JP2738462B2 - 電気泳動表示装置の製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 技術の分野 本発明は、一般に電気泳動表示装置、特に二重陽極構
造を有するこのような表示装置の製造方法に関する。

背景技術 二重電極、平坦パネル、電気泳動表示装置は、本願の
発明者であるフランク・Ｊ・ディサント（Frank J.DiS
anto）及びデニス・Ａ・クルソス（Denis A.Krusos）
に対して1989年５月１日に発行され、かつ本願の譲受者
である、コピイテル・インコーポレイテッド（Copytele
Inc.,）に譲渡された、二重陽極平坦パネル電気泳動
表示装置（Dual Anode Flat Panel Electrophoreti
c Display Apparatus）と題する、米国特許第5,053,7
63号に記述されている。この特許出願は、複数の陰極線
路を横断する方向の第１複数の導体線路を含むグリッド
陰極マトリッス配置を有する電気泳動表示装置を記述し
ている。これらのグリッド及び陰極に対して配置され
て、第１陽極構造及び第２陽極構造がある。第１陽極は
第２陽極から隔離され、他方第２陽極はこの表示装置の
格子線路上に横たわっておりかつこれらから絶縁され
る。第２電極は第１陽極から独立に典型的に保持及び消
去モードを実行するようにバイアスされ、この出願に示
された表示構造は先行技術の表示構造と比較されるとき
多くの利点を示す。

電気泳動表示装置（EPID）は周知であり、このような
表示装置の動作及び特性かつまたその製造方法を記述し
ている多くの特許及び論文が先行技術に存在する。次の
特許は、先行技術の装置及び調査研究を解説している。
これらの特許は、本願の発明者である、フランク・Ｊ・
ディサントとデニス・Ａ・クルソスの名において発行さ
れた。下に記述されるこの特許とは別に、もとより、こ
れらの特許の手続遂行中に引用された多くの参考資料か
つまたこれらの特許の背景に引用された追加の参考資料
がある。このような表示装置の技術及びその製造方法の
多くは、次の特許に、かつまた示されたそれらの追加の
参考資料に開示されている。

電気泳動表示パネル及び関連方法（Electrophoretic
Display Panels and Associated Methods）と題
する1987年４月７日に発行された米国特許第4,655,987
号は、１つずつ他から絶縁されかつ陽極と関連している
グリッド線路及び陰極線路を含むＸ−Ｙマトリッスを利
用する典型的電気泳動装置を記述している。グリッド線
路及び陰極線路と陽極との間の間隔は、電気泳動分散で
もって充される。この特許は、このような表示装置を作
製する技術かつまたはこのような表示装置と共に使用さ
れる適当な分散及び材料を記述している。

電気泳動表示パネル及び関連方法（Electorphoretic
Display Panels and Associated Methods）と題
する1988年３月22日に発行された米国特許第4,732,830
号は、電気泳動表示装置を作製する方法を記述しかつま
た表示装置の構造及び動作を記述している。

電気泳動表示パネル装置及びそのための方法（Electr
ophoretic Display Panels Apparatus and Method
s Therefore）と題する1988年５月３日に発行された米
国特許第4,742,345号は、改善されたアラインメントと
コントラストを示す改善された電気泳動表示パネルを記
述しておりかつまたこのような表示装置と共に使用され
る回路構成及びこのような表示装置を製造する方法を記
述している。

表示と無表示モードとの間に電気泳動表示装置を動作
させる方法及び装置（Method and Apparatus for O
perating Electrophoretic Displays Between ａ
Display and ａ Non−Display Mode）と題する1988
年５月24日に発行された米国特許第4,746,917号は、書
込み、消去を施すように電気泳動表示装置を動作させる
ためかつまた表示及び無表示モード中にこの表示装置を
動作させるための種々のバイアス技術を記述している。

モノリシック平坦パネル表示装置（Monolithic Flat
Panel Display Apparatus）と題する1988年９月20
日に発行された米国特許第4,722,820号は、電気泳動原
理を採用する平坦パネル表示装置かつまた追加の回路構
成によってこのような表示装置をバイアスかつドライブ
することを可能とする構造の製造方法及び装置を記述し
ている。

したがって、判るように、先行技術において考慮され
ている重要な点は、高コントラスト、高速動作時間、及
び高信頼性性能を備える改良された表示装置を提供する
ことにある。上に挙げた米国特許第5,053,763号に示さ
れたように、電気泳動表示装置に起こる人に与える特殊
な擾乱問題は、ERASE（消去）モード中その表示装置か
ら発射される光輝“フラッシュ”（flash）が出現する
ことである。比較的短い期間にわたり起こるのを“フラ
ッシュ”は、完全に眼に見える。この“フラッシュ”
は、この表示装置を観察している多くの人々を擾乱する
と確かに思われ、かつ次の現象によって起こされる。こ
の電気泳動表示装置の適正動作においては、その懸濁液
中の顔料の量は、そのパネルがHOLD（保持）状態にある
とき適当な背景を与えるのに要する顔料より可なり多
い。用語HOLD（保持）は技術的に周知であり、電気泳動
パネルは、その表示装置の書き込み前にHOLD状態に置か
れる。このようにして、HOLD状態は、その陽極が高正電
圧にあり、グリッドが低電圧にあり、かつその陰極が高
電圧にあるときに、達成される。

典型的に、陽極は例えば200ボルトの電圧にあり、グ
リッドは例えば−12ボルトのような低電圧にあり、陰極
は＋15ボルトの高電圧にある。典型的先行技術の電気泳
動表示装置におけるこれらの電圧で以て、この表示装置
は、いわゆる、HOLD技術になる。このHOLD状態は、新情
報がこの表示装置に書き込まれるWRITE（書込み）モー
ドの前に実行される。HOLD状態中の過剰顔料は陽極の表
面にあり、陽極はこれらの電極の他のどれに対しても最
高電位にある。この表示装置をERASE（消去）するに
は、陽極を負にし、全顔料を陽極から離して、格子及び
陰極の表面にあるようにする。ERASE中、この陽極は、
例えば、−200ボルトに置かれるであろう。それゆえ、E
RASEモード中、全ての顔料はこの陽極を離れて、したが
って、いまや、そのグリッド及び陰極の表面にある。ER
ASEモード中、この平坦表示装置の陰極側は、HOLD中に
よりも可なり強く輝き、ERASE時間が極めて短いときで
もこの表示装置上に光輝“フラッシュ”を出現させる。

この“フラッシュ”は、フレーム間に起こり、HOLDモ
ードとERASEモードとの間の輝度の変化に起因して各20
から30ミリ秒存在することがある。この表示装置が一層
均一にかつ安定に見えるようにこの光輝“フラッシュ”
を除去することは、もとより、望ましい。

それゆえ、上に挙げた米国特許第5,053,763号は、そ
の電気泳動表示装置の主陽極と陰極とグリッドでできる
マトリックスとの間に挿入された第２陽極の追加を記述
している。この第２陽極は、その顔料を選択的に制御さ
せることによってこのフラッシュを防止することを援助
する。

本願は、二重電極表示装置を製造する方法を記述す
る。記述されるこれらの方法は、第２陽極又は追加陽極
を示し、この陽極は一実施例においてはそのグリッド構
造に平行であり、他の実施例においてはそのグリッド構
造に対して横断方向すなわち直交する方向である。これ
らの方法は、所望の効果を達成するために、選択エッチ
の使用と共に金属及び絶縁体のような様々な材料の選択
堆積（デポジション）を含む。

本発明の開示 Ｘマトリックスを示す複数の陰極導体線路が平板ガラ
スシート上に形成された後に電気泳動表示装置の製造を
完成する方法は、この陰極導体線路をホトレジストの第
１絶縁層で以てコートするステップ、この第１絶縁層を
二酸化けい素の第１層で以てコートするステップ、前記
二酸化けい素の層上に金属の第１層をコートするステッ
プ、前記金属の第１層をホトレジストの第２層で以てコ
ートするステップ、前記ホトレジストの第２層を二酸化
けい素の第２層で以てコートするステップ、前記二酸化
けい素の第２層を前記第１層と異なるエッチング剤によ
ってエッチされることのできる金属の第２層で以てコー
トするステップ、前記金属の第２層を前記金属の第１層
および第２層と異なるエッチング剤によってエッチング
されることのできる金属の第３層で以てコートするステ
ップ、前記金属の第３層を前記金属の第１層、第２層お
よび第３層と異なるエッチング剤によってエッチされる
ことのできる金属の第４層で以てコートするステップ、
前記金属の第４層をホトレジストの第３層で以てコート
するステップ、前記陰極導体線路に横断方向の線路のマ
トリックスをホトリソグラフィを用いて形成するために
前記ホトレジストの第４層を処理しかつ前記処理の後、
互いにかつこの陰極構造から絶縁された第１金属構造と
第２金属構造とが存在する所の前記マトリックスの線路
の各々をチャンネルが分離するまで、材料の各層を選択
的にエッチするステップ、前記処理された構造を二酸化
けい素の層で以てコートするステップ、及び前記金属の
第４層と共に、前記金属の第４層とそれをコートしてい
る部分の前記二酸化けい素の層を除去するステップを含
む。

図面の簡単な説明 第１図は、このような表示装置の製造における或るス
テップを記述するのに有効な電気泳動表示装置を示す部
分断面図である。

第２図は、このような表示装置の製造における追加の
ステップを図示した断面図である。

第３図は、本発明による異なる方法に従って製造され
た電気泳動表示装置の上面図である。

第４図は、第３図の表示装置の断面図である。

本発明を実施するための最善の方法 第１図を参照すると、本発明の教示により構成された
電気泳動表示装置10の断面図が示されている。第１図の
表示装置の断面図は処理ステップのうちの或るものの結
果である完全でない構造を含むと云うことに、直ちに気
が付く。

第１図に本発明を充分に理解するために必要と思われ
る形態を示す。この特定の表示装置の特有の部分は、第
２又は追加の陽極を生成する形態および方法である。こ
の追加の陽極は、陰極12と第２図に参照数字28によって
指示された従来の陽極である遠隔陽極との間に現れてい
る。

第２図に見られるように、遠隔陽極28は、ガラスの層
29に堆積される。遠隔陽極28は、ガラスの層29に堆積さ
れた、例えば、インジウム−すず−酸化物（ITO）の極
めて薄い層であることがある。

更に理解されるように、この電気泳動表示装置は、上
に示された先行特許の多くに記述されており、かつ底部
ガラスシート11を含む観察領域を有する。シート11上に
配置されて複数の陰極線路12がある。これらの陰極線路
は、水平又は垂直方向をとりかつ線路のマトリックス又
は格子を形成するために互いに平行である。これらの陰
極線路に垂直な交差マトリックスは、一連の平行金属グ
リッド線路15を含む。これらの金属グリッド線路は、先
行技術の電気泳動表示装置内にも存在する。これらのグ
リッド線路は、絶縁材料によってこの陰極から分離され
ている。これは、絶縁材料の二重層であることがある。
第１層は、例えば、本質的にノボラック樹脂又はフェノ
ール樹脂であるFSC−Ｌ又はFSC−Ｍのようなホトレジス
ト材料である。これらの樹脂は、シップレイプロダクツ
（Shipley Product）と呼ばれる会社からホトレジスト
材料として入手可能である。

第１図に見られるかつ更に説明されるように、ホトレ
ジスト又は絶縁体の層13は、その表面上に二酸化けい素
（SiO₂）の層14を堆積している。この二酸化けい素の層
は、このホトレジストの層の上に堆積され、かつその後
グリッド電極を構成する金属の層15がこの二酸化けい素
の層上に堆積される。第１図に示された構成においてか
つ更に説明されるように、グリッド層15の頂上に堆積さ
れてホトレジストの追加層16があり、この層はその上に
二酸化けい素の追加層17を堆積している。この二酸化け
い素の層の頂上に金属の第１層18、金属の第２層19、及
び金属の第３層20がある。金属層15,18,19及び20が異な
る選択エッチング剤によってエッチされることのできる
金属材料から製造されることが、重要である。

例えば、このような金属は、金、アルミニウム、チタ
ン−タングステン合金、ジルコニウムかつまたクロムを
含む。この特定の場合、グリッド電極層15はクロムから
製造され、他方、金属層18及び19は、例えば、クロム層
と異なるエッチング剤によってエッチされるクロムとア
ルミニウムの合金である。上の記述は、分離層の堆積を
示しており、本実施例では実際にそのようになってい
る。第１図に示さた構造は、選択エッチングのステップ
がこれから説明されるように実行された後の結果であ
る。

理解されるように、金属層18及び19を含む第２陽極、
及び15のようなグリッド構造は陰極線路12に垂直であ
り、またグリッド電極15は第２陽極導体線路に本質的に
平行でかつ整列している。第１図の構造を製造するプロ
セスを詳細に記述する前に、この構造の動作に関連して
二三の説明をする。理解されるように、ホトレジスト層
13によって陰極線路から分離されているグリッド線路1
5、及び二酸化けい素の層14は、陰極線路12を横断して
堆積されかつ空間的に各陰極線路と交差して、Ｘ−Ｙマ
トリックス配置を提供し、これによって、典型的画素領
域がグリッド及び陰極線路をアドレスすることによって
アクセスされ、それゆえこれら２つの線路の間の交差点
に所望の電位を提供する。この電位が電気泳動懸濁液30
内に懸濁している電気泳動粒子の移動を起こさせ、これ
らの粒子はグリッド及び陰極構造から陽極28へ移動する
（第２図）。陽極28は、先行技術によりプレーナガラス
部材29上に堆積されたITOのような金属の非常に薄い層
である。

典型的に、13及び16のような絶縁領域の厚さは約３ミ
クロンであり、かつ二酸化けい素の層、例えば、層14及
び17は約2,000オングストロームである。第１図に示さ
れた構造において、更に記述される局部陽極は、グリッ
ド構造と同じ形態のものである。例えば、金属18及び19
を終局的に含む局部陽極金属導体線路は、絶縁層16及び
二酸化けい素の層17によってグリッド線路15から分離さ
れている。したがって、グリッド線路と同じ数の陽極線
路がある。この陽極の各セグメントは、関連するグリッ
ドセグメントと正確に同じ形態を有することができる。
云うまでもなく、グリッド線路は先行技術において知ら
れるようにフォーク歯の形態を含むことができ、このよ
うな形態は局部陽極線路に使用されることも又は使用さ
れないこともある。それゆえ、そのグリッド様式は２つ
以上のフォーク歯であり、かつその陽極線路は単線路又
は重複フォーク歯形態である。

例えば、米国特許第4,742,345号は、フォーク歯形態
にある陰極構造に対して製造されたグリッド構造を記述
している。したがって、このような形態を、グリッド構
造、またはそれゆえ陽極構造を形成するために利用する
ことができる。このような配置の利点は、米国特許第4,
742,345号に充分に記述されている。このようにして、
かつ上に挙げた米国特許第5,053,763号に説明されてい
るように、更に判るのは、局部陽極構造は各々が格子線
路に関連した複数の平行線路を含むことがあり、かつこ
れらの平行線路の各々は15のような関連グリッド線路の
各々と一致する寸法を有することである。第１図に示さ
れた種々の電極のバイアスも、また、上に挙げた米国特
許第5,053,763号に詳細に説明されている。したがっ
て、HOLDモード、ERASEモード、及びWRITEモードにおけ
る各電極のバイアスが説明されており、かつまたその顔
料の運動及びこの表示装置の利点も説明されている。

ここに記述しようとする二重陽極表示装置を製造する
方法は、これに代わるアプローチを採用する。第１図に
示された断面図は、この表示装置の製造の或るステップ
を示す。示されているように、番号11は、平板ガラスシ
ートを示す。ガラスシート又はプレート11は、これを通
してこの表示装置の観察者がこの装置内に装填された画
像情報を識別する窓を提供するように働く。ガラスプレ
ート11は、好適には、上に挙げた特許の多くに記述され
ているように人手可能のインジウム−すず−酸化物（IT
O）の極めて薄い層で以てコートされている。ITOの層12
は、ガラスプレート11がその比較的透明な特性を維持す
るように比較的薄く約300オングストロームの厚さの範
囲にある。陰極線路12は、ガラスプレート11上にオーバ
コートされたITO層からエッチして得られる。これは、
従来のホトエッチング又は銅版刷り技術を通してその技
術の通常の熟練者によって認められるように容易に達成
される。それゆえ、ガラスシート11上に複数の陰極導体
12の画像を形成するために、陰極導体および関連コンタ
クトパッドの表示を帯びている物理的マスクが使用さ
れ、かつその後この画像に対応しないITOコーティング
の部分が除去される。更に特に、ITO層を帯びているガ
ラス板11は、なんらかの従来形のホトレジスト層で以て
最初にオーバコートされ、その後ホトレジスト層上に置
かれた複数の陰極線路12に関連した導体パターンを有す
るマスクを掛けられる。次いで、このガラスプレート
は、このマスクを通して紫外光に露出され、かつ現像さ
れる。

このパターンは残留し、終局的に複数の陰極線路に変
換される。それゆえ、この陰極は先行技術によって従来
のように製造され、ガラス層11にその表面上に複数の陰
極線路又は列線路12を持たせる。このマスク及び関連手
順を利用する構成に関する更に情報を米国特許第4,742,
345号を参照することによって得ることができる。

このステップの後、この全構造は、FSC−Ｌ又はFSC−
Ｍの絶縁層で以てコートされる。これらは、上に示され
たホトレジスト材料であり、かつノボラック樹脂又はフ
ェノール樹脂である。絶縁材料層13が、陰極構造12を有
するこのガラスプレートの表面上にスピンコートされ
る。第１図に図示のとおりではなく、線路31によって示
されたような全面的層又はコーティング13は、陰極パタ
ーン12を表面に印加されたガラスプレート11のこの表面
上に堆積される。その全表面が、したがって、覆われ
る。次いで、二酸化けい素の薄い層14が、絶縁層13の全
表面上に置かれる。再び、これが単一コートとして施さ
れる。この二酸化けい素の層は、極めて薄く、例えば、
2,000オングストロームの大きさのものであり、かつホ
トレジストの層は約３から５ミクロンである。二酸化け
い素の層14を堆積した後、アルミニウムのような金属の
第１層15が、この二酸化けい素層上に堆積される。この
アルミニウムを蒸着等々の多くの周知の技術によって堆
積することができる。アルミニウムの層を堆積した後、
他のFSC−Ｌ又はFSC−Ｍの層16が、このアルミニウムの
層上に堆積される。次いで、層16は、その表面上に他の
二酸化けい素の層17を堆積する。次いで、３つの異なる
金属がこの二酸化けい素の層の上に堆積される。金属の
層18が最初に堆積され、金属の層19が続き、金属の層20
が続く。これらの金属の各々は、同じエッチング剤を使
用してエッチされることができるものであってはなら
ず、又はFSC−Ｌ又はFSC−Ｍ上に堆積されたグリッド層
である層15のような金属に使用されたのと同じエッチン
グ剤によってエッチされることができるものであっては
ならない。いずれにしても、異なる金属に対して採用さ
れる選択エッチング剤は技術的に周知でありかつまた異
なるエッチング剤を使用することによってエッチされる
ことのできる異なる金属も周知である。最終の金属の層
20が堆積された後、ホトレジストのコーティング31が最
上層20上にスピンコートされる。ホトレジスト層31は、
グリッドの残留部分に対して描かれたカラム（縦ライ
ン）構造と比較して全面的層として示されている。云う
までもなく、これらのアルミニウム層の各々を通して方
向付けされた線は、エッチングステップの前に全成層が
形成されることを示す。

次いで、ホトレジスト層31は、マスクで露光される。
このマスクは格子マスクに設計上本質的に類似し、複数
の平行線路を含み、かつ陰極構造を横断して置かれる。
したがって、このマスクは、参照数字33,34、及び35に
よって指示されるカラム（縦ライン）領域を終局的に提
供するために最上ホトレジスト層31を露光するのに使用
される。次いで、ホトレジスト層31が現像され、これに
よって最上の金属の層20がこの層に適当なエッチング剤
を使用してエッチされ、したがって、チャンネルの第１
部分36を形成する。次の２つの金属の層18及び19が、こ
の層を選択的に侵食する適当なエッチング剤を使用して
エッチされ、したがって、更にチャンネル（37）及び38
を形成する。二酸化けい素の層17が、マスクとして18,1
9、及び20のような金属層を使用してプラズマエッチさ
れ、したがって、チャンネル又はくぼみの次の部分39を
形成する。次いで、絶縁層16が、金属の第１層15まで下
へ完全にプラズマエッチされて、チャンネルの次の部分
40を形成する。次いで、金属の第１層15がこの層に適当
なエッチング剤を使用してエッチされ、チャンネルの次
の部分41を形成する。二酸化けい素の層14および絶縁層
13が次いでプラズマエッチされる。

第２図を参照すると、上に挙げた手順の後、チャンネ
ルによって分離されたように示された直立する垂直柱を
得る。次に、第１図のこの全体構造が二酸化けい素の層
70で以てコートされ、この層はこの全構造に付加され
る。次いで、適当なエッチング剤を使用して、金属の最
上層20が除去され、これによって、金属層20を覆う二酸
化けい素層およびこの金属層を除去する一方、金属層19
を露出させる。それらの側面かつまたこれらの側面間の
間隔が、全て、二酸化けい素の極めて薄い層70によって
覆われる。次いで、適当な絶縁スペーサを使用して、ガ
ラスプレート29を含む陽極及び遠隔陽極構造28が、この
処理された構造に取り付けられる。同時に、金属層18及
び19を含む第２陽極のみならず、ITO層28である主陽極
に対してもリードが利用可能にされる。したがって、理
解できるように、このセルは、通常の仕方でかつ、例え
ば、上に示された米国特許第4,772,820号に記述された
ように、このガラスプレートにセメント付け又はボンド
されるドライバチップを受け入れるように、準備が完了
したことになる。

追加されたグリッド及び第２陽極構造の各々の周壁上
に二酸化けい素の層を施すことによって、そのデバイス
に関して極めて信頼性性能が達成されることが確認され
た。

第３図を参照すると、第２実施例によって作製された
電気泳動表示装置の部分断面の上平面図が示されてい
る。第３図の上面図は、二酸化けい素の最終コーティン
グの前の構造を示す。本質的に、第３図から判るよう
に、上に記述されたように堆積された陰極線路は、参照
数字41,42、及び43によって指示される。これらの陰極
線路の上部に配置されかつこれらから絶縁されて50,5
1、及び53のような分離グリッドフォーク歯がある。こ
れら３つのフォーク歯構造50,51、及び53は、例えは、
単一グリッド線路を表す。これらの陰極と平行に整列し
て、陰極線路44に関連し参照数字54及び55によって指示
される第２陽極線路がある。以下に説明されるように、
50,51、及び53のような格子線路は第２陽極線路54及び5
5と異なる金属で製造され、これらの第２陽極線路は各
陰極ごとに２本線路を含むがしかし２本より多くてもよ
い。これらのグリッド線路は、50,51、及び53のような
３本線路を含む。この表示装置の実現かつまたこの表示
装置の製造を、第３図及び第４図の両方を参照すること
によって、最も良く記述することができる。第４図に見
られるように、ガラスを含む底層45は、その上に41,4
2、及び43のようなITO陰極層を堆積している。この陰極
マトリックスは、上に記述されたように製造され、かつ
ガラスシート全体を覆うITOの単一層から形成され、こ
のITOは次いで適当にエッチ又は食刻されて、41,42,4
3、及び44のような個々の平行陰極線路を生成する。し
たがって、この陰極の構成は、通常のマスク及び上に記
述されたような手順を利用して実現される。次には、FS
C−Ｌ又はFSC−Ｍの完全な層60が、陰極構造全体上に堆
積されかつコートされる。次いで、二酸化けい素61の層
が、絶縁層60上に蒸着又は酸化される。この手順におけ
る次のステップは、クロムような金属の層を堆積するこ
とであり、この層は層62でありかつ二酸化けい素層61上
に堆積される。この金属の層62は、グリッド構造を含
む。次いで、ホトレジストの層が、金属層62上にスピン
コートされる。この層は示されていない。いずれにして
も、次いで、このホトレジストの層が、通常の仕方でグ
リッドマスクで露光され、それゆえ、金属層62上にスピ
ンコートされているホトレジスト層上に、例えば、50,5
1、及び53のようなグリッド線路パターンが生成され
る。このグリッドマスクは、通常の仕方でこのホトレジ
ストを露光するのに使用される。このホトレジストを現
像した後、この金属は、適当なエッチング剤を使用して
エッチされる。示されたように、金属層62はクロムであ
り、したがって、クロムエッチング剤を採用することが
できる。このようにして、このホトレジスト層は、適当
な溶剤中で剥がされる。二酸化けい層の層61が、ここ
で、このエッチされた金属62をマスクとしてプラズマエ
ッチされる。したがって、これが、適当なグリッド構造
を現像する。次に、FSC−Ｌ又はFSC−Ｍの絶縁層が、こ
のパターン代金属層の上に堆積されかつ参照数字65によ
って指示される。絶縁層65は、いまや、二酸化けい素の
薄い層64で以てコートされる。この二酸化けい素の層の
頂上に堆積されて第２金属層63があり、この層は第１層
と異なる金属のものであってもよい。この層63は、２つ
の金属層を含み、かつ二酸化けい素層64に近いその第１
層は金属の第１層62と同じである。各層は、異なるエッ
チング剤によってエッチされることができる。ホトレジ
ストの層が、いまや、最上金属層上にスピンコートさ
れ、この層を完全に覆う。

云うまでもなく、層63,64、及び65はまっすぐなカラ
ム（縦ライン）として示されているが、これらは明確な
層であることは明らかに理解される。ホトレジストの頂
上層が最上金属層上にスピンコートされた後、そのグリ
ッドと類似のしかしこれと必ずしも同じでなくてもよい
フォーク歯を含むマスクが、そのパターンが41及び42の
ような陰極に平行でかつグリッド線62のような格子に垂
直になるように、ホトレジストの上に置かれる。このホ
トレジストを現像した後、両金属層が適当なエッチング
剤を使用してエッチされる。二酸化けい素層64は、マス
クとして複合層63のような金属層を使用してプラズマエ
ッチされる。FSC−Ｌ又はFsc−Ｍの第１層及び第２層の
両方が、この上面図に見られるように、この陰極まで下
へプラズマエッチされる。適当な溶剤を使用して、プラ
ズマエッチングからのあらゆる残留物が除去される。次
いで、二酸化けい素のコーティングが、その構造全体に
添加される。再び、適当なエッチング剤を使用して、金
属の最上層が除去され、これによってこの金属を覆って
いる二酸化けい素を除去しかつ金属の第２層を露出させ
る。適当な絶縁スペーサを使用して、遠隔陽極がこの構
造に取り付けられて、この陽極に接続するためにリード
が使用可能とされることを保証する。第２層を並列な全
てのリードで以て接続することができ、かつ各リードを
個々にドライブするか又は群にしてドライブすることが
できる。このセルは、いまや、通常の仕方で接合された
又はボンドされたドライブチップを受け入れる用意を完
了している。

Claims (13)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】第１の方向に延びる陰極導体線路が平板ガ
   ラスシート上に形成された後電位泳動表示装置の製造を
   完成する方法であって、 前記陰極導体線路を、ホトレジストの第１絶縁層でコー
   トするステップと、 前記ホトレジストの第１絶縁層を、第１二酸化けい素層
   でコートするステップと、 前記第１二酸化けい素層を、第１エッチング剤によりエ
   ッチされ得る第１金属層でコートするステップと、 前記第１金属層を、ホトレジストの第２絶縁層でコート
   するステップと、 前記ホトレジストの第２絶縁層を、第２二酸化けい素層
   でコートするステップと、 前記第２二酸化けい素層を、前記第１エッチング剤によ
   ってはエッチされず第２エッチング剤でエッチされ得る
   第２金属層でコートするステップと、 前記第２金属層を、前記第１エッチング剤および第２エ
   ッチング剤によってはエッチされず第３エッチング剤で
   エッチされ得る第３金属層でコートするステップと、 前記第３金属層を、前記第１エッチング剤、第２エッチ
   ング剤および第３エッチング剤によってはエッチされず
   第４エッチング剤でエッチされ得る第４金属層でコート
   するステップと、 前記第４金属層を、ホトレジストの第３の絶縁層でコー
   トするステップと、 前記陰極導体線路を横断するホトレジスト線路をホトリ
   ソグラフィにより形成するよう前記ホトレジストの第３
   の絶縁層を処理するステップと、 前記ホトレジスト線路をマスクとして前記層のそれぞれ
   を選択的にエッチし前記層を貫通するチャンネルを設け
   て前記エッチされた第２金属層および第３金属層を含む
   陽極と前記エッチされた第１金属層を含むグリッドと
   を、それらが相互に絶縁されかつ前記陰極導体線路から
   絶縁されるようにして、形成するステップと、 前記ホトレジスト線路、前記陽極および前記グリッド
   を、第３二酸化けい素層でコートするステップと、 前記第４金属層をコートしている前記第３二酸化けい素
   層の部分および前記第４金属層を選択的に除去するステ
   ップと を有する、方法。
2. 【請求項２】請求の範囲第１項記載の方法であって、前
   記陽極と、前記陰極導体線路と、前記グリッドとに平行
   に陽極プレートを配置するステップを、更に含む方法。
3. 【請求項３】請求の範囲第１項記載の方法において前記
   ホトレジストの絶縁層はフェノール樹脂を含む、方法。
4. 【請求項４】請求の範囲第１項記載の方法において、前
   記第１金属層はクロムでなる、方法。
5. 【請求項５】請求の範囲第１項記載の方法において、前
   記第２金属層はアルミニウムでなる、方法。
6. 【請求項６】請求の範囲第１項記載の方法において、前
   記第３金属層はアルミニウム−クロム合金でなる、方
   法。
7. 【請求項７】請求の範囲第１項記載の方法において、前
   記第４金属層はチタンとタングステンとの合金でなる、
   方法。
8. 【請求項８】請求の範囲第１項記載の方法において、前
   記二酸化けい素層は約2,000オングストロームの厚さで
   ある、方法。
9. 【請求項９】請求の範囲第１項記載の方法において、前
   記ホトレジストの第１および第２絶縁層の厚さは３から
   ５ミクロンの間にある、方法。
10. 【請求項１０】請求の範囲第１項記載の方法において、
    前記選択的にエッチステップはプラズマエッチによって
    達成される、方法。
11. 【請求項１１】請求の範囲第１項記載の方法において、
    前記ホトレジスト絶縁層でコートするステップはスピン
    コートにより達成される、方法。
12. 【請求項１２】請求の範囲第１項記載の方法において、
    前記グリッドは少なくとも２つのフォーク歯部材をそれ
    ぞれが含む複数の格子グリッド線路を含む、方法。
13. 【請求項１３】請求の範囲第１項記載の方法において、
    前記グリッドと陽極のうちの一方は前記陰極線路に平行
    な線路を備え、他方は前記陰極線路を横断する方向の線
    路を備える、方法。