JP2765552B2 - Wiring structure of optical bistable element array - Google Patents

Wiring structure of optical bistable element array

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JP2765552B2 JP2577596A JP2577596A JP2765552B2 JP 2765552 B2 JP2765552 B2 JP 2765552B2 JP 2577596 A JP2577596 A JP 2577596A JP 2577596 A JP2577596 A JP 2577596A JP 2765552 B2 JP2765552 B2 JP 2765552B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光メモリ装置等に
適用される光双安定半導体レーザの配線構造に関し、特
に複数の光双安定半導体レーザを1チップアレー化した
光双安定素子アレーの配線構造に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wiring structure of an optical bistable semiconductor laser applied to an optical memory device and the like, and more particularly, to a wiring structure of an optical bistable element array in which a plurality of optical bistable semiconductor lasers are integrated into one chip. About.

【0002】[0002]

【従来の技術】光双安定半導体レーザは、ファブリプロ
ー型共振器構造からなり、一般に、図4に示すような断
面構造を有する。図4を参照して、光双安定半導体レー
41は、活性層42と、クラッド層43と、ハーフミ
ラー44、45と、活性層42の長手方向に2分割した
外部取出し電極46、47と、接地電極48と、を具備
した構造とされている。
2. Description of the Related Art An optical bistable semiconductor laser has a Fabry-probe resonator structure and generally has a sectional structure as shown in FIG. Referring to FIG. 4, the optical bistable semiconductor laser 41 includes an active layer 42, a cladding layer 43, half mirrors 44 and 45, and external extraction electrodes 46 and 47 divided into two in the longitudinal direction of the active layer 42. And a ground electrode 48.

【0003】この2分割された外部取出し電極46、4
7への注入電流と、活性層42への光入力強度を制御す
ることによって、電気信号又は光信号についての光双安
定性が生じる。
[0003] The two external extraction electrodes 46, 4
By controlling the injection current into 7 and the intensity of the light input to the active layer 42, optical bistability occurs for the electrical or optical signal.

【0004】図5に、この双安定性を説明する光入力強
度と光出力強度の関係グラフを示す。光双安定半導体レ
ーザ41の外部取出し電極46、47への注入する電流
を一定にした状態で、光入力強度を増加させると、所定
のしきい値で強いレーザ光が急激に放射される。また、
光入力強度が低下するとしきい値以下の点で急激に減少
する。光双安定性は、この光出力強度のヒステリシスに
よって可能になる。
FIG. 5 is a graph showing the relationship between light input intensity and light output intensity for explaining the bistability. When the light input intensity is increased while the currents to be injected into the external extraction electrodes 46 and 47 of the optical bistable semiconductor laser 41 are kept constant, strong laser light is rapidly emitted at a predetermined threshold value. Also,
When the light input intensity decreases, the intensity sharply decreases below the threshold value. Optical bistability is made possible by this hysteresis of light output intensity.

【0005】この光双安定性を利用して光メモリ機能へ
の応用が可能になるが、光メモリ機能を装置化するため
には、多数の光双安定半導体レーザが必要になる。そし
て、装置の小型化のためには、光双安定半導体レーザの
集積化が要求される。
The optical bistability can be applied to an optical memory function, but a large number of optical bistable semiconductor lasers are required to realize the optical memory function. In order to reduce the size of the device, integration of an optical bistable semiconductor laser is required.

【0006】図6に、この小型化に対処するために提案
された従来の光双安定半導体レーザのアレー構造を示す
(例えば特開平1-192185号公報の従来例参照)。図6に
は、図4に示した光双安定半導体レーザ41を並列に複
数配置して1チップアレー化した光双安定素子アレー6
1が示されている。
FIG. 6 shows an array structure of a conventional optical bistable semiconductor laser proposed to cope with this miniaturization (for example, see a conventional example of Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-192185). FIG. 6 shows an optical bistable element array 6 in which a plurality of optical bistable semiconductor lasers 41 shown in FIG.
1 is shown.

【0007】光双安定素子アレー61は、活性層62が
互いに平行となるように配列し(図6では4個)、上面
に各活性層を制御するための外部取出し電極63、64
を形成し、底面には接地電極65を形成して1チップア
レー化したものである。
The optical bistable element array 61 is arranged so that the active layers 62 are parallel to each other (four in FIG. 6), and external extraction electrodes 63 and 64 for controlling each active layer are formed on the upper surface.
And a ground electrode 65 is formed on the bottom surface to form a one-chip array.

【0008】通常、このような光双安定素子アレー61
の場合、光入力と光出力の方法は、光ファイバや光導波
路等を用いた光ガイドアレー(不図示)で行われる。
Usually, such an optical bistable element array 61
In the case of (1), the method of light input and light output is performed by an optical guide array (not shown) using an optical fiber, an optical waveguide, or the like.

【0009】また、光双安定素子アレー61は、図7に
示すように、パッケージ等の外部配線電極71と、光双
安定素子アレー61の外部取出し電極63、64間をボ
ンディングワイヤ72で配線した構成される。
In the optical bistable element array 61, as shown in FIG. 7, an external wiring electrode 71 such as a package and the external extraction electrodes 63 and 64 of the optical bistable element array 61 are wired by bonding wires 72. Be composed.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】しかし、図7に示した
配線構造の場合、ボンディングワイヤの長さが長くなる
上、ボンディングワイヤ72間が交差する恐れがあり、
その結果、高速信号処理を行う光メモリ装置等に採用し
た場合に、クロストーク等のノイズ発生の原因になる場
合がある。これは、ボンディングワイヤ72の寄生容量
成分によるものであるが、特に高速になる程顕著なノイ
ズが生じる。
However, in the case of the wiring structure shown in FIG. 7, the length of the bonding wires becomes longer and the bonding wires 72 may intersect.
As a result, when employed in an optical memory device or the like that performs high-speed signal processing, it may cause noise such as crosstalk. This is due to the parasitic capacitance component of the bonding wire 72. Particularly, the higher the speed, the more remarkable noise occurs.

【0011】従って、本発明は、上記事情に鑑みて為さ
れたものであって、その目的は、ボンディングワイヤの
寄生容量成分を減少させて周波数特性を向上し、高速信
号処理装置に対応可能な配線構造を提供することにあ
る。
Accordingly, the present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to reduce a parasitic capacitance component of a bonding wire, improve a frequency characteristic, and cope with a high-speed signal processing device. It is to provide a wiring structure.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明は、複数の光双安定半導体レーザを1チップ
アレー化し、外部取出し電極を上面に形成してなる光双
安定素子アレーと、前記光双安定素子アレーの入力光側
と出力光側にそれぞれに配置してレーザ光をガイドする
光ガイドアレーと、の配線構造において、前記光ガイド
アレーの上面に、前記光双安定素子アレーの外部取出し
電極と近接する位置に外部配線電極を形成し、前記光双
安定素子アレーの外部取出し電極と前記光ガイドアレー
の外部配線電極をボンディングワイヤで接続してなるこ
とを特徴とする光双安定素子アレーの配線構造を提供す
る。
In order to achieve the above object, the present invention provides an optical bistable element array in which a plurality of optical bistable semiconductor lasers are formed into a one-chip array and an external extraction electrode is formed on an upper surface. A light guide array arranged on the input light side and the output light side of the optical bistable element array to guide laser light, and on the upper surface of the optical guide array, the optical bistable element array Forming an external wiring electrode at a position close to the external extraction electrode, and connecting the external extraction electrode of the optical bistable element array and the external wiring electrode of the optical guide array with a bonding wire; Provided is a wiring structure of an element array.

【0013】本発明によれば、光ガイドアレーの上面に
外部配線電極を形成して、光双安定素子アレーの外部取
出し電極と近接して配置することによりボンディングワ
イヤ長を短くすると共に、複数のボンディングワイヤ間
の交差等を無くし、高速信号処理への対応を可能とした
ものである。
According to the present invention, the external wiring electrodes are formed on the upper surface of the optical guide array, and are arranged close to the external extraction electrodes of the optical bistable element array, so that the bonding wire length can be shortened and a plurality of external wiring electrodes can be formed. This eliminates intersections between bonding wires and enables high-speed signal processing.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図面を参照
して以下に詳細に説明する。
Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.

【0015】図1に、本発明の一実施形態に係る光双安
定素子アレーの配線構造を示す。図1を参照して、光双
安定素子アレー11の上面には、外部取出し電極12、
13を有する。この光双安定素子アレー11の入力光側
と出力光側に光ファイバ14からなる光ガイドアレー1
5を配置して、この光ガイドアレー15のカバー16上
面には外部配線電極17、18を、外部取出し電極1
2、13のそれぞれに近接した位置に形成し、ボンディ
ングワイヤ19で電気的に接続した状態が示されてい
る。
FIG. 1 shows a wiring structure of an optical bistable element array according to one embodiment of the present invention. Referring to FIG. 1, on an upper surface of an optical bistable element array 11, an external extraction electrode 12,
13. An optical guide array 1 comprising optical fibers 14 on the input light side and output light side of the optical bistable element array 11.
5 and external wiring electrodes 17 and 18 are provided on the upper surface of the cover 16 of the light guide array 15, and the external extraction electrode 1 is provided.
2A and 2B are formed at positions close to each other and are electrically connected by bonding wires 19.

【0016】図2及び図3は、光ガイドアレー15の構
成を詳細に説明するための分解斜視図である。光ガイド
アレー15は、シリコン基板に異方性エッチングによっ
てV溝31を形成してなるV溝基板32と、光ファイバ
14と、カバー16と、から構成される。V溝31の相
互ピッチは、光双安定素子アレー11の活性層と同一ピ
ッチとし、V溝31の深さ方向は、V溝31に搭載した
光ファイバ14の中心線と、光双安定素子アレー11の
活性層の高さとが一致するようにされている。また、V
溝基板32の中央部には光双安定素子アレー11の搭載
箇所(溝)33が形成されている。
FIGS. 2 and 3 are exploded perspective views for explaining the structure of the light guide array 15 in detail. The light guide array 15 includes a V-groove substrate 32 formed by forming a V-groove 31 on a silicon substrate by anisotropic etching, an optical fiber 14, and a cover 16. The mutual pitch of the V-grooves 31 is the same as the pitch of the active layer of the optical bistable element array 11, and the depth direction of the V-groove 31 is the center line of the optical fiber 14 mounted on the V-groove 31 and the optical bistable element array. The height of the active layer 11 coincides with that of the active layer. Also, V
A mounting portion (groove) 33 for the optical bistable element array 11 is formed in the center of the groove substrate 32.

【0017】カバー16は、好ましくはセラミックス又
はガラス基板とし、表面には、光双安定素子アレー11
の外部取出し電極12、13のそれぞれに近接した位置
に、外部配線電極17、18を金属蒸着等で形成してあ
る。
The cover 16 is preferably made of a ceramic or glass substrate, and has an optical bistable element array 11 on the surface.
External wiring electrodes 17 and 18 are formed at positions close to the external extraction electrodes 12 and 13 by metal deposition or the like.

【0018】光ファイバ14は、先球レンズ加工等や先
端端面に無反射コーティングしてある。
The optical fiber 14 has a non-reflective coating on the end face of the front end lens or the like.

【0019】以上のような方法で加工したV溝基板32
と、光ファイバ14と、カバー16とを用い、V溝基板
32の中央の位置に光双安定素子アレー11を接着等で
搭載した後、光ファイバ14をそれぞれのV溝31に搭
載し、カバー16で接着固定して光ガイドアレー15が
構成される。
The V-groove substrate 32 processed by the above method
, The optical fiber 14 and the cover 16, the optical bistable element array 11 is mounted at the center position of the V-groove substrate 32 by bonding or the like, and then the optical fibers 14 are mounted in the respective V-grooves 31. The light guide array 15 is formed by bonding and fixing at 16.

【0020】[0020]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
光ガイドアレーのカバー上面に光双安定素子アレーの外
部取出し電極と近接した位置に外部配線電極を形成する
ようにしたことから、ボンディングワイヤ長を短尺化で
き、さらにボンディングワイヤ間の交差等を無くするこ
とができるため、高速信号処理を必要とする光メモリ装
置に適用して好適な光双安定素子アレーの配線構造を提
供するものである。
As described above, according to the present invention,
External wiring electrodes are formed on the upper surface of the cover of the optical guide array at positions close to the external extraction electrodes of the optical bistable element array, so that the bonding wire length can be shortened, and there is no intersection between bonding wires. Therefore, the present invention provides a wiring structure of an optical bistable element array suitable for an optical memory device requiring high-speed signal processing.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施形態に係る配線構成を示す図で
ある。
FIG. 1 is a diagram showing a wiring configuration according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一実施形態を説明するための光ガイド
アレーの分解図で、カバーの斜視図である。
FIG. 2 is an exploded view of a light guide array for describing one embodiment of the present invention, and is a perspective view of a cover.

【図3】本発明の一実施形態を説明するための光ガイド
アレーの分解図で、シリコンV溝基板の斜視図である。
FIG. 3 is an exploded view of a light guide array for describing one embodiment of the present invention, and is a perspective view of a silicon V-groove substrate.

【図4】光双安定半導体レーザの断面図である。FIG. 4 is a sectional view of an optical bistable semiconductor laser.

【図5】光双安定性を説明するための図であり、光入力
強度に対する光出力強度の関係グラフである。
FIG. 5 is a diagram for explaining optical bistability, and is a graph showing a relationship between light input intensity and light output intensity.

【図6】複数の光双安定半導体レーザを1チップアレー
化した従来の光双安定素子アレーの構成を示す斜視図で
ある。
FIG. 6 is a perspective view showing a configuration of a conventional optical bistable element array in which a plurality of optical bistable semiconductor lasers are formed into a one-chip array.

【図7】光双安定素子アレーの従来の配線構造を示す図
である。
FIG. 7 is a diagram showing a conventional wiring structure of an optical bistable element array.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 光双安定素子アレー 12、13 外部取出し電極 14 光ファイバ 15 光ガイドアレー 16 カバー 17 外部配線電極 18 外部配線電極 19 ボンディングワイヤ 31 V溝 32 V溝基板 33 搭載箇所 41 光双安定半導体レーザ 42 活性層 43 クラッド層 44、45 ハーフミラー 46 外部取出し電極 47 外部取出し電極 48 接地電極 61 光双安定素子アレー 62 活性層 63 外部取出し電極 64 外部取出し電極 65 接地電極 71 外部配線電極 72 ボンディングワイヤ Reference Signs List 11 optical bistable element array 12, 13 external extraction electrode 14 optical fiber 15 optical guide array 16 cover 17 external wiring electrode 18 external wiring electrode 19 bonding wire 31 V groove 32 V groove substrate 33 mounting location 41 optical bistable semiconductor laser 42 active Layer 43 Cladding layer 44, 45 Half mirror 46 External extraction electrode 47 External extraction electrode 48 Ground electrode 61 Optical bistable element array 62 Active layer 63 External extraction electrode 64 External extraction electrode 65 Ground electrode 71 External wiring electrode 72 Bonding wire

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】複数の光双安定半導体レーザを1チップア
レー化し、外部取出し電極を上面に形成してなる光双安
定素子アレーと、 前記光双安定素子アレーの入力光側と出力光側にそれぞ
れに配置してレーザ光をガイドする光ガイドアレーと、
の配線構造において、 前記光ガイドアレーの上面に、前記光双安定素子アレー
の外部取出し電極と近接する位置に外部配線電極を形成
し、 前記光双安定素子アレーの外部取出し電極と前記光ガイ
ドアレーの外部配線電極をボンディングワイヤで接続し
てなることを特徴とする光双安定素子アレーの配線構
造。
1. An optical bistable element array in which a plurality of optical bistable semiconductor lasers are formed into a one-chip array and an external extraction electrode is formed on the upper surface, and an input light side and an output light side of the optical bistable element array. A light guide array that guides laser light by arranging them in each,
In the wiring structure, an external wiring electrode is formed on the upper surface of the optical guide array at a position close to the external extraction electrode of the optical bistable element array, and the external extraction electrode of the optical bistable element array and the optical guide array are formed. Wherein the external wiring electrodes are connected by bonding wires.
【請求項2】前記光ガイドアレーの複数の外部配線電極
が前記光双安定素子アレーの長手方向に沿って整列配置
され、前記複数の外部配線電極がいずれもそれぞれに対
応する前記光双安定素子アレーの外部取出し電極に対し
て近接した状態に配置されてなることを特徴とする請求
項1記載の光双安定素子アレーの配線構造。
2. The optical bistable element according to claim 2, wherein a plurality of external wiring electrodes of the optical guide array are arranged along a longitudinal direction of the optical bistable element array, and each of the plurality of external wiring electrodes respectively corresponds to the optical bistable element. 2. The wiring structure of an optical bistable element array according to claim 1, wherein the wiring structure is arranged close to an external extraction electrode of the array.
【請求項3】前記光ガイドアレーの外部配線電極が前記
光ガイドアレーのカバー表面に形成されてなることを特
徴とする請求項1記載の光双安定素子アレーの配線構
造。
3. The wiring structure of an optical bistable element array according to claim 1, wherein external wiring electrodes of said optical guide array are formed on a cover surface of said optical guide array.
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