg / m 3 . The thickness of the filter cloth material of each layer is 10 mm. A polypropylene cloth is wrapped around the outer periphery of the third layer 34, and a band (both not shown)
Then, the filter cloth material of each layer is fixed to the cylindrical wire mesh 22. The cylindrical filter 31 has a bottom 36 connected to the lower chamber 12 through the communication hole 18, and a top closed by the cover 25. In this embodiment, the cylindrical filter 31 is used.
Has an inner diameter of 180 mm, a height of 2.5 m, and an exhaust gas treatment capacity of one filter of 6 m 3 / min.
上部室14は排気塔38を介して大気に通じている。 The upper chamber communicates with the atmosphere via an exhaust tower.
ここで、上記のように構成された排ガス処理装置の作
用について説明する。Here, the operation of the exhaust gas treatment device configured as described above will be described.
この実施例では、スクラバー１内で、 HCl＋NH3→NH4Cl HNO＋NH3→NH4NO3 などの酸・アルカリの中和反応、および特ガスとO2，H2
Oなどとの反応が生じる。この結果、スクラバー１内で
多量の白煙が発生する。In this embodiment, in the scrubber 1, neutralization reaction of acids and alkalis such as HCl + NH 3 → NH 4 Cl HNO + NH 3 → NH 4 NO 3 and special gas and O 2 , H 2
Reaction with O etc. occurs. As a result, a large amount of white smoke is generated in the scrubber 1.
白煙Ｇはファン５により下部室12に押し込まれ、円筒
フィルター31内に底部開口から流入する。そして、白煙
Ｇは円筒フィルター31の第１層32、第２層33および第３
層34と順次通過し、上部室14に流出する。このとき、白
煙Ｇの粒子は粗なものから円筒フィルター31により吸着
される。The white smoke G is pushed into the lower chamber 12 by the fan 5 and flows into the cylindrical filter 31 from the bottom opening. The white smoke G is distributed to the first layer 32, the second layer 33 and the third layer 32 of the cylindrical filter 31.
It sequentially passes through the layer 34 and flows out into the upper chamber 14. At this time, the particles of the white smoke G are adsorbed by the cylindrical filter 31 from coarse ones.
上記排ガス処理装置11の出口において、JIS規格に従
ってガス濃度を測定した。その結果は、次のように定量
限界以下であった。At the outlet of the exhaust gas treatment device 11, the gas concentration was measured according to JIS standards. The result was below the limit of quantification as follows.
HCl:1.0ppm以下 NH3:1.0ppm以下 HF:0.4mg/Nm3以下 NNO3・NOX:0.5ppm以下 ［発明の効果］ この発明の排ガス処理装置は、複層の円筒フィルター
により排ガスを処理するので、装置が腐食することはな
い。また、装置が簡単、廉価であり、保守も容易であ
る。ちなみに、半導体製造設備のスクラバーに設置し
た、この発明による排ガス処理装置は、２年間経過して
も全く腐食などの損傷は見られなかった。HCl: 1.0 ppm or less NH 3 : 1.0 ppm or less HF: 0.4 mg / Nm 3 or less NNO 3 · NOX: 0.5 ppm or less [Effect of the Invention] The exhaust gas treatment device of the present invention treats exhaust gas with a multilayer cylindrical filter. Therefore, the device does not corrode. In addition, the device is simple, inexpensive, and easy to maintain. Incidentally, the exhaust gas treatment apparatus according to the present invention, which was installed in a scrubber of a semiconductor manufacturing facility, did not show any damage such as corrosion even after two years.
第１図はこの発明の排ガス処理装置の配置を示す立面
図、第２図は排ガス処理装置の一例を示す縦断面図、お
よび第３図は円筒フィルターの詳細を示す縦断面図であ
る。 １…スクラバー、３…ダクト、５…ファン、11…排ガス
処理装置、12…下部室、14…上部室、17…仕切板、18…
連通孔、21…支持体、22…金網、31…円筒フィルター、
38…排気塔、Ｇ…排ガス。FIG. 1 is an elevation view showing an arrangement of an exhaust gas treatment apparatus of the present invention, FIG. 2 is a longitudinal sectional view showing an example of the exhaust gas treatment apparatus, and FIG. 3 is a longitudinal sectional view showing details of a cylindrical filter. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Scrubber, 3 ... Duct, 5 ... Fan, 11 ... Exhaust gas treatment apparatus, 12 ... Lower chamber, 14 ... Upper chamber, 17 ... Partition plate, 18 ...
Communication hole, 21 ... support, 22 ... wire mesh, 31 ... cylindrical filter,
38: exhaust tower, G: exhaust gas.
フロントページの続き (72)発明者 野口 富士男 神奈川県厚木市旭町４丁目14番１号 ソ ニー株式会社厚木工場内 (72)発明者 上村 広行 神奈川県厚木市旭町４丁目14番１号 ソ ニー株式会社厚木工場内 (72)発明者 植田 美洋 東京都千代田区神田松永町16番地 サン テクノ株式会社内 (56)参考文献 特開 昭62−186924（ＪＰ，Ａ) 特公 昭43−20540（ＪＰ，Ｂ１) 特公 昭44−32559（ＪＰ，Ｂ１) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) B01D 46/00 - 46/54Continued on the front page (72) Inventor Fujio Noguchi 4-14-1, Asahicho, Atsugi-shi, Kanagawa Prefecture Inside Sony Corporation Atsugi Plant (72) Inventor Hiroyuki Uemura 4-1-1, Asahicho, Atsugi-shi, Kanagawa So Knee Co., Ltd. Atsugi Plant (72) Inventor Mihiro Ueda 16 Sanda Techno Co., Ltd., Kanda-Matsunaga-cho, Chiyoda-ku, Tokyo (56) (JP, B1) JP 44-32559 (JP, B1) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) B01D 46/00-46/54
Claims (1)
る装置であって、スクラバーの出側に配置され、出側ま
たは入側にファンが接続された排ガス処理装置におい
て、前記スクラバーに連絡する下部室、複数の連通孔を
有する仕切板を介して前記下部室の頂部に接続され、か
つ大気に通じている上部室、および前記仕切板上に垂直
に支持され、頂部が塞がれているとともに底部開口が連
通孔を介して前記下部室に連絡している複層円筒フィル
ターからとなり、外径寄りのフィルター層ほど緻密であ
ることを特徴とする排ガス処理装置。1. An apparatus for treating exhaust gas generated in a semiconductor manufacturing process, wherein the apparatus is disposed on the outlet side of a scrubber and has a fan connected to the outlet side or the inlet side. The chamber is connected to the top of the lower chamber via a partition having a plurality of communication holes, and the upper chamber communicates with the atmosphere, and is vertically supported on the partition, and the top is closed. An exhaust gas treatment device, wherein the bottom opening comprises a multilayer cylindrical filter connected to the lower chamber via a communication hole, and the filter layer closer to the outer diameter is denser.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63203915A JP2769324B2 (en) | 1988-08-18 | 1988-08-18 | Exhaust gas treatment equipment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63203915A JP2769324B2 (en) | 1988-08-18 | 1988-08-18 | Exhaust gas treatment equipment |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0256212A JPH0256212A (en) | 1990-02-26 |
| JP2769324B2 true JP2769324B2 (en) | 1998-06-25 |
Family
ID=16481802
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63203915A Expired - Lifetime JP2769324B2 (en) | 1988-08-18 | 1988-08-18 | Exhaust gas treatment equipment |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2769324B2 (en) |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5892439A (en) * | 1982-11-19 | 1983-06-01 | Hitachi Ltd | Filter element |
| JPS62163723A (en) * | 1986-01-14 | 1987-07-20 | Shintou Dasutokorekutaa Kk | Gas purifier |
| DE3603511A1 (en) * | 1986-02-05 | 1987-08-06 | Standard Elektrik Lorenz Ag | METHOD AND DEVICE FOR REMOVING DUST AND GASEOUS POLLUTANTS FROM EXHAUST GAS, ESPECIALLY EXHAUST GASES IN THE LIGHTWAVE LEAD PREFORMING |
| GB8621660D0 (en) * | 1986-09-09 | 1986-10-15 | Domnick Hunter Filters Ltd | Filter element |
-
1988
- 1988-08-18 JP JP63203915A patent/JP2769324B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0256212A (en) | 1990-02-26 |
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