JP2728694B2 - Flexible printed circuit board - Google Patents

Flexible printed circuit board

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JP2728694B2
JP2728694B2 JP63253790A JP25379088A JP2728694B2 JP 2728694 B2 JP2728694 B2 JP 2728694B2 JP 63253790 A JP63253790 A JP 63253790A JP 25379088 A JP25379088 A JP 25379088A JP 2728694 B2 JP2728694 B2 JP 2728694B2
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Japan
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dope
less
present
temperature
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隆 藤原
由起子 川口
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Asahi Kasei Corp
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Asahi Kasei Kogyo KK
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は改良されたフレキシブルプリント配線基板
(以下、FPCと略す)に関するものであり、更に詳しく
は絶縁基板に、温度及び湿度に対する寸法安定性に極め
て優れ、かつ吸湿率が低く、裂けにくく、かつハンダ耐
熱性を有するポリパラフエニレテレフタラミド(以下、
PPTAと略す)から実質的になるフイルムを用いたFPCに
関するものである。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to an improved flexible printed wiring board (hereinafter abbreviated as FPC), and more particularly, to an insulating substrate having dimensional stability against temperature and humidity. Polyparaphenylene terephthalamide (hereinafter, referred to as "polyparaphenylene terephthalamide"), which is extremely excellent in
This is related to an FPC using a film substantially consisting of PPTA).

〔従来の技術〕[Conventional technology]

近年、電子機器の小型・軽量化という根強いニーズに
支えられ、通常のリジツドタイプに較べ軽量で占用容積
が小さく自由な立体配線と配線の単純化が可能なFPCに
対する需要はとみに高まりつつある。
In recent years, demand for FPCs, which are lighter than ordinary rigid types, have a small occupied volume, and allow free three-dimensional wiring and simplification of wiring, is supported by the persistent need for smaller and lighter electronic devices in recent years.

従来、FPC用の絶縁基材としては、ポリエステルやポ
リイミドのフイルムが使用されてきた。しかし、ポリエ
ステルはハンダ耐熱性がないため、極めて限られた用途
にしか使用されていない。これに対してポリイミドは、
その優れた耐熱性を活かして、FPCに大量に用いられて
いるが、熱収縮率等の寸法安定性や吸湿率等の点で不満
が残つていること、高価なこと等が欠点となつている。
Conventionally, polyester or polyimide films have been used as insulating base materials for FPCs. However, polyester has no solder heat resistance and is therefore used only for very limited applications. In contrast, polyimide is
Utilizing its excellent heat resistance, it is used in large quantities in FPCs.However, it has disadvantages such as dimensional stability such as heat shrinkage and dissatisfaction in terms of moisture absorption and high cost. I have.

このため、ポリイミドやポリエステルに代る種種の材
料をFPCの絶縁基材に用いることが検討されてきた。
For this reason, the use of various materials instead of polyimide and polyester for the insulating base material of FPC has been studied.

PPTAに代表される直線配位性の芳香族リアミドは特に
優れた結晶性や高い融点、また剛直な分子構造の故に、
耐熱性で高い機械的強度を有しており、近年特に注目さ
れている高分子素材である。特にその優れた強度と、半
田耐熱性がある高い融点故にFPC材料として極めて有望
な素材である(特公昭55−37866号公報)。
Linear coordination aromatic lamide represented by PPTA is particularly excellent in crystallinity, high melting point, and rigid molecular structure.
It has high heat resistance and high mechanical strength, and is a polymer material that has received special attention in recent years. Particularly, it is a very promising material as an FPC material because of its excellent strength and high melting point with solder heat resistance (Japanese Patent Publication No. 55-37866).

しかし、従来のPPTAフイルムにはFPC材料として用い
るには以下の如き欠点が存在した。
However, conventional PPTA films have the following disadvantages when used as FPC materials.

例えば特公昭59−14567号公報に、光学異方性を有す
る芳香族ポリアミド溶液を、スリツトから短かい空気層
を介して凝固浴中に押出して得るフイルムが開示されて
いるが、このフイルムをFPCとして使用すると、フイル
ムの機械方向(以下MD方向と略す)には極めて強いが、
それと直交する方向(以下TD方向と略す)には極端に弱
く裂けやすいものとなり、全く実用には耐えられないも
のであつた。更に半田浴に浸せきした場合、フイルムの
収縮、カールの発生、寸法変化などの好ましくない現象
も見られた。
For example, JP-B-59-14567 discloses a film obtained by extruding an aromatic polyamide solution having optical anisotropy from a slit through a short air layer and into a coagulation bath. Is extremely strong in the machine direction of the film (hereinafter abbreviated as MD direction),
In a direction perpendicular to the direction (hereinafter abbreviated as TD direction), it was extremely weak and easily ruptured, and could not withstand practical use at all. Further, when immersed in a solder bath, undesired phenomena such as film shrinkage, curl generation, and dimensional change were observed.

また、特公昭57−17886号公報、特公昭57−35088号公
報、特公昭59−5407号公報や特公昭53−44957号公報に
はほぼ等方性のPPTAフイルムが記載されているが、伸度
が小さく脆かつたり、寸法安定性(特に湿度に対する安
定性)の点で十分とはいえなかつた。
Also, Japanese Patent Publication No. 57-17886, Japanese Patent Publication No. 57-35088, Japanese Patent Publication No. 59-5407 and Japanese Patent Publication No. 53-44957 describe an almost isotropic PPTA film. However, it was not brittle and brittle, and was not sufficient in dimensional stability (especially stability to humidity).

また、特開昭61−248305号公報や特願昭61−18048号
公報には、これらの欠点を克服すべく、PPTAの光学異方
性ドープを押出して光学等方化し、次いで凝固すること
によつて、高強度で寸法安定性にすぐれ、裂けにくいPP
TAフイルムが得られ、このようなフイルムをFPCに使用
することが開示されている。しかし、このようなフイル
ムにおいても、尚一層の寸法安定性の向上及び吸湿率の
抑制が求められている。
In order to overcome these drawbacks, JP-A-61-248305 and JP-A-61-18048 disclose extruding an optically anisotropic dope of PPTA to make it optically isotropic and then solidifying it. Therefore, PP with high strength, excellent dimensional stability, and resistant to tearing
A TA film was obtained and the use of such a film for FPC was disclosed. However, even in such a film, further improvement in dimensional stability and suppression of the moisture absorption are required.

さらに、特公昭55−37866号公報には、PPTAを含む芳
香族ポリアミドヒドラジドフイルムをFPCに用いること
が示されているが、一度が大きい即ち結晶性が高いため
PPTAにおいては脆くて実用的ではなく、他のポリマーに
おいては吸湿率が大きくまた熱収縮が大きいという不満
を残していた。
Furthermore, Japanese Patent Publication No. 55-37866 discloses that an aromatic polyamide hydrazide film containing PPTA is used for FPC, but once it is large, that is, it has high crystallinity.
PPTA was brittle and impractical, and the other polymers had complaints of high moisture absorption and high heat shrinkage.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problems to be solved by the invention]

本発明の目的は、その簡潔な化学構造故に、ポリイミ
ドよりも安価に提供することの可能なPPTAを用いて、従
来公知のPPTAフイルムよりも更に寸法安定性及び吸湿率
が改良されたフイルムを用い、それ故に高温や高湿度雰
囲気に置いても、反りや銅板の剥離などの問題がなく、
高周波回路に使用されても問題がなく、高密度配線が可
能なFPCを提供せんとするところにある。
An object of the present invention is to use PPTA, which can be provided at a lower cost than polyimide because of its simple chemical structure, and to use a film whose dimensional stability and moisture absorption rate are further improved than conventionally known PPTA films. Therefore, even if placed in a high-temperature or high-humidity atmosphere, there is no problem such as warpage or peeling of the copper plate,
There is no problem in providing an FPC that can be used in high-frequency circuits and has high density wiring.

〔課題を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

本発明者らは上記問題点の解決のために鋭意検討した
結果、特開昭61−248305号公報に記載されたPPTAフイル
ムの製膜過程において、一旦、緊張下に高温で乾燥又は
熱処理したのち、緊張を緩和して熱固定することによつ
て、吸湿率が小さく、熱及び吸湿に対する寸法安定性に
極めてすぐれたフイルムが得られることを見出し、この
フイルムを絶縁基板として用いることにより、上記目的
に沿つた高性能のFPCが得られることを発見するに到つ
た。
The present inventors have conducted intensive studies to solve the above problems, and as a result, in the process of forming a PPTA film described in JP-A-61-248305, once dried or heat-treated at a high temperature under tension, It has been found that a film having a small moisture absorption rate and extremely excellent dimensional stability against heat and moisture absorption can be obtained by relaxing the tension and heat fixing, and by using this film as an insulating substrate, And found that a high-performance FPC could be obtained.

即ち本発明は、対数粘度が3.5以上の実質的にポリ−
パラフェニレンテレフタラミドよりなるフイルムであっ
て、全ての方向のヤング率が700kg/mm2以上、25℃から2
50℃までの熱膨張係数が(0〜15)×10-6mm/mm/℃、25
0℃における熱収縮率が0.1%以下、25℃における吸湿膨
張係数が30×10-6mm/mm/%RH以下、かつ25℃65%RHにお
ける吸湿率が2.5重量%以下であるフイルムを絶縁基板
とし、そのフイルムの少なくとも片面に銅を積層させて
なるフレキシブルプリント配線基板である。
That is, the present invention provides a substantially poly-logarithmic viscosity of 3.5 or more.
A film made of paraphenylene terephthalamide having a Young's modulus in all directions of 700 kg / mm 2 or more and 25 ° C. to 2
The coefficient of thermal expansion up to 50 ° C is (0-15) × 10 -6 mm / mm / ° C, 25
Insulates films whose thermal shrinkage at 0 ° C is 0.1% or less, the coefficient of moisture expansion at 25 ° C is 30 × 10 -6 mm / mm /% RH or less, and the moisture absorption at 25 ° C 65% RH is 2.5% by weight or less This is a flexible printed wiring board formed by laminating copper on at least one side of the film.

本発明に用いられるPPTAは実質的に で表されるポリマーであり、従来公知のパラフエニレン
ジアミンとテレフタロイルクロライドから、低温溶液重
合法により製造するのが好都合である。なお、本発明に
用いるポリマーには、PPTA以外の成分が少量共重合され
たり、ブレンドされていてもよく、例えばメタフエニレ
ン、4,4′−ジフエニレン、4,4′−ジフエニレンエーテ
ル、3,4′−ジフエニレンエーテル等を含む芳香族ポリ
アミド、芳香環置換されたPPTAなどがそれらの成分とし
て挙げられる。
The PPTA used in the present invention is substantially And is conveniently produced from a conventionally known paraphenylenediamine and terephthaloyl chloride by a low-temperature solution polymerization method. In the polymer used in the present invention, a small amount of components other than PPTA may be copolymerized or blended.For example, metaphenylene, 4,4′-diphenylene, 4,4′-diphenylene ether, 3, Aromatic polyamide containing 4'-diphenylene ether and the like, aromatic ring-substituted PPTA and the like can be mentioned as those components.

本発明のポリマーの重合度は、あまり低いと機械的性
質の良好なフイルムが得られなくなるため、3.5以上好
ましくは4.5以上の対数粘度ηinh(硫酸100mlにポリマ
ー0.5gを溶解して30℃で測定した値)を与える重合度の
ものが選ばれる。
If the degree of polymerization of the polymer of the present invention is too low, a film having good mechanical properties cannot be obtained. Therefore, the logarithmic viscosity ηinh of 3.5 or more, preferably 4.5 or more (measured at 30 ° C. by dissolving 0.5 g of the polymer in 100 ml of sulfuric acid, at 30 ° C.) The degree of polymerization which gives the given value) is selected.

本発明に用いられるフイルムは以下に述べる要件を満
たすべきである。
The film used in the present invention should satisfy the following requirements.

まず第1に、本発明に用いられるフイルムは、全ての
方向の芳香のヤング率が700kg/mm2以上である。この特
徴は、機械的な外力に対する寸法安定性と関連を有して
いる。
First, the film used in the present invention has a Young's modulus of fragrance in all directions of 700 kg / mm 2 or more. This feature has implications for dimensional stability against mechanical external forces.

第2図に、本発明に用いられるフイルムの熱膨張係数
が25℃〜250℃の範囲で測定して(0〜15)×10-6mm/mm
/℃の範囲内にあることである。この範囲の熱膨張係数
をもつということは、250℃までの温度に加熱しても、
殆んど長さが変らないことを意味している。そしてこの
数字は、セラミツクスのそれに近く、金属のそれよりも
少し小さい。このような熱に対する寸法安定性の非常に
すぐれたフイルムは、乾燥時の収縮を防止して分子鎖の
面配向性を高いレベルに保つこと、350℃以上での乾燥
又は熱処理によつて結晶性を高めることによつてはじめ
て達成された。本発明に用いるフイルムとして好ましい
のは5〜15×10-6mm/mm/℃の熱膨張係数をもつたもので
ある。本発明において、銅フイルムの熱膨張係数の差が
小さいために、高温、温度差の大きい環境下において
も、反り、剥離などが発生しない。
FIG. 2 shows that the coefficient of thermal expansion of the film used in the present invention was measured in the range of 25 ° C. to 250 ° C. (0 to 15) × 10 −6 mm / mm.
/ ° C. Having a coefficient of thermal expansion in this range means that even when heated to temperatures up to 250 ° C,
This means that the length hardly changes. And this figure is close to that of ceramics and slightly smaller than that of metal. Such a film with extremely excellent dimensional stability to heat prevents shrinkage during drying and keeps the plane orientation of molecular chains at a high level, and crystallizes by drying or heat treatment at 350 ° C or higher. Was achieved only by increasing A film having a coefficient of thermal expansion of 5 to 15 × 10 −6 mm / mm / ° C. is preferred as the film used in the present invention. In the present invention, since the difference in the coefficient of thermal expansion of the copper film is small, warping and peeling do not occur even in an environment having a high temperature and a large temperature difference.

第3に、本発明に用いられるフイルムは、250℃にお
ける熱収縮率が0.1%以下であるべきである。このよう
に本発明に用いられるフイルムの熱収縮率が極めて小さ
く、現在耐熱性フイルムとして大きい地位を占めている
ポリイミドフイルムよりもすぐれているのである。熱収
縮率は好ましくは0.05%以下である。熱収縮率のきわめ
て小さい本発明に用いられるフイルムは、乾燥又は熱処
理によつて高められた配向性及び結晶性を実質的に減少
させることなく、乾燥又は熱処理温度よりも少し低いが
250℃以上のある温度で、無緊張下又は低張力下にフイ
ルムを熱固定することによつて初めてえられる。このよ
うに本発明において熱収縮率が小さいフイルムを使用し
ているために、例えば、FPCの実装工程でハンダ溶に浸
漬しても、反りや剥離、導通・絶縁の変化等がおきない
のである。
Third, the film used in the present invention should have a heat shrinkage at 250 ° C. of 0.1% or less. As described above, the heat shrinkage of the film used in the present invention is extremely small, and is superior to the polyimide film which currently occupies a large position as a heat-resistant film. The heat shrinkage is preferably 0.05% or less. The film used in the present invention, having a very low heat shrinkage, is slightly lower than the drying or heat treatment temperature without substantially reducing the orientation and crystallinity enhanced by the drying or heat treatment.
It can be obtained only by heat setting the film at a certain temperature of 250 ° C. or higher under no tension or low tension. As described above, since a film having a small heat shrinkage rate is used in the present invention, for example, even when immersed in a solder melt in an FPC mounting process, there is no warpage, peeling, change in conduction / insulation, etc. .

第4に、本発明に用いられるフイルムは25℃における
吸湿膨張係数が30×10-6mm/mm/%RH以下である。吸湿膨
張係数は好ましくは20×10-6mm/mm/%RH以下である。こ
のように吸湿による寸法変化が小さいという特徴は、高
温多湿の夏と低湿乾燥の冬との季節間差に関係なく、FP
Cが一定の性能や機能を発揮する上で重要であり、高温
での乾燥又は熱処理による高い結晶性と配向性の確保に
よつて達成される。
Fourth, the film used in the present invention has a coefficient of hygroscopic expansion at 25 ° C. of 30 × 10 −6 mm / mm /% RH or less. The coefficient of hygroscopic expansion is preferably 20 × 10 −6 mm / mm /% RH or less. The characteristic that the dimensional change due to moisture absorption is small as described above, regardless of the seasonal difference between hot and humid summer and low-humidity dry winter,
C is important for exhibiting certain performances and functions, and is achieved by ensuring high crystallinity and orientation by drying or heat treatment at a high temperature.

更に、本発明に用いられるフイルムは、高温乾燥又は
熱処理による独特の高結晶性がもたらす25℃65%RHにお
ける吸湿率が2.5重量%以下である。吸湿率が2.5重量%
より大きいフイルムを使用するとFPCの電気特性(例え
ば絶縁抵抗や誘電率、誘電正接など)が大幅に変動した
り、銅とフイルムとの接着が経時的に低下してしまうと
いう欠点が生じる。
Further, the film used in the present invention has a moisture absorption at 25 ° C. and 65% RH of 2.5% by weight or less which is provided by unique high crystallinity by high-temperature drying or heat treatment. 2.5% by weight moisture absorption
The use of a larger film has the disadvantage that the electrical characteristics of the FPC (for example, insulation resistance, dielectric constant, dielectric loss tangent, etc.) fluctuate significantly, and the adhesion between copper and the film decreases over time.

本発明に用いられるフイルムとしては、以上の如き必
須要件以外にも、以下の特徴を備えているものが好まし
い。
The film used in the present invention preferably has the following features in addition to the above essential requirements.

本発明に用いられるフイルムは、好ましくは、きわめ
て高い透明性を有している。高い透明性は、例えば、60
0nmの波長の可視光線の透過率が好ましくは55%以上、
より好ましくは70%以上を有する。
The film used in the present invention preferably has extremely high transparency. High transparency, for example, 60
The transmittance of visible light having a wavelength of 0 nm is preferably 55% or more,
More preferably it has 70% or more.

また、本発明に用いられるフイルムは、好ましくは、
実質的にボイドを含まない。
Further, the film used in the present invention is preferably
Substantially free of voids.

更に、本発明に用いられるフイルムは、通常、その密
度が1.370〜1.405g/cm3の範囲にある。この密度の値は
四塩化炭素−トルエンを使用した密度勾配管法によ30℃
で測定されたものである。この密度の範囲は、公知のPP
TA繊維のそれが1.43g/cm3から1.46g/cm3の範囲にあるの
に較べてかなり小さい値である。該密度が1.370g/cm3
満になると機械的物性が低下し、1.405g/cm3を超えると
脆くなり従つてタフさの損なわれたフイルムとなりやす
い。何れにしても、このように密度が小さいことから、
軽くて高強度のフイルムが得られることになる。
Further, the film used in the present invention usually has a density in the range of 1.370 to 1.405 g / cm 3 . The value of this density is 30 ° C. by a density gradient tube method using carbon tetrachloride-toluene.
It was measured with. This range of densities is known
This is considerably smaller than that of TA fiber, which is in the range of 1.43 g / cm 3 to 1.46 g / cm 3 . When the density is less than 1.370 g / cm 3 , the mechanical properties are reduced. When the density is more than 1.405 g / cm 3 , the film becomes brittle and accordingly tends to be a tough film. In any case, since the density is so small,
A light and high-strength film can be obtained.

このような本発明に用いられるフイルムを得るために
はまずPPTAから実質的になるポリマーの光学異方性ドー
プを調製する必要がある。
In order to obtain such a film used in the present invention, it is necessary to first prepare an optically anisotropic dope of a polymer consisting essentially of PPTA.

フイルムの成型に用いるドープを調製するのに適した
溶媒は、95重量%以上の濃度の硫酸である。95%未満の
硫酸では溶解が困難であつたり、溶解後のドープが異常
に高粘度になる。本発明のドープには、クロル硫酸、フ
ルオロ硫酸、五酸化リン、トリハロゲン化酢酸などが少
し混入されていてもよい。硫酸は100重量%以上のもの
も可能であるが、ポリマーの安定性や溶解性などの点か
ら98〜100重量%濃度が好ましく用いられる。
A suitable solvent for preparing a dope for use in film forming is sulfuric acid at a concentration of 95% by weight or more. With less than 95% sulfuric acid, it is difficult to dissolve, or the dope after dissolution becomes abnormally high in viscosity. The dope of the present invention may contain a small amount of chlorosulfuric acid, fluorosulfuric acid, phosphorus pentoxide, trihalogenated acetic acid, or the like. Sulfuric acid may be 100% by weight or more, but a concentration of 98 to 100% by weight is preferably used from the viewpoint of the stability and solubility of the polymer.

ドープ中のポリマー濃度は、常温(約20℃〜30℃)ま
たはそれ以上の温度で光学異方性を示す濃度以上のもの
であり、具体的には約10重量%以上で用いられる。これ
以下のポリマー濃度、すなわち常温またはそれ以上の温
度で光学異方性を示さないポリマー濃度では、成型され
たフイルムが好ましい機械的性質を持たなくなることが
多い。ドープのポリマー濃度の上限は特に限定されるも
のではないが、通常は20重量%以下、特に高いηinhの
ポリマーに対しては18重量%以下が好ましく用いられ更
に好ましくは16重量%以下である。
The concentration of the polymer in the dope is not less than the concentration exhibiting optical anisotropy at room temperature (about 20 ° C. to 30 ° C.) or higher, and specifically, about 10% by weight or more. At a polymer concentration lower than this, that is, a polymer concentration that does not exhibit optical anisotropy at room temperature or higher, the molded film often does not have favorable mechanical properties. The upper limit of the polymer concentration of the dope is not particularly limited, but is usually 20% by weight or less, particularly preferably 18% by weight or less, particularly preferably 16% by weight or less for a polymer having a high ηinh.

ドープには普通の添加剤、例えば、増量剤、除光沢
剤、紫外線安定化剤、熱安定化剤、抗酸化剤、顔料、溶
解助剤などを混入してもよい。
The dope may contain ordinary additives, for example, extenders, delusterants, ultraviolet stabilizers, heat stabilizers, antioxidants, pigments, dissolution aids, and the like.

ドープが光学異方性か光学等方性であるかは、公知の
方法、例えば特公昭50−8474号公報記載の方法で調べる
ことができるが、その臨界点は、溶媒の種類、温度、ポ
リマー濃度、ポリマーの重合度、非溶媒の含有量等に依
存するので、これらの関係を予め調べることによつて、
光学異方性ドープを作り、光学等方性ドープとなる条件
に変えることで、光学異方性から光学等方性に変えるこ
とができる。
Whether the dope is optically anisotropic or optically isotropic can be determined by a known method, for example, the method described in Japanese Patent Publication No. 50-8474, but its critical point is determined by the type of solvent, temperature, and polymer. It depends on the concentration, the degree of polymerization of the polymer, the content of the non-solvent, etc.
By making an optically anisotropic dope and changing the condition to be an optically isotropic dope, it is possible to change from optically anisotropic to optically isotropic.

ドープは、成形・凝固に先立つて可能な限り不溶性の
ゴミ、異物等を濾過等によつて取除いておくこと、溶解
中に発生又は巻きこまれる空気等の気体を取除いておく
ことが好ましい。脱気は、一旦ドープを調製したあとに
行うこともできるし、調製のための原料の仕込段階から
一貫して真空(減圧)下に行うことによつても達成しう
る。ドープの調製は連続又は回分で行うことができる。
It is preferable to remove the insoluble dust and foreign matter as much as possible by filtration or the like prior to molding and solidification, and to remove gases such as air generated or entrained during melting. Degassing can be performed after the dope is once prepared, or can be achieved by performing it under vacuum (reduced pressure) consistently from the stage of charging the raw materials for preparation. The preparation of the dope can be performed continuously or batchwise.

このようにして調製されたドープは、光学異方性を保
つたまま、ダイ例えばスリツトダイから、移動している
支持面上に流延される。本発明において、流延及びそれ
に続く光学等方性への転化、凝固、洗浄、延伸、乾燥な
どの工程は、好ましくは連続的に行われるが、もし必要
ならば、これらの全部又は一部を断続的に、つまり回分
式に行つてもよい。
The dope thus prepared is cast on a moving supporting surface from a die, for example, a slit die, while maintaining optical anisotropy. In the present invention, the steps of casting and subsequent conversion to optical isotropic, coagulation, washing, stretching, drying and the like are preferably carried out continuously, but if necessary, all or a part of these may be carried out. It may be done intermittently, i.e. in a batch manner.

本発明に用いられる透明フイルムを得る方法は、ドー
プを支持面上に流延した後、凝固に先立つてドープを光
学異方性から光学等方性に転化するものである。
The method for obtaining a transparent film used in the present invention is to convert the dope from optically anisotropic to optically isotropic prior to solidification after casting the dope on the support surface.

光学異方性から光学等方性にするには、具体的には支
持面上に流延した光学異方性ドープを凝固に先立ち、吸
湿させたドープを形成する溶剤の濃度を下げ、溶剤の溶
解能力およびポリマー濃度の変化により光学等方性域に
転移させるか、または加熱することによりドープを昇温
し、ドープの相を光学等方性に転移させる或いは、吸湿
と加熱とを同時は逐次的に併用することにより達成でき
る。
In order to make the optically anisotropic from optical anisotropy, specifically, prior to solidification of the optically anisotropic dope cast on the support surface, the concentration of the solvent forming the absorbed dope is reduced, and the concentration of the solvent is reduced. The dope is transferred to the optically isotropic region by the change of the dissolving ability and the polymer concentration, or the temperature of the dope is raised by heating, and the phase of the dope is transferred to the optically isotropic, or the moisture absorption and the heating are simultaneously performed sequentially. It can be achieved by using them together.

特に、吸湿を利用する方法は、加熱を併用する方法も
含めて、光学異方性の光学等方化が効率よくかつポリマ
ーの分解をひきおこすことなく出来るので、有用であ
る。
In particular, a method utilizing moisture absorption is useful because it can efficiently optically anisotropy the optical anisotropy and can cause no decomposition of the polymer, including a method using heating in combination.

ドープを吸湿させるには、通常の温度・湿度の空気で
もよいが、好ましくは、加湿又は加温加湿された空気を
用いる。加湿空気は飽和蒸気圧をこえて霧状の水分を含
んでいてもよく、いわゆる水蒸気であつてもよい。ただ
し、約45℃以下の過飽和水蒸気は、大きい粒状の凝縮水
を含むことが多いので好ましくない。吸湿は通常、室温
〜約180℃、好ましくは50℃〜150℃の加湿空気によつて
行われる。
In order to absorb the dope, air at a normal temperature and humidity may be used, but preferably humidified or heated and humidified air is used. The humidified air may contain water in the form of mist exceeding the saturated vapor pressure, and may be so-called steam. However, supersaturated steam at about 45 ° C. or lower is not preferable because it often contains large granular condensed water. Moisture absorption is usually carried out with humidified air at room temperature to about 180 ° C, preferably 50 ° C to 150 ° C.

加熱による方法の場合、加熱の手段は特に限定され
ず、蒸気の如き加湿された空気を流延ドープに当てる方
法、赤外線ランプを照射する方法、誘電加熱による方法
などである。
In the case of the method by heating, the heating means is not particularly limited, and includes a method of applying humidified air such as steam to the casting dope, a method of irradiating an infrared lamp, a method of dielectric heating, and the like.

支持面上で光学等方化された流延ドープは、次に凝固
をうける。ドープの凝固液として使用できるのは、例え
ば水、約70重量%以下の希硫酸、約20重量%以下の水酸
化ナトリウム水溶液およびアンモニア水、約10重量%以
下の硫酸ナトリウム、塩化ナトリウム水溶液および塩化
カルシウム水溶液などである。
The casting dope optically isotropic on the support surface is then subjected to solidification. The coagulating liquid of the dope can be, for example, water, about 70% by weight or less of dilute sulfuric acid, about 20% by weight or less of sodium hydroxide aqueous solution and ammonia water, about 10% by weight or less of sodium sulfate, sodium chloride aqueous solution and chloride. Calcium aqueous solution and the like.

凝固液の温度は、好ましくは15℃以下であり、更に好
ましくは5℃以下である。何故なら、一般に、凝固液温
度を低くした方が、フイルムに包含されるボイドが少く
なるという傾向が見出されたからである。
The temperature of the coagulating liquid is preferably 15 ° C. or lower, more preferably 5 ° C. or lower. This is because, generally, it has been found that the lower the coagulating liquid temperature, the smaller the void contained in the film.

凝固されたフイルムはそのままでは酸が含まれている
ため、加熱による機械的物質の低下の少ないフイルムを
製造するには酸分の洗浄、除去をできるだけ行う必要が
ある。酸分の除去は、具体的には約500PPm以下まで行う
ことが望ましい。洗浄液としては水が通常用いられる
が、必要に応じて温水で行つたり、アルカリ水溶液で中
和洗浄した後、水などで洗浄してもよい。洗浄は、例え
ば洗浄液中でフイルムを走行させたり、洗浄液を噴霧す
る等の方法により行われる。
Since the coagulated film contains an acid as it is, it is necessary to wash and remove the acid component as much as possible in order to produce a film in which a mechanical substance is hardly reduced by heating. Specifically, it is desirable that the removal of the acid content be performed up to about 500 PPm or less. Water is usually used as the washing liquid, but if necessary, washing may be carried out with warm water, or after neutralizing and washing with an aqueous alkaline solution, followed by washing with water or the like. The cleaning is performed by, for example, running the film in the cleaning liquid or spraying the cleaning liquid.

洗浄されたフイルムは、次に乾燥をうける。乾燥つま
り水分の減少に伴なつて、フイルムを無張力下に置く
と、一般にフイルムが収縮を起すが、本発明に用いられ
るフイルムの取得に当つては、乾燥工程でフイルムを収
縮させないことが肝要である。ここで、収縮をさせない
という表現は、定長のまま乾燥させることと延伸しつつ
乾燥させることの二つが含まれていると解すべきであ
る。そして、例えば、フイルムの一方向にのみ延伸し、
他方向は定長のままという態様も許される。乾燥温度の
選定も重要で、350℃以上の雰囲気温度(T1℃)で実施
するか、又は一旦任意の温度で乾燥を行つたのち、350
℃以上の温度(T1℃)で収縮をさせずに熱処理すること
で実施される。ここで、乾燥とはフイルムからの水分の
除去を意味し、それ以降のフイルムの物理的構造(例え
ば、結晶状態)の変化をさせるのを熱処理と称する。い
ずれにせよ、350℃以上の温度T1で緊張下に構造の固定
を行う必要があり、これによつて、吸湿膨張係数を小さ
くし、吸湿を抑えることができる。
The washed film is then dried. When the film is placed under no tension due to drying, that is, a decrease in water content, the film generally shrinks.However, in obtaining the film used in the present invention, it is important to not shrink the film in the drying step. It is. Here, the expression “no shrinkage” should be understood to include two things: drying with a fixed length and drying while stretching. Then, for example, the film is stretched only in one direction,
A mode in which the other direction remains at a fixed length is also allowed. It is also important to select a drying temperature, either at an ambient temperature of 350 ° C or higher (T 1 ° C), or after drying at an arbitrary temperature,
It is carried out by heat treatment at a temperature of not less than ℃ (T 1 ℃) without shrinkage. Here, drying means removal of water from the film, and the subsequent change of the physical structure (for example, crystal state) of the film is called heat treatment. In any case, it is necessary to perform the fixing of the structure under tension at a temperature T 1 of the above 350 ° C., this was reduced Yotsute, the hygroscopic expansion coefficient, it is possible to suppress moisture absorption.

このように350℃以上の温度T1(℃)で乾燥又は熱処
理をしたのち、次いで250T2T1−30を満すT2(℃)
で0〜0.8kg/mm2の無緊張下又は低張力下に熱処理を行
うことも肝要である。これは実質的無緊張下に謂ゆる熱
固定を行うことを意味し、この熱固定によつて熱収縮率
を小さくでき、また副次的に耐引裂性を向上できる。
After drying or heat treatment at a temperature T 1 (° C.) of 350 ° C. or more, then T 2 (° C.) satisfying 250 T 2 T 1 -30
In performing the no tension or under a heat treatment under low tension 0~0.8kg / mm 2 is also important. This means that the so-called thermal fixation is performed under substantially no tension, and the thermal fixation can reduce the heat shrinkage and can improve the tear resistance as a secondary effect.

上記した収縮をさせずに乾燥や熱処理を行うには、例
えばテンターや金属枠に挟んでオーブン中に入れるなど
の方法で、また、弛緩下又は低張力下の乾燥は、自由端
の状態でオーブン中に入れる方法やテンターを定長にし
て温度を約50℃より大きく下げる(つまりT1−T2≧50
(℃))方法、テンターの把持間隔を少しせばめるなど
の方法で実施できる。乾燥や熱処理に係る他の条件は特
に制限されるものではなく、加熱気体(空気、窒素、ア
ルゴンなど)や常温気体による方法、電気ヒーターや赤
外線ランプなどの輻射熱の利用法、誘電加熱法などの手
段から自由に選ぶことができる。
In order to perform drying or heat treatment without causing the above-described shrinkage, for example, a method such as inserting a tenter or a metal frame into an oven, and drying under relaxation or low tension is performed in a state where the oven is in a free end state. Lowering the temperature by more than about 50 ° C by using a fixed length or tenter (that is, T 1 −T 2 ≧ 50
(° C.)) method, a method of slightly shortening the holding interval of the tenter, or the like. Other conditions relating to drying and heat treatment are not particularly limited, such as a method using a heating gas (air, nitrogen, argon, etc.) or a normal temperature gas, a method using radiant heat such as an electric heater or an infrared lamp, and a dielectric heating method. You can choose freely from the means.

本発明の方法において、全工程を通して連続してフイ
ルムを走行させつつ製造することが好ましい実施態様の
1つであるが、望むならば部分的に回分式に行つてもよ
い。また任意の工程で油剤、識別用の染料などをフイル
ムに付与してもさしつかえない。
In the method of the present invention, it is one of the preferred embodiments that the film is manufactured while running the film continuously throughout the entire process. However, if desired, the film may be partially batchwise operated. Also, an oil agent, a dye for identification, or the like may be applied to the film in an arbitrary step.

なお、透明性のすぐれた、即ち光線透過率の極めて大
きい、フイルムを得るために、ドープは無論のこと、吸
湿用気体、加熱用気体、支持面体、凝固液、洗浄液、乾
燥気体等のゴミやチリの含有量が可及的に少なくなるよ
うにすることが好ましく、この点、謂ゆるクリーンルー
ムやクリーン水でフイルムを製造するのも好ましい実施
態様の1つである。
In addition, in order to obtain a film with excellent transparency, that is, a film having an extremely high light transmittance, the dope is, of course, a garbage such as a gas for absorption of moisture, a gas for heating, a support surface, a coagulating liquid, a cleaning liquid, and a dry gas. It is preferable to reduce the content of chile as much as possible. In this regard, producing a film in a so-called clean room or clean water is also a preferred embodiment.

以上の方法により得られる、特別な特性をもつたフイ
ルムを絶縁基板とすることにより初めて本発明の目的と
する、苛酷な環境において変性や変質、反りなどの発生
しない高信頼性でかつ高密度配線の可能なFPCが得られ
るのである。しかしこの基板フイルムの性能をより十分
に発揮させるためには、銅の積層に際して十分な注意を
払う必要がある。
The first object of the present invention is to provide a highly reliable and high-density wiring that is free from degeneration, deterioration, and warpage in a severe environment by using a film having special characteristics obtained by the above method as an insulating substrate. A possible FPC is obtained. However, in order to make full use of the performance of the substrate film, it is necessary to pay sufficient attention in laminating copper.

導体としての銅の積層方法としては電解銅箔或いは圧
延銅箔を耐熱性に優れた接着剤で貼り合わせる方法が一
般に用いられる。この接着剤の選択並びに接着方法は重
要なポイントとなる。
As a method of laminating copper as a conductor, a method of bonding electrolytic copper foil or rolled copper foil with an adhesive having excellent heat resistance is generally used. The selection and bonding method of the adhesive are important points.

即ち接着剤としては耐熱性に優れたポリイミド系化合
物、エポキシ系化合物、熱硬化性ポリフエニレンオキシ
ド系化合物が好適な例である。接着剤は一般に溶液状で
塗布され、溶剤の選定に当つては接着剤を溶解すること
は勿論必要であるが、基材フイルムを侵すものであつて
はならない。この点本発明のフイルムはこれら殆んど全
ての溶剤に全く侵されることなく、最適な基材フイルム
と言える。
That is, polyimide-based compounds, epoxy-based compounds, and thermosetting polyphenylene oxide-based compounds excellent in heat resistance are preferable examples of the adhesive. The adhesive is generally applied in the form of a solution. In selecting a solvent, it is of course necessary to dissolve the adhesive, but it must not damage the base film. In this respect, the film of the present invention can be said to be an optimal base film without being affected by almost all of these solvents.

(実施例) 以下に実施例を示すが、これらの実施例は本発明を説
明するものであつて、本発明を限定するものではない。
なお、実施例中特に規定しない場合は重量部または重量
%を示す。対数粘度ηinhは98%硫酸100mlにポリマー0.
5gを溶解し、30℃で常法で測定した。強伸度およびヤン
グ率は、定速伸長型強伸度測定機により、フイルム試料
を100mm×10mmの長方形に切り取り、最初のつかみ長さ3
0mm、引張り速度30mm/分で荷重−伸長曲線を5回描き、
これより算出したものである。
(Examples) Examples will be shown below, but these examples are intended to explain the present invention and do not limit the present invention.
Unless otherwise specified in the examples, parts or parts by weight are indicated. Logarithmic viscosity ηinh is 98% sulfuric acid 100ml and polymer 0.
5 g was dissolved and measured at 30 ° C. by a conventional method. For the elongation and Young's modulus, a film sample was cut into a 100 mm × 10 mm rectangle by a constant-speed elongation type
Draw a load-elongation curve 5 times at 0 mm and a pulling speed of 30 mm / min.
It is calculated from this.

膨張係数の測定には、熱機械分析装置を用い、幅5mm
把持部間長さ15mmの試料に0.05kg/mm2の荷重をかけて行
つた。熱膨張係数の場合、25〜250℃の間で試料の寸法
変化を測定し25〜250℃間の変化率を225で除して算出し
た。
To measure the expansion coefficient, use a thermomechanical analyzer, width 5 mm
A sample having a length of 15 mm between the gripping portions was applied with a load of 0.05 kg / mm 2 . In the case of the coefficient of thermal expansion, the dimensional change of the sample was measured between 25 and 250 ° C., and the rate of change between 25 and 250 ° C. was calculated by dividing by 225.

一方、吸湿膨張係数の場合には、25℃において、まず
20%相対湿度に保持したのち、加湿機から80%相対湿度
に上昇するまで加湿し、この間の寸法変化率を60で除し
て算出した。
On the other hand, in the case of the coefficient of hygroscopic expansion, at 25 ° C.,
After maintaining the relative humidity at 20%, the humidifier was humidified until the relative humidity increased to 80%, and the dimensional change rate during this period was calculated by dividing by 60.

吸湿率は、25℃、65%相対湿度に48時間フイルムを静
置して測定した重量と、それを次いで120℃真空乾燥機
で恒量に達するまで乾燥して得たフイルムの重量とから
算出した。
The moisture absorption was calculated from the weight of the film which was left standing at 25 ° C. and 65% relative humidity for 48 hours and the weight of the film obtained by drying the film until it reached a constant weight in a 120 ° C. vacuum dryer. .

250℃における熱収縮率は、0.05kg/mm2の張力を付与
して250℃のオーブン中に30分間放置し、このオーブン
処理前後の室温(25℃)における寸法変化から計算した
ものである。
The heat shrinkage at 250 ° C. is calculated from a dimensional change at room temperature (25 ° C.) before and after the oven treatment, after applying a tension of 0.05 kg / mm 2 and leaving the plate in an oven at 250 ° C. for 30 minutes.

実施例1 ηinhが5.5のPPTAポリマーを99.7%の硫酸にポリマー
濃度11.5%で溶解し、60℃で光学異方性のあるドープを
得た。このドープの粘度を常温で測定したところ、10,6
00ポイズだつた。製膜しやすくするために、このドープ
を約70℃に保つたまま、真空下に脱気した。この場合も
上記と同じく光学異方性を有し、粘度は、4,400ポイズ
であつた。タンクからフイルターを通し、ギアポンプを
へてダイに到る1.5mの曲管を約70℃に保ち、0.1mm×300
mmのスリツトを有するダイから、鏡面に磨いたタンタル
製のベルトにキヤストし、相対湿度約12%の約105℃の
空気を吹きつけて、流延ドープを光学等方化し、ベルト
とともに5℃の水の中に導いて凝固させた。次いで凝固
フイルムをベルトからひきはがし、約40℃の温水中を走
行させて洗浄した。洗浄の終了したフイルムを乾燥させ
ずにテンターで長さ方向及び幅方向に各々15%ずつ延伸
し、次いで別のテンターを用いて定長下に370℃で熱風
乾燥した。
Example 1 A PPTA polymer having a η inh of 5.5 was dissolved in 99.7% sulfuric acid at a polymer concentration of 11.5% to obtain a dope having optical anisotropy at 60 ° C. When the viscosity of this dope was measured at room temperature,
00 poise. The dope was degassed under vacuum while keeping the dope at about 70 ° C. to facilitate film formation. Also in this case, it had the same optical anisotropy as above, and the viscosity was 4,400 poise. Keep the 1.5m curved pipe from the tank through the filter, through the gear pump to the die at about 70 ° C, 0.1mm x 300mm
From a die having a slit of mm, cast on a tantalum belt polished to a mirror surface, and blow air at about 105 ° C with a relative humidity of about 12% to make the casting dope optically isotropic. Guided into water to solidify. Next, the coagulated film was peeled off from the belt and washed by running in warm water at about 40 ° C. The washed film was stretched 15% each in the length direction and the width direction by a tenter without drying, and then dried with a different tenter at 370 ° C. under a constant length at 370 ° C.

更に、フイルムを第3のテンターに導き、幅方向及び
長さ方向の把持長が5%づつ小さくなるようにクリツプ
状の把持部を調整して、340℃で熱固定した。このとき
第3テンターでの張力は殆んど0であつた。
Further, the film was guided to a third tenter, and the clip-shaped grip portion was adjusted so that the grip length in the width direction and the length direction was reduced by 5% each, and heat-fixed at 340 ° C. At this time, the tension in the third tenter was almost 0.

得られたフイルムは、厚み20μm、ηinh5.1、強度28
kg/mm2、伸度23%、ヤング率760kg/mm2、熱膨張係数11
×10-6mm/mm/℃、熱収縮率0.01%未満、吸湿膨張係数21
×10-6mm/mm/%RH、吸湿率1.5%、光線透過率76%、密
度1.405g/cm3で等方的な性質をもったフイルムであっ
た。
The obtained film had a thickness of 20 μm, ηinh5.1, and a strength of 28.
kg / mm 2 , elongation 23%, Young's modulus 760 kg / mm 2 , coefficient of thermal expansion 11
× 10 -6 mm / mm / ° C, heat shrinkage less than 0.01%, hygroscopic expansion coefficient 21
× 10 −6 mm / mm /% RH, moisture absorption 1.5%, light transmittance 76%, density 1.405 g / cm 3 , and a film having isotropic properties.

上記フイルムと35μの電解銅箔を次の構造式で示され
る接着剤 を用いて280℃で加熱圧着した。
The above film and 35μ electrolytic copper foil adhesive represented by the following structural formula And heat-pressed at 280 ° C.

このようにして得られたEPCの特性を第1表に示す。 Table 1 shows the characteristics of the EPC thus obtained.

実施例2 実施例1において、第3テンター温度を320℃にした
以外は、実施例1と同じ方法、条件でPPTAフイルムを製
造した。
Example 2 A PPTA film was produced in the same manner as in Example 1 except that the third tenter temperature was changed to 320 ° C.

得られたフイルムは、厚み20μm、ηinh5.0、強度29
kg/mm2、伸度20%、ヤング率890kg/mm2、熱膨張係数8
×10-6mm/mm/℃、熱収縮率0.01%未満、吸湿膨張係数14
×10-6mm/mm/%RH、吸湿率1.8%、光線透過率74%、密
度1.402g/cm3で等方的な性質をもったフイルムであっ
た。
The obtained film had a thickness of 20 μm, an ηinh of 5.0, and a strength of 29.
kg / mm 2 , elongation 20%, Young's modulus 890 kg / mm 2 , coefficient of thermal expansion 8
× 10 -6 mm / mm / ° C, heat shrinkage less than 0.01%, hygroscopic expansion coefficient 14
× 10 −6 mm / mm /% RH, moisture absorption 1.8%, light transmittance 74%, density 1.402 g / cm 3 , and a film having isotropic properties.

上記フイルムと35μの電解銅箔を次の構造を有する接
着剤 を用いて220℃で加熱圧着した。
Adhesive having the following structure with the above film and 35μ electrolytic copper foil And heated and pressed at 220 ° C.

このようにして得られたFPCの特性を第1表に示す。 Table 1 shows the characteristics of the FPC thus obtained.

実施例3 ηinhが4.8のPPTAを99.5%硫酸に12%で溶解し45℃で
光学異方性のある3,600ポイズのドープを得た。脱気、
濾過したのち、0.08mm×300mmのスリツトを有するダイ
から、このドープをタンタル製のベルト上に流延した。
相対湿度約80%の約75℃の空気を吹きつけて流延ドープ
を透明な光学等方性ドープに転化し、次いで0℃の10%
硫酸水溶液で凝固させた。凝固したフイルムをベルトか
らはがしたのち、常温の水、2%カセイソーダ水溶液、
約30〜40℃の水の順に洗浄した。
Example 3 PPTA having ηinh of 4.8 was dissolved in 99.5% sulfuric acid at 12% to obtain a 3,600 poise dope having optical anisotropy at 45 ° C. Degassing,
After filtration, the dope was cast on a tantalum belt from a die having a slit of 0.08 mm × 300 mm.
The casting dope is converted into a transparent optically isotropic dope by blowing air at about 75 ° C. with a relative humidity of about 80%, and then 10% of 0 ° C.
It was coagulated with an aqueous sulfuric acid solution. After peeling the solidified film from the belt, water at room temperature, 2% aqueous sodium hydroxide solution,
Washing was performed in the order of water at about 30 to 40 ° C.

洗浄されて約250〜350%の水を含有する湿潤フイルム
を180℃の熱風の循環するテンター中で、定長下に乾燥
した。
The washed wet film containing about 250-350% water was dried under constant length in a tenter with circulating hot air at 180 ° C.

次いで、テンター出口には取付けた410℃の熱板で、
フイルムの上下から定長熱処理し、更に300℃に保持し
た第2テンターにて幅方向及び長さ方向に約8%把持長
さを減少させつつ熱固定した。得られたフイルムは、厚
さ25μm、ηinh4.4、光線透過率76%、密度1.401g/c
m3、強度31kg/mm2、伸度18%、ヤング率780kg/mm2、吸
湿率0.9%、熱収縮率0.01%未満、熱膨張係数14×10-6m
m/mm/℃、吸湿膨張係数10×10-6mm/mm/%RHの等方的な
性質を持つフイルムであつた。
Next, at the tenter outlet, a 410 ° C hot plate was attached.
The film was subjected to a fixed length heat treatment from above and below the film, and further heat-set by a second tenter kept at 300 ° C. while reducing the holding length by about 8% in the width and length directions. The obtained film had a thickness of 25 μm, ηinh 4.4, a light transmittance of 76%, and a density of 1.401 g / c.
m 3 , strength 31 kg / mm 2 , elongation 18%, Young's modulus 780 kg / mm 2 , moisture absorption 0.9%, heat shrinkage less than 0.01%, coefficient of thermal expansion 14 × 10 -6 m
The film had isotropic properties of m / mm / ° C. and a coefficient of hygroscopic expansion of 10 × 10 −6 mm / mm /% RH.

上記フイルムと35μの電解銅箔を実施例2と同じ接着
剤により220℃で加熱圧着した。得られたFPCの特性を第
1表に示す。
The above film and a 35 μm electrolytic copper foil were heat-pressed at 220 ° C. with the same adhesive as in Example 2. Table 1 shows the characteristics of the obtained FPC.

〔発明の効果〕 本発明のFPCは、温度、湿度に対する寸法安定性にき
わめてすぐれている。また吸湿率も小さく、タフであ
る。
[Effect of the Invention] The FPC of the present invention has extremely excellent dimensional stability against temperature and humidity. It also has a low moisture absorption and is tough.

このため、高温、高温高湿、寒冷などの苛酷な環境に
置いても、変形、反り、剥離等は無論のこと、故障も発
生しなく、信頼性が高い。また、高周波回路への適応性
にもすぐれ、高密度配線も可能である。
Therefore, even in a severe environment such as high temperature, high temperature and high humidity, and cold, deformation, warping, peeling, etc., of course, do not cause a failure and high reliability. Also, it is excellent in adaptability to a high frequency circuit, and high density wiring is possible.

加うるに、FPCに要求される種々の特性、例えば半田
耐熱性、可撓性、耐薬品性、電気特性など、多くの点で
非常に優れた特性を発揮することは実施例に示した通り
である。
In addition, various properties required for FPC, such as solder heat resistance, flexibility, chemical resistance, electrical properties, etc. It is.

更に本発明のFPCは、従来のポリイミドからなるFPCよ
りも安価に提供できるという利点もある。
Further, the FPC of the present invention has an advantage that it can be provided at a lower cost than the conventional FPC made of polyimide.

したがつて本発明のFPCは、これらの特徴を活かして
各種の電子機器類、カメラ、時計等々に使用できる。
Therefore, the FPC of the present invention can be used for various electronic devices, cameras, clocks, and the like by utilizing these features.

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】対数粘度が3.5以上の実質的にポリ−パラ
フェニレンテレフタラミドよりなるフイルムであって、
全ての方向のヤング率が700kg/mm2以上、25℃から250℃
までの熱膨張係数が(0〜15)×10-6mm/mm/℃、250℃
における熱収縮率が0.1%以下、25℃における吸湿膨張
係数が30×10-6mm/mm/%RH以下、かつ25℃65%RHにおけ
る吸湿率が2.5重量%以下であるフイルムを絶縁基板と
し、そのフイルムの少なくとも片面に銅を積層させてな
るフレキシブルプリント配線基板。
A film consisting essentially of poly-paraphenylene terephthalamide having a logarithmic viscosity of 3.5 or more,
All direction Young's modulus 700 kg / mm 2 or more, 250 ° C. from 25 ° C.
Thermal expansion coefficient up to (0-15) × 10 -6 mm / mm / ℃, 250 ℃
A film having a heat shrinkage of 0.1% or less at 25 ° C., a coefficient of moisture expansion at 25 ° C. of 30 × 10 −6 mm / mm /% RH or less, and a moisture absorption at 25 ° C. of 65% RH of 2.5% by weight or less is used as an insulating substrate. And a flexible printed circuit board formed by laminating copper on at least one side of the film.
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