JP2758106B2 - Method for producing polyorganosilane - Google Patents

Method for producing polyorganosilane

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JP2758106B2
JP2758106B2 JP4213931A JP21393192A JP2758106B2 JP 2758106 B2 JP2758106 B2 JP 2758106B2 JP 4213931 A JP4213931 A JP 4213931A JP 21393192 A JP21393192 A JP 21393192A JP 2758106 B2 JP2758106 B2 JP 2758106B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ポリオルガノシランの
新規な製造方法に関する。さらに詳細には、ポリオルガ
ノシランを、簡便に、しかも安全に製造する方法に関す
る。
The present invention relates to a novel method for producing polyorganosilane. More specifically, the present invention relates to a method for easily and safely producing polyorganosilane.

【0002】[0002]

【従来の技術】ポリオルガノシランは、有機導電材料、
非線形光学材料、光分解型反応開始剤、炭化ケイ素前駆
体、フォトレジスト材料などとして有用なことが知られ
ている(たとえば Miller, R. D.; Michil, J., Chem.
Rev., 89, 1359(1989))。
2. Description of the Related Art Polyorganosilane is an organic conductive material,
It is known that it is useful as a nonlinear optical material, a photodecomposition type initiator, a silicon carbide precursor, a photoresist material and the like (for example, Miller, RD; Michil, J., Chem.
Rev., 89, 1359 (1989)).

【0003】ポリオルガノシランの製造方法としては、
オルガノハロシランまたはオルガノハロジシランを出発
原料とするウルツ法が広く利用されている。しかしなが
ら、ウルツ法は空気中で自己発火性のある金属ナトリウ
ムや金属カリウムを使用するために危険性を伴ううえ
に、反応条件が厳しくて、アルキル基やアリール基以外
の置換基の導入が困難であるという欠点がある。
A method for producing polyorganosilane includes the following:
The Wurtz process using organohalosilane or organohalodisilane as a starting material is widely used. However, the wurtz method involves dangers due to the use of metallic sodium and metallic potassium which are self-igniting in air, and the reaction conditions are severe, making it difficult to introduce substituents other than alkyl and aryl groups. There is a disadvantage that there is.

【0004】このような欠点を解決するための検討がい
くつか試みられている。たとえば永井らは、金属ナトリ
ウムや金属カリウムを使用しないで、ナトリウムアルコ
キシドの存在下に、1,2−ジアルコキシテトラメチル
ジシラン類の不均化反応により、ドデカメチルシクロヘ
キサシランおよびα,ω−ジアルコキシオリゴシランを
得ている(特開昭54−24874号公報、特開昭57
−146790号公報参照)。
Some attempts have been made to solve such disadvantages. For example, Nagai et al. Did not use metal sodium or metal potassium, but in the presence of sodium alkoxide by a disproportionation reaction of 1,2-dialkoxytetramethyldisilanes to obtain dodecamethylcyclohexasilane and α, ω-disilane. Alkoxy oligosilanes have been obtained (JP-A-54-24874, JP-A-57
-146790).

【0005】さらに、特開昭62−62821号公報に
は、トリメチルトリメトキシジシラン、または該ジシラ
ンとジメチルテトラメトキシジシランとの混合物を、ア
ルカリ金属アルコラートの存在下で不均化反応させるポ
リオルガノシランの製造法を開示している。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-62821 discloses a polyorganosilane obtained by disproportionating trimethyltrimethoxydisilane or a mixture of the disilane and dimethyltetramethoxydisilane in the presence of an alkali metal alcoholate. A production method is disclosed.

【0006】また、渡辺らは(MeO)n Me6-n Si
2 (Me:メチル基を表す)の不均化反応により、平均
分子量56,000〜84,000のポリメチルメトキ
シシランを合成している(日本化学会第61回春期年会
(1991年))。
Further, Watanabe et al. (MeO) n Me 6-n Si
2 Polymethylmethoxysilane having an average molecular weight of 56,000 to 84,000 is synthesized by the disproportionation reaction of Me (representing a methyl group) (The 61st Annual Meeting of the Chemical Society of Japan (1991)) .

【0007】これらのアルコキシジシラン化合物を用い
る不均化反応は、金属ナトリウムや金属カリウムを使用
しないで、穏和な条件で反応を行える点で優れてはいる
が、このような反応によって得られるポリシランとして
は、置換基としてメチル基やメトキシ基のような単純な
基を含有するものだけが知られている。しかし、非線形
光学材料、フォトレジストなどへのオルガノポリシラン
の利用を考えた場合、さらに多様な置換基を有するポリ
シランを容易に合成することが望まれている。
The disproportionation reaction using these alkoxydisilane compounds is excellent in that the reaction can be carried out under mild conditions without using metal sodium or metal potassium, but polysilane obtained by such a reaction is excellent. Are known only to contain a simple group such as a methyl group or a methoxy group as a substituent. However, considering the use of organopolysilanes for nonlinear optical materials and photoresists, it is desired to easily synthesize polysilanes having various substituents.

【0008】このような多様な置換基を有するポリシラ
ンは、所望の置換基を原料ジシラン中に導入し、不均化
反応を行うことにより得られる可能性がある。しかしな
がら、そのようなジシラン化合物を得ることは、ジシラ
ン中に存在する数個のハロゲン原子やアルコキシ基の反
応によって選択的に置換基を導入することが難しかった
り、生成するジシラン類の沸点が高く、蒸留精製が困難
であるといった問題点があった。
[0008] Such polysilanes having various substituents may be obtained by introducing a desired substituent into the starting disilane and performing a disproportionation reaction. However, to obtain such a disilane compound, it is difficult to selectively introduce a substituent by the reaction of several halogen atoms or alkoxy groups present in the disilane, or the boiling point of the generated disilane is high, There is a problem that distillation purification is difficult.

【0009】一方、各種の有機基を有するモノシラン化
合物は、対応するジシラン化合物よりも合成が容易で、
沸点も比較的低いことから、精製も容易である。しかし
ながら、このようなモノシラン化合物より、安全かつ容
易にポリシランを得る方法は知られていない。
On the other hand, monosilane compounds having various organic groups are easier to synthesize than the corresponding disilane compounds,
Since the boiling point is relatively low, purification is easy. However, there is no known method for safely and easily obtaining polysilane from such a monosilane compound.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、前述
のような材料として利用しやすい、多様な置換基を有す
るポリオルガノシランを、入手の容易なジシラン化合物
及びヒドロカルビルオキシシラン化合物から、簡便な一
工程で、安全に製造する方法を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to convert polyorganosilanes having various substituents which can be easily used as the above-mentioned materials into disilane compounds and hydrocarbyloxysilanes which are easily available. An object of the present invention is to provide a method for safely producing a compound from a compound in one convenient step.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、このよう
な課題について鋭意検討を重ねた結果、ジシラン化合物
ヒドロカルビルオキシシラン化合物を同時に用いて、
アルカリ金属ヒドロカルビノラートの存在下に不均化反
応を行わせることで、課題を解決できることを見出し
て、本発明を完成するに至った。
Means for Solving the Problems The present inventors have conducted intensive studies on such problems and as a result, have simultaneously used a disilane compound and a hydrocarbyloxysilane compound .
The present inventors have found that the problem can be solved by performing a disproportionation reaction in the presence of an alkali metal hydrocarbinolate , and have completed the present invention.

【0012】すなわち、本発明は、 一般式:R1 n Si2 (OR26-n (I) 〔式中、R1 は互に同一または相異なる置換または非置
換の一価の炭化水素基を表し、R2 は互に同一または相
異なる一価の炭化水素基を表し、nは0〜6の整数を表
す〕で示されるジシラン化合物、及び 一般式:R3 m Si(OR44-m (II) 〔式中、R3 は互に同一または相異なる置換または非置
換の一価の炭化水素基を表し、R4 は互に同一または相
異なる一価の炭化水素基を表し、mは1〜3の整数を表
し、n+m≦8である〕で示されるヒドロカルビルオキ
シシラン化合物を、 一般式:MOR5 (III) [式中、Mはアルカリ金属を表し、R5 は一価の炭化水
素基を表す]で示されるアルカリ金属ヒドロカルビノラ
ートの存在下で反応させることを特徴とする、分子鎖中
にR3 m Si基〔式中、R3 、mは上述のとおり〕を有
するポリオルガノシランの製造方法に関する。
That is, the present invention relates to a compound represented by the general formula: R 1 n Si 2 (OR 2 ) 6-n (I) wherein R 1 is the same or different and is a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon. R 2 represents a monovalent hydrocarbon group which is the same or different from each other, and n represents an integer of 0 to 6], and a general formula: R 3 m Si (OR 4 ) 4-m (II) wherein R 3 represents a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group which is the same or different from each other, and R 4 represents a monovalent hydrocarbon group which is the same or different from each other , m represents an integer of 1 to 3, hydrocarbyl Oki represented by a n + m ≦ 8]
The Shishiran compounds of the general formula: MOR 5 (III) [wherein, M represents an alkali metal, R 5 represents a monovalent hydrocarbon radical alkali metal hydrocarbyl Nora represented by
And wherein the reaction is carried out in the presence of over preparative, wherein, R 3, m is as described above] R 3 m Si group in the molecular chain process for the preparation of polyorganosiloxane having.

【0013】本発明で一方の出発原料として用いられる
ジシラン化合物(I)において、R1 で表されるケイ素
原子に結合した置換または非置換の一価の炭化水素基と
しては、たとえばメチル、エチル、プロピル、ブチル、
ペンチル、ヘキシル、オクチル、デシル、ドデシル、オ
クタデシルなどの直鎖状または分岐状のアルキル基;シ
クロヘキシルなどのシクロアルキル基;ベンジル、2−
フェニルエチル、2−フェニルプロピル、3−フェニル
プロピルなどのアラルキル基;フェニル、トリル、メシ
チルなどのアリール基;ビニル、アリルなどのアルケニ
ル基;p−ビニルフェニル、p−(2−プロペニル)フ
ェニルなどのアルケニルアリール基;スチリルなどのア
リールアルケニル基;ならびにクロロプロピル、クロロ
フェニル、3,3,3−トリフルオロプロピルなどのハ
ロゲン化炭化水素基およびp−メトキシフェニル基な
ど、各種の置換炭化水素基が例示される。これらはたが
いに同一であっても、相異なっていてもよい。合成の容
易なことから、メチル基がとくに好ましい。
In the disilane compound (I) used as one starting material in the present invention, examples of the substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group bonded to the silicon atom represented by R 1 include methyl, ethyl, Propyl, butyl,
Linear or branched alkyl groups such as pentyl, hexyl, octyl, decyl, dodecyl, and octadecyl; cycloalkyl groups such as cyclohexyl;
Aralkyl groups such as phenylethyl, 2-phenylpropyl and 3-phenylpropyl; aryl groups such as phenyl, tolyl and mesityl; alkenyl groups such as vinyl and allyl; p-vinylphenyl and p- (2-propenyl) phenyl Alkenylaryl groups; arylalkenyl groups such as styryl; and various substituted hydrocarbon groups such as halogenated hydrocarbon groups such as chloropropyl, chlorophenyl and 3,3,3-trifluoropropyl, and p-methoxyphenyl groups. You. These may be identical or different. A methyl group is particularly preferred because of ease of synthesis.

【0014】R2 はケイ素官能性基であるヒドロカルビ
ルオキシ基を構成する一価の炭化水素基であり、メチ
ル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチ
ル、tert−ブチルなどのアルキル基;シクロヘキシルな
どのシクロアルキル基;フェニル、トリルなどのアリー
ル基;アリルなどのアルケニル基が例示され、合成のし
やすさと反応性から、メチル、エチル、n−プロピル、
イソプロピルなどのアルキル基およびフェニル基が好ま
しく、メチルまたはエチルがさらに好ましい。
R 2 is a silicon-functional group, hydrocarby
A monovalent hydrocarbon group that constitutes a hydroxy group; an alkyl group such as methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, and tert-butyl; a cycloalkyl group such as cyclohexyl; an aryl group such as phenyl and tolyl Alkenyl groups such as allyl and the like, and methyl, ethyl, n-propyl,
Alkyl groups such as isopropyl and phenyl groups are preferred, and methyl or ethyl are more preferred.

【0015】このようなジシラン化合物(I)の具体例
としては、ヘキサメチルジシラン、1,1,2,2−テ
トラメチル−1,2−ジフェニルジシラン、1,2−ジ
メチル−1,1,2,2−テトラフェニルジシラン、ヘ
キサフェニルジシラン、1,1,1−トリメチル−2,
2,2−トリフェニルジシラン、1,2−ジメチル−
1,2−ジフェニル−1,2−ジビニルジシランのよう
なヘキサオルガノジシラン化合物;ペンタメチルメトキ
シジシラン、ペンタエチルメトキシジシラン、1,1,
1,2−テトラメチル−2−n−ヘキシル−2−メトキ
シジシラン、1,1,1,2−テトラメチル−2−フェ
ニル−2−メトキシジシラン、1,1,1,2−テトラ
メチル−2−ビニル−2−メトキシジシラン、1,1,
1,2−テトラメチル−2−シクロヘキシル−2−メト
キシジシラン、1,1,1,2−テトラメチル−2−te
rt−ブチル−2−メトキシジシラン、1,1,1−トリ
メチル−2,2−ジフェニル−2−メトキシジシラン、
1,1,1−トリメチル−2,2−ジ−n−ヘキシル−
2−メトキシジシラン、1,1,2,2−テトラメチル
−1−フェニル−2−メトキシジシラン、1,1,2−
トリメチル−1,2−ジフェニル−2−メトキシジシラ
ン、1,1−ジメチル−1,2,2−トリフェニル−2
−メトキシジシラン、1,2,2−トリメチル−1,1
−ジフェニル−2−メトキシジシラン、1,2,2−ト
リエチル−1,1−ジフェニル−2−メトキシジシラ
ン、1,2−ジメチル−1,1,2−トリフェニル−2
−メトキシジシラン、1−メチル−1,1,2,2−テ
トラフェニル−2−メトキシジシランのようなモノメト
キシジシラン化合物;1,1,2,2−テトラメチル−
1,2−ジメトキシジシラン、1,1,2,2−テトラ
エチル−1,2−ジメトキシジシラン、1,1,2,2
−テトラフェニル−1,2−ジメトキシジシラン、1,
1−ジメチル−2,2−ジフェニル−1,2−ジメトキ
シジシランのような1,2−ジメトキシジシラン化合
物;1,1,1,2−テトラメチル−2,2−ジメトキ
シジシラン、1,1,1−トリメチル−2−フェニル−
2,2−ジメトキシジシラン、1,1,2−トリメチル
−1−フェニル−2,2−ジメトキシジシラン、1,1
−ジメチル−1,2−ジフェニル−2,2−ジメトキシ
ジシラン、1,2−ジメチル−1,1−ジフェニル−
2,2−ジメトキシジシラン、1−メチル−1,1,2
−トリフェニル−2,2−ジメトキシジシラン、2−メ
チル−1,1,1−トリフェニル−2,2−ジメトキシ
ジシラン、1,1,1,2−テトラフェニル−2,2−
ジメトキシジシランのような1,1−ジメトキシジシラ
ン化合物;1,1,2−トリメチル−1,2,2−トリ
メトキシジシラン、1,1−ジメチル−2−フェニル−
1,2,2−トリメトキシジシラン、1,2−ジメチル
−1−フェニル−1,2,2−トリメトキシジシラン、
1−メチル−1,2−ジフェニル−1,2,2−トリメ
トキシジシラン、2−メチル−1,1−ジフェニル−
1,2,2−トリメトキシジシラン、1,1,2−トリ
フェニル−1,2,2−トリメトキシジシランのような
1,1,2−トリメトキシジシラン化合物;1,1,1
−トリメチル−2,2,2−トリメトキシジシラン、
1,1−ジメチル−1−フェニル−2,2,2−トリメ
トキシジラン、1−メチル−1,1−ジフェニル−2,
2,2−トリメトキシジシラン、1,1,1−トリフェ
ニル−2,2,2−トリメトキシジシランのような1,
1,1−トリメトキシジシラン化合物;1,2−ジメチ
ル−1,1,2,2−テトラメトキシジシラン、1−メ
チル−2−フェニル−1,1,2,2−テトラメトキシ
ジシラン、1,2−ジフェニル−1,1,2,2−テト
ラメトキシジシランのような1,1,2,2−テトラメ
トキシジシラン化合物;1,1−ジメチル−1,2,
2,2−テトラメトキシジシラン、1−メチル−1−フ
ェニル−1,2,2,2−テトラメトキシジシラン、
1,1−ジフェニル−1,2,2,2−テトラメトキシ
ジシランのような1,1,1,2−テトラメトキシジシ
ラン化合物;メチルペンタメトキシジシラン、フェニル
ペンタメトキシジシランのようなペンタメトキシジシラ
ン化合物;ヘキサメトキシジシラン;およびこれらの化
合物のメトキシ基の一部もしくは全部がエトキシ、n−
プロポキシ、イソプロポキシ、フェノキシのような他の
カルビルオキシ基に置き換えられたものなどが挙げられ
る。
Specific examples of such a disilane compound (I) include hexamethyldisilane, 1,1,2,2-tetramethyl-1,2-diphenyldisilane, 1,2-dimethyl-1,1,1,2. , 2-tetraphenyldisilane, hexaphenyldisilane, 1,1,1-trimethyl-2,
2,2-triphenyldisilane, 1,2-dimethyl-
Hexaorganodisilane compounds such as 1,2-diphenyl-1,2-divinyldisilane; pentamethylmethoxydisilane, pentaethylmethoxydisilane, 1,1,
1,2-tetramethyl-2-n-hexyl-2-methoxydisilane, 1,1,1,2-tetramethyl-2-phenyl-2-methoxydisilane, 1,1,1,2-tetramethyl-2 -Vinyl-2-methoxydisilane, 1,1,
1,2-tetramethyl-2-cyclohexyl-2-methoxydisilane, 1,1,1,2-tetramethyl-2-te
rt-butyl-2-methoxydisilane, 1,1,1-trimethyl-2,2-diphenyl-2-methoxydisilane,
1,1,1-trimethyl-2,2-di-n-hexyl-
2-methoxydisilane, 1,1,2,2-tetramethyl-1-phenyl-2-methoxydisilane, 1,1,2-
Trimethyl-1,2-diphenyl-2-methoxydisilane, 1,1-dimethyl-1,2,2-triphenyl-2
-Methoxydisilane, 1,2,2-trimethyl-1,1
-Diphenyl-2-methoxydisilane, 1,2,2-triethyl-1,1-diphenyl-2-methoxydisilane, 1,2-dimethyl-1,1,2-triphenyl-2
Monomethoxydisilane compounds such as -methoxydisilane, 1-methyl-1,1,2,2-tetraphenyl-2-methoxydisilane; 1,1,2,2-tetramethyl-
1,2-dimethoxydisilane, 1,1,2,2-tetraethyl-1,2-dimethoxydisilane, 1,1,2,2
-Tetraphenyl-1,2-dimethoxydisilane, 1,
1,2-dimethoxydisilane compounds such as 1-dimethyl-2,2-diphenyl-1,2-dimethoxydisilane; 1,1,1,2-tetramethyl-2,2-dimethoxydisilane, 1,1,1 -Trimethyl-2-phenyl-
2,2-dimethoxydisilane, 1,1,2-trimethyl-1-phenyl-2,2-dimethoxydisilane, 1,1
-Dimethyl-1,2-diphenyl-2,2-dimethoxydisilane, 1,2-dimethyl-1,1-diphenyl-
2,2-dimethoxydisilane, 1-methyl-1,1,2
-Triphenyl-2,2-dimethoxydisilane, 2-methyl-1,1,1-triphenyl-2,2-dimethoxydisilane, 1,1,1,2-tetraphenyl-2,2-
1,1-dimethoxydisilane compounds such as dimethoxydisilane; 1,1,2-trimethyl-1,2,2-trimethoxydisilane, 1,1-dimethyl-2-phenyl-
1,2,2-trimethoxydisilane, 1,2-dimethyl-1-phenyl-1,2,2-trimethoxydisilane,
1-methyl-1,2-diphenyl-1,2,2-trimethoxydisilane, 2-methyl-1,1-diphenyl-
1,1,2-trimethoxydisilane compounds such as 1,1,2-trimethoxydisilane and 1,1,2-triphenyl-1,2,2-trimethoxydisilane; 1,1,1
-Trimethyl-2,2,2-trimethoxydisilane,
1,1-dimethyl-1-phenyl-2,2,2-trimethoxydilan, 1-methyl-1,1-diphenyl-2,
1, such as 2,2-trimethoxydisilane, 1,1,1-triphenyl-2,2,2-trimethoxydisilane
1,1-trimethoxydisilane compound; 1,2-dimethyl-1,1,2,2-tetramethoxydisilane, 1-methyl-2-phenyl-1,1,2,2-tetramethoxydisilane, 1,2 1,1,2,2-tetramethoxydisilane compounds such as diphenyl-1,1,2,2-tetramethoxydisilane; 1,1-dimethyl-1,2,2
2,2-tetramethoxydisilane, 1-methyl-1-phenyl-1,2,2,2-tetramethoxydisilane,
1,1,1,2-tetramethoxydisilane compounds such as 1,1-diphenyl-1,2,2,2-tetramethoxydisilane; pentamethoxydisilane compounds such as methylpentamethoxydisilane and phenylpentamethoxydisilane; Hexamethoxydisilane; and some or all of the methoxy groups of these compounds are ethoxy, n-
And those substituted with other carbyloxy groups such as propoxy, isopropoxy, and phenoxy.

【0016】このようなジシラン化合物(I)は、ハロ
ゲン化ジシラン化合物のヒドロカルビルオキシ化、たと
えばアルコキシ化もしくはアリールオキシ化;有機金属
試薬によるハロゲン化ジシラン化合物またはヒドロカル
ビルオキシ化ジシラン化合物へのアルキル基その他の有
機基の導入;アルキルもしくはアリールジシラン化合物
の塩素化およびそれに引続くヒドロカルビルオキシ化
たとえばアルコキシ化やアリールオキシ化などの公知の
方法によって合成できる。たとえば、実験化学講座第1
2巻、有機金属化合物(丸善)、第3版、第16章、3
31〜377ページに詳しく述べられている反応を利用
すればよい。これらの原料ジシラン化合物のうち、塩素
化ジシラン類は、たとえばオルガノクロロシラン類の直
接合成法の副生物、または該副生物の再分布反応生成物
として得ることができる。
Such a disilane compound (I) can be obtained by hydrocarbyloxylation , for example, alkoxylation or aryloxylation of a halogenated disilane compound;
Introduction of alkyl groups and other organic groups into the viroxylated disilane compound; chlorination of the alkyl or aryl disilane compound followed by hydrocarbyl oxylation,
For example, it can be synthesized by a known method such as alkoxylation or aryloxylation. For example, Experimental Chemistry Course 1
Volume 2, Organometallic Compounds (Maruzen), Third Edition, Chapter 16, Chapter 3
The reaction described in detail on pages 31 to 377 may be used. Among these starting disilane compounds, chlorinated disilanes can be obtained, for example, as a by-product of a direct synthesis method of organochlorosilanes or a redistribution reaction product of the by-product.

【0017】本発明でもう一方の出発原料として用いら
れるヒドロカルビルオキシシラン化合物(II)におい
て、R3 で表されるケイ素原子に結合した置換または非
置換の一価の炭化水素基としては、前述のR1 について
例示されたものが挙げられる。ヒドロカルビルオキシシ
ラン化合物は、各種のR3 を有するものが、R1 として
同様な基を有する相当するジシラン化合物におけるR1
の導入よりも、R3 を比較的容易に導入できるばかりで
なく、沸点も一般に上記の相当するジシラン化合物より
低いので、R3 が熱的に不定的なものであっても容易に
精製できる。したがって、好ましいR3 の範囲は、目的
とするポリオルガノシランの用途に応じて、メチル、エ
チル、tert−ブチル、n−ヘキシル、フェニル、p−ト
リル、ビニル、p−ビニルフェニル、スチリルおよび
3,3,3−トリフルオロプロピルなど、各種のものが
挙げられる。複数のR3 が同一のケイ素原子に結合して
いるヒドロカルビルオキシシラン化合物の場合は、それ
らは同一でも相異なってもいてもよい。
In the hydrocarbyloxysilane compound (II) used as another starting material in the present invention, the substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group bonded to the silicon atom represented by R 3 includes the above-mentioned monovalent hydrocarbon groups. Those exemplified for R 1 can be mentioned. Hydrocarbyloxysi
Run compounds are those having a variety of R 3 is, R 1 in the corresponding disilane compound having the same groups as R 1
Than the introduction of not only relatively easy to introduce the R 3, since boiling point generally lower than the above corresponding disilane compounds, even those R 3 is thermally unstable manner can be easily purified. Therefore, the preferred range of R 3 is, depending on the intended use of the polyorganosilane, methyl, ethyl, tert-butyl, n-hexyl, phenyl, p-tolyl, vinyl, p-vinylphenyl, styryl and 3, Various things, such as 3,3-trifluoropropyl, are mentioned. In the case of a hydrocarbyloxysilane compound in which a plurality of R 3 are bonded to the same silicon atom, they may be the same or different.

【0018】R4ヒドロカルビルオキシ基を構成する
一価の炭化水素基で、前述のR2 について例示したもの
が挙げられる。合成のしやすさと反応性から、メチル、
エチル、n−プロピル、イソプロピルなどのアルキル基
およびフェニル基が好ましく、メチルまたはエチルがさ
らに好ましい。
R 4 is a monovalent hydrocarbon group constituting a hydrocarbyloxy group, and examples thereof include those described above for R 2 . Because of the ease of synthesis and reactivity, methyl,
Alkyl groups such as ethyl, n-propyl and isopropyl and phenyl groups are preferred, and methyl or ethyl is more preferred.

【0019】このようなヒドロカルビルオキシシラン化
合物(II)の具体例としては、トリメチルメトキシシラ
ン、トリエチルメトキシシラン、トリビニルメトキシシ
ラン、トリプロピルメトキシシラン、トリフェニルメト
キシシラン、メチルジフェニルメトキシシラン、ジメチ
ルフェニルメトキシシラン ジメチルビニルメトキシシ
ラン、ジメチル(p−ビニルフェニル)メトキシシラ
ン、ジメチルスチリルメトキシシラン、ジメチル−n−
ヘキシルメトキシシラン、メチルビニルフェニルメトキ
シシランのようなモノメトキシシラン化合物;ジメチル
ジメトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン、
ジフェニルジメトキシシラン、メチル−n−ヘキシルジ
メトキシシラン、メチル−tert−ブチルジメトキシシラ
ン、メチルビニルジメトキシシラン、ジビニルジメトキ
シシラン、メチル(p−ビニルフェニル)ジメトキシシ
ラン、メチルスチリルジメトキシシランのようなジメト
キシシラン化合物;メチルトリメトキシシラン、エチル
トリメトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、フ
ェニルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラ
ン、n−ヘキシルトリメトキシシラン、シクロヘキシル
トリメトキシシラン、tert−ブチルトリメトキシシラ
ン、(p−ビニルフェニル)トリメトキシシラン、スチ
リルトリメトキシシランのようなトリメトキシシラン化
合物;およびこれらの化合物のメトキシ基の一部もしく
は全部がエトキシ、n−プロポキシ、イソプロポキシ、
フェノキシのような他のヒドロカルビルオキシ基に置き
換えられたものなどが挙げられる。
Such hydrocarbyloxysilanation
Specific examples of compound (II) include trimethylmethoxysilane, triethylmethoxysilane, trivinylmethoxysilane, tripropylmethoxysilane, triphenylmethoxysilane, methyldiphenylmethoxysilane, dimethylphenylmethoxysilane, dimethylvinylmethoxysilane, and dimethyl ( p-vinylphenyl) methoxysilane, dimethylstyrylmethoxysilane, dimethyl-n-
Monomethoxysilane compounds such as hexylmethoxysilane and methylvinylphenylmethoxysilane; dimethyldimethoxysilane, methylphenyldimethoxysilane,
Dimethoxysilane compounds such as diphenyldimethoxysilane, methyl-n-hexyldimethoxysilane, methyl-tert-butyldimethoxysilane, methylvinyldimethoxysilane, divinyldimethoxysilane, methyl (p-vinylphenyl) dimethoxysilane, methylstyryldimethoxysilane; Methyltrimethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, propyltrimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, n-hexyltrimethoxysilane, cyclohexyltrimethoxysilane, tert-butyltrimethoxysilane, (p-vinylphenyl) Trimethoxysilane compounds such as trimethoxysilane and styryltrimethoxysilane; and some or all of the methoxy groups of these compounds are ethoxy, n- Propoxy, isopropoxy,
Examples include those substituted with another hydrocarbyloxy group such as phenoxy.

【0020】このようなヒドロカルビルオキシシラン化
合物(II)は、金属ケイ素とモノクロロ炭化水素から直
接合成法によって得られるオルガノクロロシラン類を
ドロカルビルオキシ化、たとえばアルコキシ化またはア
リールオキシ化することによって合成できる。あるい
は、所望のR3 を導入するために、ハロシランのグリニ
ャール反応、Si−H結合を有するシランのヒドロシリ
ル化反応、塩化アルミニウムの存在下におけるハロシラ
ンへの有機塩化物の反応など、公知の方法を用いること
ができる。また、所望の数のヒドロカルビルオキシ基
有するヒドロカルビルオキシシラン化合物を得るため
に、ルイス酸の存在下における不均化反応などを用いる
ことができる。
Such a hydrocarbyloxysilanation
Compound (II), the ratio of organochlorosilanes obtained by direct synthesis from metallic silicon and monochloro hydrocarbon
It can be synthesized by drocarbyl oxylation , for example, by alkoxylation or aryloxylation. Alternatively, a known method such as a Grignard reaction of a halosilane, a hydrosilylation reaction of a silane having a Si—H bond, or a reaction of an organic chloride with a halosilane in the presence of aluminum chloride is used to introduce a desired R 3. be able to. Further, in order to obtain a hydrocarbyloxysilane compound having a desired number of hydrocarbyloxy groups , a disproportionation reaction in the presence of a Lewis acid or the like can be used.

【0021】ジシラン化合物(I)やヒドロカルビルオ
キシシラン化合物(II)中のヒドロカルビルオキシ基
数は、目的とするポリオルガノシランの分子構造および
分子量によって選択される。たとえば、モノヒドロカル
ビルオキシジシランもしくは1,2−ビスヒドロカルビ
ルオキシシジシラン、モノヒドロカルビルオキシシラ
もしくはビスヒドロカルビルオキシシランとの組み合
わせで不均化反応を行えば、鎖状または環状のポリオル
ガノシランが得られる。このうち、モノヒドロカルビル
オキシジシランおよびモノヒドロカルビルオキシシラン
を用いて反応させれば、比較的低分子のポリオルガノシ
ランが得られる。また同一のケイ素原子に2個以上の
ドロカルビルオキシ基を有するジシラン化合物とトリス
ヒドロカルビルオキシシランとを原料として利用すれ
ば、分岐状または網状のポリオルガノシランが得られ
る。
Disilane compound (I) or hydrocarbyl compound
The number of hydrocarbyloxy groups in the xysilane compound (II) is selected according to the molecular structure and molecular weight of the target polyorganosilane. For example, monohydrocal
Biloxydisilane or 1,2-bishydrocarb
Leoxysidisilane and monohydrocarbyloxysila
When a disproportionation reaction is carried out in combination with styrene or bishydrocarbyloxysilane , a chain or cyclic polyorganosilane is obtained. Of these, monohydrocarbyl
Reacting with oxydisilane and monohydrocarbyloxysilane yields relatively low molecular weight polyorganosilanes. In addition two or more fire to the same silicon atom
Disilane compounds having a drocarbyloxy group and tris
If hydrocarbyloxysilane is used as a raw material, a branched or reticulated polyorganosilane can be obtained.

【0022】ただし、ヒドロカルビルオキシ基を有しな
いジシラン化合物とモノヒドロカルビルオキシシラン
の不均化反応では、別のジシラン化合物が生成するに留
まり、トリシラン化合物ないしそれ以上のポリシランは
得られない。このことから、前述の一般式において、n
+m≦8である必要がある。
However, in the disproportionation reaction between the disilane compound having no hydrocarbyloxy group and the monohydrocarbyloxysilane , only another disilane compound is formed, and a trisilane compound or a polysilane higher than that cannot be obtained. From this, in the above general formula, n
+ M ≦ 8 is required.

【0023】さらに、場合によっては、それぞれ2種以
上のジシラン化合物および/またはヒドロカルビルオキ
シシラン化合物を原料として用いることにより、任意の
様々な置換基を組み合わせて有するポリオルガノシラン
を合成することも可能である。
Further, in some cases, two or more disilane compounds and / or hydrocarbyl ox
By using a silane compound as a raw material, it is possible to synthesize a polyorganosilane having any combination of various substituents.

【0024】用いるジシラン化合物(I)とヒドロカル
ビルオキシシラン化合物(II)の量比は、とくに限定さ
れないが、(I)/(II)のモル比で0.5以上が好ま
しく、1以上がさらに好ましい。
The disilane compound (I) used and hydrocarb
The amount ratio of the viroxysilane compound (II) is not particularly limited, but is preferably 0.5 or more, more preferably 1 or more in a molar ratio of (I) / (II).

【0025】本発明で触媒として用いられるアルカリ金
属ヒドロカルビノラート(III) において、Mで表される
アルカリ金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウ
ム、ルビジウムおよびセシウムが例示され、入手の容易
さからリチウム、ナトリウムおよびカリウムが好まし
い。R5 で表される一価の炭化水素基としては、R2
同様なものが例示され、反応性からメチル、エチル、te
rt−ブチルのような低級アルキル基が好ましい。
Alkali gold used as a catalyst in the present invention
In the genus hydrocarbinolate (III), examples of the alkali metal represented by M include lithium, sodium, potassium, rubidium and cesium, and lithium, sodium and potassium are preferable in terms of availability. As the monovalent hydrocarbon group represented by R 5 , those similar to R 2 can be exemplified, and methyl, ethyl, te
Lower alkyl groups such as rt-butyl are preferred.

【0026】本発明において使用されるアルカリ金属ヒ
ドロカルビノラート(III) の具体例としては、ナトリウ
ムメチラート、ナトリウムエチラート、カリウムtert−
ブチラート、ナトリウムフェノラートなどが挙げられ
る。またn−ブチルリチウムとアルコールから反応系内
で合成したリチウムアルコラートをそのまま利用するこ
ともできる。
The alkali metal arsenic used in the present invention
Specific examples of drocarbinolate (III) include sodium methylate, sodium ethylate, potassium tert-
Butyrate, sodium phenolate and the like. Further, a lithium alcoholate synthesized in a reaction system from n-butyllithium and an alcohol can be used as it is.

【0027】該アルカリ金属ヒドロカルビノラートの量
は、とくに限定されるものではなく、使用されるジシラ
ン化合物(I)に対して0.01〜50モル%用いるこ
とができる。触媒量が少なすぎると反応が非常に遅くな
り、また多すぎると反応後の触媒の除去が困難になるば
かりでなく、経済的に不利になる。触媒量はジシラン化
合物(I)に対して0.1〜30モル%であることが好
ましい。
The amount of the alkali metal hydrocarbinolate is not particularly limited, and can be used in an amount of 0.01 to 50 mol% based on the disilane compound (I) used. If the amount of the catalyst is too small, the reaction becomes very slow. If the amount is too large, not only is it difficult to remove the catalyst after the reaction, but also it is economically disadvantageous. The amount of the catalyst is preferably 0.1 to 30 mol% based on the disilane compound (I).

【0028】反応は、たとえば反応原料として二官能性
のジシラン化合物とジオルガノビスヒドロカルビルオキ
シシラン化合物を用いたとき、次式のように進行して、
ポリオルガノシランを形成する。
In the reaction, for example, a difunctional disilane compound and a diorganobishydrocarbyl ox
When a silane compound is used, it proceeds as in the following formula,
Form polyorganosilane.

【0029】[0029]

【化1】 Embedded image

【0030】〔式中、R1 〜R5 およびMは前述のとお
りであり、xおよびyはそれぞれ、反応にあずかったジ
シラン化合物およびヒドロカルビルオキシ化合物のモル
数を表し、RはR2 、R4 またはR5 である。〕
[In the formula, R 1 to R 5 and M are as described above, x and y represent the number of moles of the disilane compound and the hydrocarbyloxy compound, respectively, which participated in the reaction, and R represents R 2 , R 4 or R 5. ]

【0031】反応に当たり、原料のジシラン化合物
(I)やヒドロカルビルオキシシラン化合物(II)を溶
解させ、触媒であるアルカリ金属ヒドロカルビノラート
(III) を有効に分散させて反応を円滑に進め、反応温度
を制御するなどのために、あるいは触媒活性を向上させ
るために、必要に応じて反応溶媒を用いることもでき
る。このような溶媒としては、トルエン、キシレン、n
−ヘキサン、n−ヘプタン、シクロヘキサンのような炭
化水素系溶媒;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、1,4−ジオキサン、エチレングリコールジメチル
エーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル系
溶媒;ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、
ヘキサメチルホスホリックトリアミドのような非プロト
ン極性活媒などが例示される。
In the reaction, the raw material disilane compound (I) or hydrocarbyloxysilane compound (II) is dissolved, and the catalyst is an alkali metal hydrocarbinolate.
A reaction solvent can be used, if necessary, to disperse (III) effectively, smoothly carry out the reaction and control the reaction temperature, or to improve the catalytic activity. Such solvents include toluene, xylene, n
Hydrocarbon solvents such as hexane, n-heptane and cyclohexane; ether solvents such as diethyl ether, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether and diethylene glycol dimethyl ether; dimethylformamide, dimethyl sulfoxide ,
An aprotic polar active medium such as hexamethylphosphoric triamide is exemplified.

【0032】本発明の製造方法は、原料のジシラン化合
物(I)、ヒドロカルビルオキシシラン化合物(II)、
副生ヒドロカルビルオキシシラン類および触媒が、いず
れも水との反応により分解しやすいため、実質的に無水
の状態で行われる。すなわち、乾燥した不活性気体中で
ジシラン化合物、ヒドロカルビルオキシシラン化合物
よび触媒、ならびに必要に応じて、あらかじめ常法によ
り乾燥した溶媒を混合して行われる。
The production method of the present invention comprises the steps of: starting material disilane compound (I), hydrocarbyloxysilane compound (II),
Since both by-product hydrocarbyloxysilanes and the catalyst are easily decomposed by reaction with water, the reaction is performed in a substantially anhydrous state. That is, the reaction is carried out by mixing a disilane compound, a hydrocarbyloxysilane compound and a catalyst, and, if necessary, a solvent previously dried by an ordinary method in a dried inert gas.

【0033】反応は、通常、−80〜250℃、好まし
くは20〜180℃の範囲で行われる。原料のジシラン
化合物、ヒドロカルビルオキシシラン化合物、使用溶媒
および反応によって副生するヒドロカルビルオキシシラ
ン化合物の沸点の関係により、反応温度を決めることが
できる。また、用いるジシラン化合物やヒドロカルビル
オキシシラン化合物の種類に応じて、反応により、比較
的沸点の低いアルコキシシラン類が副生することがあ
る。この場合、反応温度を高めに保持するために、原料
として用いるヒドロカルビルオキシシラン化合物の沸点
より低く、副生する低沸点アルコキシシラン類の沸点よ
りは高い反応条件を用い、該副生アルコキシシラン類を
留去しながら反応を行ってもよい。
The reaction is usually carried out at a temperature in the range of -80 to 250 ° C, preferably 20 to 180 ° C. Raw material disilane compound, hydrocarbyloxysilane compound , solvent used and hydrocarbyloxysila by-produced by the reaction
The reaction temperature can be determined by the relationship of the boiling points of the compound . Also, the disilane compound or hydrocarbyl used
Depending on the type of the oxysilane compound, an alkoxysilane having a relatively low boiling point may be by-produced by the reaction. In this case, in order to keep the reaction temperature high, using a reaction condition lower than the boiling point of the hydrocarbyloxysilane compound used as a raw material and higher than the boiling point of the low-boiling alkoxysilanes produced as by-products, The reaction may be performed while distilling off.

【0034】反応は、好ましくは環境大気の圧力下で実
施される。しかし、所望の場合には、より高いか、もし
くはより低い圧力を適用することもできる。
The reaction is preferably carried out at ambient atmospheric pressure. However, higher or lower pressures can be applied if desired.

【0035】反応によって得られるポリオルガノシラン
は、過剰に加えられた、または生成するヒドロカルビル
オキシシラン化合物と触媒のアルカリ金属ヒドロカルビ
ノラートを除去することによって、単離される。必要に
応じて再沈殿や蒸留、カラムクロマトグラフィーなどに
より、精製することが可能である。
The polyorganosilane obtained by the reaction may be added in excess or in the form of hydrocarbyl formed.
Alkali metal hydrocarbyls as oxysilane compounds and catalysts
Isolated by removing the nolate . If necessary, purification can be performed by reprecipitation, distillation, column chromatography, or the like.

【0036】[0036]

【発明の効果】本発明により、原料として用いられるジ
シラン化合物が分子中に有する1種または2種以上のR
1 と、ヒドロカルビルオキシシラン化合物が分子中に有
する1種又は2種以上のR3 とを任意に選択することに
より、ケイ素原子に結合する任意の有機基を有するポリ
オルガノシランを合成することができる。とくに、ジシ
ラン化合物が容易に収率よく合成しにくく、および/ま
たは高い沸点を有するが熱的に不安定なために精製しに
くいという理由により、ジシラン化合物からは目的とす
るポリオルガノシランに容易に導入しにくい有機基を、
3 としてヒドロカルビルオキシシラン化合物を経て、
安全かつ容易に導入することができる。
According to the present invention, the disilane compound used as a raw material has one or more R
1 and, by hydrocarbyloxy silane compound arbitrarily selected one or more of the R 3 having in the molecule can be synthesized polyorganosiloxane having any organic groups bonded to the silicon atom . In particular, the disilane compound is difficult to synthesize easily and in good yield, and / or has a high boiling point but is difficult to purify due to its thermal instability. Organic groups that are difficult to introduce
Via a hydrocarbyloxysilane compound as R 3 ,
It can be safely and easily introduced.

【0037】本発明の方法により、メチル基はもちろん
のこと、フェニル基、ビニル基、p−ビニルフェニル
基、スチリル基、トリフルオロプロピル基など、ケイ素
原子に結合した広範囲の置換または非置換の一価の炭化
水素基を有し、加水分解に対して不安定な基を含有しな
い鎖状またはその他のケイ素−ケイ素骨格を有するポリ
オルガノシランを、安全に製造することが可能である。
本発明の方法で得られるポリオルガノシランは、有機導
電材料、非線形光学材料、光分解型反応開始剤、炭化ケ
イ素系セラミックスの前駆体、フォトレジスト材料など
として有用である。
According to the method of the present invention, a wide range of substituted or unsubstituted ones bonded to a silicon atom, such as a phenyl group, a vinyl group, a p-vinylphenyl group, a styryl group and a trifluoropropyl group, as well as a methyl group. It is possible to safely produce a polyorganosilane having a chain or other silicon-silicon skeleton having a valent hydrocarbon group and containing no group unstable to hydrolysis.
The polyorganosilane obtained by the method of the present invention is useful as an organic conductive material, a nonlinear optical material, a photodecomposition type reaction initiator, a precursor of a silicon carbide ceramic, a photoresist material, and the like.

【0038】また、本発明によって得られるヒドロカル
ビルオキシ基、とくにアルコキシ基を分子中に有するポ
リオルガノシランは、さらに高分子量化することも可能
である。
Further, the hydrocarb obtained by the present invention
Polyorganosilanes having a viroxy group , particularly an alkoxy group, in the molecule can be further increased in molecular weight.

【0039】[0039]

【実施例】以下の実施例によって、本発明をさらに詳細
に説明する。これらの実施例は、本発明の範囲を限定す
るものではない。なお、以下の実施例において、部は重
量部を表し、前述のMe(メチル基)のほか、下記の略
称を用いる。 Et:エチル基;Vi:ビニル基;Ph:フェニル基
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples. These examples do not limit the scope of the invention. In the following examples, “parts” means “parts by weight”, and the following abbreviations are used in addition to the aforementioned Me (methyl group). Et: ethyl group; Vi: vinyl group; Ph: phenyl group

【0040】実施例1 乾燥アルゴンガス気流下で、冷却管、ゴム栓のついた2
つ口フラスコに、1,1,2,2−テトラメチル−1,
2−ジエトキシジシラン103部、ジフェニルジエトキ
シシラン136部、ナトリウムエチラート3.4部およ
びヘキサメチルホスホリックトリアミド10部を仕込
み、撹拌しながら80℃で6時間反応させた。反応後、
混合物のガスクロマトグラフ(充填剤SE30)を測定
すると、原料のジシラン化合物のピークが消失し、ジメ
チルジエトキシシランのピークが観測された。得られた
混合物からナトリウムエチラートをろ別し、さらに15
0℃/1Torrの条件で低沸点分を留去したところ、15
部のポリシランが得られた。
Example 1 Under a dry argon gas flow, a cooling pipe and a rubber stopper
In a one-necked flask, 1,1,2,2-tetramethyl-1,
103 parts of 2-diethoxydisilane, 136 parts of diphenyldiethoxysilane, 3.4 parts of sodium ethylate and 10 parts of hexamethylphosphoric triamide were charged and reacted at 80 ° C. for 6 hours with stirring. After the reaction,
When the gas chromatograph (filler SE30) of the mixture was measured, the peak of the raw material disilane compound disappeared, and the peak of dimethyldiethoxysilane was observed. The sodium ethylate was filtered off from the obtained mixture, and further filtered for 15 minutes.
The low boiling point was distilled off at 0 ° C / 1 Torr.
Parts of polysilane were obtained.

【0041】得られたポリシランの 1H NMR(CD
Cl3 ,δ)を測定したところ、0.1〜0.5(m,
6H)、1.33(t,J=7Hz,3H)、4.03
(q,J=7Hz,2H)および7.2〜8.1(m,1
0H)にシグナルが観察された。また、得られたポリシ
ランをゲルパーミエーションクロマトグラフィーで分析
すると、重量平均分子量(Mw)=596、数平均分子
量(Mn)=558(いずれもポリスチレン換算)であ
った。これらのデータから、得られたポリシランは、平
均組成式:(EtO)(Me2 Si)2 (Ph2 Si)
2 (OEt)であることが判明した。
1 H NMR (CD) of the obtained polysilane
Cl 3 , δ) was measured to be 0.1 to 0.5 (m,
6H), 1.33 (t, J = 7 Hz, 3H), 4.03
(Q, J = 7 Hz, 2H) and 7.2 to 8.1 (m, 1
At 0H), a signal was observed. When the obtained polysilane was analyzed by gel permeation chromatography, the weight average molecular weight (Mw) was 596, and the number average molecular weight (Mn) was 558 (both in terms of polystyrene). From these data, the obtained polysilane has the average composition formula: (EtO) (Me 2 Si) 2 (Ph 2 Si)
2 (OEt).

【0042】実施例2 乾燥アルゴンガス気流下で、単蒸留システム、ゴム栓の
ついた2つ口フラスコに、実施例1で用いたのと同じ量
の反応原料、触媒および溶媒を仕込み、生成するジメチ
ルジエトキシシランを留去しながら、140℃で6時間
反応させた。反応後、混合物のガスクロマトグラフ(充
填剤SE30)を測定したところ、原料ジシラン化合物
のピークが消失したことが観測された。この混合物から
ナトリウムエチラートをろ別し、さらに150℃/1To
rrの条件で低沸点分を留去したところ、19.5部のポ
リシランが得られた。
Example 2 The same amounts of the reactants, catalyst and solvent as used in Example 1 were charged into a two-necked flask equipped with a simple distillation system and a rubber stopper under a stream of dry argon gas to produce the flask. The reaction was carried out at 140 ° C. for 6 hours while distilling off dimethyldiethoxysilane. After the reaction, the mixture was measured by gas chromatography (filler SE30), and it was observed that the peak of the raw material disilane compound had disappeared. The sodium ethylate was filtered off from this mixture, and further filtered at 150 ° C./1
When the low-boiling components were distilled off under rr conditions, 19.5 parts of polysilane was obtained.

【0043】得られたポリシランの 1H NMR(CD
Cl3 ,δ)を測定したところ、0.1〜0.5(m,
6H)、1.33(t,J=7Hz,3H)、4.03
(q,J=7Hz, 2H)、7.2〜8.1(m,25
H)にシグナルが観測された。また、得られたポリシラ
ンをゲルパーミエーションクロマトグラフィーで分析す
ると、重量平均分子量(Mw)=1,020、数平均分
子量(Mn)=870であった。これらのデータから、
得られたポリシランは、平均組成式:(EtO)(Me
2 Si)2 (Ph2 Si)5 (OEt)であることが判
明した。
1 H NMR (CD) of the obtained polysilane
Cl 3 , δ) was measured to be 0.1 to 0.5 (m,
6H), 1.33 (t, J = 7 Hz, 3H), 4.03
(Q, J = 7 Hz, 2H), 7.2 to 8.1 (m, 25
A signal was observed at H). When the obtained polysilane was analyzed by gel permeation chromatography, the weight average molecular weight (Mw) was 1,020 and the number average molecular weight (Mn) was 870. From these data,
The obtained polysilane has an average composition formula: (EtO) (Me
2 Si) 2 (Ph 2 Si) 5 (OEt).

【0044】実施例3 実施例1で用いたのと同じ装置に、1,1,2,2−テ
トラメチル−1,2−ジエトキシジシラン103部、メ
チルビニルジエトキシシラン80部、ナトリウムエチラ
ート3.4部およびヘキサメチルホスホリックトリアミ
ド10部を仕込み、撹拌しながら80℃で6時間反応さ
せた。反応後、混合物のガスクロマトグラフ(充填剤S
E30)を測定したところ、原料ジシラン化合物のピー
クが消失し、ジメチルジエトキシシランのピークが観測
された。また、それら以外に、(EtO)Me2 Si
(ViMeSi)n (SiMe2m (OEt)に由来
するピークが観測された。この混合物からナトリウムエ
チラートをろ別し、150℃/1Torrの条件で低沸点分
を留去したところ、12.7部のポリシランが得られ
た。
Example 3 In the same apparatus as used in Example 1, 103 parts of 1,1,2,2-tetramethyl-1,2-diethoxydisilane, 80 parts of methylvinyldiethoxysilane, sodium ethylate 3.4 parts and 10 parts of hexamethylphosphoric triamide were charged and reacted at 80 ° C. for 6 hours with stirring. After the reaction, the mixture is subjected to gas chromatography (filler S
When E30) was measured, the peak of the raw material disilane compound disappeared, and the peak of dimethyldiethoxysilane was observed. In addition to these, (EtO) Me 2 Si
A peak derived from (ViMeSi) n (SiMe 2 ) m (OEt) was observed. The sodium ethylate was filtered off from this mixture, and the low-boiling components were distilled off at 150 ° C./1 Torr. As a result, 12.7 parts of polysilane was obtained.

【0045】得られたポリシランの 1H NMR(CD
Cl3 ,δ)を測定したところ、0.1〜0.5(m,
18H)、1.33(t,J=7Hz,3H)、4.03
(q,J=7Hz,2H)、5.8〜6.6(m,3H)
にシグナルが観測された。また、得られたポリシランを
ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで分析する
と、重量平均分子量(Mw)=500、数平均分子量
(Mn)=460であった。この結果、得られたポリシ
ランは、平均組成式(EtO)(ViMeSi)2(M
2 Si)5 (OEt)であることが判明した。
1 H NMR (CD) of the obtained polysilane
Cl 3 , δ) was measured to be 0.1 to 0.5 (m,
18H), 1.33 (t, J = 7 Hz, 3H), 4.03
(Q, J = 7 Hz, 2H), 5.8-6.6 (m, 3H)
A signal was observed. When the obtained polysilane was analyzed by gel permeation chromatography, the weight average molecular weight (Mw) was 500 and the number average molecular weight (Mn) was 460. As a result, the obtained polysilane had an average composition formula (EtO) (ViMeSi) 2 (M
e 2 Si) 5 (OEt).

【0046】実施例4 塩化メチルと金属ケイ素からメチルクロロシラン類を直
接合成する際に副生した、沸点範囲145〜160℃の
ジシラン留分を無水のエタノールと反応させて得た混合
メチルエトキシジシランを、ジシラン化合物として用い
た。この混合物は、ガスクロマトグラフを測定した結
果、Me4 (EtO)2 Si2 :Me3 (EtO)3
2 :Me2 (EtO)4 Si2 のクロマトグラム面積
比が13:30:55であった。
Example 4 A mixed methylethoxydisilane obtained by reacting a disilane fraction having a boiling range of 145 to 160 ° C. with anhydrous ethanol by-produced during the direct synthesis of methylchlorosilanes from methyl chloride and metallic silicon. , As a disilane compound. This mixture was measured by gas chromatography and found to be Me 4 (EtO) 2 Si 2 : Me 3 (EtO) 3 S
The chromatogram area ratio of i 2 : Me 2 (EtO) 4 Si 2 was 13:30:55.

【0047】実施例2で用いたのと同じ装置に、上記の
ジシラン混合物100部、ジフェニルジエトキシシラン
136部、ナトリウムエチラート3.4部およびヘキサ
メチルホスホリックトリアミド10部を仕込み、生成す
るメチルトリエトキシシランおよびジメチルジエトキシ
シランを留去しながら、140℃で12時間反応させ
た。反応後、混合物のガスクロマトグラフ(充填剤SE
30)を測定したところ、原料ジシラン化合物のピーク
が消失したことが観測された。この混合物から150℃
/1Torrの条件で低沸点分を留去したところ、18.2
部のポリシランが得られた。
In the same apparatus as used in Example 2, 100 parts of the above-mentioned disilane mixture, 136 parts of diphenyldiethoxysilane, 3.4 parts of sodium ethylate and 10 parts of hexamethylphosphoric triamide are charged and produced. The reaction was carried out at 140 ° C. for 12 hours while distilling off methyltriethoxysilane and dimethyldiethoxysilane. After the reaction, the mixture is subjected to gas chromatography (filler SE
30), it was observed that the peak of the raw material disilane compound disappeared. 150 ° C from this mixture
When low boiling components were distilled off under the condition of / 1 Torr, 18.2
Parts of polysilane were obtained.

【0048】得られたポリシランの 1H NMR(CD
Cl3 ,δ)を測定したところ、0.1〜0.5(m,
15H)、1.33(t,J=7Hz,3H)、4.03
(q,J=7Hz,2H)、7.2〜8.1(m,8H)
にシグナルが観測された。また、得られたポリシランを
ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで分析する
と、重量平均分子量(Mw)=1,500、数平均分子
量(Mn)=1,100であった。この結果、得られた
ポリシランは、平均組成式(MeSi)8 (Me 2
i)6 (Ph2 Si)3 (OEt)4 であることが判明
した。
Of the obtained polysilane1H NMR (CD
ClThree , Δ) was measured to be 0.1 to 0.5 (m,
15H), 1.33 (t, J = 7 Hz, 3H), 4.03
(Q, J = 7 Hz, 2H), 7.2 to 8.1 (m, 8H)
A signal was observed. In addition, the obtained polysilane
Analyze by gel permeation chromatography
And weight average molecular weight (Mw) = 1,500, number average molecule
The amount (Mn) was 1,100. As a result,
Polysilane has an average composition formula (MeSi)8 (Me Two S
i)6 (PhTwo Si)Three (OEt)Four Turned out to be
did.

【0049】実施例5 実施例2で用いたのと同じ装置に、実施例4で使用した
ものと同じジシラン混合物100部、フェニルトリエト
キシシラン98部、ナトリウムエチラート3.4部およ
びヘキサメチルホスホリックトリアミド10部を仕込
み、生成するメチルトリエトキシシランおよびジメチル
ジエトキシシランを留去しながら、140℃で12時間
反応させた。反応後、混合物のガスクロマトグラフ(充
填剤SE30)を測定したところ、原料ジシラン化合物
のピークが消失したことが観測された。この混合物から
ナトリウムエチラートをろ別し、150℃/1Torrの条
件で低沸点分を留去したところ、20部のポリシランが
得られた。
Example 5 In the same apparatus used in Example 2, 100 parts of the same disilane mixture as used in Example 4, 98 parts of phenyltriethoxysilane, 3.4 parts of sodium ethylate and hexamethylphos 10 parts of holic triamide was charged and reacted at 140 ° C. for 12 hours while distilling off methyltriethoxysilane and dimethyldiethoxysilane formed. After the reaction, the mixture was measured by gas chromatography (filler SE30), and it was observed that the peak of the raw material disilane compound had disappeared. The sodium ethylate was separated from this mixture by filtration, and the low-boiling component was distilled off under the conditions of 150 ° C./1 Torr. As a result, 20 parts of polysilane was obtained.

【0050】得られたポリシランの 1H NMR(CD
Cl3 ,δ)を測定したところ、0.1〜0.5(m,
10H)、1.33(t,J=7Hz,3H)、4.03
(q,J=7Hz,2H)、7.2〜8.1(m,3H)
にシグナルが観測された。また、得られたポリシランを
ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで分析する
と、重量平均分子量(Mw)=1,150、数平均分子
量(Mn)=970であった。この結果、得られたポリ
シランは、平均組成式(MeSi)6 (Me2 Si)5
(Ph2 Si)5 (OEt)3 あることが判明した。
1 H NMR (CD) of the obtained polysilane
Cl 3 , δ) was measured to be 0.1 to 0.5 (m,
10H), 1.33 (t, J = 7 Hz, 3H), 4.03
(Q, J = 7 Hz, 2H), 7.2 to 8.1 (m, 3H)
A signal was observed. Further, when the obtained polysilane was analyzed by gel permeation chromatography, it was found that the weight average molecular weight (Mw) was 1,150 and the number average molecular weight (Mn) was 970. As a result, the obtained polysilane had an average composition formula (MeSi) 6 (Me 2 Si) 5
(Ph 2 Si) 5 (OEt) 3 was found to be present.

【0051】実施例6 実施例1で用いたのと同じ装置に、1,1,2,2−テ
トラメチル−1,2−ジエトキシジシラン206部、ジ
メチル(p−ビニルフェニル)エトキシシラン103
部、ナトリウムエチラート3.4部および1,4−ジオ
キサン1,034部を仕込み、撹拌しながら80℃で6
時間反応させた。反応後、得られた混合物のガスクロマ
トグラフ(充填剤SE30)を測定したところ、原料ジ
シラン化合物のピークが消滅し、ジメチルジエトキシシ
ランのピークが観測された。この混合物からナトリウム
エチラートをろ別し、150℃/1Torrの条件で低沸点
分を留去したところ、12.0部のポリシランが得られ
た。
Example 6 The same apparatus as used in Example 1 was replaced with 1,1,2,2-te
206 parts of tramethyl-1,2-diethoxydisilane , dimethyl (p-vinylphenyl) ethoxysilane 103
, 3.4 parts of sodium ethylate and 1,034 parts of 1,4-dioxane, and stirred at 80 ° C for 6 hours.
Allowed to react for hours. After the reaction, the obtained mixture was measured by gas chromatography (filler SE30). As a result, the peak of the raw material disilane compound disappeared, and the peak of dimethyldiethoxysilane was observed. The sodium ethylate was filtered off from this mixture, and the low-boiling components were distilled off at 150 ° C./1 Torr to obtain 12.0 parts of polysilane.

【0052】得られたポリシランの 1H NMR(CD
Cl3 ,δ)を測定したところ、0.1〜0.5(m,
12H)、6.0〜6.7(m,3H)、7.2〜7.
8(m,4H)にシグナルが観測された。また、得られ
たポリシランをゲルパーミエーションクロマトグラフィ
ーで分析したところ、重量平均分子量(Mw)=600
であった。この結果、得られたポリシランの分子構造
は、次式のような平均組成式で示されることが判明し
た。
The obtained polysilane was analyzed by 1 H NMR (CD
Cl 3 , δ) was measured to be 0.1 to 0.5 (m,
12H), 6.0-6.7 (m, 3H), 7.2-7.
A signal was observed at 8 (m, 4H). When the obtained polysilane was analyzed by gel permeation chromatography, the weight average molecular weight (Mw) was 600.
Met. As a result, it was found that the molecular structure of the obtained polysilane was represented by the following average composition formula.

【0053】[0053]

【化2】 Embedded image

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C08G 77/60──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 6 , DB name) C08G 77/60

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 一般式:R1 n Si2 (OR26-n (I) 〔式中、R1 は互に同一または相異なる置換または非置
換の一価の炭化水素基を表し、R2 は互に同一または相
異なる一価の炭化水素基を表し、nは0〜6の整数を表
す〕で示されるジシラン化合物、及び 一般式:R3 m Si(OR44-m (II) 〔式中、R3 は互に同一または相異なる置換または非置
換の一価の炭化水素基を表し、R4 は互に同一または相
異なる一価の炭化水素基を表し、mは1〜3の整数を表
し、n+m≦8である〕で示されるヒドロカルビルオキ
シシラン化合物を、 一般式:MOR5 (III) [式中、Mはアルカリ金属を表し、R5 は一価の炭化水
素基を表す]で示されるアルカリ金属ヒドロカルビノラ
ートの存在下で反応させることを特徴とする、分子鎖中
にR3 m Si基〔式中、R3 、mは上述のとおり〕を有
するポリオルガノシランの製造方法。
1. A general formula: R 1 n Si 2 (OR 2 ) 6-n (I) wherein R 1 represents a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group which is the same or different from each other, R 2 represents a monovalent hydrocarbon group which is the same or different from each other, and n represents an integer of 0 to 6], and a general formula: R 3 m Si (OR 4 ) 4-m ( II) wherein R 3 represents a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group which is the same or different from each other, R 4 represents a monovalent hydrocarbon group which is the same or different from each other, and m represents 1 represents -3 integer, hydrocarbyl Oki represented by a n + m ≦ 8]
The Shishiran compounds of the general formula: MOR 5 (III) [wherein, M represents an alkali metal, R 5 represents a monovalent hydrocarbon radical alkali metal hydrocarbyl Nora represented by
A method for producing a polyorganosilane having an R 3 m Si group in the molecular chain (where R 3 and m are as described above), characterized in that the reaction is carried out in the presence of a salt.
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