JP2703279B2 - Manufacturing method of shadow mask - Google Patents
Manufacturing method of shadow maskInfo
- Publication number
- JP2703279B2 JP2703279B2 JP22126388A JP22126388A JP2703279B2 JP 2703279 B2 JP2703279 B2 JP 2703279B2 JP 22126388 A JP22126388 A JP 22126388A JP 22126388 A JP22126388 A JP 22126388A JP 2703279 B2 JP2703279 B2 JP 2703279B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal sheet
- photosensitive resin
- drying
- continuous strip
- shadow mask
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) この発明は、カラー受像管に使用するシャドウマスク
の製造方法に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Object of the Invention] (Field of Industrial Application) The present invention relates to a method of manufacturing a shadow mask used for a color picture tube.
(従来の技術) 一般に、シャドウマスク型カラー受像管は、多数のビ
ーム開孔が所定のピッチで配列され蛍光面に近接対向し
て配置されたシャドウマスクを有している。このシャド
ウマスクは電子銃からの赤、青及び緑に対応する3本の
電子ビームを1つのビーム開孔近傍で集中させ、赤、青
及び緑に対応するように塗り分けられた蛍光面に正しく
対応射突してカラー映像を再現する、いわゆる色選別機
能を有する重要な部材の一つである。(Prior Art) In general, a shadow mask type color picture tube has a shadow mask in which a large number of beam apertures are arranged at a predetermined pitch and arranged in close proximity to a phosphor screen. This shadow mask concentrates the three electron beams corresponding to red, blue and green from the electron gun near one beam aperture, and correctly applies it to the phosphor screen painted differently to correspond to red, blue and green. It is one of the important members that have a so-called color selection function that reproduces a color image by shooting.
従って、シャドウマスクのビーム開孔形状の歪、ビー
ム開孔と対応蛍光体との配置歪及びシャドウマスクと螢
光面の一定の距離の歪は、その許容範囲を越えると、い
ずれも色純度の劣化等の特性上の重大な支障をもたらす
ことになる。シャドウマスクの各ビーム開孔は、一般に
斜めに入射する電子ビームの一定の通過量を確保するた
めに、第2図に示すような断面形状を有している。即
ち、帯状金属薄板1の蛍光面側の開孔2(以下大孔と称
す)は、電子銃側の開孔3(以下小孔と称す)の約3倍
の面積を有するように穿設されている。Therefore, when the distortion of the beam aperture shape of the shadow mask, the distortion of the arrangement of the beam aperture and the corresponding phosphor, and the distortion of a certain distance between the shadow mask and the phosphor screen exceed the permissible ranges, all of the distortions of the color purity are lost. This will cause a serious problem in characteristics such as deterioration. Each beam aperture of the shadow mask generally has a cross-sectional shape as shown in FIG. 2 in order to secure a certain amount of passing of the obliquely incident electron beam. That is, the opening 2 (hereinafter, referred to as a large hole) on the phosphor screen side of the strip-shaped metal thin plate 1 is formed so as to have an area approximately three times as large as the opening 3 (hereinafter, referred to as a small hole) on the electron gun side. ing.
このようなシャドウマスクは、従来、以下の工程を経
て製造される。Such a shadow mask is conventionally manufactured through the following steps.
先ず、第3図(a)に示すようにシャドウマスク用素
材である帯状金属薄板1の両面に、感光性樹脂層例えば
感光剤を含むレジスト膜4を被着形成する。次いで、所
定の開孔面積に対応するマスクパターンを介してレジス
ト膜4の所定部を感光させ、現像処理により第3図
(b)に示すように開孔されるべき大孔2及び小孔3部
分のレジスト膜4を除去して素材面を露出させる。First, as shown in FIG. 3 (a), a photosensitive resin layer, for example, a resist film 4 containing a photosensitive agent is formed on both surfaces of a strip-shaped metal thin plate 1 which is a material for a shadow mask. Next, a predetermined portion of the resist film 4 is exposed through a mask pattern corresponding to a predetermined opening area, and the large hole 2 and the small hole 3 to be opened as shown in FIG. A part of the resist film 4 is removed to expose the material surface.
次いで、素材が鉄を主成分とするものであれば、第2
塩化鉄を主成分とするエッチング液によりエッチング
し、第3図(c)に示すような所定の開孔を穿設する。Next, if the material is mainly composed of iron, the second
Etching is performed using an etching solution containing iron chloride as a main component, and a predetermined opening is formed as shown in FIG. 3 (c).
その後、残余のレジスト膜を除去して得られたフラッ
トマスクを形成して完成品となる。Thereafter, a flat mask obtained by removing the remaining resist film is formed to obtain a finished product.
(発明が解決しようとする課題) ところで、第2図に示すような所定の開孔形状におい
て、最小孔径の精度制御に最も関与するのは、小孔3側
からのエッチングであり、このためには大孔2側からの
エッチングが制御されていなければならない。又、当然
のことながら、大孔2側のエッチング量は、小孔3側の
エッチング量より大でなければならない。このような条
件に対して、大孔2側のエッチング孔面積は小孔3側の
エッチング孔面積の約3倍と大きいため、エッチング時
の大孔2内での新液と疲労した液との交換効率が良く、
エッチング速度及び量が大となり、一応上記条件は満足
される。(Problems to be Solved by the Invention) By the way, in a predetermined hole shape as shown in FIG. 2, it is the etching from the side of the small hole 3 that is most involved in the accuracy control of the minimum hole diameter. Requires that the etching from the side of the large hole 2 be controlled. Also, needless to say, the etching amount on the large hole 2 side must be larger than the etching amount on the small hole 3 side. Under these conditions, the etching hole area on the large hole 2 side is about three times as large as the etching hole area on the small hole 3 side. Exchange efficiency is good,
The etching rate and the amount become large, and the above conditions are satisfied for the time being.
しかしながら、大孔2側のエッチング速度と量が大き
いために、サイドエッチングも進行し、第3図(c)に
示すような金属薄板1から浮いたレジスト膜4のひさし
部5も多くなり、これらのさし部5はエッチング液の疲
労によってしばしば剥離又は破壊を生ずる。この結果、
レジスト膜4が破壊された部分は更にエッチングが進行
するため、孔形状の歪を生じ、シャドウマスク品位を低
下させる。このような傾向は、高精細度カラー受像管用
の開孔ピッチ及び径の縮小されたシャドウマスク程著し
く、更に金属薄板1の板厚が厚くなる程、エッチング量
も大となるため著しい。However, since the etching rate and amount on the side of the large hole 2 are large, side etching also proceeds, and the eaves 5 of the resist film 4 floating from the metal sheet 1 as shown in FIG. The insulated portion 5 often peels or breaks due to fatigue of the etching solution. As a result,
Since etching proceeds further in the portion where the resist film 4 is destroyed, a hole shape distortion is generated, and the quality of the shadow mask is degraded. Such a tendency is more remarkable in a shadow mask having a reduced aperture pitch and diameter for a high-definition color picture tube, and the more the thickness of the thin metal plate 1 is, the greater the etching amount is.
又、金属薄板1の露出部寸法のバラツキはシャドウマ
スク寸法に直接影響を与え、シャドウマスク品位の低下
を招く。この露出部寸法のバラツキを生ずる一つの要因
として、レジスト膜4の膜厚変動がある。これは焼付け
パターンを通過した光が、金属薄板1上に形成されたレ
ジスト膜4中で拡散するためで、例えば、レジスト膜4
の膜厚が厚い場合、露光・現像後に得られる露出部寸法
は小さくなる。従って、一定露光条件下では、レジスト
膜4の膜厚が均一なことが重要である。In addition, the variation in the size of the exposed portion of the thin metal plate 1 directly affects the size of the shadow mask, resulting in a decrease in the quality of the shadow mask. One cause of the variation in the size of the exposed portion is a variation in the thickness of the resist film 4. This is because light that has passed through the baked pattern diffuses in the resist film 4 formed on the metal thin plate 1.
When the film thickness is large, the size of the exposed portion obtained after exposure and development is small. Therefore, it is important that the film thickness of the resist film 4 is uniform under a constant exposure condition.
通常のレジスト塗布は、第4図に示すようなフロー方
式や第5図に示すような浸漬引上げ方式で行なわれる。
フロー方式は、帯状の金属薄板1を垂直に立てて上方部
からレジスト材13を金属薄板1の両面に垂れ流し、その
後、乾燥炉15を通すことにより、レジスト膜4を形成す
る。しかし、重力の影響で上方部が下方部に比較し膜厚
が薄く、板幅方向で膜厚差が生ずることは避けられな
い。この膜厚差をなくするために、例えば上方部の乾燥
を早く進めるべき温度分布を有する乾燥炉を用いても、
金属薄板1の搬送速度やレジスト液粘度を種々変更して
も、均一な膜厚を得ることは不可能である。Normal resist coating is performed by a flow method as shown in FIG. 4 or a dipping and pulling method as shown in FIG.
In the flow method, the strip-shaped metal thin plate 1 is erected vertically, and a resist material 13 is dripped from above onto both surfaces of the metal thin plate 1, and then passed through a drying furnace 15 to form the resist film 4. However, the thickness of the upper portion is smaller than that of the lower portion due to the influence of gravity, and it is inevitable that a film thickness difference occurs in the plate width direction. In order to eliminate this difference in film thickness, for example, even if using a drying furnace having a temperature distribution to promote the drying of the upper part quickly,
Even if the transport speed of the metal sheet 1 and the viscosity of the resist liquid are variously changed, it is impossible to obtain a uniform film thickness.
一方、浸漬引上げ方式は、金属薄板1をレジスト材13
中に、浸漬後、垂直方向に引上げられた金属薄板1上の
レジスト材13は、乾燥して完全に固着されるまで重力に
て下方向に流れ落ちるため、金属薄板1の長さ方向では
レジスト膜の膜厚変動が生じる。これを抑制するため、
レジスト材粘度・金属薄板引上げ速度・乾燥温度分布・
吸込み風量等の調整を行なうが、均一なレジスト膜厚を
得ることは不可能である。On the other hand, in the immersion pulling method, the metal sheet 1 is
After being immersed, the resist material 13 on the metal sheet 1 pulled up in the vertical direction flows down by gravity until it is dried and completely fixed, so that the resist film 13 in the length direction of the metal sheet 1 Thickness fluctuation occurs. To suppress this,
Resist material viscosity, metal sheet pulling speed, drying temperature distribution,
Although the suction air volume and the like are adjusted, it is impossible to obtain a uniform resist film thickness.
一方、レジスト膜厚に関して考えるなら、金属薄板1
の板厚が厚くなった場合、エッチング時間が長くなるこ
とに比例して前述のレジスト膜ひさし部5の割合も増加
し、当然、その部分がスプレーされたエッチング液に当
る時間が長くなる。結果として、レジスト膜ひさし部5
が破壊され易くなり、破壊された部分は更にエッチング
が進行して大欠点を発生させるため、レジスト膜4の機
械的強度を向上させる意味合いから、レジスト膜厚を厚
くする対策が施される。On the other hand, considering the resist film thickness,
When the plate thickness is increased, the proportion of the above-described resist film eaves portion 5 increases in proportion to the increase in the etching time, and naturally, the time that the portion is exposed to the sprayed etching solution is prolonged. As a result, the resist film eaves 5
Is more likely to be destroyed, and the damaged portion is further etched to cause a large defect. Therefore, in order to improve the mechanical strength of the resist film 4, measures are taken to increase the resist film thickness.
しかし、従来の方法では重力の影響が不可避で、且つ
前述の諸条件を大巾に変更せねばならず、量産ラインの
中で簡単にレジスト膜厚を均一に厚くすることは不可能
である。However, in the conventional method, the influence of gravity is inevitable, and the above-mentioned conditions must be changed significantly. Therefore, it is impossible to easily and uniformly increase the resist film thickness in a mass production line.
又、小孔3側・大孔2側で各々必要とするレジスト膜
厚を考えた場合、シャドウマスク孔寸法を決定するの
は、一般的に小孔3側の素材露出部寸法であり、寸法精
度の良い露出部を得るためには、レジスト膜4の解像度
が良いことが望まれる。解像度を上げるには、レジスト
材13自体の特性に依存することは当然であるが、膜厚に
も依存し、レジスト膜が薄い程解像度が上がる。従っ
て、エッチングにて生じるレジスト膜ひさし部5がエッ
チング時に破壊されなければ、特に小孔3側は出来るだ
けレジスト膜厚が薄い方が良い。例えば、特開昭60−70
185号公報で提案されている2段エッチング法では、小
孔3側のエッチング時間が短いため、レジスト膜厚が薄
くてもエッチング中にレジスト膜ひさし部5の破壊が生
じない。結果として、レジスト膜厚を薄く出来、シャド
ウマスク品位に大きな影響は及ぼさない。In consideration of the required resist film thickness on the small hole 3 side and the large hole 2 side, the shadow mask hole size is generally determined by the material exposed portion size on the small hole 3 side. In order to obtain an accurate exposed portion, it is desired that the resolution of the resist film 4 be good. It goes without saying that the resolution depends on the characteristics of the resist material 13 itself, but also depends on the film thickness. The thinner the resist film, the higher the resolution. Therefore, unless the eaves portion 5 of the resist film formed by the etching is destroyed during the etching, it is preferable that the resist film thickness is as small as possible, especially on the small hole 3 side. For example, JP-A-60-70
In the two-stage etching method proposed in Japanese Patent Publication No. 185, since the etching time on the side of the small hole 3 is short, even if the resist film thickness is small, the eaves portion 5 of the resist film does not break during the etching. As a result, the resist film thickness can be reduced, and does not significantly affect the quality of the shadow mask.
このように高精細度シャドウマスクを製造するために
は、他の手段も種々提案されているが、小孔3側のレジ
スト膜は大孔2側のレジスト膜に比較し薄いことが望ま
しい。しかし、従来技術であるフロー方式や浸漬引上げ
方式では、小孔3側・大孔2側で各々膜厚を変え且つ均
一であるレジスト膜を形成することは、非常に困難であ
るし、不可能に近い。Various other means have been proposed to manufacture a high-definition shadow mask as described above, but it is desirable that the resist film on the small hole 3 side is thinner than the resist film on the large hole 2 side. However, it is extremely difficult and impossible to form a uniform resist film with a different film thickness on the small hole 3 side and the large hole 2 side by the flow method and the immersion pulling method, which are conventional techniques. Close to.
この発明は、連続帯状金属薄板の両主面で膜厚を自由
に変えることが出来、且つ連続帯状金属薄板の幅方向及
び長手方向で均一な膜厚を形成することが出来るシャド
ウマスクの製造方法を提供することを目的とする。The present invention provides a method of manufacturing a shadow mask capable of freely changing the film thickness on both main surfaces of a continuous strip-shaped metal sheet and forming a uniform film thickness in the width direction and the longitudinal direction of the continuous strip-shaped metal sheet. The purpose is to provide.
(課題を解決するための手段) この発明は、連続帯状金属薄板の両主面を脱脂水洗
後、感光性樹脂液を塗布して乾燥させることにより感光
性樹脂層を形成する第1の工程と、上記感光性樹脂層に
所定の微細開孔のパターンを写真露光により形成する第
2の工程と、エッチングにより上記連続帯状金属薄板に
微細開孔を穿設する第3の工程とからなるシャドウマス
クの製造方法において、上記第1の工程は、上記連続帯
状金属薄板を水平方向に搬送し、先ず1回目の塗布とし
て一方の主面に上記感光性樹脂液を塗布した後、塗布さ
れた面を上方に乾燥し、次いで連続帯状金属薄板を反転
し、2回目の塗布として他方の主面に上記感光性樹脂液
を塗布した後、2回目に塗布された面を上方にして乾燥
することを特徴とするシャドウマスクの製造方法であ
る。(Means for Solving the Problems) The present invention provides a first step of forming a photosensitive resin layer by applying a photosensitive resin liquid and drying after cleaning both main surfaces of a continuous strip-shaped metal thin plate with degreasing water. A shadow mask comprising: a second step of forming a predetermined fine hole pattern in the photosensitive resin layer by photographic exposure; and a third step of forming fine holes in the continuous strip metal sheet by etching. In the manufacturing method, the first step is to transport the continuous strip-shaped metal sheet in the horizontal direction, first apply the photosensitive resin liquid to one main surface as a first application, and then apply the applied surface. Drying upward, then turning the continuous strip-shaped metal sheet, applying the photosensitive resin liquid to the other main surface as a second application, and then drying the second applied surface upward. Shadow mask manufacturing method Is the law.
そして、感光性樹脂液を塗布するのに、パイプドクタ
ーやリバースコーター用い、又、感光性樹脂層の厚さを
両主面で異ならせることも出来る。Then, a pipe doctor or a reverse coater may be used to apply the photosensitive resin liquid, and the thickness of the photosensitive resin layer may be different between the two main surfaces.
又、1回目に塗布した感光性樹脂の乾燥は、前記連続
帯状金属薄板の両主面に対向する熱源によって乾燥し、
2回目に塗布した感光性樹脂の乾燥は、前記連続帯状金
属薄板の2回目に感光性樹脂の塗布された面のみに対向
する熱源によって乾燥することにより感光性樹脂の膜厚
を両面で独立して精度良く制御できると共に、熱かぶり
現象も防止することができる。The drying of the photosensitive resin applied for the first time is dried by a heat source facing both main surfaces of the continuous strip-shaped metal sheet,
The drying of the photosensitive resin applied for the second time is performed by drying the photosensitive resin film on both sides independently by drying with a heat source facing only the surface of the continuous strip-shaped metal sheet on which the photosensitive resin is applied for the second time. Control can be performed with high accuracy, and the heat fogging phenomenon can be prevented.
(作 用) 本発明では、連続帯状金属薄板を水平方向に搬送し、
一方の主面に感光性樹脂液を塗布した後、塗布された面
を上方にして乾燥し、次いで上記金属薄板を反転し、他
方の主面に感光性樹脂液を塗布した後、その面を上方に
して乾燥することにより、塗布後の感光性樹脂は重力に
よる悪影響を受けないため、高精度で感光性樹脂の膜厚
を制御することができる。(Operation) In the present invention, the continuous strip-shaped sheet metal is transported in the horizontal direction,
After applying the photosensitive resin liquid to one of the main surfaces, the coated surface is dried with the coated surface facing upward, then the metal sheet is turned over, and after applying the photosensitive resin liquid to the other main surface, the surface is removed. By drying the photosensitive resin upward, the photosensitive resin after application is not adversely affected by gravity, so that the thickness of the photosensitive resin can be controlled with high accuracy.
又、前段乾燥を金属薄板の少なくとも一方の主面側か
ら行ない、後段乾燥を2回目に感光性樹脂が塗布された
主面側から行なうことにより、1回目に形成された塗膜
は余分な熱を受けることなく、熱かぶり現象を防止する
ことができる。In addition, the pre-stage drying is performed from at least one main surface side of the metal sheet, and the post-stage drying is performed from the second main surface side coated with the photosensitive resin. The heat fogging phenomenon can be prevented without receiving the heat.
更に後段乾燥時に、1回目に感光性樹脂が形成された
主面側を冷却することにより、熱かぶり現象を一層防止
することができる。Furthermore, by cooling the main surface side on which the photosensitive resin is formed for the first time during the subsequent drying, the heat fogging phenomenon can be further prevented.
(実施例) 以下、本発明の一実施例を図面を参照して説明する。Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
この発明によるシャドウマスクの製造方法で用いる装
置は、第1図に示すように構成され、従来例と同一箇所
は同一符号を付すと、連続帯状金属薄板1を搬送する2
組のバックアップローラ11、11′、2組のレジスト材1
3、13′を溜めておくダム14、14′、塗布手段である2
組のパイプドクター12、12′、2組の乾燥炉15、15′、
及び連続帯状金属薄板1を反転させるターンローラー10
とからなっている。1段目の乾燥炉15には、金属薄板の
両主面に対向する位置にヒーター16が設置され、2段目
の乾燥炉15′には、金属薄板の上面に対向する位置にヒ
ーター16′が設置されている。このような装置を用いて
シャドウマスクを製造するには、先ずシャドウマスク用
素材である鉄からなる連続帯状金属薄板1に、脱脂チャ
ンバー(図示せず)内で80℃以上の高温アルカリ液をス
プレーし、表面に塗布された圧延油や防錆油を脱脂す
る。The apparatus used in the method for manufacturing a shadow mask according to the present invention is configured as shown in FIG.
Set of backup rollers 11, 11 ', two sets of resist material 1
Dams 14 and 14 'for storing 3 and 13', coating means 2
Sets of pipe doctors 12, 12 ', two sets of drying ovens 15, 15',
And a turn roller 10 for reversing the continuous strip-shaped metal sheet 1
It consists of In the first-stage drying furnace 15, a heater 16 is provided at a position facing both main surfaces of the metal sheet, and in the second-stage drying furnace 15 ', a heater 16' is provided at a position facing the upper surface of the metal sheet. Is installed. In order to manufacture a shadow mask using such an apparatus, first, a continuous high-temperature alkaline solution of 80 ° C. or higher is sprayed on a continuous strip-shaped metal sheet 1 made of iron, which is a material for a shadow mask, in a degreasing chamber (not shown). Then, the rolling oil and rust-preventive oil applied to the surface are degreased.
その後、水洗チャンバー(図示せず)で水洗し、金属
薄板1の表面を清浄にする。Thereafter, the surface of the metal sheet 1 is cleaned by rinsing with a rinsing chamber (not shown).
次いで、清浄な面が露出した金属薄板1は、図のよう
に水平方向に搬送され、先ずバックアップローラー11を
介して反転する。バックアップローラー11の上部にはパ
イプドクター12が設置されており、金属薄板1の供給側
にはレジスト材13を溜めるダム14が設けられている。Next, the sheet metal 1 with the clean surface exposed is conveyed in the horizontal direction as shown in the figure, and is first turned over via the backup roller 11. A pipe doctor 12 is provided above the backup roller 11, and a dam 14 for storing a resist material 13 is provided on the supply side of the metal sheet 1.
このレジスト材13は、牛乳カゼイン酸アルカリと重ク
ロム酸アンモニウムを牛乳カゼイン酸アルカリに対して
約1重量%添加し、粘度夜100cpsに調整した感光性樹脂
液である。The resist material 13 is a photosensitive resin solution prepared by adding about 1% by weight of milk caseinate and ammonium bichromate to milk caseinate and adjusting the viscosity to 100 cps at night.
そして、金属薄板1の表面に塗布されるレジスト材13
の厚みは、パイプドクター12と金属薄板1との間隔を適
当に選択することにより変えられる。従って、パイプド
クター12は、金属薄板1との間隔を自由に変えられるよ
うに、上下に移動可能な構成になっている。レジスト材
13の粘度は、10cpsから1000cps好ましくは12〜200cpsが
良い。10cps以下の粘度だと、塗布面が安定しなく、乾
燥中に、金属薄板のゆれ等によって塗布ムラになりやす
い。さらに粘度が低い場合には、固形分が少なすぎ膜厚
を厚くするのが困難となること及び水分が多く乾燥時間
が長くなりすぎる。Then, the resist material 13 applied to the surface of the metal sheet 1
Can be changed by appropriately selecting the distance between the pipe doctor 12 and the metal sheet 1. Therefore, the pipe doctor 12 is configured to be movable up and down so that the distance between the pipe doctor 12 and the metal sheet 1 can be freely changed. Resist material
The viscosity of 13 is 10 cps to 1000 cps, preferably 12 to 200 cps. If the viscosity is less than 10 cps, the coating surface is not stable, and the coating tends to be uneven due to the fluctuation of the metal sheet during drying. When the viscosity is further low, the solid content is so small that it is difficult to increase the film thickness, and the amount of water is large and the drying time is too long.
一方、粘度が1000cps以上であると、レジスト材13が
パイプドクターと金属薄板との間隙を通過する際に均一
な剪断応力がかからず膜厚のバラツキを生じ易く、更に
固形分が高くなるため、細かな膜厚のコントロールが困
難となる。又、レジスト材13はダム14より上方に設けら
れたレジスト供給タンク(図示せず)から重力にてダム
14に供給され、過剰のレジスト材は金属薄板1の表面を
伝わりレジスト受け皿に行き回収される。回収されたレ
ジスト材はレジスト溜めのタンク(図示せず)に行き、
フィルター(図示せず)を介してレジスト供給タンクに
ポンプで圧送し、循環使用を行なう。On the other hand, if the viscosity is 1000 cps or more, when the resist material 13 passes through the gap between the pipe doctor and the metal sheet, uniform shear stress is not applied, and the film thickness tends to vary, and the solid content is further increased. And it is difficult to control the film thickness finely. The resist material 13 is supplied from a resist supply tank (not shown) provided above the dam 14 by gravity.
The excess resist material is supplied to 14 and travels along the surface of the sheet metal 1 to the resist tray to be collected. The collected resist material goes to a resist storage tank (not shown),
It is pumped to the resist supply tank via a filter (not shown) by a pump, and is circulated.
このようにして金属薄板1の表面にレジスト材13を塗
布後、インフラスタインヒーター16で金属薄板1の両主
面に熱を与えレジスト材13を乾燥し、金属薄板1の一方
の主面に目的とする厚みを有するレジスト膜を形成す
る。この場合レジスト膜の温度は90℃以下が好ましい。
90℃以上になると熱かぶりをおこしやすくなる。After the resist material 13 is applied to the surface of the metal sheet 1 in this manner, heat is applied to both main surfaces of the metal sheet 1 by the infra stein heater 16 to dry the resist material 13. To form a resist film having the following thickness. In this case, the temperature of the resist film is preferably 90 ° C. or less.
When the temperature exceeds 90 ° C, fogging tends to occur.
次いで、ターンローラー10を介して金属薄板1を上方
に引上げ、バックアップローラー11′を介して金属薄板
1を反転させる。このバックアップローラー11′の上部
にはダム14′を有するパイプドクター12′が設置されて
おり、パイプドクター12′と金属薄板1との間隔を適当
に変えることにより、金属薄板1の他方の主面にレジス
ト材13を塗布後、レジスト材13が塗布された面のみに対
向したインフラスタインヒーター16′で熱を与えレジス
ト材13を乾燥し、目的とする厚みを有するレジスト膜を
形成する。この場合、1回目のレジスト膜を冷風等で冷
却すれば、1回目の熱かぶりを防止するのに有効であ
る。Next, the metal sheet 1 is pulled upward through the turn roller 10, and the metal sheet 1 is inverted via the backup roller 11 '. A pipe doctor 12 'having a dam 14' is provided above the backup roller 11 '. By appropriately changing the distance between the pipe doctor 12' and the metal sheet 1, the other main surface of the metal sheet 1 is formed. After the resist material 13 is applied, heat is applied by an infra stein heater 16 'facing only the surface on which the resist material 13 is applied, and the resist material 13 is dried to form a resist film having a desired thickness. In this case, cooling the first resist film with cold air or the like is effective in preventing the first heat fogging.
又乾燥の熱源はインフラスタインヒーター以外、イン
フラフタインヒーター+温風の組み合せ、温風のみ、シ
ーズヒーター、シーズヒーター+温風の組み合せなどを
用いても良い。As a heat source for drying, a combination of an infra fin heater and a hot air, a combination of a hot air only, a sheathed heater, a sheathed heater and a hot air, and the like may be used.
このようにしてい乾燥後のレジスト膜の厚さは、1回
目、2回目の塗布共、7.0μmで金属薄板1の方向でバ
ラツキはなかった。又、1回目の塗布において、パイプ
ドクター12と金属薄板1との間隔を約80μmに設定し、
2回目の塗布においては約120μmに設定してレジスト
材13、13′を塗布したところ、1回目の塗膜は5.6μ
m、2回目の膜厚は8.4μmであり、レジスト膜の膜厚
の設定も間隔を変更するのみでレジスト材13、13′の粘
度・搬送速度・乾燥温度は何等変えることなく出来た。The thickness of the resist film after drying in this manner was 7.0 μm in both the first and second coatings, and there was no variation in the direction of the metal sheet 1. In the first application, the interval between the pipe doctor 12 and the metal sheet 1 was set to about 80 μm,
In the second application, the resist materials 13 and 13 'were applied at a setting of about 120 .mu.m.
m, the second film thickness was 8.4 μm, and the film thickness of the resist film could be set without changing the viscosity, the transport speed, and the drying temperature of the resist materials 13 and 13 ′ only by changing the intervals.
上記のようにして、約300mの長さの金属薄板1の両面
に、7.0μmのレジスト膜を形成した後、次の露光工程
では、所定の焼付けパターンを用いて約1mの距離から5k
Wの超高圧水銀ランプで約1分間露光を行なう。更に、
現像は約40℃の温水で圧力1.0Kg/cm2のスプレイ方式に
て1分間行ない、150℃の雰囲気で約2分間乾燥し、更
に約200℃の雰囲気で約1.5分間バーニングを実施する。After forming a resist film of 7.0 μm on both sides of the metal sheet 1 having a length of about 300 m as described above, in the next exposure step, a predetermined printing pattern is used to reduce the distance from the distance of about 1 m to 5 k.
Exposure is performed for about 1 minute using a W ultra-high pressure mercury lamp. Furthermore,
The development is carried out for 1 minute in a spray system at a pressure of 1.0 kg / cm 2 in hot water of about 40 ° C., dried in an atmosphere of 150 ° C. for about 2 minutes, and further burned in an atmosphere of about 200 ° C. for about 1.5 minutes.
以上の工程で開孔が穿設されるべき対応部分が露出し
た金属薄板1つまりシャドウマスク用素材が得られる。Through the above steps, the metal sheet 1 in which the corresponding portion where the opening is to be formed is exposed, that is, the material for the shadow mask is obtained.
次にエッチング工程は、例えば液温67℃、比重1.467
に調整された塩化第2鉄をエッチング液として、レジス
ト膜から約300mmの位置に配置したノズルから噴出させ
てエッチングを行なう。エッチングにより所定の開孔が
得られた後に、水洗い及び90℃のNaOH1.5%水溶液で1Kg
/cm2の圧力で約3分間スプレイして残余のレジスト膜を
除去し、水洗・乾燥すればフラットマスクが得られる。Next, in the etching step, for example, a liquid temperature of 67 ° C. and a specific gravity of 1.467
Using the ferric chloride adjusted as described above as an etchant, etching is performed by jetting it from a nozzle arranged at a position of about 300 mm from the resist film. After a predetermined opening is obtained by etching, wash with water and 1 kg of 90% NaOH 1.5% aqueous solution.
The remaining resist film is removed by spraying at a pressure of / cm 2 for about 3 minutes, followed by washing and drying to obtain a flat mask.
こうして得られたシャドウマスクは、所望の開孔を有
しムラ品位の優れたものである。The shadow mask thus obtained has desired openings and is excellent in uneven quality.
(変形例) この発明では、金属薄板の片面づつにレジスト膜を形
成することが可能なため、例えば小孔側を薄く大孔側を
厚くすることは容易であり、小孔側と大孔側とでエッチ
ング時間が異なる2段エッチングにおいても、小孔側の
レジスト膜を薄くレジスト膜の解像度を上げることが出
来、非常に有効である。(Modification) According to the present invention, since a resist film can be formed on each side of a thin metal plate, it is easy to make the small hole side thin and the large hole side thick, for example. Also in the two-stage etching in which the etching time differs depending on the conditions, the resist film on the small hole side can be thinned and the resolution of the resist film can be increased, which is very effective.
更に、大孔側と小孔側とで組成の異なるレジスト膜を
形成することも出来る。Further, a resist film having a different composition between the large hole side and the small hole side can be formed.
尚、上記実施例では、パイプドクターを用いた塗布法
を述べたが、それ以外にナイフコート法、バーコード
法、リバースロールコート法など、一般的に片面塗布に
用いられているコーターを使用して、レジスト膜を形成
出来ることは勿論である。In the above embodiment, the coating method using a pipe doctor was described, but in addition, a coater generally used for one-side coating, such as a knife coating method, a bar code method, and a reverse roll coating method, is used. Of course, a resist film can be formed.
この発明によれば、金属薄板上に所望の膜厚を有する
レジスト膜を形成する場合、レジスト材の固形分量から
必要なレジスト材塗布量を求め、この厚みに相当する間
隔をパイプドクターと金属薄板表面間に設けるだけで良
い。換言すれば、間隔を変えることにより任意のレジス
ト膜厚が得られ、間隔が一定ならば金属薄板の搬送スピ
ードが変動しても、レジスト膜厚は変化しない。又、レ
ジスト材の塗布は金属薄板の上部に行なわれるため、レ
ジスト材の流れがなく、且つ乾燥時においてもレジスト
材は金属薄板表面に固着した状態で乾燥される。従っ
て、レジスト材の流れやタレ落ちによるレジスト膜厚ム
ラは、金属薄板の幅方向及び長さ方向の何処をとっても
生じない。According to the present invention, when a resist film having a desired film thickness is formed on a metal thin plate, a required resist material application amount is obtained from a solid content of the resist material, and an interval corresponding to this thickness is set to a pipe doctor and a metal thin plate. It only needs to be provided between the surfaces. In other words, an arbitrary resist film thickness can be obtained by changing the interval, and if the interval is constant, the resist film thickness does not change even if the transport speed of the metal sheet changes. Further, since the application of the resist material is performed on the upper portion of the thin metal plate, there is no flow of the resist material, and even when the resist material is dried, the resist material is dried while being fixed to the surface of the thin metal plate. Therefore, the resist film thickness unevenness due to the flow of the resist material or the dripping does not occur anywhere in the width direction and the length direction of the metal sheet.
又、従来の方法は、レジスト材のタレ落ち速度と乾燥
速度とのバランスの基に、経験則から所望の膜厚を有す
るレジスト膜を形成していたが、この発明ではパイプド
クターと金属薄板表面との間隔を設定するだけでよく、
工程管理が非常に易しいと言う利点を有している。Further, in the conventional method, a resist film having a desired film thickness is formed based on a rule of thumb based on a balance between a dripping speed and a drying speed of a resist material. Just set the interval with
It has the advantage that process control is very easy.
更に、従来の方法は、金属薄板の搬送速度を上げ単位
時間当たりのレジスト膜形成効率を上げるためには、搬
送速度に略比例して乾燥炉も長くする必要がある。これ
に対し、この発明によれば、レジスト材のタレ落ちが生
じることなく、レジスト材の固形分を増し溶剤量を減少
させてパイプドクターと金属薄板表面との間隔を狭める
ことのみで、乾燥炉長が同じとした場合、金属薄板の搬
送速度は大巾に速くすることが出来る利点を有してい
る。Further, in the conventional method, in order to increase the transfer speed of the thin metal plate and increase the efficiency of forming a resist film per unit time, it is necessary to lengthen the drying oven in substantially proportion to the transfer speed. On the other hand, according to the present invention, without dripping of the resist material, the solid content of the resist material is increased, the amount of solvent is reduced, and the distance between the pipe doctor and the surface of the metal sheet is reduced, so that the drying furnace If the lengths are the same, there is an advantage that the conveying speed of the metal sheet can be greatly increased.
第1図はこの発明の一実施例に係るシャドウマスクの製
造方法を示す概略構成図、第2図は一般的なシャドウマ
スクを示す部分断面図、第3図(a)、(b)、(c)
は一般的なシャドウマスクの製造方法を示す断面図、第
4図及び第5図は従来のシャドウマスク製造方法を示す
概略構成図である。 1……連続帯状金属薄板、 10……ターンローラー、 11、11′……バックアップローラー、 12、12′……パイプドクター、 13、13′……レジスト材、 14、14′……ダム 15、15′……乾燥炉。FIG. 1 is a schematic structural view showing a method of manufacturing a shadow mask according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a partial cross-sectional view showing a general shadow mask, and FIGS. 3 (a), (b), ( c)
FIG. 4 is a sectional view showing a general method of manufacturing a shadow mask, and FIGS. 4 and 5 are schematic structural views showing a conventional method of manufacturing a shadow mask. 1 ... continuous strip metal sheet, 10 ... turn roller, 11,11 '... backup roller, 12,12' ... pipe doctor, 13,13 '... resist material, 14,14' ... dam 15, 15 '…… Drying oven.
Claims (2)
感光性樹脂液を塗布して乾燥させることにより感光性樹
脂層を形成する第1の工程と、上記感光性樹脂層に所定
の微細開孔のパターンを写真露光により形成する第2の
工程と、エッチングにより上記連続帯状金属薄板に微細
開孔を穿設する第3の工程とからなる一連のシャドウマ
スクの製造方法において、 上記第1の工程は、上記連続帯状金属薄板を水平方向に
搬送し、先ず1回目の塗布として一方の主面に上記感光
性樹脂液を塗布した後、塗布された面を上方にして乾燥
し、次いで連続帯状金属薄板を反転し、2回目の塗布と
して他方の主面に上記感光性樹脂液を塗布した後、2回
目に塗布された面を上方にして乾燥することを特徴とす
るシャドウマスクの製造方法。(1) After rinsing and degreasing both main surfaces of a continuous strip-shaped metal sheet,
A first step of forming a photosensitive resin layer by applying and drying a photosensitive resin liquid, and a second step of forming a predetermined fine hole pattern in the photosensitive resin layer by photographic exposure, A third step of forming fine holes in the continuous strip-shaped metal sheet by etching; and a third step of manufacturing a shadow mask, wherein the first step is to transport the continuous strip-shaped metal sheet in a horizontal direction, First, the photosensitive resin liquid is applied to one main surface as a first application, and then the coated surface is dried with the applied surface facing upward. Then, the continuous strip-shaped metal sheet is inverted, and the other main surface is applied as a second application. A method for manufacturing a shadow mask, comprising: applying the photosensitive resin liquid to a surface of the substrate; and drying the liquid with the second surface applied upward.
感光性樹脂液を塗布して乾燥させることにより感光性樹
脂層を形成する第1の工程と、上記感光性樹脂層に所定
の微細開孔のパターンの写真露光により形成する第2の
工程と、エッチングにより上記連続帯状金属薄板に微細
開孔を穿設する第3の工程とからなる一連のシャドウマ
スクの製造方法において、 上記第1の工程は、上記連続帯状金属薄板を水平方向に
搬送し、先ず1回目の塗布として一方の主面に上記感光
性樹脂液を塗布した後、塗布された面を上方にして乾燥
する前段乾燥工程と、次いで連続帯状金属薄板を反転
し、2回目の塗布として他方の主面に上記感光性樹脂液
を塗布した後、2回目に塗布された面を上方にして乾燥
する後段乾燥工程とを備え、前記前段乾燥工程は前記連
続帯状金属薄板の少なくとも一方の主面に対向する熱源
によって乾燥し、前記後段乾燥工程は前記連続帯状金属
薄板の2回目に塗布された面のみに対向する熱源によっ
て乾燥することを特徴とするシャドウマスクの製造方
法。2. The method according to claim 1, wherein both main surfaces of the continuous strip-shaped metal sheet are degreased and washed with water.
A first step of forming a photosensitive resin layer by applying and drying a photosensitive resin liquid, and a second step of forming a predetermined fine hole pattern on the photosensitive resin layer by photographic exposure, A third step of forming fine holes in the continuous strip-shaped metal sheet by etching; and a third step of manufacturing a shadow mask, wherein the first step is to transport the continuous strip-shaped metal sheet in a horizontal direction, First, the photosensitive resin liquid is applied to one main surface as a first application, and then a pre-stage drying step in which the applied surface is dried with the applied surface facing upward, and then the continuous strip-shaped sheet metal is turned over. A second drying step of applying the photosensitive resin liquid to the other main surface and then drying the second coated surface with the second coated surface facing upward, wherein the first drying step includes at least one of the main steps of the continuous strip-shaped metal sheet. Facing the surface The method of manufacturing a shadow mask, characterized in that the second drying step is performed by a heat source facing only the second coated surface of the continuous strip-shaped metal sheet.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22126388A JP2703279B2 (en) | 1987-10-28 | 1988-09-06 | Manufacturing method of shadow mask |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27211887 | 1987-10-28 | ||
JP62-272118 | 1987-10-28 | ||
JP22126388A JP2703279B2 (en) | 1987-10-28 | 1988-09-06 | Manufacturing method of shadow mask |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01208482A JPH01208482A (en) | 1989-08-22 |
JP2703279B2 true JP2703279B2 (en) | 1998-01-26 |
Family
ID=26524193
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22126388A Expired - Fee Related JP2703279B2 (en) | 1987-10-28 | 1988-09-06 | Manufacturing method of shadow mask |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2703279B2 (en) |
-
1988
- 1988-09-06 JP JP22126388A patent/JP2703279B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH01208482A (en) | 1989-08-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR920003675B1 (en) | Manufacturing method of shadowmask | |
JP2703279B2 (en) | Manufacturing method of shadow mask | |
JPH0676735A (en) | Manufacture of shadow mask | |
JPH0325828A (en) | Manufacture of shadow mask | |
KR900001704B1 (en) | Product method of slot-type shadow mask | |
EP0482612A1 (en) | Method of coating sensitizing solution on metal plate for use in manufacture of color cathode ray tube and coating apparatus | |
JPH078883A (en) | Baking and cooling device for coated steel sheet | |
JPH0519250B2 (en) | ||
JPS6196085A (en) | Manufacture of shadow mask | |
JPH0377235A (en) | Apparatus for manufacturing shadow mask | |
US3877418A (en) | Apparatus and method for coating metallic strips | |
JP2000040466A (en) | Manufacture of shadow mask for color cathode ray tube | |
JP3171061B2 (en) | Manufacturing method of shadow mask | |
JPS5815539B2 (en) | Shashin etching couch | |
JP3051006B2 (en) | Manufacturing method of color filter | |
JPH09166879A (en) | Method for applying coating liquid to band-shaped metallic sheet and coating applicator therefor | |
JP3092468B2 (en) | Manufacturing method of shadow mask | |
JPH08138541A (en) | Manufacture of color picture tube shadow mask | |
JP3152446B2 (en) | Manufacturing method of shadow mask | |
JP3063530B2 (en) | Manufacturing method of shadow mask | |
JPH10280169A (en) | Vertical type developing device | |
JPS61276983A (en) | Production of shadow mask | |
JP2001338574A (en) | Method of manufacturing shadow mask and its equipment | |
JPH09199016A (en) | Manufacture of shadow mask | |
JPH01201492A (en) | Production of shadow mask for color image receiving tube |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |