JP2721860B2 - Method for producing polysilane compound - Google Patents

Method for producing polysilane compound

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JP2721860B2
JP2721860B2 JP1049147A JP4914789A JP2721860B2 JP 2721860 B2 JP2721860 B2 JP 2721860B2 JP 1049147 A JP1049147 A JP 1049147A JP 4914789 A JP4914789 A JP 4914789A JP 2721860 B2 JP2721860 B2 JP 2721860B2
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満夫 石川
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【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、ポリシラン化合物の新規な製造方法に関す
る。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a novel method for producing a polysilane compound.

従来の技術 ポリシラン化合物を製造する方法としては、従来か
ら、ジメチルジクロルシランにアルカリ金属を作用させ
て重合させる方法等が採用されている。しかしながら、
この方法は、例えば、原料が不飽和結合を有するシラン
化合物である場合等においては、不飽和部分の反応性が
高いために、その不飽和結合の部分の反応が優先的に進
行し、不飽和結合を残したままで重合反応を進行させる
のが困難である。従つて、上記のような反応を利用する
ことによつては、不飽和結合を有するポリシラン化合物
を製造することはできない。
2. Description of the Related Art As a method for producing a polysilane compound, a method in which an alkali metal is allowed to act on dimethyldichlorosilane to carry out polymerization and the like have conventionally been employed. However,
In this method, for example, when the raw material is a silane compound having an unsaturated bond or the like, the reaction of the unsaturated bond portion proceeds preferentially due to the high reactivity of the unsaturated portion, and It is difficult to allow the polymerization reaction to proceed while leaving the bond. Therefore, it is not possible to produce a polysilane compound having an unsaturated bond by utilizing the above reaction.

近年、導電性材料或いは光感応性樹脂等として、不飽
和結合をするポリシラン化合物が注目されており、不飽
和結合を有するポリシラン化合物の製造方法の開発が切
望されている。
In recent years, polysilane compounds having an unsaturated bond have attracted attention as a conductive material or a photosensitive resin, and development of a method for producing a polysilane compound having an unsaturated bond has been desired.

このような状況下に、Chemistry Letters,1149(198
8)には、次式で示されるように、1,2−ジエチニル−1,
1,2,2−テトラメチルジシランのようなケイ素化合物と
炭素−炭素間二重結合を有する化合物をWCl6のような周
期表第6族の原子を含む触媒を用いて重合させる方法が
報告されている。
Under these circumstances, Chemistry Letters, 1149 (198
8) has 1,2-diethynyl-1,1,
1,2,2 silicon compound and carbon, such as tetramethyl disilane - Periodic Table a method of polymerizing by using a catalyst comprising a Group 6 atoms such as WCl 6 compounds having carbon-carbon double bond is reported ing.

ここに、Xは、結合手、アルキレン基、−0−、 等をあらわす。 Here, X is a bond, an alkylene group, -0-, And so on.

しかしながら、この方法によつて得られるポリシラン
化合物は、ケイ素原子が取り込まれた環構造を有してお
り、しかも、原料成分は三重結合を有する化合物である
にもかかわらず、得られたポリシラン化合物には三重結
合が存在しない。従つて、上記のような反応を利用して
も、不飽和結合を完全な形態にてポリシラン化合物中に
導入することができない。かくして、かかるポリシラン
化合物は、例えば、導電性材料として用いようとする場
合、導電性に関して、ポリシラン化合物とポリアセチレ
ン化合物の有しているすぐれた特性とが十分に表存化し
ないという問題がある。
However, the polysilane compound obtained by this method has a ring structure in which a silicon atom is incorporated, and the raw material component is a compound having a triple bond. Has no triple bond. Therefore, even if the above-mentioned reaction is used, the unsaturated bond cannot be completely introduced into the polysilane compound. Thus, when such a polysilane compound is to be used, for example, as a conductive material, there is a problem that the excellent properties of the polysilane compound and the polyacetylene compound are not sufficiently expressed in terms of conductivity.

また、Journal of Organometallic Chemistry,346(1
988)には、パラジウム鎖体を触媒として用いて、エチ
ニル基を有するシラン及びシランの二重体を合成する方
法が報告されている。しかし、この方法によれば、得ら
れるシラン化合物は二量体であり、例えば、導電性材料
としての有用性が期待される化合物についての言及はな
い。
Also, Journal of Organometallic Chemistry, 346 (1
988) reports a method of synthesizing a silane having an ethynyl group and a duplex of the silane using a palladium chain as a catalyst. However, according to this method, the obtained silane compound is a dimer, and for example, there is no mention of a compound expected to be useful as a conductive material.

即ち、ポリシラン化合物を製造する従来の技術におい
ては、三重結合を有する単量体のように、非常に高い反
応性を有する不飽和結合を有する原料を用いて、得られ
るポリシラン化合物中に三重結合を導入するような手法
は確立されていない。
That is, in the conventional technique for producing a polysilane compound, a triple bond is contained in the obtained polysilane compound by using a raw material having an unsaturated bond having a very high reactivity, such as a monomer having a triple bond. The method to introduce it has not been established.

発明が解決しようとする課題 本発明は、上記したような従来の技術に伴う問題を解
決するためになされたものであつて、非常に活性の高い
不飽和結合を有するポリシラン化合物を製造することが
できる新規な方法を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to solve the problems associated with the prior art as described above, and it is an object of the present invention to produce a polysilane compound having a highly active unsaturated bond. It is intended to provide a new method that can be used.

更に詳しくは、本発明は、例えば、導電性材料等とし
て有用性の高い三重結合を分子鎖内に有するポリシラン
化合物を製造することができる新規な方法を提供するこ
とを目的とする。
More specifically, an object of the present invention is to provide a novel method capable of producing a polysilane compound having a triple bond in a molecular chain which is highly useful as, for example, a conductive material.

課題を解決するための手段 本発明によるポリシラン化合物の製造方法は、アリー
ルホスフインリガンドを有するロジウム又はイリジウム
錯体の存在下に、次式(I) (式中、R1及びR2は、それぞれ独立にアルキル基、アリ
ール基及びアラルキル基よりなる群から選ばれる基を示
し、mは1〜4の範囲の整数を示す。) で表わされる化合物を反応させることによつて、次式
(II) (式中、R1、R2及びmは前記と同じであり、nは2以上
の整数を示す。) で表わされるポリシラン化合物を得ることを特徴とす
る。
Means for Solving the Problems A method for producing a polysilane compound according to the present invention comprises the following formula (I) in the presence of a rhodium or iridium complex having an arylphosphine ligand. (Wherein, R 1 and R 2 each independently represent a group selected from the group consisting of an alkyl group, an aryl group, and an aralkyl group, and m represents an integer in the range of 1 to 4.) By reacting, the following formula (II) (Wherein R 1 , R 2 and m are the same as described above, and n represents an integer of 2 or more).

かかる本発明の方法によれば、触媒として、前記アリ
ールホスフインリガンドを有するロジウム又はイリジウ
ム錯体を用いるので、前記式(I)で表わされる化合物
を反応させることによつて、ケイ素原子を含む環状構造
を形成することなく、主鎖にケイ素−ケイ素結合及びエ
ンイン構造を交互に有する前記式(II)で表わされるポ
リシラン化合物を得ることができる。
According to the method of the present invention, since the rhodium or iridium complex having the arylphosphine ligand is used as a catalyst, the cyclic structure containing a silicon atom can be obtained by reacting the compound represented by the formula (I). The polysilane compound represented by the formula (II) having a silicon-silicon bond and an enyne structure alternately in the main chain can be obtained without forming

以下に本発明によるポリシラン化合物の製造方法につ
いて詳細に説明する。
Hereinafter, the method for producing a polysilane compound according to the present invention will be described in detail.

本発明の方法において用いられる原料化合物は、次式
(I) (式中、R1及びR2は、それぞれ独立にアルキル基、アリ
ール基及びアラルキル基よりなる群から選ばれる基を示
し、mは1〜4の範囲の整数を示す。) で表わされる。
The starting compound used in the method of the present invention has the following formula (I) (Wherein, R 1 and R 2 each independently represent a group selected from the group consisting of an alkyl group, an aryl group and an aralkyl group, and m represents an integer in the range of 1 to 4.)

ここに、上記アルキル基は、通常、炭素数1〜6であ
り、好ましくは1〜3である。このようなアルキル基と
しては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブ
チル基等の直鎖状アルキル基、イソプロピル基、sec−
ブチル基、sec−アミル基等の2級アルキル基、及びter
t−ブチル基、tert−アミル基等の3級アルキル基等を
挙げることができる。
Here, the alkyl group usually has 1 to 6 carbon atoms, preferably 1 to 3 carbon atoms. Examples of such an alkyl group include a linear alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, an isopropyl group, a sec-
Butyl group, secondary alkyl group such as sec-amyl group, and ter
Examples thereof include tertiary alkyl groups such as t-butyl group and tert-amyl group.

アリール基は、少なくとも一つの芳香族環を有する一
価の基であり、この芳香族環は、置換基を有していても
よい。かかるアリール基の具体例として、例えば、フエ
ニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基等を挙げる
ことができる。
The aryl group is a monovalent group having at least one aromatic ring, and the aromatic ring may have a substituent. Specific examples of such an aryl group include, for example, a phenyl group, a naphthyl group, a tolyl group and a xylyl group.

アラルキル基は、少なくとも一つの芳香族環を有する
脂肪族炭化水素の一価の基であり、ここに含まれる芳香
族環は、置換基を有していてもよい。かかるアラルキル
基の具体例として、例えば、ベンジル基、フエネチル
基、α−メチルベンジル、トリル基等を挙げることがで
きる。
The aralkyl group is a monovalent group of an aliphatic hydrocarbon having at least one aromatic ring, and the aromatic ring contained therein may have a substituent. Specific examples of such an aralkyl group include, for example, a benzyl group, a phenethyl group, α-methylbenzyl, a tolyl group and the like.

また、上記式(I)において、mは、1〜4の整数で
あり、好ましくは2である。
In the above formula (I), m is an integer of 1 to 4, and is preferably 2.

従つて、本発明の方法において、原料として用いるこ
とができる式(I)で表わされる化合物として、例え
ば、1,2−ジエチニル−1,1,2,2−テトラメチルジシラ
ン、1,2−ジエチニル−1,1,2,2−テトラエチルジシラ
ン、1,2−ジエチニル−1,1,2,2−テトラ〔イソプロピ
ル〕ジシラン、1,2−ジエチニル−1,1,2,2−テトラ〔se
c−ブチル〕ジシラン、1,2−ジエチニル−1,1,2,2−テ
トラ〔3−メチルベンチル〕ジシラン、1,2−ジエチニ
ル−1,1,2,2−テトラ〔tert−ブチル〕ジシラン、1,2−
ジエチニル−1,1,2,2−テトラ〔2,2−ジメチルブチル〕
ジシラン、1,2−ジエチニル−1,1,2,2−テトラフエニル
ジシラン、1,2−ジエチニル−1,1,2,2−テトラナフチル
ジシラン、1,2−ジエチニル−1,1,2,2−テトラトリルジ
シラン、1,2−ジエチニル−1,1,2,2−テトラベンジルジ
シラン、1,2−ジエチニル−1,1,2,2−テトラフエネチル
ジシラン、1,2−ジエチニル−1,1,2,2−テトラ〔α−メ
チルベンジル〕ジシラン1,2−ジエチニル−1,2−ジフエ
ニル−1,2−ジメチルジシラン、1,2−ジエチニル−1,2
−ジエチル−1,2−ジメチルジシラン等を挙げることが
できる。
Therefore, as the compound represented by the formula (I) which can be used as a raw material in the method of the present invention, for example, 1,2-diethynyl-1,1,2,2-tetramethyldisilane, 1,2-diethynyl -1,1,2,2-tetraethyldisilane, 1,2-diethynyl-1,1,2,2-tetra [isopropyl] disilane, 1,2-diethynyl-1,1,2,2-tetra (se
c-butyl] disilane, 1,2-diethynyl-1,1,2,2-tetra [3-methylbenzyl] disilane, 1,2-diethynyl-1,1,2,2-tetra [tert-butyl] Disilane, 1,2-
Diethynyl-1,1,2,2-tetra [2,2-dimethylbutyl]
Disilane, 1,2-diethynyl-1,1,2,2-tetraphenyldisilane, 1,2-diethynyl-1,1,2,2-tetranaphthyldisilane, 1,2-diethynyl-1,1,2 1,2-tetratolyldisilane, 1,2-diethynyl-1,1,2,2-tetrabenzyldisilane, 1,2-diethynyl-1,1,2,2-tetraphenethyldisilane, 1,2-diethynyl -1,1,2,2-tetra [α-methylbenzyl] disilane 1,2-diethynyl-1,2-diphenyl-1,2-dimethyldisilane, 1,2-diethynyl-1,2
-Diethyl-1,2-dimethyldisilane and the like.

これらの化合物は、通常、単独にて用いられるが、例
えば、得られるポリシラン化合物の導電性の調整等のた
めに、2種類以上を組み合わせて用いることもできる。
These compounds are usually used alone, but for example, two or more of them can be used in combination for adjusting the conductivity of the obtained polysilane compound.

本発明の方法によれば、上記のような式(I)で表わ
される化合物を前記アリールホスフインリガンドを有す
るロジウム又はイリジウム錯体の存在下で重合させる。
According to the method of the present invention, the compound represented by the above formula (I) is polymerized in the presence of a rhodium or iridium complex having the aryl phosphine ligand.

本発明において、触媒として、特に好ましく用いられ
る錯体の具体例として、例えば、塩化トリス(トリフエ
ニルホスフイン)ロジウムやクロロカルボニルビス(ト
リフエニルホスフイン)イリジウム等を挙げることがで
きる。
In the present invention, specific examples of the complex particularly preferably used as the catalyst include, for example, tris (triphenylphosphine) rhodium chloride and chlorocarbonylbis (triphenylphosphine) iridium.

本発明において、かかる金属錯体は、単独で用いても
よく、或いは2種以上を組み合わせて用いることもでき
る。
In the present invention, such a metal complex may be used alone or in combination of two or more.

本発明の方法において、上記のような金属錯体は、原
料である前記式(I)で表わされる化合物に対して、通
常、0.1〜10モル%、好ましくは、1〜5モル%の範囲
で用いられる。
In the method of the present invention, the metal complex as described above is used in an amount of usually 0.1 to 10 mol%, preferably 1 to 5 mol%, based on the compound represented by the formula (I) as a raw material. Can be

かかる金属錯体の存在下での前記式(I)で表わされ
る化合物の重合は、溶剤の不存在下、又は存在下のいず
れにても行なうことができるが、通常、溶剤を用いて、
液相にて行なわれる。このように、重合を液相にて行な
う場合、溶剤としては、原料等に対して反応性をもたな
い溶剤であれば、特に、限定されるものではない。かか
る溶剤の具体例としては、例えば、芳香族炭化水素系溶
剤、飽和炭化水素系溶剤、不飽和炭化水素系溶剤、エー
テル系溶剤、アルコール系溶剤、アミド系溶剤等を挙げ
ることができる。特に、トルエン、ベンゼン、キシレン
等の芳香族炭化水素系溶剤が好ましく用いられる。これ
らの溶剤は、単独にて、又は2種以上の混合物として用
いられる。
The polymerization of the compound represented by the formula (I) in the presence of such a metal complex can be carried out either in the absence or in the presence of a solvent.
Performed in the liquid phase. As described above, when the polymerization is performed in the liquid phase, the solvent is not particularly limited as long as it has no reactivity with the raw materials and the like. Specific examples of such solvents include, for example, aromatic hydrocarbon solvents, saturated hydrocarbon solvents, unsaturated hydrocarbon solvents, ether solvents, alcohol solvents, amide solvents, and the like. In particular, aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, benzene, and xylene are preferably used. These solvents are used alone or as a mixture of two or more.

重合反応は、通常、−50℃から100℃の範囲の温度に
て行なわれ、好ましくは、0〜50℃の範囲で行なわれ
る。また、重合反応は、減圧下にても、加圧下にても行
なわれ、反応圧力は、限定されるものではないが、減圧
から60kg/cm2にわたつてもよい。しかし、通常は、0〜
30kg/cm2、好ましくは、0〜5kg/cm2の範囲である。反
応時間は、反応温度及び圧力等を考慮して、適宜に設定
されるが、通常、5分乃至1週間であり、好ましくは、
5〜80時間である。
The polymerization reaction is usually carried out at a temperature in the range of -50 ° C to 100 ° C, preferably in the range of 0 to 50 ° C. Further, the polymerization reaction is carried out under reduced pressure or under increased pressure, and the reaction pressure is not limited, but may be from reduced pressure to 60 kg / cm 2 . However, usually,
30kg / cm 2, preferably in the range of 0~5kg / cm 2. The reaction time is appropriately set in consideration of the reaction temperature, the pressure and the like, but is usually 5 minutes to 1 week, preferably
5 to 80 hours.

このような反応によつて、前記式(I)で表わされる
化合物は、次の反応式に従つて、前記式(II)で表わさ
れるポリシラン化合物を生成する。
By such a reaction, the compound represented by the formula (I) forms a polysilane compound represented by the formula (II) according to the following reaction formula.

上記において、R1、R2、m及びnは前記と同じであ
り、特に、nは、好ましくは、10以上の整数である。
In the above, R 1 , R 2 , m and n are the same as described above, and in particular, n is preferably an integer of 10 or more.

このようにして、本発明によつて得られるポリシラン
化合物(II)は、通常、導電率σが10-8S/cm以下であ
る。そして、かかるポリシラン化合物にドーパントを添
加することによつて、導電率σは、通常、0.01〜1S/cm
の範囲となる。従つて、かかるポリシラン化合物は、導
電性材料として用いることができる。
Thus, the polysilane compound (II) obtained according to the present invention usually has a conductivity σ of 10 −8 S / cm or less. By adding a dopant to such a polysilane compound, the conductivity σ is usually 0.01 to 1 S / cm.
Range. Therefore, such a polysilane compound can be used as a conductive material.

上記ドーパントとしては、特に限定されるものではな
く、従来から知られているものを用いることができる。
具体例として、例えば、I2、SO3、AsF5等を挙げること
ができる。また、SbF5、SbCl5等も用いることができ
る。これらのドーパントは、単独で、或いは2種以上を
組み合わせて用いることができる。本発明においては、
ドーパントとしては、特に、SbF5が好ましい。
The dopant is not particularly limited, and a conventionally known dopant can be used.
Specific examples include, for example, I 2 , SO 3 , AsF 5 and the like. Further, SbF 5 , SbCl 5 or the like can also be used. These dopants can be used alone or in combination of two or more. In the present invention,
As the dopant, SbF 5 is particularly preferable.

また、本発明の方法によつて得られるポリシラン化合
物は、上記したような導電性材料以外にも、例えば、ケ
イ素−ケイ素結合の有する光機能性を利用して、感光材
料等としても用いることができる。
The polysilane compound obtained by the method of the present invention can be used as a photosensitive material or the like by utilizing, for example, photofunctionality having a silicon-silicon bond, in addition to the above-described conductive material. it can.

発明の効果 本発明によれば、触媒として、前記アリールホスフイ
ンリガンドを有するロジウム又はイリジウム錯体を用い
て、前記式(I)で表わされる化合物を重合させること
によつて、ケイ素原子を含む環状構造を形成することな
しに、主鎖にケイ素−ケイ素結合及びエンイン構造を有
する前記式(II)で表わされるポリシラン化合物を得る
ことができる。
Effects of the Invention According to the present invention, a compound represented by the above formula (I) is polymerized using a rhodium or iridium complex having the above arylphosphine ligand as a catalyst, whereby a cyclic structure containing a silicon atom is obtained. The polysilane compound represented by the formula (II) having a silicon-silicon bond and an enyne structure in the main chain can be obtained without forming

かかるポリシラン化合物は、特に、導電性材料として
有用である。
Such a polysilane compound is particularly useful as a conductive material.

実施例 以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、本発明は
これら実施例により何ら限定されるものではない。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

実施例1 ロジウム錯体を用いる1,2−ジエチニル−1,2−ジフエニ
ル−1,2−ジメチルジシランの重合 1,2−ジエチニル−1,2−ジフエニル−1,2−ジメチル
ジシラン1.0gをトルエン10mlに溶解した。この溶液に触
媒として塩化トリス(トリフエニルホスフイン)ロジウ
ムを、原料に対して2モル%の量で添加した後、アルゴ
ン雰囲気下、室温にて40時間撹拌した。
Example 1 Polymerization of 1,2-diethynyl-1,2-diphenyl-1,2-dimethyldisilane using rhodium complex 1.0 g of 1,2-diethynyl-1,2-diphenyl-1,2-dimethyldisilane and 10 ml of toluene Was dissolved. Tris (triphenylphosphine) rhodium chloride as a catalyst was added to this solution in an amount of 2 mol% with respect to the raw materials, and the mixture was stirred at room temperature under an argon atmosphere for 40 hours.

次に、減圧下にてトルエンを留去し、残渣をエタノー
ル及びイソプロパノールを用いて、この順序で各々1回
ずつ再沈殿させて精製し、この沈澱物を濾取した。得ら
れた濾過物は、暗褐色固体であつた。収量は0.69gであ
つた。収率69%。
Next, toluene was distilled off under reduced pressure, and the residue was purified by reprecipitation using ethanol and isopropanol once each in this order, and the precipitate was collected by filtration. The resulting filtrate was a dark brown solid. The yield was 0.69 g. Yield 69%.

得られた濾過物をGPCを用いて分析した結果、この化
合物の分子量(Mw)は、18000程度であつた。また、こ
の化合物の融点は136℃であつた。
As a result of analyzing the obtained filtrate using GPC, the molecular weight (Mw) of this compound was about 18,000. The melting point of this compound was 136 ° C.

得られた化合物の機器分析の結果は、以下のとおりで
ある。1 H核磁気共鳴スペクトル(CDCl3溶液中で測定、δppm) 0.47(6H,brs,SiMe),5.93(1H,d,J=19Hz),6.66(1
H,d,J=19Hz),6.87−7.91(10H,m).13 C核磁気共鳴スペクトル(CDCl3溶液中で測定、δpp
m) −5.7,−5.4,−3.8,−3.7(MeSiとして);91.5,94.9
(C≡Cとして);110.0(オレフイン系炭素原子);12
7.9,129.2,133.5,134.5,134.6(芳香族環の炭素原子);
134.6(オレフイン系の炭素原子). IRスペクトル(KBr法により測定) νC≡C2150cm-1 上記の機器分析の結果、得られた暗褐色固体は、ポリ
〔(1,2−ジメチル−1,2−ジフエニルジシラニレン)ブ
トエンイン〕であり、前記式(I)において、nが60程
度であることが確認された。
The results of instrumental analysis of the obtained compound are as follows. 1 H nuclear magnetic resonance spectrum (measured in CDCl 3 solution, δ ppm) 0.47 (6H, brs, SiMe), 5.93 (1 H, d, J = 19 Hz), 6.66 (1
H, d, J = 19Hz), 6.87−7.91 (10H, m). 13 C nuclear magnetic resonance spectrum (measured in CDCl 3 solution, δpp
m) −5.7, −5.4, −3.8, −3.7 (as MeSi); 91.5, 94.9
(As C≡C); 110.0 (olefinic carbon atom); 12
7.9,129.2,133.5,134.5,134.6 (carbon atom of aromatic ring);
134.6 (Olefin-based carbon atom). IR spectrum (measured by KBr method) νC≡C2 150 cm −1 As a result of the above instrumental analysis, the obtained dark brown solid was poly [(1,2-dimethyl-1,2-diphenyldisilanilene) butenoin]. In the formula (I), it was confirmed that n was about 60.

実施例2 ロジウム錯体を用いる1,2−ジエチニル−1,2−ジエチル
−1,2−ジメチルジシランの重合 1,2−ジエチニル−1,2−ジエチル−1,2−ジメチルジ
シラン1.011g(6.08×10-3モル)と触媒としての塩化ト
リス(トリフエニルホスフイン)ロジウム0.1005g(2
モル%)をトルエン10mlに溶解させ、アルゴン気流下、
室温で2日間撹拌した。
Example 2 Polymerization of 1,2-diethynyl-1,2-diethyl-1,2-dimethyldisilane using a rhodium complex 1.011 g of 1,2-diethynyl-1,2-diethyl-1,2-dimethyldisilane (6.08 × 10-3 mol) and 0.1005 g of tris (triphenylphosphine) rhodium chloride as a catalyst (2
Mol%) in 10 ml of toluene, and under an argon stream,
Stirred at room temperature for 2 days.

反応終了後、減圧下にて反応混合物からトルエンを留
去して、下記式で示されるポリ〔(1,2−ジエチル−1,2
−ジメチルジシラニレン)ブトエンイン〕を固体として
得た。この固体をクロロホルムに溶解させ、エタノール
から再沈澱させ、次いで、イソプロピルアルコールから
再沈澱させることによつて精製した、収量は0.4717g
(収率47%)であつた。融点300℃以上。
After completion of the reaction, toluene was distilled off from the reaction mixture under reduced pressure, and poly [(1,2-diethyl-1,2
-Dimethyldisilanilen) butenyne] as a solid. This solid was purified by dissolving in chloroform, reprecipitating from ethanol, and then reprecipitating from isopropyl alcohol, yielding 0.4717 g.
(Yield 47%). Melting point 300 ° C or higher.

1H核磁気共鳴スペクトル(CDCl3溶液中で測定、δppm) 0.37,0.44,0.51(MeSi);0.63−1.53(EtSi);5.77−
6.74(m,9H,−C=C−).13 C核磁気共鳴スペクトル(CDCl3溶液中で測定、δpp
m) −6.59,−4.69(MeSi);−5.38,6.47,8.04(EtSi);
99.28,103.98(−C≡C−),124.29,124.57,143.74,14
3.96(−C=C−). IRスペクトル(KBr法により測定) νC≡C2146cm-1 実施例3 ロジウム錯体を用いる1,2ジエチニル−1,1,2,2−テトラ
メチルジシランの重合 1,2−ジエチニル−1,1,2,2−テトラメチルジシラン1.
01g(6.08×10-3モル)と溶剤トルエン10mlとをアルゴ
ン置換した二口フラスコ中にて、触媒である塩化トリス
(トリフエニルホスフイン)ロジウム0.100g(2モル
%)と共に、室温にて2日間撹拌した。
1 H nuclear magnetic resonance spectrum (measured in CDCl 3 solution, δ ppm) 0.37, 0.44, 0.51 (MeSi); 0.63-1.53 (EtSi); 5.77 −
6.74 (m, 9H, -C = C-). 13 C nuclear magnetic resonance spectrum (measured in CDCl 3 solution, δpp
m) −6.59, −4.69 (MeSi); −5.38, 6.47, 8.04 (EtSi);
99.28,103.98 (-C @ C-), 124.29,124.57,143.74,14
3.96 (-C = C-). IR spectrum (measured by KBr method) νC≡C2146 cm -1 Example 3 Polymerization of 1,2 diethinyl-1,1,2,2-tetramethyldisilane using rhodium complex 1,2-diethynyl-1,1,2, 2-tetramethyldisilane 1.
In a two-necked flask in which 01 g (6.08 × 10 -3 mol) and 10 ml of the solvent toluene were replaced with argon, 0.100 g (2 mol%) of tris (triphenylphosphine) rhodium chloride as a catalyst was added at room temperature. Stirred for days.

この期、溶剤を濃縮し、得られた残渣をエタノールに
て2回、イソプロピルアルコールにて1回再沈し、得ら
れた沈澱を濾過し、乾燥した。収量0.472g(収率47
%)。融点30℃以上。1 H核磁気共鳴スペクトル(CDCl3溶液中で測定、δppm) 0.13,0.20,0.22,0.29(12H,4本の一重線,SiMe);5.9
0,5.96,6.50,6.53(2H,4本の二重線,J=19Hz,オレフイ
ンの水素).13 C核磁気共鳴スペクトル(CDCl3溶液中で測定、δpp
m) −4.58,−4.47,−2.96,−2.85(MeSi);123.92,124.1
3,144.72,145.04(−C=C−);92.80,93.04,107.99
(−C≡C−). IRスペクトル(KBr法により測定) νC≡C2148cm-1 実施例4 イリジウム錯体を用いる1,2−ジエチニル−1,2−ジフエ
ニル−1,2−ジメチルジシランの重合 1,2−ジエチニル−1,2−ジフエニル−1,2−ジメチル
ジシラン0.5gをクロロカルボニルビス(トリフエニルホ
スフイン)イリジウム27.5mg(2モル%)の存在下に、
トルエン5ml中にて10時間、加熱還流した。
During this period, the solvent was concentrated, and the obtained residue was reprecipitated twice with ethanol and once with isopropyl alcohol, and the obtained precipitate was filtered and dried. Yield 0.472 g (Yield 47
%). Melting point 30 ° C or higher. 1 H nuclear magnetic resonance spectrum (measured in CDCl 3 solution, δ ppm) 0.13, 0.20, 0.22, 0.29 (12H, 4 singlet, SiMe); 5.9
0,5.96,6.50,6.53 (2H, 4 double lines, J = 19Hz, hydrogen of olefin). 13 C nuclear magnetic resonance spectrum (measured in CDCl 3 solution, δpp
m) −4.58, −4.47, −2.96, −2.85 (MeSi); 123.92, 124.1
3,144.72,145.04 (-C = C-); 92.80,93.04,107.99
(-C≡C-). IR spectrum (measured by KBr method) νC≡C2148 cm -1 Example 4 Polymerization of 1,2-diethynyl-1,2-diphenyl-1,2-dimethyldisilane using iridium complex 1,2-diethynyl-1,2- 0.5 g of diphenyl-1,2-dimethyldisilane was added in the presence of 27.5 mg (2 mol%) of chlorocarbonylbis (triphenylphosphine) iridium.
The mixture was heated under reflux in 5 ml of toluene for 10 hours.

放冷期、反応混合物からトルエンを減圧下に留去、濃
縮し、得られた残渣をエタノール及びイソプロピルアル
コールにてそれぞれ1回再沈殿した。得られた固体を濾
過、乾燥し、ポリシラン化合物0.15gを得た。収率30
%。
During the cooling period, toluene was distilled off from the reaction mixture under reduced pressure and concentrated, and the obtained residue was reprecipitated once each with ethanol and isopropyl alcohol. The obtained solid was filtered and dried to obtain 0.15 g of a polysilane compound. Yield 30
%.

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】アリールホスフインリガンドを有するロジ
ウム又はイリジウム錯体の存在下に、次式(I) (式中、R1及びR2は、それぞれ独立にアルキル基、アリ
ール基及びアラルキル基よりなる群から選ばれる基を示
し、mは1〜4の範囲の整数を示す。) で表わされる化合物を反応させることを特徴とする次式
(II) (式中、R1、R2及びmは前記と同じであり、nは2以上
の整数を示す。) で表わされるポリシラン化合物の製造方法。
(1) In the presence of a rhodium or iridium complex having an arylphosphine ligand, (Wherein, R 1 and R 2 each independently represent a group selected from the group consisting of an alkyl group, an aryl group, and an aralkyl group, and m represents an integer in the range of 1 to 4.) The following formula (II) characterized by reacting (Wherein R 1 , R 2 and m are the same as described above, and n represents an integer of 2 or more).
【請求項2】錯体が塩化トリス(トリフエニルホスフイ
ン)ロジウム又はクロロカルボニルビス(トリフエニル
ホスフイン)イリジウムである請求項1に記載のポリシ
ラン化合物の製造方法。
2. The method for producing a polysilane compound according to claim 1, wherein the complex is tris (triphenylphosphine) rhodium chloride or chlorocarbonylbis (triphenylphosphine) iridium.
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