JP2726316B2 - Inspection equipment for semiconductor parts - Google Patents
Inspection equipment for semiconductor partsInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、第1図に示すように、長尺帯状のリードフ
レームAを、その長手方向に移送する途次、ダイオード
等のように少なくとも左右一対の外部端子B1,B2を有す
る半導体部品Bを、前記リードフレームAの長手方向に
沿って一定ピッチPの間隔で、且つ、その両外部端子B
1,B2を介してリードフレームAに一体的に連接した状態
で製造する場合において、前記各半導体部品Bの性能
を、当該半導体部品BをリードフレームAに連接したま
まの状態で検査するための装置に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] As shown in FIG. 1, the present invention relates to a method of transporting a long strip-shaped lead frame A in the longitudinal direction at least while a lead frame A is being transferred. A semiconductor component B having a pair of left and right external terminals B1 and B2 is placed at a constant pitch P along the longitudinal direction of the lead frame A, and both external terminals B
In order to inspect the performance of each semiconductor component B in a state where the semiconductor component B is connected to the lead frame A in a case where the semiconductor component B is manufactured while being connected integrally to the lead frame A via the first and second B2. It concerns the device.
〔従来の技術〕 前記の検査に際して、従来は、リードフレームAを、
第8図に示すように、その長手方向に複数個の半導体部
品Bの間隔、つまり、半導体部品Bの個数をNとした場
合にN×P=Lの長さ寸法ずつ間欠的に移送し、その間
欠移送を一旦停止しているときにおいて、前記N個(例
えば、N=5個)の各半導体部品Bにおける他方の外部
端子B2の各々に、前記リードフレームAに向って下降動
するハンドラーCから突出したプローブC1を接触して、
このプローブC1を介して各半導体部品Bに給電すること
によって、各半導体部品Bの性能を検査し、この検査が
終了して、前記ハンドラーCが、各プローブC1が他方の
外部端子B2から離れるように上昇すると、前記リードフ
レームAを、前記N×P=Lの長さだけ移送することを
繰り返すようにしている。[Prior Art] In the above-mentioned inspection, conventionally, a lead frame A was
As shown in FIG. 8, when the number of semiconductor components B is N, that is, the interval between a plurality of semiconductor components B in the longitudinal direction, that is, the number of semiconductor components B is intermittently transferred by a length of N × P = L. When the intermittent transfer is temporarily stopped, the handler C moving downward toward the lead frame A is connected to each of the other external terminals B2 of the N (for example, N = 5) semiconductor components B. Contact the probe C1 protruding from
By supplying power to each semiconductor component B via the probe C1, the performance of each semiconductor component B is inspected, and this inspection is completed, and the handler C moves the probe C1 away from the other external terminal B2. , The transfer of the lead frame A by the length of N × P = L is repeated.
しかし、この従来の検査方法は、半導体部品BをN個
ずつ検査すると云う間欠的な検査で、N個の半導体部品
Bの検査に要する時間Tは、リードフレームAをN×P
=Lの長さだけ移送するに要する時間T1、プローブC1付
きハンドラーCをリードフレームAに向って下降するに
要する時間T2、半導体部品Bに給電してその要否を判別
するに要する時間T3、及び前記プローブC1付きハンドラ
ーCをリードフレームAから上昇するに要する時間T4の
合計であり、前記N個の半導体部品Bの検査には、前記
T1及びT2並びにT4と云う無駄な時間を必要とするから、
単位時間当たりに検査できる半導体部品の数はそれだけ
少なくなり、換言すると、検査の速度が遅いのである。However, this conventional inspection method is an intermittent inspection in which the semiconductor components B are inspected N by N. The time T required for the inspection of the N semiconductor components B is equal to N × P
= Time T1 required to transfer by length L, time T2 required to lower the handler C with the probe C1 toward the lead frame A, time T3 required to supply power to the semiconductor component B and determine the necessity thereof, And the time T4 required to raise the handler C with the probe C1 from the lead frame A, and the inspection of the N semiconductor components B
T1 and T2 and T4 need wasted time, so
The number of semiconductor components that can be inspected per unit time becomes smaller, in other words, the inspection speed is slow.
しかも、従来の検査方法では、リードフレームを、そ
の長手方向にN×P=Lの長さずつ間欠的に移送するよ
うにしなければならないことに加えて、プローブ付きハ
ンドラーを、前記リードフレームの間欠移送にタイミン
グを合せて上下動するようにしなければならないから、
装置の構造がきわめて複雑になると共に、装置が大型化
するのであり、更に、装置の製作価格が上昇するから、
前記検査の速度が遅いことと相俟って、検査に要するコ
ストが可成りアップするのである。In addition, in the conventional inspection method, the lead frame must be intermittently transported in the longitudinal direction by a length of N × P = L. You have to move up and down in time with the transfer,
Since the structure of the device becomes extremely complicated, the size of the device increases, and the production cost of the device increases,
In combination with the slow inspection speed, the cost required for the inspection is considerably increased.
本発明は、リードフレームを、一定の速度で連続的に
移送する状態において、当該リードフレームに一体的に
連接されている各半導体部品を検査できるようにした装
置を提供することにより、前記従来の問題を解消するこ
とを目的とするものである。The present invention provides an apparatus capable of inspecting each semiconductor component integrally connected to the lead frame in a state in which the lead frame is continuously transferred at a constant speed, whereby the conventional technique is provided. The purpose is to eliminate the problem.
この目的を達成するため本発明は、長手方向に沿って
一定ピッチで半導体部品を備えたリードフレームをその
長手方向に適宜速度で連続的に移送する経路中に、前記
リードフレームの長手方向に沿って適宜間隔を隔てて一
対のプーリを設け、該両プーリの間に巻掛けした絶縁体
製の無端ベルトを、前記リードフレームにおける一方の
表面に接触する一方、前記両プーリの間の部位に、前記
リードフレームの移送速度と等しい周速度で回転する測
定ホイールを配設し、該測定ホイールの外周面を、前記
リードフレームにおける他方の表面に対して当該リード
フレーム及び前記無端ベルトを湾曲するように押圧接触
し、更に、前記測定ホイールの外周面に、前記半導体部
品における少なくとも左右一対の外部端子のうち前記リ
ードフレームから切断した外部端子に対して接触するよ
うにしたプローブを、当該測定ホイールの外周面におけ
る円周方向に沿って前記各半導体部品のピッチと等しい
間隔で多数本設ける構成にした。In order to achieve this object, the present invention provides a method for moving a lead frame provided with semiconductor components at a constant pitch along the longitudinal direction along the longitudinal direction of the lead frame in a path for continuously transferring the lead frame at an appropriate speed in the longitudinal direction. A pair of pulleys are provided at appropriate intervals, and an endless belt made of an insulator wound between the two pulleys is brought into contact with one surface of the lead frame, and at a portion between the two pulleys, A measuring wheel that rotates at a peripheral speed equal to the transfer speed of the lead frame is provided, and the outer peripheral surface of the measuring wheel is curved so that the lead frame and the endless belt are curved with respect to the other surface of the lead frame. Press contact, and further cut from the lead frame of at least a pair of left and right external terminals of the semiconductor component on the outer peripheral surface of the measurement wheel. A probe adapted to contact with external terminals and, and in a number the provided configuration equal intervals between the pitch of the semiconductor component in the circumferential direction on the outer peripheral surface of the measuring wheel.
このように構成すると、長手方向に適宜速度で連続的
に移送されるリードフレームは、当該リードフレームの
移送速度と等しい周速度で回転する測定ホイールの外周
面に対して、適宜の接触角度にわたって接触するように
巻掛けされると共に、無端ベルトによって押圧された状
態になるから、前記測定ホイールの外周面に各半導体部
品のピッチと等しい間隔で設けた各プローブは、リード
フレームの移送及び測定ホイールの回転に伴い、リード
フレームの各半導体部品における少なくとも左右一対の
外部端子のうち前記リードフレームから切断した外部端
子に対して順次接当することになる。With this configuration, the lead frame continuously transferred at an appropriate speed in the longitudinal direction contacts the outer peripheral surface of the measuring wheel rotating at a peripheral speed equal to the transfer speed of the lead frame over an appropriate contact angle. Each probe provided on the outer peripheral surface of the measurement wheel at an interval equal to the pitch of each semiconductor component is transferred to the lead frame and the measurement wheel is moved. Along with the rotation, of the at least one pair of left and right external terminals in each semiconductor component of the lead frame, the external terminals cut sequentially from the lead frame are sequentially contacted.
しかも、この各プローブの外部端子に対する接当は、
前記リードフレームが測定ホイールの外周面に対して巻
掛けされた接触角度の間にわたって維持されるから、こ
の接触角度の間において、リードフレームにおける各半
導体部品に対して、前記測定ホイールにおけるプローブ
を介して給電することにより、各半導体部品における性
能を検査することができるのである。Moreover, the contact of each probe with the external terminal is
Since the lead frame is maintained during the contact angle wound around the outer peripheral surface of the measurement wheel, during this contact angle, each semiconductor component in the lead frame is connected to the probe through the probe in the measurement wheel. By supplying power, the performance of each semiconductor component can be inspected.
このように本発明によると、リードフレームをその長
手方向に適宜の速度で連続的に移送する状態において、
該リードフレームの長手方向に沿って一定ピッチで連接
されている半導体部品の総ての性能を検査することがで
きるから、以下に述べるような効果を奏する。As described above, according to the present invention, in a state where the lead frame is continuously transferred at an appropriate speed in the longitudinal direction thereof,
Since the performance of all the semiconductor components connected at a constant pitch along the longitudinal direction of the lead frame can be inspected, the following effects are obtained.
すなわち、半導体部品の検査に際して、前記従来のよ
うに、リードフレームの移送を一旦停止すること、及び
この停止中においてプローブ付きハンドラーを上下動す
ることとを、全く必要としないから、単位時間当たりに
検査できる半導体部品の数を増大することができ、換言
すると、検査を早い速度で行うことができるのである。That is, when inspecting semiconductor components, it is not necessary to temporarily stop the transfer of the lead frame and move the handler with the probe up and down during this stop, as in the conventional case. The number of semiconductor components that can be inspected can be increased, in other words, the inspection can be performed at a high speed.
しかも、リードフレームを適宜速度で連続的に移送す
るだけで良く、前記従来のように、リードフレームを適
宜長手ずつ間欠移送するための機構、及びプローブ付き
ハンドラーを上下動するための機構を必要としないか
ら、装置の構造がきわめて簡単になり、装置の小型化
と、装置の製作価格の低減とを達成できるのであり、こ
の装置の製作価格の低減と、前記検査の速度をアップす
ることができることと相俟って、検査に要するコスト
を、従来の場合とは比較にならないほど大幅に低減でき
る。Moreover, it is only necessary to continuously transfer the lead frame at an appropriate speed, and a mechanism for intermittently transferring the lead frame at appropriate lengths and a mechanism for vertically moving the probe-equipped handler are required as in the prior art. Therefore, the structure of the device can be extremely simplified, and the size of the device can be reduced and the manufacturing cost of the device can be reduced. Therefore, the manufacturing cost of the device can be reduced and the speed of the inspection can be increased. In conjunction with this, the cost required for inspection can be significantly reduced, incomparable to the conventional case.
以下、本発明の実施例を図面(第2図〜第6図)につ
いて説明すると、この図において符号Aは、前記第1図
に示すように構成したリードフレームを示し、該リード
フレームAは、上下一対の第1送りローラ1a,1bと、同
じく上下一対の第2送りローラ2a,2bとにより、矢印3
で示すように、その長手方向に適宜の速度で連続的に移
送されている。Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings (FIGS. 2 to 6). In this drawing, reference symbol A indicates a lead frame configured as shown in FIG. An arrow 3 is formed by a pair of upper and lower first feed rollers 1a and 1b and a pair of upper and lower second feed rollers 2a and 2b.
As shown by, it is continuously transferred at an appropriate speed in the longitudinal direction.
前記第1送りローラ対1a,1bと、前記第2送りローラ
対2a,2bとの間で、且つ、前記リードフレームAの下面
側の部位には、リードフレームAの長手方向に適宜間隔
を隔てて一対のプーリ4,5を回転自在に設け、この両プ
ーリ4,5の間に、ゴム又は軟質合成樹脂等の絶縁体製の
無端ベルト6を巻掛けして、該無端ベルト6の上側にお
ける上面を、前記リードフレームAの下面に接触する一
方、前記無端ベルト6の下側における内面に前記両プー
リ4,5の間に配設したテンションプーリ7を接触して、
このテンションプーリ7を、図示しないばね又は空気圧
シリンダ等にて下向きに付勢することにより、前記無端
ベルト6に適宜のテンションを付与するように構成す
る。Between the first feed roller pair 1a, 1b and the second feed roller pair 2a, 2b, and at a portion on the lower surface side of the lead frame A, an appropriate space is provided in the longitudinal direction of the lead frame A. A pair of pulleys 4 and 5 are provided rotatably, and an endless belt 6 made of an insulator such as rubber or soft synthetic resin is wound between the two pulleys 4 and 5, and an upper end of the endless belt 6 is provided. While the upper surface contacts the lower surface of the lead frame A, the tension pulley 7 disposed between the pulleys 4 and 5 contacts the inner surface below the endless belt 6,
The tension pulley 7 is configured to be urged downward by a spring or a pneumatic cylinder (not shown) to apply an appropriate tension to the endless belt 6.
符号8は、前記第1ローラ対1a,1bと第2ローラ対2a,
2bとの間で、且つ、前記リードフレームAの上面側の部
位に配設した測定ホイールを示し、該測定ホイール8
は、硬質合成樹脂等の絶縁体製で、その中心に固着した
中空軸9に対する軸受体10を介して基台11に対して回転
自在に支持されている。Reference numeral 8 denotes the first roller pair 1a, 1b and the second roller pair 2a,
2b and a measuring wheel disposed at a position on the upper surface side of the lead frame A.
Is made of an insulator such as a hard synthetic resin, and is rotatably supported on a base 11 via a bearing body 10 for a hollow shaft 9 fixed to the center thereof.
この測定ホイール8の外周面8aを、前記リードフレー
ムAにおける上面に対して、当該リードフレームA及び
前記無端ベルト6を下向きに湾曲するように押圧接触
し、且つ、この測定ホイール8を、図示しないモータ等
により、当該測定ホイール8の外周面8aにおける周速度
が、前記リードフレームAにおける移送速度と等しくな
るように回転駆動する。The outer peripheral surface 8a of the measuring wheel 8 is pressed against the upper surface of the lead frame A so as to curve the lead frame A and the endless belt 6 downward, and the measuring wheel 8 is not shown. The rotation is driven by a motor or the like such that the peripheral speed of the outer peripheral surface 8a of the measurement wheel 8 is equal to the transfer speed of the lead frame A.
そして、前記測定ホイール8の外周面8aには、当該測
定ホイール8の軸方向に延びる縦溝12を、当該外周面8a
における円周方向に沿って前記リードフレームAにおけ
る各半導体部品BのピッチPと等しい間隔で多数条(本
実施例では、60条)刻設し、該各縦溝12内に、前記リー
ドフレームAにおける各半導体部品Bの左右一対の外部
端子B1,B2のうちリードフレームAから切断した一方の
外部端子B2に対して接触するようにした板ばね製のプロ
ーブ13を各々設けて、該各プローブ13の先端を、測定ホ
イール8の外周面8aより適宜の寸法(例えば、0.1〜1m
m)だけ突出するように構成する。A longitudinal groove 12 extending in the axial direction of the measuring wheel 8 is formed on the outer peripheral surface 8a of the measuring wheel 8.
Are formed at intervals equal to the pitch P of each semiconductor component B in the lead frame A along the circumferential direction of the lead frame A, and in the vertical grooves 12, the lead frame A Of the pair of left and right external terminals B1 and B2 of each of the semiconductor components B, the probe 13 made of a leaf spring is provided so as to contact one of the external terminals B2 cut from the lead frame A. Of the measuring wheel 8 from the outer peripheral surface 8a of an appropriate dimension (for example, 0.1 to 1 m
m).
このように構成すると、長手方向に適宜速度で連続的
に移送されるリードフレームAは、当該リードフレーム
Aの移送速度と等しい周速度で回転する測定ホイール8
の外周面8aに対して、第2図及び第4図に示すように、
適宜の接触角度(θ)にわたって接触するように巻掛け
されると共に、無端ベルト6によって押圧された状態に
なるから、前記測定ホイール8の外周面8aに各半導体部
品BのピッチPと等しい円周間隔で設けた各プローブ13
は、リードフレームAの移送及び測定ホイール8の回転
に伴い、リードフレームAの各半導体部品Bにおける左
右一対の外部端子B1,B2のうち前記リードフレームAか
ら切断した一方の外部端子B2に対して、第4図に示すよ
うに、順次接当することになる。With such a configuration, the lead frame A continuously transported at an appropriate speed in the longitudinal direction becomes the measuring wheel 8 rotating at a peripheral speed equal to the transport speed of the lead frame A.
As shown in FIGS. 2 and 4, with respect to the outer peripheral surface 8a of
Since it is wound so as to be in contact with an appropriate contact angle (θ) and is pressed by the endless belt 6, a circumference equal to the pitch P of each semiconductor component B is formed on the outer peripheral surface 8a of the measuring wheel 8. Each probe 13 provided at intervals
Of the pair of left and right external terminals B1 and B2 of each of the semiconductor components B of the lead frame A with the transfer of the lead frame A and the rotation of the measuring wheel 8 with respect to one of the external terminals B2 cut from the lead frame A. , As shown in FIG.
しかも、この各プローブ13の一方の外部端子B2に対す
る接当は、前記リードフレームAが測定ホイール8の外
周面8aに対して巻掛けされた接触角度(θ)の間にわた
って維持されるから、この接触角度(θ)の間におい
て、リードフレームAにおける各半導体部品Bに対し
て、前記測定ホイール8におけるプローブ13を介して給
電することにより、各半導体部品Bにおける性能を検査
することができるのであり、この場合、本実施例による
と、測定ホイール8の一回転当たりに60個の半導体部品
Bを検査できる。Moreover, the contact of each probe 13 with one external terminal B2 is maintained over the contact angle (θ) around which the lead frame A is wound around the outer peripheral surface 8a of the measuring wheel 8. By supplying power to each semiconductor component B in the lead frame A via the probe 13 in the measuring wheel 8 during the contact angle (θ), the performance of each semiconductor component B can be inspected. In this case, according to the present embodiment, 60 semiconductor components B can be inspected per rotation of the measuring wheel 8.
そして、前記接触角度(θ)の間において、半導体部
品Bにおける一方の外部端子B2に対して接当するプロー
ブ13に対して給電するための具体的な構成としては、以
下に述べるように構成することが好ましい。A specific configuration for supplying power to the probe 13 that contacts one external terminal B2 of the semiconductor component B during the contact angle (θ) is configured as described below. Is preferred.
すなわち、測定ホイール8の外周面8aにおける60個の
プローブ13を、6個ずつ一組として10組に分けて、第5
図に示すように、各組における第1番目のプローブ131
を環状の第1配線14に、第2番目のプローブ132を環状
の第2配線15に、第3番目のプローブ133を環状の第3
配線16に、第4番目のプローブ134を環状の第4配線17
に、第5番目のプローブ135を環状の第5配線18に、そ
して、第6番目のプローブ136を環状の第6配線19に各
々結線する一方、前記測定ホイール8を支持する中空軸
9の他端に固着した絶縁体製円盤20の側面には、6本の
導電リング21,22,23,24,25,26を設け、これら各導電リ
ングのうち第1導電リング21と前記第1配線14との間、
第2導電リング22と前記第2配線15との間、第3導電リ
ング23と前記第3配線16との間、第4導電リング24と前
記第4配線17との間、第5導電リング25と前記第5配線
18との間、及び第6導電リング26と前記第6配線19との
間を、前記中空軸9内に挿入した配線27,28,29,30,31,3
2にて各々結線し、前記各導電リング21,22,23,24,25,26
の各々には、前記基台11から立設の絶縁体製ブラケット
33に取付けた6個の集電子34,35,36,37,38,39を各々摺
動自在に接触して、この各集電子34,35,36,37,38,39
を、コントローラ40に結線する。That is, the sixty probes 13 on the outer peripheral surface 8a of the measuring wheel 8 are divided into ten sets as six sets, and
As shown, the first probe 131 in each set
To the first annular wiring 14, the second probe 132 to the second annular wiring 15, and the third probe 133 to the third annular wiring 15.
The fourth probe 134 is connected to the fourth wire 17
In the meantime, the fifth probe 135 is connected to the annular fifth wiring 18 and the sixth probe 136 is connected to the annular sixth wiring 19, respectively, while the other of the hollow shaft 9 supporting the measuring wheel 8 is connected. Six conductive rings 21, 22, 23, 24, 25, and 26 are provided on the side surface of the insulator disk 20 fixed to the end, and the first conductive ring 21 and the first wiring 14 are provided among these conductive rings. Between
Between the second conductive ring 22 and the second wiring 15; between the third conductive ring 23 and the third wiring 16; between the fourth conductive ring 24 and the fourth wiring 17; And the fifth wiring
18 and between the sixth conductive ring 26 and the sixth wire 19, wires 27, 28, 29, 30, 31, 3 inserted into the hollow shaft 9.
2 and each of the conductive rings 21, 22, 23, 24, 25, 26
Each of them has a bracket made of an insulator standing upright from the base 11.
The six current collectors 34, 35, 36, 37, 38, 39 attached to 33 are slidably contacted with each other, and these current collectors 34, 35, 36, 37, 38, 39
Is connected to the controller 40.
更に、測定ホイール8を支持する中空軸9には、外周
に前記プローブ13の個数と半分の個数の切欠溝42に備え
たタイミング円盤41を固着し、このタイミング円盤41の
外周に対向して光センサー43を配設し、この光センサー
43によって、第6図に符号Dで示すように、前記切欠溝
42の間隔で得られるパルス信号を、前記コントローラ40
に入力するようにする。Further, a timing disk 41 provided in a notch groove 42 whose number is half the number of the probes 13 is fixed to the outer periphery of the hollow shaft 9 supporting the measuring wheel 8, and a light beam is opposed to the outer periphery of the timing disk 41. The sensor 43 is installed and this optical sensor
43, as shown by the reference symbol D in FIG.
Pulse signals obtained at intervals of 42 are transmitted to the controller 40.
To be entered.
そして、前記コントローラ40は、前記光センサー43か
らのパルス信号Dに基づき、その第1番目のパルスD1に
よって、前記第1配線14及び第2配線15に対して、第6
図に符号Eで示すように、集電子34,35及び導電リング2
1,22を介して給電し、次の第2番目のパルスD2によっ
て、前記第3配線16及び第4配線17に対して、第6図に
符号Fで示すように、集電子36,37及び導電リング23,24
を介して給電し、そして、第3番目のパルスD3によっ
て、前記第5配線18及び第6配線19に対して、第6図に
符号Gで示すように、集電子38,39及び導電リング25,26
を介して給電するものである。Then, based on the pulse signal D from the optical sensor 43, the controller 40 sends a sixth pulse to the first wiring 14 and the second wiring 15 by the first pulse D1.
As shown by reference numeral E in the figure, the current collectors 34 and 35 and the conductive ring 2
Power is supplied to the third and fourth wirings 16 and 17 by the next second pulse D2, as shown by reference numeral F in FIG. Conductive rings 23, 24
And the third pulse D3 supplies the current collectors 38, 39 and the conductive ring 25 to the fifth wiring 18 and the sixth wiring 19, as shown by a symbol G in FIG. , 26
Power is supplied via the.
これにより、前記測定ホイール8における各プローブ
13のうち、第1番目のプローブ131と第2番目のプロー
ブ132とが前記接触角度(θ)の間において外部端子B2
に接当するときに、この両プローブ131,132に給電する
ことができ、また、各プローブ13のうち、第3番目のプ
ローブ133と第4番目のプローブ134とが前記接触角度
(θ)の間において外部端子B2に接当するときに、この
両プローブ133,134に給電することができ、更にまた、
各プローブ13のうち、第5番目のプローブ135と第6番
目のプローブ136とが前記接触角度(θ)の間において
外部端子B2に接当するときに、この両プローブ135,136
に給電することができるのである。Thereby, each probe in the measuring wheel 8
13, the first probe 131 and the second probe 132 are connected to the external terminal B2 during the contact angle (θ).
Can be supplied to both the probes 131 and 132 when the probe 13 contacts the third probe 133 and the fourth probe 134 of the probes 13 at the contact angle (θ). When contacting the external terminal B2, power can be supplied to both probes 133 and 134, and furthermore,
When the fifth probe 135 and the sixth probe 136 of the probes 13 contact the external terminal B2 during the contact angle (θ), the probes 135 and 136
Can be fed.
なお、前記実施例は、両側に各々一本ずつ外部端子B
1,B2を備えた半導体部品Bの検査に適用した場合を示し
たが、本発明は、これに限らず、第7図に示すように、
一方側に一本の外部端子B1aを、他方側に二本の外部端
子B2a,B3aを備えた半導体部品Ba(例えば、トランジス
ター)のように、他の半導体部品の検査にも適用できる
ことは云うまでもない。In the above embodiment, one external terminal B was provided on each side.
Although the case where the present invention is applied to the inspection of the semiconductor component B provided with 1, B2 is shown, the present invention is not limited to this, and as shown in FIG.
Needless to say, it can be applied to the inspection of other semiconductor components such as a semiconductor component Ba (for example, a transistor) having one external terminal B1a on one side and two external terminals B2a and B3a on the other side. Nor.
また、前記測定ホイール8の外周面8aに、前記プロー
ブ13の間隔と同じ間隔か、又はプローブ13の間隔と整数
倍の間隔で複数個のピン8bを設けて、この各ピン8bを、
前記リードフレームAにその長手方向に一定の間隔で穿
設した送り孔A1に順次噛み合うように構成すると、測定
ホイール8の外周面における各プローブ13と、リードフ
レームAにおける各半導体部品Bとの間にずれを無くす
ることができるので、各プローブ13を、各半導体部品B
における外部端子B2に対して接当することがより確実に
できるのであり、更にまた、前記無端ベルト6は、前記
リードフレームAの送りにつれて回転するようにした
り、或いは、リードフレームAの移送速度を同じ速度に
回転駆動するように構成しても良いのである。Further, on the outer peripheral surface 8a of the measuring wheel 8, a plurality of pins 8b are provided at the same interval as the interval between the probes 13 or at intervals of an integral multiple of the interval between the probes 13, and each of the pins 8b is
When the probe 13 is configured so as to sequentially mesh with the feed holes A1 formed at regular intervals in the longitudinal direction of the lead frame A, the distance between each probe 13 on the outer peripheral surface of the measuring wheel 8 and each semiconductor component B on the lead frame A is increased. Can be eliminated, so that each probe 13 is connected to each semiconductor component B
The endless belt 6 can be made to rotate as the lead frame A is fed, or the transfer speed of the lead frame A can be reduced. It may be configured to rotate at the same speed.
第1図はリードフレームの斜視図、第2図は本発明の実
施例装置の正面図、第3図は第2図のIII−III視拡大断
面図、第4図は第3図のIV−IV視拡大断面図、第5図は
結線の状態を示す斜視図、第6図はタイミングチャート
を示す図、第7図は他のリードフレームの斜視図、第8
図は従来の方法を示す斜視図である。 A……リードフレーム、B……半導体部品、B1,B2……
外部端子、1a,1b、2a,2b……送りローラ、4,5……プー
リ、6……無端ベルト、7……テンションプーリ、8…
…測定ホイール、8a……測定ホイールの外周面、9……
中空軸、10……軸受体、11……機台、12……縦溝、13…
…プローブ、14,15,16,17,18,19……環状配線、20……
円盤、21,22,23,24,25,26……導電リング、34,35,36,3
7,38,39……集電子、40……コントローラ、41……タイ
ミング円盤、43……光センサー。1 is a perspective view of a lead frame, FIG. 2 is a front view of an apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 3 is an enlarged sectional view taken along the line III-III of FIG. 2, and FIG. FIG. 5 is a perspective view showing a state of connection, FIG. 6 is a view showing a timing chart, FIG. 7 is a perspective view of another lead frame, FIG.
FIG. 1 is a perspective view showing a conventional method. A: Lead frame, B: Semiconductor parts, B1, B2 ...
External terminals, 1a, 1b, 2a, 2b: feed roller, 4, 5, pulley, 6: endless belt, 7: tension pulley, 8:
… Measurement wheel, 8a …… Outer surface of the measurement wheel, 9 ……
Hollow shaft, 10 ... Bearing body, 11 ... Machine stand, 12 ... Vertical groove, 13 ...
… Probe, 14,15,16,17,18,19 …… circular wiring, 20 ……
Disk, 21,22,23,24,25,26 …… conductive ring, 34,35,36,3
7, 38, 39… current collector, 40… controller, 41… timing disk, 43… optical sensor.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭53−8066(JP,A) 特開 昭51−66781(JP,A) 特開 昭57−64947(JP,A) 特開 昭54−82980(JP,A) 特開 昭60−116181(JP,A) 特開 平2−139855(JP,A) ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-53-8066 (JP, A) JP-A-51-66781 (JP, A) JP-A-57-64947 (JP, A) 82980 (JP, A) JP-A-60-116181 (JP, A) JP-A-2-139855 (JP, A)
Claims (1)
を備えたリードフレームをその長手方向に適宜速度で連
続的に移送する経路中に、前記リードフレームの長手方
向に沿って適宜間隔を隔てて一対のプーリを設け、該両
プーリの間に巻掛けした絶縁体製の無端ベルトを、前記
リードフレームにおける一方の表面に接触する一方、前
記両プーリの間の部位に、前記リードフレームの移送速
度と等しい周速度で回転する測定ホイールを配設し、該
測定ホイールの外周面を、前記リードフレームにおける
他方の表面に対して当該リードフレーム及び前記無端ベ
ルトを湾曲するように押圧接触し、更に、前記測定ホイ
ールの外周面に、前記半導体部品における少なくとも左
右一対の外部端子のうち前記リードフレームから切断し
た外部端子に対して接触するようにしたプローブを、当
該測定ホイールの外周面における円周方向に沿って前記
各半導体部品のピッチと等しい間隔で多数本設けたこと
を特徴とする半導体部品の検査装置。1. A path for continuously transferring a lead frame provided with semiconductor components at a constant pitch in the longitudinal direction at an appropriate speed in the longitudinal direction at an appropriate interval along the longitudinal direction of the lead frame. A pair of pulleys are provided, and an endless belt made of an insulator wound between the two pulleys is brought into contact with one surface of the lead frame, and transferred to a portion between the two pulleys. A measurement wheel that rotates at a peripheral speed equal to the speed is disposed, and the outer peripheral surface of the measurement wheel is pressed against the other surface of the lead frame so as to curve the lead frame and the endless belt, and further, On the outer peripheral surface of the measuring wheel, an external terminal cut from the lead frame among at least a pair of external terminals on the left and right of the semiconductor component. A probe into contact, semiconductor components of the inspection apparatus is characterized in that a number present provided at equal intervals between the pitch of the semiconductor component in the circumferential direction on the outer peripheral surface of the measuring wheel.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1250895A JP2726316B2 (en) | 1989-09-27 | 1989-09-27 | Inspection equipment for semiconductor parts |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1250895A JP2726316B2 (en) | 1989-09-27 | 1989-09-27 | Inspection equipment for semiconductor parts |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03111771A JPH03111771A (en) | 1991-05-13 |
JP2726316B2 true JP2726316B2 (en) | 1998-03-11 |
Family
ID=17214624
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1250895A Expired - Fee Related JP2726316B2 (en) | 1989-09-27 | 1989-09-27 | Inspection equipment for semiconductor parts |
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Country | Link |
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JP (1) | JP2726316B2 (en) |
-
1989
- 1989-09-27 JP JP1250895A patent/JP2726316B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
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JPH03111771A (en) | 1991-05-13 |
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