JP2769055B2 - 補償型広帯域電波吸収体 - Google Patents
補償型広帯域電波吸収体Info
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、広帯域電波吸収体に関
し、特に、フェライト磁性体からなる電波吸収体を広帯
域化する補償型広帯域電波吸収体に関するものである。
この補償型広帯域電波吸収体は、電子機器からの放射電
磁波を測定するための電波暗室や、建物からのTV電波
の反射を防ぐための壁材として広く使用するものであ
る。
し、特に、フェライト磁性体からなる電波吸収体を広帯
域化する補償型広帯域電波吸収体に関するものである。
この補償型広帯域電波吸収体は、電子機器からの放射電
磁波を測定するための電波暗室や、建物からのTV電波
の反射を防ぐための壁材として広く使用するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】従来、単一磁性体層からなる電波吸収体
を広帯域化する方法として、例えばタイル状のフェライ
ト磁性体を、電波反射板から空気層で浮かして(実際に
は発泡ポリウレタン板などを用いる。)配置する方法が
提案されている。
を広帯域化する方法として、例えばタイル状のフェライ
ト磁性体を、電波反射板から空気層で浮かして(実際に
は発泡ポリウレタン板などを用いる。)配置する方法が
提案されている。
【0003】図22は、金属導電反射板Mでタイル状の
フェライト磁性体Fを裏打ちした、最も基本的なフェラ
イト電波吸収体の断面構造図である。図22でフェライ
ト吸収体の表面における電界の反射係数をsとすると、
吸収体の電力吸収係数は、 1−|s|2 で表される。従って、|s|が小さいほど良い吸収体と
言える。
フェライト磁性体Fを裏打ちした、最も基本的なフェラ
イト電波吸収体の断面構造図である。図22でフェライ
ト吸収体の表面における電界の反射係数をsとすると、
吸収体の電力吸収係数は、 1−|s|2 で表される。従って、|s|が小さいほど良い吸収体と
言える。
【0004】普通は、その良さの一つの目安として |s|≦0.1 すなわち、反射減衰量(−20log s dB)20dB
以下、吸収係数≧0.99を採用している。
以下、吸収係数≧0.99を採用している。
【0005】図22に示す吸収体の特性を横軸に周波数
f、縦軸に反射係数|s|の大きさを用いて示すと、典
型的には図23のようになる。この場合、|s|=0.
1となる周波数の低い方をfL、高い方をfHとすると、
図から|s|≦0.1を満足する周波数帯域幅Bは、 B=fH−fL で表される。そこで、周波数帯域幅Bについて次の2つ
の場合を考えてみる。
f、縦軸に反射係数|s|の大きさを用いて示すと、典
型的には図23のようになる。この場合、|s|=0.
1となる周波数の低い方をfL、高い方をfHとすると、
図から|s|≦0.1を満足する周波数帯域幅Bは、 B=fH−fL で表される。そこで、周波数帯域幅Bについて次の2つ
の場合を考えてみる。
【0006】(イ)周波数fLが30MHzとなるよう
にする場合、用いるべきフェライトは焼結型のもので、
NiZn系かMnZn系のものである。そうすると、一
般に周波数fHが300MHz〜400MHzになって
しまう。
にする場合、用いるべきフェライトは焼結型のもので、
NiZn系かMnZn系のものである。そうすると、一
般に周波数fHが300MHz〜400MHzになって
しまう。
【0007】(ロ)周波数fLが90MHzとなるよう
にする場合、用いるべきフェライトはやはり焼結型で、
この場合、周波数fHは350MHz〜520MHzで
ある。
にする場合、用いるべきフェライトはやはり焼結型で、
この場合、周波数fHは350MHz〜520MHzで
ある。
【0008】一つの応用として前に述べた電子機器から
の放射電磁波を測定するための電波暗室の壁材の場合
は、fL=30MHzで、fHはひとまずfH=1000
MHzが要求されていて、(イ)のものでは特性が不十
分である。
の放射電磁波を測定するための電波暗室の壁材の場合
は、fL=30MHzで、fHはひとまずfH=1000
MHzが要求されていて、(イ)のものでは特性が不十
分である。
【0009】また、建物からのTV電波の反射を防ぐた
めの壁材の場合は、fL=90MHzでfH=800MH
zが要求されていて、(ロ)のものでは特性が不十分で
ある。
めの壁材の場合は、fL=90MHzでfH=800MH
zが要求されていて、(ロ)のものでは特性が不十分で
ある。
【0010】そこで、図22の形式のものを次のように
改良することがこれまでに提案されている。
改良することがこれまでに提案されている。
【0011】一つは、広帯域化の例として、図24に示
すようにフェライトFと金属板Mとの間に空気、誘電体
または損失誘電体Dを挿入したものがある。この場合
は、fL=30MHz、fH=1000MHzがようやく
得られる。
すようにフェライトFと金属板Mとの間に空気、誘電体
または損失誘電体Dを挿入したものがある。この場合
は、fL=30MHz、fH=1000MHzがようやく
得られる。
【0012】さらに、もう一つの広帯域化の例として図
25(a)(斜視図),図25(b)(図25(a)の
A−A’線で切った断面図)及び図26(a)(斜視
図),図26(b)(図26(a)のA−A’線で切っ
た断面図)に示すような電波吸収体が本発明者により提
案されている(特願平02−162403参照)。すな
わち、両図とも磁性体はタイル状の一様なものでなく周
期的な空隙部を有し、かつ厚みtよりも高さhが大きい
という特徴を持った焼結フェライト磁性体Fを電波の金
属導電反射体Mの上に間隔Sで配置したものである。
25(a)(斜視図),図25(b)(図25(a)の
A−A’線で切った断面図)及び図26(a)(斜視
図),図26(b)(図26(a)のA−A’線で切っ
た断面図)に示すような電波吸収体が本発明者により提
案されている(特願平02−162403参照)。すな
わち、両図とも磁性体はタイル状の一様なものでなく周
期的な空隙部を有し、かつ厚みtよりも高さhが大きい
という特徴を持った焼結フェライト磁性体Fを電波の金
属導電反射体Mの上に間隔Sで配置したものである。
【0013】この場合は、図25(a),図25(b)
のものでfH=2400MHz、図26(a),図26
(b)のものでfH=700MHz〜1500MHzで
ある。
のものでfH=2400MHz、図26(a),図26
(b)のものでfH=700MHz〜1500MHzで
ある。
【0014】今後、電子機器の動作周波数がより高くな
り、それにより発生する放射電波はより高い周波数に亘
るようになり、要求されるfHは必然的に高くならざる
を得ないと思われる。
り、それにより発生する放射電波はより高い周波数に亘
るようになり、要求されるfHは必然的に高くならざる
を得ないと思われる。
【0015】
【発明が解決しようとする課題】近年、EMI(Elect
ro Magnetic Interference)に対する関心が高く、電
波吸収体のより広帯域化が望まれている。
ro Magnetic Interference)に対する関心が高く、電
波吸収体のより広帯域化が望まれている。
【0016】本発明は、これらに鑑みなされたものであ
り、本発明の目的は、後述するフィン型及びラティス型
の電波吸収体のように、規則的に空隙部とフェライト部
の繰り返し構造を有する電波吸収体をより広帯域にする
ことが可能な技術を提供することにある。
り、本発明の目的は、後述するフィン型及びラティス型
の電波吸収体のように、規則的に空隙部とフェライト部
の繰り返し構造を有する電波吸収体をより広帯域にする
ことが可能な技術を提供することにある。
【0017】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述及び添付図面によって明らか
になるであろう。
な特徴は、本明細書の記述及び添付図面によって明らか
になるであろう。
【0018】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明は、補償型広帯域電波吸収体であって、反射
板上に、空隙を有する磁性体を配置し、その磁性体表面
から金属導電反射体までの高さをhとするとき、前記磁
性体空隙部内の金属導電反射体からの高さh1が高さh
の2分の1以下(h 1 ≦0.5h)の位置に、導電性金属
材料からなる補償素子を一個以上付加してなることを最
も主要な特徴とする。
に、本発明は、補償型広帯域電波吸収体であって、反射
板上に、空隙を有する磁性体を配置し、その磁性体表面
から金属導電反射体までの高さをhとするとき、前記磁
性体空隙部内の金属導電反射体からの高さh1が高さh
の2分の1以下(h 1 ≦0.5h)の位置に、導電性金属
材料からなる補償素子を一個以上付加してなることを最
も主要な特徴とする。
【0019】また、前記補償素子は、前記磁性体を挟ん
で対向する形に配置された板状体又は膜状体からなるこ
とを特徴とする。
で対向する形に配置された板状体又は膜状体からなるこ
とを特徴とする。
【0020】また、前記補償素子は、少なくともその一
部が前記磁性体に囲まれる形に配置された柱状体又は枠
状体からなることを特徴とする。
部が前記磁性体に囲まれる形に配置された柱状体又は枠
状体からなることを特徴とする。
【0021】
【作用】前述の手段によれば、金属導電反射体上に、空
隙を有する磁性体を配置し、その磁性体表面から金属導
電反射体までの高さをhとするとき、前記磁性体空隙部
内の金属導電反射体からの高さh1が高さhの2分の1
以下(h 1 ≦0.5h)の位置に、導電性金属材料からな
る補償素子を一個以上付加することにより、フィン型又
はラティス型の電波吸収体のように、規則的に空隙部と
フェライト部の繰り返し構造を有する電波吸収体をより
広帯域にすることができる。例えば、高さは従来のフィ
ン型やラティス型と同じでありながら30MHz〜30
00MHzの電波に対して反射減衰量20dB以上の広
帯域な電波吸収体が得られる。
隙を有する磁性体を配置し、その磁性体表面から金属導
電反射体までの高さをhとするとき、前記磁性体空隙部
内の金属導電反射体からの高さh1が高さhの2分の1
以下(h 1 ≦0.5h)の位置に、導電性金属材料からな
る補償素子を一個以上付加することにより、フィン型又
はラティス型の電波吸収体のように、規則的に空隙部と
フェライト部の繰り返し構造を有する電波吸収体をより
広帯域にすることができる。例えば、高さは従来のフィ
ン型やラティス型と同じでありながら30MHz〜30
00MHzの電波に対して反射減衰量20dB以上の広
帯域な電波吸収体が得られる。
【0022】また、電波吸収体の空隙部分に簡単な補償
素子を1個以上挿入しただけであるので、吸収体自体の
高さに変化はなく、簡単な構造で補償型広帯域電波吸収
体を得ることができる。
素子を1個以上挿入しただけであるので、吸収体自体の
高さに変化はなく、簡単な構造で補償型広帯域電波吸収
体を得ることができる。
【0023】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して詳細
に説明する。
に説明する。
【0024】なお、実施例を説明するための全図におい
て、同一機能を有するものは同一符号を付け、その繰り
返しの説明は省略する。
て、同一機能を有するものは同一符号を付け、その繰り
返しの説明は省略する。
【0025】本発明の補償型広帯域電波吸収体は、磁性
体と空隙部が金属導電反射体上で連続して繰り返す構造
の電波吸収体については成立するが、主として前述の電
波吸収体の代表的な構造である図25(a)(斜視
図),図25(b)(断面図)の電波吸収体の特性を用
いて、本発明の実施例を詳細に説明する。また、便宜
上、図25(a),図25(b)のものをフィン型電波
吸収体、図26(a)(斜視図),図26(b)(断面
図)のものをラティス型電波吸収体と呼ぶことにする。
ちなみに、図25(a),図25(b)に示すフィン型
は単一偏波用であり、これをラティス状に組み合わせた
図26(a),図26(b)のものは両偏波用である。
体と空隙部が金属導電反射体上で連続して繰り返す構造
の電波吸収体については成立するが、主として前述の電
波吸収体の代表的な構造である図25(a)(斜視
図),図25(b)(断面図)の電波吸収体の特性を用
いて、本発明の実施例を詳細に説明する。また、便宜
上、図25(a),図25(b)のものをフィン型電波
吸収体、図26(a)(斜視図),図26(b)(断面
図)のものをラティス型電波吸収体と呼ぶことにする。
ちなみに、図25(a),図25(b)に示すフィン型
は単一偏波用であり、これをラティス状に組み合わせた
図26(a),図26(b)のものは両偏波用である。
【0026】また、以下に述べる実施例の特性は実施例
6を除いて、すべて図27(a)(縦断面図),図27
(b)(横断面図)に示すようなトリプレート線路を用
い、TEM波による実験結果を示している。なお、図2
7(a),図27(b)において、11は入力コネクタ
ー、12は外部導体平板、13は内部導体平板、14は
金属導電反射体(反射板)、15は測定試料である。こ
のトリプレート線路の特性インピーダンスは50オーム
である。
6を除いて、すべて図27(a)(縦断面図),図27
(b)(横断面図)に示すようなトリプレート線路を用
い、TEM波による実験結果を示している。なお、図2
7(a),図27(b)において、11は入力コネクタ
ー、12は外部導体平板、13は内部導体平板、14は
金属導電反射体(反射板)、15は測定試料である。こ
のトリプレート線路の特性インピーダンスは50オーム
である。
【0027】〔実施例1〕 図1は、本発明の実施例の基本電波吸収体の構成を示す
断面図であり、前述の図25(b)(断面図)の電波吸
収体を説明の都合上、必要な記号をいれて再掲したもの
である。また、同図1(a)において電波吸収体表面
(a−a’)から金属導電反射体方向を見込む入力イン
ピーダンスと周波数の関係を、高さhを可変して測定
し、測定に供した線路の特性インピーダンス(50オー
ム)で正規化してスミスチャートに示したものが図2で
ある。実験の中で最も特性の良かった高さh=20mmの
場合の特性を中心部を拡大したスミスチャートを用いて
示したのが図3である。
断面図であり、前述の図25(b)(断面図)の電波吸
収体を説明の都合上、必要な記号をいれて再掲したもの
である。また、同図1(a)において電波吸収体表面
(a−a’)から金属導電反射体方向を見込む入力イン
ピーダンスと周波数の関係を、高さhを可変して測定
し、測定に供した線路の特性インピーダンス(50オー
ム)で正規化してスミスチャートに示したものが図2で
ある。実験の中で最も特性の良かった高さh=20mmの
場合の特性を中心部を拡大したスミスチャートを用いて
示したのが図3である。
【0028】図3の定在波比(SWR:Standing Wav
e Ratio)=1.2の円で示すように反射減衰量が20
dB以下となる周波数帯域はおおよそ50メガヘルツ
(MHz)〜2300MHzである。
e Ratio)=1.2の円で示すように反射減衰量が20
dB以下となる周波数帯域はおおよそ50メガヘルツ
(MHz)〜2300MHzである。
【0029】ここに、フェライト磁性体Fは、直流時の
透磁率2200のNiZn系焼結フェライトであり、厚
みt=7.5mm、高さh=5〜30mm、配置間隔S=2
0mmである。
透磁率2200のNiZn系焼結フェライトであり、厚
みt=7.5mm、高さh=5〜30mm、配置間隔S=2
0mmである。
【0030】図2の特性から、入力インピーダンスの抵
抗分は、高さが高くなるに従って大きくなるが、高さh
1=5、10、15mmまでは、各周波数において誘導性
のインピーダンスである。一方、高さh=20mm以上に
なると、高い周波数では容量性に変化していることがわ
かる。従って、15mm迄の高さにおいては、適当な容量
性リアクタンスを補償素子Cとして挿入し、リアクタン
ス分を打ち消し、抵抗分は、高さhを高くすることによ
り、増加させれば広帯域化することが期待できる。な
お、図2において、測定スタート周波数は5MHz、停
止周波数は3000MHzとした。以下の特性測定にお
いてもすべて同様な条件で行った。
抗分は、高さが高くなるに従って大きくなるが、高さh
1=5、10、15mmまでは、各周波数において誘導性
のインピーダンスである。一方、高さh=20mm以上に
なると、高い周波数では容量性に変化していることがわ
かる。従って、15mm迄の高さにおいては、適当な容量
性リアクタンスを補償素子Cとして挿入し、リアクタン
ス分を打ち消し、抵抗分は、高さhを高くすることによ
り、増加させれば広帯域化することが期待できる。な
お、図2において、測定スタート周波数は5MHz、停
止周波数は3000MHzとした。以下の特性測定にお
いてもすべて同様な条件で行った。
【0031】この場合、挿入される補償素子Cは、集中
定数型の素子より分布定数型の素子の方が適当であるこ
とが図2の周波数対インピーダンスの変化から推察され
る。
定数型の素子より分布定数型の素子の方が適当であるこ
とが図2の周波数対インピーダンスの変化から推察され
る。
【0032】かかる発想から、本発明の実施例1とし
て、図1(b)に側面図で示すように、高さh1の位置
(b−b')から金属導電反射体Mまで導電性の平板
(補償素子)Cをフェライト磁性体Fに密着して挿入し
てみた。平板Cの大きさは、高さh1=5mm、厚みtc
=0.2mmの銅箔を用い、幅は前記試料の幅と同じにし
た。その結果を図4に示す。図3との比較においてわか
るように5MHz〜500MHzの周波数帯では、ほと
んど平板Cの影響はなく、平板Cの付加前とほぼ同じ特
性であるが、それより高い周波数ではその補償効果が現
れて、50MHz〜3000MHzまで定在波比(SW
R)1.2の円内に入るように補償することができた。
図5は補償前と補償後の反射減衰量の特性を示した図で
あり、補償後のものは大きく改善されていることがわか
る。
て、図1(b)に側面図で示すように、高さh1の位置
(b−b')から金属導電反射体Mまで導電性の平板
(補償素子)Cをフェライト磁性体Fに密着して挿入し
てみた。平板Cの大きさは、高さh1=5mm、厚みtc
=0.2mmの銅箔を用い、幅は前記試料の幅と同じにし
た。その結果を図4に示す。図3との比較においてわか
るように5MHz〜500MHzの周波数帯では、ほと
んど平板Cの影響はなく、平板Cの付加前とほぼ同じ特
性であるが、それより高い周波数ではその補償効果が現
れて、50MHz〜3000MHzまで定在波比(SW
R)1.2の円内に入るように補償することができた。
図5は補償前と補償後の反射減衰量の特性を示した図で
あり、補償後のものは大きく改善されていることがわか
る。
【0033】〔実施例2〕 前記実施例1で用いた銅箔の代わりに、図6に断面図で
示すように、導電性材料で構成される角柱Cを挿入して
も結果はほぼ同じであった。角柱Cはアルミニウム製で
あり、その大きさは、高さh1=5mm、厚みtc=12.
5mm、幅は実施例1の試料のフェライト磁性体Fと同じ
にした。フェライト磁性体Fは、直流時の透磁率220
0のNiZn系焼結フェライトであり、厚みt=7.5m
m、高さh=20mm、配置間隔S=20mmである。
示すように、導電性材料で構成される角柱Cを挿入して
も結果はほぼ同じであった。角柱Cはアルミニウム製で
あり、その大きさは、高さh1=5mm、厚みtc=12.
5mm、幅は実施例1の試料のフェライト磁性体Fと同じ
にした。フェライト磁性体Fは、直流時の透磁率220
0のNiZn系焼結フェライトであり、厚みt=7.5m
m、高さh=20mm、配置間隔S=20mmである。
【0034】また、図7に示すように、他の条件は同じ
で、高さh1=10mmと長くすることにより厚さtcが
図7のものの約3分の1(4mm)の角柱Cをフェライト
磁性体Fの片面(図では上側)の空隙部だけに挿入して
も特性が改善されることがわかった。図6の場合の特性
を図8、図7の場合の特性を図9に示す。
で、高さh1=10mmと長くすることにより厚さtcが
図7のものの約3分の1(4mm)の角柱Cをフェライト
磁性体Fの片面(図では上側)の空隙部だけに挿入して
も特性が改善されることがわかった。図6の場合の特性
を図8、図7の場合の特性を図9に示す。
【0035】実施例2の実験結果から、本発明の補償型
広帯域電波吸収体は、周波数の低いところではそのリア
クタンス分が低く、周波数が高くなるに従ってそのリア
クタンス分が高くなる容量性の補償素子Cを付加したと
考えられるが、別の見方をすれば、比較的低い周波数で
は金属導電反射体Mの位置はもとの位置であるが、周波
数が高くなるに従って電気的には順次金属導電反射体M
の位置が高さh1の位置まで等価的に移動して動作して
いるものと考えることもできる。
広帯域電波吸収体は、周波数の低いところではそのリア
クタンス分が低く、周波数が高くなるに従ってそのリア
クタンス分が高くなる容量性の補償素子Cを付加したと
考えられるが、別の見方をすれば、比較的低い周波数で
は金属導電反射体Mの位置はもとの位置であるが、周波
数が高くなるに従って電気的には順次金属導電反射体M
の位置が高さh1の位置まで等価的に移動して動作して
いるものと考えることもできる。
【0036】
【0037】
【0038】〔実施例3〕 前記図1(a)に示す広帯域電波吸収体でフェライト磁
性体Fの高さが整合高hより高いか、あるいは厚みが整
合厚tより厚い場合、図10に示すような特性を示す。
すなわち、図2に示すように、スミスチャートのほぼ中
心を通らず全体的に抵抗分が高くなる。図10の特性
は、そのような例でフェライト磁性体Fの高さh=25
mmと5mmだけ高くした以外は、実施例1と同じ条件の試
料を測定したものである。このように補償前の特性の抵
抗分が若干高い場合、実施例1に示す補償を行うと、図
11のように、抵抗分は高いがリアクタンス分は補償さ
れる。さらに、抵抗分をも補償するために、図13に示
すように、エポキシ樹脂にカーボン粉末を混入し、その
抵抗値を175オーム/□とした抵抗膜RCをフェライ
ト磁性体の表面に取り付けることにより、全体の抵抗値
を整合時の抵抗分50オーム付近まで下げ、吸収体全体
としての特性を改善することができた。その特性を同じ
く図12に示した。
性体Fの高さが整合高hより高いか、あるいは厚みが整
合厚tより厚い場合、図10に示すような特性を示す。
すなわち、図2に示すように、スミスチャートのほぼ中
心を通らず全体的に抵抗分が高くなる。図10の特性
は、そのような例でフェライト磁性体Fの高さh=25
mmと5mmだけ高くした以外は、実施例1と同じ条件の試
料を測定したものである。このように補償前の特性の抵
抗分が若干高い場合、実施例1に示す補償を行うと、図
11のように、抵抗分は高いがリアクタンス分は補償さ
れる。さらに、抵抗分をも補償するために、図13に示
すように、エポキシ樹脂にカーボン粉末を混入し、その
抵抗値を175オーム/□とした抵抗膜RCをフェライ
ト磁性体の表面に取り付けることにより、全体の抵抗値
を整合時の抵抗分50オーム付近まで下げ、吸収体全体
としての特性を改善することができた。その特性を同じ
く図12に示した。
【0039】〔実施例4〕 次に、前述の図26(a),図26(b)に示すラティ
ス型においても本発明を実施してみる。それを図14
(a)(斜視図),図14(b)(図14(a)のA−
A'断面図)に示す。すなわち、図26(a),図26
(b)に示す構成のフェライト電波吸収体の空隙部に、
高さh1の導電性材料からなる角柱Cを設けてみた。こ
の動作もフィン型の時に述べたものと同様である。実験
に使用した材料としては、フェライト磁性体Fは、Ni
Zn系焼結フェライトの材料で直流時の透磁率250
0、厚さt=6.5mm、高さh=20mm、配置間隔S=
20mmである。補償素子Cと磁性体の空隙部にアルミニ
ウム製の一辺が13.5mm、高さh1=6mmの角柱を付加
した。このときの特性を図15に示す。この場合、帯域
幅が若干改善されていることがわかるが、実施例1ほど
の改善はみられない。この理由は、補償素子Cの挿入位
置が適当でないためである。
ス型においても本発明を実施してみる。それを図14
(a)(斜視図),図14(b)(図14(a)のA−
A'断面図)に示す。すなわち、図26(a),図26
(b)に示す構成のフェライト電波吸収体の空隙部に、
高さh1の導電性材料からなる角柱Cを設けてみた。こ
の動作もフィン型の時に述べたものと同様である。実験
に使用した材料としては、フェライト磁性体Fは、Ni
Zn系焼結フェライトの材料で直流時の透磁率250
0、厚さt=6.5mm、高さh=20mm、配置間隔S=
20mmである。補償素子Cと磁性体の空隙部にアルミニ
ウム製の一辺が13.5mm、高さh1=6mmの角柱を付加
した。このときの特性を図15に示す。この場合、帯域
幅が若干改善されていることがわかるが、実施例1ほど
の改善はみられない。この理由は、補償素子Cの挿入位
置が適当でないためである。
【0040】〔実施例5〕実施例4の特性をさらに向上
させる方法を検討してみる。
させる方法を検討してみる。
【0041】そこで、図16(a)に示すように、フェ
ライトを距離d=6mmだけ金属導電反射体Mから浮か
し、補償素子Cの高さh1=12mmとし、同じくこの空
隙部にアルミニウム製の一辺が13.5mmの角パイプ状
の補償素子Cを挿入してみた。その結果、図17に示す
ように、その特性が改善された。
ライトを距離d=6mmだけ金属導電反射体Mから浮か
し、補償素子Cの高さh1=12mmとし、同じくこの空
隙部にアルミニウム製の一辺が13.5mmの角パイプ状
の補償素子Cを挿入してみた。その結果、図17に示す
ように、その特性が改善された。
【0042】
【0043】〔実施例6〕 また、図18に示すように、付加する補償素子Cを
C1,C2の2段にし、金属導電反射体Mから遠い方の間
隔を広くし、金属導電反射体Mに近い方の間隔を狭くし
てみた。ここに、高さh=40mm、厚さt=2mmのフェ
ライト磁性体F(NiZn系焼結フェライト)の円筒2
1を図18に示すように同軸管からなる外部導体22と
中心導体23との間に配置し、補償素子Cの寸法を図1
8に示すようにしたときの特性を図19に補償前と補償
後を合わせて記載してあるが、大幅に特性が改善されて
いることがわかる。前記図18において、h1=5mm,
h2=10mm,tc1=1.8mm,tc2=0.9mmであ
る。
C1,C2の2段にし、金属導電反射体Mから遠い方の間
隔を広くし、金属導電反射体Mに近い方の間隔を狭くし
てみた。ここに、高さh=40mm、厚さt=2mmのフェ
ライト磁性体F(NiZn系焼結フェライト)の円筒2
1を図18に示すように同軸管からなる外部導体22と
中心導体23との間に配置し、補償素子Cの寸法を図1
8に示すようにしたときの特性を図19に補償前と補償
後を合わせて記載してあるが、大幅に特性が改善されて
いることがわかる。前記図18において、h1=5mm,
h2=10mm,tc1=1.8mm,tc2=0.9mmであ
る。
【0044】以上の説明からわかるように、前記実施例
によれば、金属導電反射体M上に、空隙を有する磁性体
Fを配置し、その磁性体Fの表面から金属導電反射体M
までの高さをhとするとき、前記磁性体空隙部内の金属
導電反射体Mからの高さh1が高さhの2分の1以下
(h 1 ≦0.5h)の位置に、導電性金属材料からなる補
償素子C(例えば、平板C又は角柱C)を一個以上付加
することにより、フィン型及びラティス型の電波吸収体
のように、規則的に空隙部とフェライト部の繰り返し構
造を有する電波吸収体をより広帯域にすることができ
る。例えば、高さは従来のフィン型やラティス型と同じ
でありながら30MHz〜3000MHzの電波に対し
て反射減衰量20dB以上の広帯域な電波吸収体が得ら
れる。
によれば、金属導電反射体M上に、空隙を有する磁性体
Fを配置し、その磁性体Fの表面から金属導電反射体M
までの高さをhとするとき、前記磁性体空隙部内の金属
導電反射体Mからの高さh1が高さhの2分の1以下
(h 1 ≦0.5h)の位置に、導電性金属材料からなる補
償素子C(例えば、平板C又は角柱C)を一個以上付加
することにより、フィン型及びラティス型の電波吸収体
のように、規則的に空隙部とフェライト部の繰り返し構
造を有する電波吸収体をより広帯域にすることができ
る。例えば、高さは従来のフィン型やラティス型と同じ
でありながら30MHz〜3000MHzの電波に対し
て反射減衰量20dB以上の広帯域な電波吸収体が得ら
れる。
【0045】また、電波吸収体の空隙部分に簡単な補償
素子C(例えば、平板C又は角柱C)を一個以上挿入し
ただけであるので、吸収体自体の高さに変化はなく、簡
単な構造で広帯域な電波吸収体が得られる。
素子C(例えば、平板C又は角柱C)を一個以上挿入し
ただけであるので、吸収体自体の高さに変化はなく、簡
単な構造で広帯域な電波吸収体が得られる。
【0046】また、フィン型及びラティス型の電波吸収
体のように、規則的に空隙部とフェライト部の繰り返し
構造を有する電波吸収体は、実際には吸収体の高さが1
0〜40mmで、3000MHzで約0.1〜0.4波長で
あるから、その高さh1が比較的高いので、その高さの
範囲内に適正なインピーダンスを呈する補償素子Cを入
れ得るのが普通である。
体のように、規則的に空隙部とフェライト部の繰り返し
構造を有する電波吸収体は、実際には吸収体の高さが1
0〜40mmで、3000MHzで約0.1〜0.4波長で
あるから、その高さh1が比較的高いので、その高さの
範囲内に適正なインピーダンスを呈する補償素子Cを入
れ得るのが普通である。
【0047】また、補償素子Cの実際の構造製作は、フ
ェライト磁性体Fに導電性塗料を必要個所に塗布する方
法でも実現できるし、角柱Cは金属導電反射体をプレス
加工によって必要個所を盛り上げるなり、打ち出したり
しても良い。また、ここで述べた補償素子Cは、フェラ
イト板を金属導電反射体Mに固定するための金具として
利用しても良い。
ェライト磁性体Fに導電性塗料を必要個所に塗布する方
法でも実現できるし、角柱Cは金属導電反射体をプレス
加工によって必要個所を盛り上げるなり、打ち出したり
しても良い。また、ここで述べた補償素子Cは、フェラ
イト板を金属導電反射体Mに固定するための金具として
利用しても良い。
【0048】
【0049】また、本発明の補償素子付き広帯域電波吸
収体は、これ単独での利用は勿論のこと、図20に示す
ように、その前方(入射波方向)に誘電体膜又は低透磁
率磁性体膜RFを追加してさらに広帯域化をはかること
が可能である。また、図21に示すように、同じくその
前方に損失誘電体DLを付加して使用することができ
る。いずれの場合も、本発明の電波吸収体がすでに相当
高い周波数まで広帯域化されているので、付加する誘電
体膜や磁性体膜の位置、損失誘電体の高さは、最大でも
本発明の電波吸収体の最高使用周波数の2分の1波長以
内であるから従来の磁性体膜や誘電体膜の付加した吸収
体に較べ大幅に全体の高さが低くできる。
収体は、これ単独での利用は勿論のこと、図20に示す
ように、その前方(入射波方向)に誘電体膜又は低透磁
率磁性体膜RFを追加してさらに広帯域化をはかること
が可能である。また、図21に示すように、同じくその
前方に損失誘電体DLを付加して使用することができ
る。いずれの場合も、本発明の電波吸収体がすでに相当
高い周波数まで広帯域化されているので、付加する誘電
体膜や磁性体膜の位置、損失誘電体の高さは、最大でも
本発明の電波吸収体の最高使用周波数の2分の1波長以
内であるから従来の磁性体膜や誘電体膜の付加した吸収
体に較べ大幅に全体の高さが低くできる。
【0050】以上、本発明を実施例にもとづき具体的に
説明したが、本発明は、前記実施例に限定されるもので
はなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更可
能であることは言うまでもない。
説明したが、本発明は、前記実施例に限定されるもので
はなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更可
能であることは言うまでもない。
【0051】
【発明の効果】以上、説明したように、本発明によれ
ば、フィン型又はラティス型の電波吸収体のように、規
則的に空隙部とフェライト部の繰り返し構造を有する電
波吸収体をより広帯域にすることができる。
ば、フィン型又はラティス型の電波吸収体のように、規
則的に空隙部とフェライト部の繰り返し構造を有する電
波吸収体をより広帯域にすることができる。
【図1】 (a)は本発明の実施例の基本電波吸収体の
構成を示す断面図、(b)は本発明の補償型広帯域電波
吸収体の実施例1の構成を示す断面図、
構成を示す断面図、(b)は本発明の補償型広帯域電波
吸収体の実施例1の構成を示す断面図、
【図2】 図1(a)の広帯域電波吸収体の線路の特性
インピーダンスで正規化したスミスチャート、
インピーダンスで正規化したスミスチャート、
【図3】 本実施例1の最も特性の良かった高さの場合
の特性の中心部を拡大したスミスチャート、
の特性の中心部を拡大したスミスチャート、
【図4】 本実施例1の補償型広帯域電波吸収体の線路
の特性インピーダンスで正規化したスミスチャート、
の特性インピーダンスで正規化したスミスチャート、
【図5】 本実施例1の補償前と補償後の反射減衰量の
特性を示す図、
特性を示す図、
【図6】 本発明の実施例2の構成を示す断面図、
【図7】 本実施例2の変形例の構成を示す図、
【図8】 図6に示す本実施例2の特性を示す図、
【図9】 図7に示す本実施例2の変形例の特性を示す
図、
図、
【図10】 図1(a)に示す広帯域電波吸収体でフェ
ライト磁性体の高さが整合高より高いか、あるいは厚み
が整合厚より厚い場合の特性を示す図、
ライト磁性体の高さが整合高より高いか、あるいは厚み
が整合厚より厚い場合の特性を示す図、
【図11】 本実施例3による補償特性を示す図、
【図12】 本実施例3による補償特性を示す図、
【図13】 本発明の実施例3の構成を示す断面図、
【図14】 (a)は本発明の実施例4の構成を示す斜
視図、(b)は(a)の断面図、
視図、(b)は(a)の断面図、
【図15】 本実施例4の磁性体の空隙部に角柱を付加
したときの特性を示す図、
したときの特性を示す図、
【図16】 本発明の実施例5の構成を示す断面図、
【図17】 本実施例5の特性を示す図、
【図18】 本発明の実施例6の構成を示す断面図、
【図19】 本実施例6の特性を示す図、
【図20】 本発明の応用例の構成を示す断面図、
【図21】 本発明の他の応用例の構成を示す断面図、
【図22】 基本的なフェライト電波吸収体の断面構造
図、
図、
【図23】 図22に示すフェライト電波吸収体の特性
を示す図、
を示す図、
【図24】 広帯域化したフェライト電波吸収体の例を
示す断面図、
示す断面図、
【図25】 (a)は広帯域化したフェライト電波吸収
体の他の例を示す斜視図、(b)は(a)の断面図、
体の他の例を示す斜視図、(b)は(a)の断面図、
【図26】 (a)は広帯域化したフェライト電波吸収
体の他の例を示す斜視図、(b)は(a)の断面図、
体の他の例を示す斜視図、(b)は(a)の断面図、
【図27】 (a)は試料測定に用いられるトリプレー
ト線路の構成を示す縦断面図、(b)は(a)の横断面
図。
ト線路の構成を示す縦断面図、(b)は(a)の横断面
図。
M…金属導体反射板、F…フェライト磁性体、C…補償
素子、S…フェライト磁性体配置間隔、h…フェライト
磁性体の高さ、h1…補償素子の高さ、t…フェライト
磁性体の厚さ、tc…補償素子の厚さ。
素子、S…フェライト磁性体配置間隔、h…フェライト
磁性体の高さ、h1…補償素子の高さ、t…フェライト
磁性体の厚さ、tc…補償素子の厚さ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H05K 9/00
Claims (3)
- 【請求項1】 反射板上に、空隙を有する磁性体を配置
し、その磁性体表面から反射板までの高さをhとすると
き、前記磁性体空隙部内の反射板からの高さh1が高さ
hの2分の1以下(h 1 ≦0.5h)の位置に、導電性
金属材料からなる補償素子を一個以上付加してなること
を特徴とする補償型広帯域電波吸収体。 - 【請求項2】 請求項1に記載の補償型広帯域電波吸収
体において、前記補償素子は、前記磁性体を挾んで対向
する形に配置された板状体又は膜状体からなることを特
徴とする補償型広帯域電波吸収体。 - 【請求項3】 請求項1に記載の補償型広帯域電波吸収
体において、前記補償素子は、少なくともその一部が前
記磁性体に囲まれる形に配置された柱状体又は枠状体か
らなることを特徴とする補償型広帯域電波吸収体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3210875A JP2769055B2 (ja) | 1991-08-22 | 1991-08-22 | 補償型広帯域電波吸収体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3210875A JP2769055B2 (ja) | 1991-08-22 | 1991-08-22 | 補償型広帯域電波吸収体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0555777A JPH0555777A (ja) | 1993-03-05 |
JP2769055B2 true JP2769055B2 (ja) | 1998-06-25 |
Family
ID=16596545
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3210875A Expired - Lifetime JP2769055B2 (ja) | 1991-08-22 | 1991-08-22 | 補償型広帯域電波吸収体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2769055B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4098788B2 (ja) * | 2005-05-09 | 2008-06-11 | Tdk株式会社 | 電波減衰体 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4349708A (en) * | 1979-08-22 | 1982-09-14 | Atari, Inc. | Joystick control |
-
1991
- 1991-08-22 JP JP3210875A patent/JP2769055B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0555777A (ja) | 1993-03-05 |
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