JP2723301B2 - Optical fiber manufacturing method - Google Patents

Optical fiber manufacturing method

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JP2723301B2
JP2723301B2 JP1168771A JP16877189A JP2723301B2 JP 2723301 B2 JP2723301 B2 JP 2723301B2 JP 1168771 A JP1168771 A JP 1168771A JP 16877189 A JP16877189 A JP 16877189A JP 2723301 B2 JP2723301 B2 JP 2723301B2
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  • Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、光ファイバ表面に形成された炭素被膜の
誘電率を監視しつつ紡糸することにより、耐水素特性に
優れた光ファイバを製造する方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention manufactures an optical fiber having excellent hydrogen resistance by spinning while monitoring the dielectric constant of a carbon coating formed on the surface of an optical fiber. About the method.

[従来技術およびその課題] 石英系光ファイバは、水素と接触するとファイバ内に
拡散した水素分子の分子振動に起因する吸収損失が増大
し、さらにドーパントとして含有されているP2O5、Ge
O2、B2O3などが水素と反応しOH基としてファイバガラス
中に取り込まれるため、OH基の吸収による伝送損失も増
大してしまう問題があった。
[Prior art and its problems] When a silica-based optical fiber comes into contact with hydrogen, absorption loss due to molecular vibration of hydrogen molecules diffused into the fiber increases, and P 2 O 5 and Ge contained as dopants further increase.
Since O 2 , B 2 O 3, etc. react with hydrogen and are taken into the fiber glass as OH groups, there has been a problem that transmission loss due to absorption of OH groups increases.

このような弊害に対処するため、水素吸収能を有する
液状の組成物を光ケーブル内に充填する方法(特願昭61
−2510808号)などが考えられているが、その効果が不
十分であるうえ、構造が複雑となって経済的にも問題が
ある。
To cope with such adverse effects, a method of filling a liquid composition having a hydrogen absorbing ability into an optical cable (Japanese Patent Application No.
No.-2510808) is considered, but the effect is insufficient, and the structure becomes complicated, which is economically problematic.

このような問題を解決するため、最近化学気相成長法
(以下、CVD法と略称する)によって光ファイバ表面に
炭素被膜を形成し、これによって光ファイバの耐水素性
を向上させうることが発表されている。この製造方法
は、光フアイバ裸線表面にCVD法によって炭素被膜を形
成した後、紫外線硬化型樹脂や熱硬化型樹脂によって保
護被覆層を形成して光ファイバとする方法である。
In order to solve such problems, it has recently been announced that a carbon film can be formed on the surface of an optical fiber by a chemical vapor deposition method (hereinafter abbreviated as a CVD method), thereby improving the hydrogen resistance of the optical fiber. ing. This manufacturing method is a method in which a carbon coating is formed on the bare optical fiber surface by a CVD method, and then a protective coating layer is formed with an ultraviolet curable resin or a thermosetting resin to form an optical fiber.

ところで光ファイバ裸線表面に形成された炭素被膜の
耐水素特性は、その膜質および膜厚によって大きく変化
することが知られている。そして従来から光ファイバ裸
線表面に形成された炭素被膜の膜質および膜厚を測定す
るには、光ファイバを切断し、その断面を顕微鏡で観察
する方法が用いられている。
By the way, it is known that the hydrogen resistance of the carbon coating formed on the surface of the bare optical fiber greatly changes depending on the film quality and thickness. Conventionally, in order to measure the film quality and thickness of the carbon coating formed on the bare optical fiber surface, a method of cutting the optical fiber and observing the cross section with a microscope has been used.

しかしながらこの測定方法では、光ファイバの切断を
余儀なくされ、非破壊的に測定を行うことができないば
かりでなく、連続測定が不可能であるという不都合があ
った。
However, in this measuring method, the optical fiber has to be cut, so that not only non-destructive measurement can be performed, but also continuous measurement cannot be performed.

このような問題を解決する方法として、本発明者らに
よって光ファイバの長さ方向に沿って炭素被膜の電気抵
抗値を測定し、この測定値に基づいて炭素被膜の形成条
件を制御することが提案されている。
As a method for solving such a problem, the inventors of the present invention measure the electric resistance of the carbon coating along the length direction of the optical fiber, and control the formation conditions of the carbon coating based on the measured value. Proposed.

ところが電気抵抗値を測定するこの方法は非破壊的か
つ、連続的に光ファイバの品質管理を行うという観点に
たって提案されたものであるので、その点においては問
題が解決されているものの、光ファイバと測定電極との
直接接触をさけることができず、光ファイバの強度低下
のおそれが生じる点、および測定電極の汚れよる測定誤
差が発生する点などにおいて改善の余地があった。
However, this method of measuring the electrical resistance value has been proposed from the viewpoint of nondestructively and continuously controlling the quality of an optical fiber. There is room for improvement in that the direct contact between the fiber and the measurement electrode cannot be avoided, and that the strength of the optical fiber may be reduced, and that measurement errors may occur due to contamination of the measurement electrode.

この発明は上記課題を解決するためになされたもので
あって、一定の耐水素特性を示す光ファイバを得るこ
と、さらには光ファイバ上に形成された炭素被膜の膜質
を非接触連続的に測定する光ファイバの製造方法を提供
することを目的としている。
The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and it is intended to obtain an optical fiber having a certain hydrogen resistance, and to further measure the quality of a carbon coating formed on the optical fiber in a non-contact and continuous manner. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing an optical fiber.

[課題を解決するための手段] この発明においては、光ファイバ裸線表面に炭素被膜
を形成し、これを導波管に通しつつ電磁波を照射し、こ
の電磁波の反射特性または透過特性の変化から、前記炭
素被膜の誘電率を測定し、この測定値に基づいて炭素被
膜の形成条件を制御することを問題解決の手段とした。
[Means for Solving the Problems] In the present invention, a carbon coating is formed on the surface of a bare optical fiber, and an electromagnetic wave is irradiated while passing this through a waveguide. The means for solving the problem was to measure the dielectric constant of the carbon film and control the conditions for forming the carbon film based on the measured value.

[作用] 導波管内の電磁波の反射特性および透過特性は共に、
導波管内に存在する物質によって変化するので、表面に
炭素被膜が形成された基材を、導波管の中に垂直方向に
通し、電磁波の反射特性または透過特性の変化を調べる
ことにより、炭素被膜の膜質を測定することができる。
[Operation] Both the reflection characteristic and the transmission characteristic of the electromagnetic wave in the waveguide are
Since it varies depending on the substance present in the waveguide, the base material with the carbon coating formed on the surface is passed vertically through the waveguide, and the change in the reflection or transmission characteristics of electromagnetic waves is investigated. The quality of the film can be measured.

また炭素被膜の誘電率を測定することにより、その炭
素被膜の状態を知ることができるので、測定された誘電
率の値に基づいて炭素被膜の形成条件を制御する。
Further, since the state of the carbon film can be known by measuring the dielectric constant of the carbon film, the conditions for forming the carbon film are controlled based on the measured value of the dielectric constant.

以下、この発明を詳しく説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail.

第1図は、この発明の光ファイバの製造方法に好適に
用いられる製造装置の一例を示したものである。
FIG. 1 shows an example of a manufacturing apparatus suitably used in the method for manufacturing an optical fiber of the present invention.

第1図中、符号1は光ファイバ裸線である。この光フ
ァイバ裸線1は、光ファイバ母材2を紡糸装置3内で溶
融紡糸したものであり、この紡糸装置3の下段に設けら
れたCVD反応炉4内で、その表面に炭素被膜が形成され
るようになっている。このCVD反応炉4は、内部にて光
ファイバ裸線1表面に炭素被膜を形成する反応管5と、
この反応管5を加熱する発熱体6とからなるものであ
る。またこのCVD反応炉4の下段には、光ファイバ裸線
1表面に形成された炭素被膜の誘電率を測定し、この測
定値から炭素被膜の膜質を評価する評価装置7が設けら
れており、上段のCVD反応炉4とこの評価装置7とはコ
ントローラ8を介して接続されており、評価装置で得ら
れた結果がCVD反応炉4へフィードバックされるように
なっている。
In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a bare optical fiber. The bare optical fiber 1 is obtained by melt-spinning an optical fiber preform 2 in a spinning device 3, and a carbon coating is formed on the surface thereof in a CVD reactor 4 provided below the spinning device 3. It is supposed to be. The CVD reactor 4 includes a reaction tube 5 that forms a carbon coating on the surface of the bare optical fiber 1,
And a heating element 6 for heating the reaction tube 5. Further, at the lower stage of the CVD reactor 4, there is provided an evaluation device 7 for measuring the dielectric constant of the carbon coating formed on the surface of the bare optical fiber 1 and evaluating the quality of the carbon coating from the measured value. The upper CVD reactor 4 and the evaluation device 7 are connected via a controller 8, and the results obtained by the evaluation device are fed back to the CVD reactor 4.

この評価装置7は、この発明の光ファイバの製造方法
に好適に用いられる装置であって、評価装置7の上段の
CVD反応炉4内で光ファイバ裸線1表面に形成された炭
素被膜の誘電率を測定し、この誘電率の値から炭素被膜
の膜質、ひいては耐水素特性を評価する装置である。こ
の評価装置7は、たとえば第2図および第3図に示した
ように、電磁波の伝送装置として用いられているもので
あって、発振装置9と、この発振装置9から発振された
所定波長の電磁波を導波し、これを光ファイバ裸線1表
面に形成された炭素被膜を照射する導波管10と、この導
波管10内を導波された電磁波を検出し、この検出値から
光ファイバ裸線1表面に形成された炭素被膜の誘電率を
測定する検出器11と、導波管10の両端に、発振装置9お
よび検出器11とを接続する同軸ケーブル12、12とからな
るものである。導波管10には光ファイバ挿通孔13が形成
されている。この光ファイバ挿通孔13は、その中心に挿
通された光ファイバ裸線1の走行方向が電磁波の導波方
向に対して垂直になるように導波管10に形成された貫通
孔であって、その中心には炭素被膜が形成された光ファ
イバ裸線1が挿通されている。
The evaluation device 7 is a device suitably used in the method of manufacturing an optical fiber according to the present invention.
This apparatus measures the dielectric constant of the carbon coating formed on the surface of the bare optical fiber 1 in the CVD reactor 4, and evaluates the film quality of the carbon coating and, consequently, the hydrogen resistance property from the value of the dielectric constant. As shown in FIGS. 2 and 3, for example, the evaluation device 7 is used as an electromagnetic wave transmission device, and includes an oscillation device 9 and a predetermined wavelength oscillated from the oscillation device 9. A waveguide 10 that guides an electromagnetic wave and irradiates it with a carbon coating formed on the surface of the bare optical fiber 1, detects an electromagnetic wave guided through the waveguide 10, and obtains light from the detected value. Consisting of a detector 11 for measuring the dielectric constant of a carbon coating formed on the surface of the bare fiber 1, and coaxial cables 12, 12 connecting both ends of a waveguide 10 to the oscillator 9 and the detector 11. It is. An optical fiber insertion hole 13 is formed in the waveguide 10. The optical fiber insertion hole 13 is a through hole formed in the waveguide 10 so that the running direction of the bare optical fiber 1 inserted in the center thereof is perpendicular to the direction of electromagnetic wave propagation. An optical fiber bare wire 1 on which a carbon coating is formed is inserted through the center.

さらに、評価装置7の下段には樹脂液塗布装置14およ
び硬化装置15とが連続して設けられており、炭素被膜が
形成された光ファイバ上に必要に応じて保護被覆層が形
成できるようになっている。
Further, a resin liquid application device 14 and a curing device 15 are continuously provided at the lower stage of the evaluation device 7 so that a protective coating layer can be formed on the optical fiber on which the carbon coating is formed, if necessary. Has become.

このような製造装置を用いて、表面に炭素被膜が形成
された光ファイバを製造するには、以下の工程による。
The following steps are used to manufacture an optical fiber having a carbon coating formed on the surface using such a manufacturing apparatus.

まず光ファイバ母材2を用意し、これを紡糸装置3に
設置し、溶融紡糸して光ファイバ裸線1とする。ついで
この光ファイバ裸線1をCVD反応炉4内に挿通し、光フ
ァイバ裸線1表面にCVD反応により炭素被膜を形成す
る。ついでこの炭素被膜の耐水素特性を評価装置7にて
評価する。
First, an optical fiber preform 2 is prepared, installed in a spinning device 3, and melt-spun to obtain an optical fiber bare wire 1. Next, the bare optical fiber 1 is inserted into the CVD reactor 4 to form a carbon coating on the surface of the bare optical fiber 1 by a CVD reaction. Next, the hydrogen resistance of the carbon film is evaluated by the evaluation device 7.

評価装置7にて炭素被膜の耐水素特性を評価するに
は、まず発振装置9から所定波長の電磁波を発振させ、
同軸ケーブル12によって導波管10内へ導波する。この導
波管10の光ファイバ挿通孔13には、発振装置9から発振
された電磁波の導波方向に対して垂直になるように、光
ファイバ裸線1が挿通されており、光ファイバ裸線1表
面に形成された炭素被膜に電磁波の照射ができるように
なっている。光ファイバ裸線1に照射された電磁波は、
さらに導波管10内を導波され、検出器11にて検出され
る。この際に発振装置9にて発振された電磁波の発振強
度と検出器11にて検出された電磁波の強度とを比較する
ことにより、導波管10内に挿通された光ファイバ裸線1
表面に形成された炭素被膜の誘電率を測定することがで
きる。この際に評価装置7にて用いる電磁波としては、
たとえば周波数5〜20GHzのマイクロ波などが好適であ
る。
In order to evaluate the hydrogen resistance characteristics of the carbon coating with the evaluation device 7, first, an electromagnetic wave having a predetermined wavelength is oscillated from the oscillation device 9,
The light is guided into the waveguide 10 by the coaxial cable 12. The bare optical fiber 1 is inserted into the optical fiber insertion hole 13 of the waveguide 10 so as to be perpendicular to the direction in which the electromagnetic wave oscillated from the oscillation device 9 is guided. The carbon film formed on one surface can be irradiated with electromagnetic waves. The electromagnetic wave applied to the bare optical fiber 1 is
Further, the light is guided through the waveguide 10 and detected by the detector 11. At this time, by comparing the oscillation intensity of the electromagnetic wave oscillated by the oscillating device 9 with the intensity of the electromagnetic wave detected by the detector 11, the bare optical fiber 1 inserted through the waveguide 10 is obtained.
The dielectric constant of the carbon film formed on the surface can be measured. At this time, the electromagnetic waves used in the evaluation device 7 include:
For example, a microwave having a frequency of 5 to 20 GHz is suitable.

一般に炭素の結晶形態にはダイヤモンド型と黒鉛型と
の2種類があるが、CVD法によって光ファイバ裸線1表
面に形成される炭素被膜は通常アモルファスカーボンで
あり、上記ダイヤモンド型結晶構造と黒鉛型結晶構造と
が混在している状態である。そして上記2種の結晶構造
の混在比率によってその耐水素特性も大きく変化する。
In general, there are two types of carbon crystal forms, a diamond type and a graphite type. The carbon coating formed on the surface of the bare optical fiber 1 by the CVD method is usually amorphous carbon. This is a state in which a crystal structure is mixed. The hydrogen-resistant property also changes greatly depending on the mixing ratio of the two crystal structures.

ところで炭素被膜の導電性は黒鉛型結晶構造のz軸方
向に存在するπ電子のオービタルに起因するものである
ため、その電気抵抗値を測定することにより炭素被膜中
での黒鉛型結晶構造の混在比率を知ることができる。ま
た、これと共に電磁波を照射することにより、炭素被膜
の誘電率を測定することができ、この誘電率の測定値か
ら炭素被膜中の黒鉛型結晶構造の混在比率を予測するこ
とができる。
By the way, since the conductivity of the carbon coating is caused by the orbital of π electrons existing in the z-axis direction of the graphite crystal structure, by measuring the electric resistance value, the graphite crystal structure is mixed in the carbon coating. You can know the ratio. In addition, by irradiating electromagnetic waves together with this, the dielectric constant of the carbon coating can be measured, and from the measured value of the dielectric constant, the mixture ratio of the graphite type crystal structure in the carbon coating can be predicted.

よって、予め良好な耐水素特性を示すような光ファイ
バを評価装置7内に挿通させてその誘電率と耐水素特性
との関係を調べておき、評価装置7内で測定された誘電
率の値を制御信号としてCVD反応炉4内に送り、この制
御信号に基づいてたとえば反応管5を加熱する発熱体6
の加熱温度を変化させたり、反応管5内に供給する原料
ガスの濃度を変更させて、一定の耐水素特性を示す炭素
被膜を形成するように制御する。このようにすると一定
の耐水素特性を示す炭素被膜が形成された光ファイバを
容易に得ることができる。
Therefore, an optical fiber exhibiting good hydrogen resistance is inserted into the evaluation device 7 in advance to examine the relationship between the dielectric constant and the hydrogen resistance, and the value of the dielectric constant measured in the evaluation device 7 is determined. As a control signal into the CVD reactor 4, and based on the control signal, for example, a heating element 6 for heating the reaction tube 5.
The heating temperature is changed, or the concentration of the raw material gas supplied into the reaction tube 5 is changed to control the carbon film having a certain hydrogen resistance. By doing so, it is possible to easily obtain an optical fiber on which a carbon coating having a certain hydrogen resistance is formed.

そして炭素被膜が形成された光ファイバを樹脂液塗布
装置14に挿通し、紫外線硬化型樹脂液等を塗布した後、
硬化装置15内にて上記樹脂液を硬化させて、炭素被膜と
保護被覆層とが形成されて耐水素特性と機械的強度とに
優れた光ファイバを得ることができる。
Then, the optical fiber on which the carbon film is formed is inserted into the resin liquid application device 14, and after applying an ultraviolet curable resin liquid or the like,
By curing the resin liquid in the curing device 15, a carbon coating and a protective coating layer are formed, so that an optical fiber having excellent hydrogen resistance and mechanical strength can be obtained.

なお、光ファイバ裸線1表面に形成された炭素被膜の
誘電率の測定は、たとえば炭素被膜の電磁波の透過特性
S11(ω)と、電磁波の反射特性S21(ω)とを測定する
ことによって代替測定することもできる。
The measurement of the dielectric constant of the carbon coating formed on the surface of the bare optical fiber 1 is based on, for example, the transmission characteristics of electromagnetic waves of the carbon coating.
An alternative measurement can be made by measuring S 11 (ω) and the reflection characteristic S 21 (ω) of the electromagnetic wave.

すなわち、炭素被膜の透過特性S11(ω)、反射特性S
21(ω)と比誘電率εとの間には下記(1)式ないし
(4)式の関係が成立するためである。
That is, the transmission characteristic S 11 (ω) and the reflection characteristic S
This is because the relationship of the following equations (1) to (4) is established between 21 (ω) and the relative permittivity ε.

なお上記(1)ないし(4)式中、 Γ:導波管10中に置かれた材料の長さを無限大とした
場合の反射係数、 T:導波管10中に置かれた材料が有限の場合の透過係
数、 μr:比誘磁率、 εr:比誘電率、 λ0:自由空間における電磁波の波長、 λc:導波管10の遮断波長、 Λ:導波管内の物質の反射係数、 をそれぞれ表すものとする。
In the above equations (1) to (4), Γ: the reflection coefficient when the length of the material placed in the waveguide 10 is infinite, and T: the material placed in the waveguide 10 Finite case transmission coefficient, μr: relative magnetic permeability, εr: relative permittivity, λ 0 : wavelength of electromagnetic wave in free space, λc: cut-off wavelength of waveguide 10, Λ: reflection coefficient of material in waveguide, Respectively.

上記のような製造方法では、炭素被膜の耐水素特性を
非破壊的に連続測定することができるので、製造される
光ファイバの品質管理が非常に簡便となる効果がある。
According to the manufacturing method as described above, the hydrogen resistance of the carbon coating can be continuously measured nondestructively, so that quality control of the manufactured optical fiber is very simple.

さらにこの発明の製造方法では、CVD反応炉4の制御
信号となる誘電率の測定を光ファイバ裸線1と非接触に
て行うことができるので、製造された光ファイバ表面を
汚染する必要がなくなるばかりでなく、光ファイバ表面
に傷が発生する恐れがなくなったので、より機械的強度
の高い光ファイバを得ることができるようになる。
Further, in the manufacturing method of the present invention, the measurement of the dielectric constant, which is a control signal for the CVD reactor 4, can be performed without contact with the bare optical fiber 1, so that it is not necessary to contaminate the surface of the manufactured optical fiber. In addition, since there is no possibility that the surface of the optical fiber is damaged, an optical fiber having higher mechanical strength can be obtained.

また、非接触法により炭素被膜の膜質を評価すること
ができるので、電気抵抗値を測定する際に問題となった
測定電極の汚れによる測定精度の低下を心配する必要が
なくなり、測定精度の信頼性を高めることができる。
In addition, since the quality of the carbon film can be evaluated by a non-contact method, there is no need to worry about a decrease in measurement accuracy due to contamination of the measurement electrode, which has become a problem when measuring the electric resistance value. Can be enhanced.

[実施例] 紡糸装置で光ファイバ母材を加熱して光ファイバ裸線
を紡糸した。ついでこの光ファイバ裸線を原料供給速度
や加熱温度を種々変化させたCVD反応炉内に供給し、そ
の表面にCVD法によって炭素被膜を形成してファイバ1
およびファイバ2を得た。
Example An optical fiber preform was heated by a spinning device to spin an optical fiber bare wire. Next, the bare optical fiber is supplied into a CVD reactor in which the raw material supply rate and the heating temperature are variously varied, and a carbon coating is formed on the surface thereof by a CVD method to obtain a fiber 1.
And fiber 2 were obtained.

このように炭素被膜の形成条件が異なる2種のファイ
バを第2図および第3図に示したと同様の評価装置内に
走行させ、周波数10GHzのマイクロ波を照射して、炭素
被膜の透過特性S11(ω)およびS21(ω)とを測定し
た。ついでこの2種の光ファイバを、それぞれ80℃、1
気圧の水素雰囲気中に放置した後の波長1.24μmにおけ
る伝送損失増加量を測定し、炭素被膜の耐水素特性を調
べた。さらにこの2種の光ファイバの表面抵抗値を4端
子法によって測定し、これらの間の関係を調べた。この
結果を第1表に示した。
The two kinds of fibers having different carbon coating formation conditions are run in the same evaluation apparatus as shown in FIGS. 2 and 3, and irradiated with microwaves at a frequency of 10 GHz to obtain a transmission characteristic S of the carbon coating. 11 (ω) and S 21 (ω) were measured. Then, these two types of optical fibers were heated at 80 ° C. and 1
The amount of increase in transmission loss at a wavelength of 1.24 μm after being left in a hydrogen atmosphere at atmospheric pressure was measured, and the hydrogen resistance characteristics of the carbon coating were examined. Further, the surface resistance values of these two types of optical fibers were measured by a four-terminal method, and the relationship between them was examined. The results are shown in Table 1.

なお、ファイバ1については非常に耐水素特性が高
く、48時間の水素暴露試験中には、伝送損失の増加が認
められなかったため、さらに同条件の水素雰囲気中に1
週間に放置したが、その後も伝送損失の増加はみられな
かった。
Note that the fiber 1 has extremely high hydrogen resistance, and no increase in transmission loss was observed during the 48-hour hydrogen exposure test.
After leaving for a week, there was no increase in transmission loss.

第1表により、光ファイバ表面に形成された炭素被膜
に電磁波を照射し、その電磁波の透過特性と反射特性と
を測定し、この測定値により炭素被膜の耐水素特性を評
価できることがわかった。
Table 1 shows that the carbon film formed on the surface of the optical fiber was irradiated with electromagnetic waves, and the transmission characteristics and reflection characteristics of the electromagnetic waves were measured. From the measured values, it was found that the hydrogen resistance characteristics of the carbon films could be evaluated.

よって、炭素被膜の誘電率、すなわち透過特性または
反射特性の測定値を制御信号としてCVD反応炉に送り、
これによりCVD反応炉での炭素被膜形成条件を制御すれ
ば、良好な耐水素特性を示す炭素被膜を形成することが
できる。
Therefore, the dielectric constant of the carbon coating, that is, the measured value of the transmission or reflection characteristics is sent to the CVD reactor as a control signal,
Thus, by controlling the conditions for forming the carbon film in the CVD reactor, a carbon film exhibiting good hydrogen resistance can be formed.

[発明の効果] 以上説明したように、この発明の光ファイバの製造方
法は、光ファイバ裸線表面に炭素被膜を形成し、これを
導波管に通しつつ電磁波を照射し、この電磁波の反射特
性または透過特性の変化から、前記炭素被膜の誘電率を
測定し、この測定値に基づいて炭素被膜の形成条件を制
御するものなので、常に一定の耐水素特性を示す均一な
炭素被膜を形成できるようになると共に、光ファイバの
品質管理を簡便に行うことができる。
[Effects of the Invention] As described above, according to the method for manufacturing an optical fiber of the present invention, a carbon coating is formed on the surface of a bare optical fiber, and an electromagnetic wave is irradiated while passing the carbon coating through a waveguide. Since the dielectric constant of the carbon coating is measured from the change in the characteristics or the transmission characteristics, and the formation conditions of the carbon coating are controlled based on the measured values, a uniform carbon coating showing constant hydrogen resistance can be formed at all times. As a result, the quality control of the optical fiber can be easily performed.

また炭素被膜の誘電率は、電磁波の反射特性または透
過特性の変化から測定するものなので、非接触かつ連続
的に測定することができ、炭素被膜を損傷させることが
なく、光ファイバの強度低下の原因になる恐れがない。
Also, since the dielectric constant of the carbon coating is measured from changes in the reflection or transmission characteristics of electromagnetic waves, it can be measured continuously without contact, without damaging the carbon coating and reducing the strength of the optical fiber. There is no danger of cause.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図はこの発明の光ファイバの製造方法に好適に用い
られる製造装置の一実施例を示した概略構成図、第2図
はこの発明の光ファイバの製造方法に好適に用いられる
評価装置の一実施例を示した概略構成図、第3図は第2
図に示した評価装置に好適に用いられる導波管の概略断
面図である。 1……光ファイバ裸線、 4……CVD反応炉、 7……評価装置。
FIG. 1 is a schematic diagram showing an embodiment of a manufacturing apparatus suitably used in the method for manufacturing an optical fiber according to the present invention, and FIG. 2 is a diagram showing an evaluation apparatus preferably used in the method for manufacturing an optical fiber according to the present invention. FIG. 3 is a schematic configuration diagram showing one embodiment, and FIG.
It is a schematic sectional drawing of the waveguide suitably used for the evaluation apparatus shown in the figure. 1 ... bare optical fiber, 4 ... CVD reactor, 7 ... evaluation device.

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】光ファイバ裸線表面に炭素被膜を形成し、
これを導波管に通しつつ電磁波を照射し、この電磁波の
反射特性または透過特性の変化から、前記炭素被膜の誘
電率を測定し、この測定値に基づいて炭素被膜の形成条
件を制御することを特徴とする光ファイバの製造方法。
(1) forming a carbon coating on a bare optical fiber surface;
By irradiating an electromagnetic wave while passing this through a waveguide, measuring the dielectric constant of the carbon coating from a change in the reflection characteristic or transmission characteristic of the electromagnetic wave, and controlling the formation condition of the carbon coating based on the measured value. A method for producing an optical fiber, comprising:
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