JP2696874B2 - Heat shielding material and heat shielding glass - Google Patents

Heat shielding material and heat shielding glass

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JP2696874B2
JP2696874B2 JP63024723A JP2472388A JP2696874B2 JP 2696874 B2 JP2696874 B2 JP 2696874B2 JP 63024723 A JP63024723 A JP 63024723A JP 2472388 A JP2472388 A JP 2472388A JP 2696874 B2 JP2696874 B2 JP 2696874B2
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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、建築物や自動車の窓等に適用される熱線遮
蔽ガラス(ここで、ガラスは、ガラス材にて形成されて
いるもの、透明プラスチック材にて形成されているも
の、更に両者の複合体よりなるものを含む広義の意味で
用いる)の製造に好適に用いられる熱線遮蔽材料及び熱
線遮蔽ガラスに関する。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a heat-shielding glass (here, glass is formed of a glass material, a transparent plastic material) applied to a building, an automobile window, or the like. , And further used in a broad sense, including those composed of a composite of the two).

従来の技術及び発明が解決しようとする課題 最近において、エネルギー節約等の見地から建築物や
自動車の窓に熱線遮蔽ガラスを使用することが要求され
ているが、このような熱線遮蔽ガラスの製造には、可視
光はよく透過させる一方、近赤外から中・遠赤外線(熱
線)を効果的に遮蔽する材料が必要である。
2. Description of the Related Art Recently, it has been required to use heat ray shielding glass for windows of buildings and automobiles from the viewpoint of energy saving and the like. Requires a material that transmits visible light well while effectively shielding near-infrared to mid-far infrared rays (heat rays).

従来、透過率の急峻な変化を実現させるものとして
は、精密多層膜による干渉法が知られているが、これは
主に精密光学機器等に適用されるものであり、今考えて
いる建築物、自動車の窓用等の大面積のものに低コスト
で適用するのは難しい。
Conventionally, as a method of realizing a steep change in transmittance, an interference method using a precision multilayer film is known, but this method is mainly applied to precision optical equipment and the like, and the building which is being considered now However, it is difficult to apply it to a large area such as a window of an automobile at low cost.

このため、このような用途に使用される熱線遮蔽ガラ
スとしては、ガラス材や透明プラスチック材の表面に等
の金属薄層(数百Å)を形成することが行なわれてい
る。しかし、この種の金属薄層を形成したガラスは、熱
線遮蔽効果は大きいものの、同時に可視光の透過も妨げ
てしまい、金属薄層を形成した面が鏡面のように光って
見え、このためこれをビルの窓などに使用するとビル全
体がまぶしく光ってしまうというようなある種の公害を
引き起こす。
Therefore, as a heat ray shielding glass used for such an application, a thin metal layer (several hundred square meters) such as a glass material or a transparent plastic material is formed on the surface thereof. However, although the glass having such a thin metal layer has a large heat ray shielding effect, it also impedes the transmission of visible light at the same time, so that the surface on which the thin metal layer is formed looks shiny like a mirror surface. The use of, for example, in building windows causes certain types of pollution, such as the entire building shining brightly.

これに対し、このような金属薄膜と異なり、可視光域
の高透過率を維持しつつ熱線遮蔽効果が期待されるもの
としては透明導電膜があり、代表的なものとしてSnO2
インジウム・スズ・オキサイド(ITO)が知られてい
る。しかし、SnO2は抵抗率が高く(〜10-3Ω・cm)、即
ち導電性が小さく、ITOは高価である等の問題があり、
このためSnO2やITOに代わる透明導電膜として最近酸化
亜鉛(ZnO)が注目されている。
On the other hand, unlike such a metal thin film, a transparent conductive film is expected to have a heat ray shielding effect while maintaining high transmittance in the visible light region, and typical examples thereof include SnO 2 and indium tin. -Oxide (ITO) is known. However, SnO 2 has problems such as high resistivity (-310 −3 Ω · cm), that is, low conductivity, and ITO is expensive.
For this reason, zinc oxide (ZnO) has recently attracted attention as a transparent conductive film replacing SnO 2 and ITO.

また、従来よりZnOにAl等を添加した透明導電性膜も
知られている〔文献A「ジャパニーズ・ジャーナル・オ
ブ・アプライド・フィジックス(Jpn.J.Appl.Phys、Let
t.)24(1985)L781」;文献B「マグネトロンスパッタ
法によるZnO透明導電性膜の作成」(電気通信学会CPM84
−8);文献C「シン・ソリド・フィルムス(Thin Sol
id Films)124(1985)43」;特開昭61−96609号公報な
ど〕。
In addition, a transparent conductive film in which Zn or the like is added to Al or the like has been conventionally known [Reference A, “Japanese Journal of Applied Physics (Jpn. J. Appl. Phys, Let)”.
t.) 24 (1985) L781 ”; Reference B“ Preparation of ZnO transparent conductive film by magnetron sputtering ”(IEICE CPM84)
-8); Reference C "Thin Solid Films (Thin Sol
id Films) 124 (1985) 43 "; JP-A-61-96609.

しかしながら、上述した文献は透明導電性膜の性状に
ついて記載はあるものの、Al等を含有するZnO膜の熱線
遮蔽材料としての利用については単に可能性を示唆した
程度であり、かかるAl等を含有するZnO膜を使用した具
体的な熱線遮蔽材料、実際にAl等を含有するZnO膜を熱
線遮蔽材料として用いる場合の材料パラメーターについ
ては示されていない。
However, although the above-mentioned literature describes the properties of the transparent conductive film, the use of a ZnO film containing Al or the like as a heat ray shielding material merely suggests the possibility, and contains such Al and the like. No specific heat ray shielding material using a ZnO film, or material parameters when a ZnO film actually containing Al or the like is used as the heat ray shielding material is disclosed.

実際、本発明者らの検討によると、かかるAl等を含有
するZnO膜を熱線遮蔽材料として使用した場合、400nm〜
800nmの可視域における透過性は良好であるが、800nm〜
2μmの近赤外域の波長をかなり透過させ、また2μm
〜4μmの中赤外域が4μm〜1mmの遠赤外域の波長の
遮蔽性も十分でない場合があり、なお効果が不十分な場
合があることがわかった。
In fact, according to the study of the present inventors, when such a ZnO film containing Al or the like is used as a heat ray shielding material, 400 nm or more
Although the transmittance in the visible region of 800 nm is good,
2 μm near-infrared wavelength is considerably transmitted, and 2 μm
It was found that the mid-infrared region of 4 μm to 4 μm to 1 mm may not have sufficient shielding properties for wavelengths in the far-infrared region, and the effect may still be insufficient.

熱線といっても熱源によりその強度のスペクトル分布
は非常に広い波長範囲に亘っており、例えば太陽光では
可視域は勿論、800〜2μmの近赤外域にまで及んでお
り、また各種暖房器具では中赤外域から遠赤外域にかけ
て拡がっており、従って熱線遮蔽材料としては可視領域
の透過性は保持したまま、中・遠赤外線を効果的に遮蔽
する一方、熱効果の大きい近赤外領域の透過を可及的に
遮断することが望まれる。
Even if it says a heat ray, the spectrum distribution of the intensity is spread over a very wide wavelength range by a heat source, for example, in the sunlight, it extends not only to a visible range but also to a near infrared range of 800 to 2 μm. It spreads from the mid-infrared region to the far-infrared region.Thus, as a heat-shielding material, it effectively shields mid- and far-infrared rays while maintaining transparency in the visible region, while transmitting in the near-infrared region, which has a large thermal effect. It is desired to block as much as possible.

課題を解決するための手段及び作用 本発明者らは、上記要望に応え、可視光の高透過性と
熱線の高遮蔽性とを両立させた熱線遮蔽材料につき種々
検討を進めた結果、第III族元素及び第IV族元素から選
ばれる1種又は2種以上の金属元素が亜鉛に対して0.1
〜10原子%含有するZnO膜と近赤外線吸収剤とを併用す
ることが有効であること、この場合特に第III族元素及
び第IV族元素含有ZnO膜としては2000Å以上の膜厚のも
のを使用することが優れた効果を与えることを知見し
た。
Means and Actions for Solving the Problems In response to the above demands, the present inventors have conducted various studies on heat ray shielding materials that achieve both high transparency of visible light and high heat ray shielding properties. One or more metal elements selected from group IV elements and group IV
It is effective to use a ZnO film containing up to 10 atomic% in combination with a near-infrared absorber. In this case, in particular, a ZnO film containing a Group III element and a Group IV element having a thickness of 2,000 mm or more is used. Has been found to give excellent effects.

即ち、従来はAl等を含有するZnO膜の膜厚は電気特性
である体積固有抵抗に関係するとしても電子密度には関
係せず、それ故光学特性である熱線遮蔽特性には関係し
ないと考えられてきたものであるが、本発明者らの検討
によると、後述する実験の結果からも明らかな通り、以
外にも第III族金属元素や第IV族金属元素を含有するZnO
膜の膜厚が熱線遮蔽特性を大きく規定していること、こ
の場合膜厚が2000Åより薄いと近赤外域はもとより中・
遠赤外域においても十分な熱線遮蔽効果がないにもかか
わらず、膜厚が2000Å以上、特に3000Å以上では熱線遮
蔽特性が急激に向上し、中・遠赤外線を有効に遮蔽する
と共に、かなり波長の短い近赤外線をも効果的に遮蔽す
ることを知見した。更に、膜厚が2000Åより薄いと体積
固有抵抗が10-2〜10-3Ω・cmと大きいが、2000Å以上に
なると導電性が急に向上し、10-4Ω・cmオーダーとなる
こと、その電子密度の測定から第III族又は第IV族金属
元素含有ZnO膜の電子密度は高い膜厚依存性を有してい
ること、膜厚が2000Å以上では電子密度が飛躍的に増大
して5×1020/cm3以上に達すること、それ故第III族又
は第IV族金属元素含有ZnO膜は従来技術の予想とは全く
異なり、その膜厚と電子密度が正の相関関係を有し、膜
厚が2000Å以上になると電子密度も5×1020/cm3以上に
増大し、熱線遮蔽効果が顕著に増大すること、しかも膜
厚が2000Å以上になっても可視光透過率は維持され、60
00Åの膜厚でも90%以上であることを知見した。
That is, conventionally, it is considered that the thickness of a ZnO film containing Al or the like is not related to the electron density even though it is related to the volume resistivity, which is an electrical property, and is therefore not related to the heat ray shielding property, which is an optical property. According to the study of the present inventors, ZnO containing a Group III metal element or a Group IV metal element in addition to the above, as is clear from the results of the experiments described below,
The film thickness largely defines the heat-ray shielding characteristics. In this case, if the film thickness is thinner than 2000 mm, it is not only in the near infrared region but also
Despite not having a sufficient heat-ray shielding effect even in the far-infrared region, the heat-ray shielding characteristics are sharply improved when the film thickness is 2,000 mm or more, especially at 3000 mm or more. It has been found that short near-infrared rays are effectively shielded. Furthermore, when the film thickness is smaller than 2000 mm, the volume resistivity is as large as 10 -2 to 10 -3 Ωcm, but when the film thickness is more than 2000 mm, the conductivity is suddenly improved, and it is on the order of 10 -4 Ωcm, From the measurement of the electron density, it was found that the electron density of the group III or group IV metal element-containing ZnO film has a high film thickness dependency. × 10 20 / cm 3 or more, therefore, the Group III or Group IV metal element-containing ZnO film is completely different from the prior art expectation, and its thickness and electron density have a positive correlation, When the film thickness becomes 2000 mm or more, the electron density also increases to 5 × 10 20 / cm 3 or more, the heat ray shielding effect increases remarkably, and even when the film thickness becomes 2000 mm or more, the visible light transmittance is maintained, 60
It was found that even at a thickness of 00 °, it was 90% or more.

それ故、第III族又は第IV族金属元素含有ZnO膜はその
膜厚を2000Å以上にすると熱線遮蔽特性が飛躍的に向上
し、中・遠赤外線を効果的に遮蔽し得、しかも近赤外域
においてもかなりの遮蔽効果を有する。しかしながら、
なお、可視域に近い近赤外線領域における遮蔽効果の点
で改善の余地があるものであり、また特に2000Å以下の
膜厚の第III族又は第IV族金属元素含有ZnO膜を用いる場
合には、その赤外線遮蔽効果の向上が望まれるものであ
るが、吸光度の最大値を800nmから2μmの波長範囲に
有する近赤外線吸収剤を併用することにより、近赤外線
の遮蔽効果が著しく向上し、太陽光にも暖房器具にも効
果のある熱線遮蔽材料が得られることを見い出し、本発
明をなすに至ったものである。
Therefore, when the thickness of the group III or group IV metal element-containing ZnO film is set to 2000 mm or more, the heat ray shielding property is dramatically improved, the mid / far infrared rays can be effectively shielded, and the near-infrared region is further improved. Has a considerable shielding effect. However,
It should be noted that there is room for improvement in terms of shielding effect in the near infrared region near the visible region, and particularly when a Group III or Group IV metal element-containing ZnO film having a thickness of 2000 mm or less is used, It is desired to improve the infrared shielding effect, but by using a near-infrared absorber having a maximum absorbance in the wavelength range of 800 nm to 2 μm, the near-infrared shielding effect is significantly improved, and The present inventors have found that an effective heat ray shielding material can be obtained for heating appliances as well, and have accomplished the present invention.

即ち、本発明は、第III族元素及び第IV族元素から選
ばれる1種又は2種以上の金属元素を亜鉛に対して0.1
〜10原子%含有した酸化亜鉛膜が形成されたガラス材又
は透明プラスチック材の両側に近赤外線吸収剤が配合さ
れ又は表面に塗布された熱可塑性又は光もしくは熱硬化
性透明有機高分子フィルムを配置すると共に、これらフ
ィルムの外側にそれぞれガラス板体を配置してなること
を特徴とする熱線遮蔽材料及び該材料からなる熱線遮蔽
ガラスを提供する。
That is, the present invention provides one or more metal elements selected from Group III elements and Group IV
Near-infrared absorbing agent is blended on both sides of a glass or transparent plastic material on which a zinc oxide film containing up to 10 atomic% is formed, or a thermoplastic or light or thermosetting transparent organic polymer film is disposed on the surface. In addition, the present invention provides a heat ray shielding material and a heat ray shielding glass made of the material, wherein a glass plate is arranged outside each of these films.

本発明の熱線遮蔽材料は、第3図に示すように、第II
I族又は第IV族元素を含有する酸化亜鉛膜2が形成され
たガラス材又は透明プラスチック材1の両側に近赤外線
吸収剤が配合された熱可塑性又は光もしくは熱硬化性の
透明有機高分子フィルム3,3を配置すると共に、これら
フィルム3,3の外側にそれぞれガラス板体4,4を配置した
もの、或いは、第4図に示したように、第III族又は第I
V族元素を含有する酸化亜鉛膜2が形成されたガラス材
又は透明プラスチック材1の両側に、外面に近赤外線吸
収剤が塗布されて近赤外線吸収剤層3″,3″が形成され
た熱可塑性又は光もしくは熱硬化性の透明有機高分子フ
ィルム3′,3′を配置すると共に、これらフィルム
3′,3′の外側にそれぞれ上記近赤外線吸収剤層3″,
3″を介してガラス板体4,4を配置したものである。本発
明の熱線遮蔽材料は、このように第III族金属元素,第I
V族金属元素をZnO膜中に含有させるものであるが、かか
る金属元素としてはAl,In,Ga,Si,Ti,Zr,Hf,Ge等が好適
に用いられ、中でもAl,Si,Ti,Geが最も好ましい。な
お、これらの金属元素は元素単体として含有させても酸
化物等の化合物として含有させてもよい。これらの元素
の含有量は0.1〜10原子%であるが、より好ましくは2
〜4原子%である。更に、膜厚は2000Å以上が好まし
く、より好ましくは3000Å以上、特に3500Å以上であ
る。
As shown in FIG. 3, the heat ray shielding material of the present invention
A thermoplastic or light or thermosetting transparent organic polymer film in which near-infrared absorbers are blended on both sides of a glass material or a transparent plastic material 1 on which a zinc oxide film 2 containing a group I or group IV element is formed 3, 3 and a glass plate 4, 4 on the outside of each of the films 3, 3 or, as shown in FIG.
Near-infrared absorbing agent is applied to the outer surface of both sides of a glass material or a transparent plastic material 1 on which a zinc oxide film 2 containing a group V element is formed to form a near-infrared absorbing layer 3 ", 3". A plastic or light- or thermosetting transparent organic polymer film 3 ', 3' is arranged, and the near-infrared absorbing layer 3 ", 3 ', 3', 3 '
The glass plates 4, 4 are arranged with the 3 ″ interposed therebetween. The heat ray shielding material of the present invention thus comprises a Group III metal element and a Group I metal element.
A group V metal element is contained in the ZnO film, and as such a metal element, Al, In, Ga, Si, Ti, Zr, Hf, Ge, etc. are preferably used, and among them, Al, Si, Ti, Ge is most preferred. Note that these metal elements may be contained as an element alone or as a compound such as an oxide. The content of these elements is 0.1 to 10 atomic%, but more preferably 2 to 10 atomic%.
44 at%. Further, the film thickness is preferably 2000 ° or more, more preferably 3000 ° or more, especially 3500 ° or more.

ここで、Al等の第III族又は第IV族金属元素を含有す
るZnO膜を製膜する方法としては、プラズマドライプロ
セスが優れており、これには蒸着法、イオンプレーティ
ング法、CVD法も含まれるが、特に各種スパッタリング
法が好適に採用される。このスパッタリング法の中に
は、直流の二極又は三極又は四極スパッタ方式、高周波
スパッタ方式、直流又は高周波のマグネトロンスパッタ
方式、更にイオンビームスパッタ方式等が含まれる。
Here, as a method of forming a ZnO film containing a Group III or Group IV metal element such as Al, a plasma dry process is excellent, and for example, a vapor deposition method, an ion plating method, and a CVD method are also used. Although included, various sputtering methods are particularly preferably employed. Examples of the sputtering method include a DC two-pole, three-pole, or four-pole sputtering method, a high-frequency sputtering method, a DC or high-frequency magnetron sputtering method, and an ion beam sputtering method.

ZnOへの第III族又は第IV族金属元素の添加法として
は、スパッタリング法においてはターゲット中に金属元
素を添加しておくことで行なわれる。この場合、ターゲ
ットがZnO焼結体の時にはAl2O3等の酸化物の形で添加
し、金属Znの時には金属Al等の金属元素単体の形で添加
するのがよく、この際スパッタリングは直流又は高周波
で行なわれるが、ターゲットが前者の場合はArガスでス
パッタし、後者の場合はArとO2の混合ガスで反応性スパ
ッタを行なうことが好適である。
As a method for adding a Group III or Group IV metal element to ZnO, a sputtering method is performed by adding a metal element to a target in advance. In this case, when the target is a ZnO sintered body, it is preferable to add in the form of an oxide such as Al 2 O 3 , and when the target is metal Zn, it is preferable to add the target in the form of a single metal element such as metal Al. Alternatively, the sputtering is performed at a high frequency, but when the target is the former, it is preferable to perform sputtering with Ar gas, and in the latter case, it is preferable to perform reactive sputtering with a mixed gas of Ar and O 2 .

なお、金属元素を添加する方法としては、無添加のZn
O膜を作り、その表面にA等の金属元素単体を蒸着して
熱拡散させる方法や、あるいはテトラメチルアルミニウ
ム、テトラエチルアルミニウムのような化合物ガスで製
膜中に導入する方法等も採用することができる。
Incidentally, as a method of adding a metal element, Zn
It is also possible to adopt a method in which an O film is formed and a metal element such as A is vapor-deposited on the surface and thermally diffused, or a method in which a compound gas such as tetramethylaluminum or tetraethylaluminum is introduced into the film during the film formation. it can.

上記の第III族又は第IV族金属元素含有ZnO膜は、その
用途等に応じた適宜な基板上に製膜されて用いられる。
例えば、建築物や自動車用窓等の熱線遮蔽ガラスを得る
場合であれば、ガラス材や透明プラスチック材に製膜す
ることができる。この場合、スパッタリング法を採用し
て製膜するに際しては、SnO2やITOに比べ低温基板での
製膜がより容易であるため、プラスチックフィルム上へ
も簡単に製膜することができる。例えば、ポリエステル
フィルムのような厚みが1mm以下、特に数十μmから数
百μmの透明プラスチックフィルム上に上記の方法で20
00Å以上の膜厚の第III族又は第IV族金属元素含有ZnO膜
を形成することが容易である。なお、基板材料として使
用し得るプラスチック材としては、ポリエステル,ポリ
アミド,ポリ塩化ビニル,ポリ塩化ビニリデン,ポリエ
チレン,エチレン−ビニルアセテート共重合体,ケン化
エチレン−ビニルアセテート共重合体,ポリメタクリル
酸メチル,ポリビニルブチラール,エチレン−エチルア
クリレート共重合体,エチレン−メチルアクリレート共
重合体,金属イオン架橋エチレン−メタクリル酸共重合
体,ポリスチレン,ポリウレタン,ポリカーボネート,
セルロース誘導体等が含まれるが、最も好ましいものは
ポリエステルフィルム,ポリアミドフィルムである。
The above-mentioned group III or group IV metal element-containing ZnO film is used after being formed on an appropriate substrate according to its use or the like.
For example, when obtaining a heat ray shielding glass for a building or a window for an automobile, the film can be formed on a glass material or a transparent plastic material. In this case, when the film is formed by using the sputtering method, the film can be easily formed on a low-temperature substrate as compared with SnO 2 or ITO, so that the film can be easily formed on a plastic film. For example, on a transparent plastic film having a thickness of 1 mm or less, such as a polyester film,
It is easy to form a group III or group IV metal element-containing ZnO film having a thickness of 00 ° or more. The plastic materials usable as the substrate material include polyester, polyamide, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyethylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, saponified ethylene-vinyl acetate copolymer, polymethyl methacrylate, Polyvinyl butyral, ethylene-ethyl acrylate copolymer, ethylene-methyl acrylate copolymer, metal ion crosslinked ethylene-methacrylic acid copolymer, polystyrene, polyurethane, polycarbonate,
Although a cellulose derivative and the like are included, the most preferred are a polyester film and a polyamide film.

上記の第III族又は第IV族金属元素含有ZnOと併用され
る近赤外線吸収剤としては、800nm〜2μmの波長範囲
に吸光度の最大値を有する物質で、しかも可視域にはで
きるだけ吸収を有さない化合物であればよい。このよう
な吸収剤をAl含有ZnO膜と併用すれば、近赤外域で透過
率が急激に変化する熱線遮蔽材料を得ることができる。
The near-infrared absorber used in combination with the above-mentioned group III or group IV metal element-containing ZnO is a substance having a maximum absorbance in a wavelength range of 800 nm to 2 μm, and has absorption as much as possible in the visible region. Any compound may be used. When such an absorber is used in combination with the Al-containing ZnO film, a heat ray shielding material whose transmittance changes rapidly in the near infrared region can be obtained.

このような近赤外線吸収剤としては、シアニン系色
素,キノン系色素,金属錯体系色素,インドアニリン系
色素,アズレン系色素,含窒素系多環状色素,含イオウ
系多環状色素等が例示される。ここで、シアニン系色素
としては、カルコゲノピリロメチン系色素,スクワリウ
ム系色素等が包含され、キノン系色素としては、ナフト
キノン系色素,アントラキノン系色素等が包含される。
また、金属錯体系色素としてはフタロシアニン系色素,
ベンゼンチオールニッケル錯体系色素等が含まれる。
Examples of such near-infrared absorbing agents include cyanine dyes, quinone dyes, metal complex dyes, indoaniline dyes, azulene dyes, nitrogen-containing polycyclic dyes, and sulfur-containing polycyclic dyes. . Here, the cyanine dyes include chalcogenopyrrolomethine dyes and squarium dyes, and the quinone dyes include naphthoquinone dyes and anthraquinone dyes.
In addition, phthalocyanine dyes, as metal complex dyes,
Benzenethiol nickel complex dyes and the like are included.

より具体的には、 下記一般式(1) (但し、式中R1〜R4はアルキル基又はアリール基を示
し、Rは水素原子又はメチル基を示し、nは1〜4の整
数を示す。) で表される四級ホスホニウムビス(1,2−ベンゼンジチ
オラト)ニッケレート誘導体、 下記一般式(2) (但し、式中R1は置換もしくは無置換のアルキル基、置
換もしくは無置換のアリール基又は置換もしくは無置換
の複素環基を表わし、R2及びR5は互に同じでも異なって
いてもよく、水素原子もしくはこれを置換可能な基を表
わし、R3及びR4は互に同じでも異なっていてもよく、水
素原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置換のアルコキ
シ基又は置換もしくは無置換のアルキル基を表わし、R6
及びR7は互に同じでも異なっていてもよく、置換もしく
は無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール
基、アシル基、スルホニル基又はR6とR7が互に連結して
5員環又は6員環を形成するのに必要な非金属原子群を
表わす。但し、R3とR4が同時に水素原子であることはな
い。) で表される化合物。
More specifically, the following general formula (1) (Wherein, R 1 to R 4 represent an alkyl group or an aryl group, R represents a hydrogen atom or a methyl group, and n represents an integer of 1 to 4.) , 2-Benzenedithiolato) nickelate derivative, the following general formula (2) (Wherein, R 1 represents a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group or a substituted or unsubstituted heterocyclic group, and R 2 and R 5 may be the same or different from each other. Represents a hydrogen atom or a group capable of substituting the same, R 3 and R 4 may be the same or different from each other, and represent a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted alkoxy group, or a substituted or unsubstituted alkyl group And R 6
And R 7 may be the same or different from each other, and may be a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, an acyl group, a sulfonyl group, or a 5-membered ring wherein R 6 and R 7 are linked to each other. Or a group of non-metallic atoms necessary for forming a 6-membered ring. However, R 3 and R 4 are not hydrogen atoms at the same time. ) The compound represented by these.

下記一般式(3) (但し、式中R1及びR2は互に同じでも異なっていてもよ
く、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無
置換のアリール基、又は置換もしくは無置換のアルケニ
ル基を表わす。) で表わされる化合物、 下記一般式(4) (但し、式中Rは水素又は低級アルキル基、Xはヘキサ
フルオロヒ酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオ
ン、フッ化ホウ素酸イオン及び過塩素酸イオンよりなる
群から選ばれる陰イオンであり、mは0又は1,2の整数
である。Aは を示し、nは1又は2の整数である。) で表わされるN,N,N′,N′−テトラキス(p−置換フェ
ニル)−p−フェニレンジアミン類、ベンジジン類及び
これらのアルミニウム塩、ジイモニウム塩 下記式(5) で表わされるビス(ジチオベンジル)ニッケル、が挙げ
られるが、勿論これらに限られるものではない。なお、
これらの近赤外線吸収剤はいずれも市販されているが、
これらの中でも可視域の吸収の少ないものが好ましい。
The following general formula (3) (Wherein, R 1 and R 2 may be the same or different from each other, and represent a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, or a substituted or unsubstituted alkenyl group). A compound represented by the following general formula (4) (Where R is hydrogen or a lower alkyl group, X is an anion selected from the group consisting of hexafluoroarsenate ion, hexafluoroantimonate ion, fluoroborate ion and perchlorate ion, and m is 0 or an integer of 1, 2. A is And n is an integer of 1 or 2. N), N, N ', N'-tetrakis (p-substituted phenyl) -p-phenylenediamines, benzidines and their aluminum salts and diimonium salts represented by the following formula (5) Bis (dithiobenzyl) nickel represented by the following formula, of course, but is not limited thereto. In addition,
All of these near infrared absorbers are commercially available,
Among these, those having low absorption in the visible region are preferable.

なお、吸収剤が着色してみても、実際に使用するとき
は十分希釈して用いることができるので、可視光透過性
を80〜85%以上に保つことができる。
Even if the absorbent is colored, it can be sufficiently diluted when actually used, so that the visible light transmittance can be maintained at 80 to 85% or more.

また、熱線遮蔽材料を青色系に着色したい場合は、上
述した近赤外吸収剤と共に又はその代わりの青色系色素
を添加してもよい。この場合、青色系色素としては、ア
ントラキノン系,フタロシアニン系のものが好適に用い
られ、これは800nm前後の光を効果的に遮蔽し得る。
When the heat ray shielding material is desired to be colored blue, a blue pigment may be added together with or in place of the above-mentioned near infrared absorber. In this case, as the blue pigment, anthraquinone pigments and phthalocyanine pigments are preferably used, which can effectively block light of about 800 nm.

ここで、近赤外線吸収剤を使用するに際しては、近赤
外線吸収剤は粉体状のものが多いが、これを熱可塑性又
は熱もしくは光硬化性透明有機高分子樹脂中に練り込ん
だものを厚みが1mm以下のフィルムに形成して用いる
か、或いは吸収剤を予め適当な溶剤に溶かしておき、透
明有機高分子フィルムをこれにディップして、フィルム
に吸収剤を付着して用いることが好ましい。この場合、
吸収剤の使用量は、特に制限されないが、フィルム重量
の0.05〜1重量%、特に0.1〜0.5重量%とすることがで
きる。
Here, when using a near-infrared absorbing agent, the near-infrared absorbing agent is often in the form of a powder, which is kneaded into a thermoplastic or heat or photocurable transparent organic polymer resin to have a thickness. Is preferably formed into a film having a thickness of 1 mm or less, or an absorbent is dissolved in an appropriate solvent in advance, a transparent organic polymer film is dipped in the film, and the absorbent is attached to the film. in this case,
The amount of the absorbent used is not particularly limited, but can be 0.05 to 1% by weight, particularly 0.1 to 0.5% by weight of the film weight.

なお、熱可塑性透明フィルムとしては、第III族又は
第IV族金属元素含有ZnOコーティング用として説明した
上述した有機高分子樹脂を用いることができる。また、
熱又は光硬化性透明フィルムとしては、金属イオン架橋
エチレン−(メタ)アクリル酸共重合体、エチレン−ア
クリル酸メチル共重合体,エチレン−(メタ)アクリル
酸共重合体,エチレン−アクリル酸エチル共重合体,エ
チレン−酢酸ビニル共重合体,更には(メタ)アクリル
酸及びその誘導体で変成された分子内に不飽和二重結合
を有する高分子物質等に、有機過酸化物又は光増感剤を
配合したもの、更にこれらに硬化助剤として50重量%以
下のアクリロキシ基又はメリロキシ基含有化合物を添加
したものなどが含れる。ここで、有機過酸化物として
は、100℃以上の温度で分解するものであればいずれも
可能であり、光増感剤としては、光の照射により直接、
間接にラジカルを発生するものであればいかなるもので
もよい。
In addition, as the thermoplastic transparent film, the above-described organic polymer resin described for the ZnO coating containing a Group III or Group IV metal element can be used. Also,
Examples of the heat or photocurable transparent film include metal ion crosslinked ethylene- (meth) acrylic acid copolymer, ethylene-methyl acrylate copolymer, ethylene- (meth) acrylic acid copolymer, and ethylene-ethyl acrylate. Polymers, ethylene-vinyl acetate copolymers, and polymer materials having an unsaturated double bond in the molecule modified with (meth) acrylic acid and its derivatives, organic peroxides or photosensitizers And those to which 50% by weight or less of an acryloxy group or meryloxy group-containing compound is added as a curing aid. Here, any organic peroxide can be used as long as it decomposes at a temperature of 100 ° C. or higher, and as a photosensitizer, directly by irradiation with light,
Any material may be used as long as it generates a radical indirectly.

本発明にかかる熱線遮蔽材料は、第III族又は第IV族
金属含有ZnO膜と近赤外線吸収剤とを併用するものであ
るが、この場合、上述したAl含有ZnO膜が製膜されたガ
ラス又は透明プラスチックフィルムと近赤外線吸収剤を
配合又は表面に塗布した熱可塑性又は光もしくは熱硬化
性透明有機高分子フィルムとを組合せて用いることもで
き、或いは吸収剤を配合又は塗布したフィルム表面に直
接Al含有ZnOを製膜して用いることもでき、その使用態
様としては種々選択することができる。
The heat ray shielding material according to the present invention is a combination of a Group III or Group IV metal-containing ZnO film and a near-infrared absorbing agent.In this case, the glass or the glass on which the Al-containing ZnO film described above is formed. It can be used in combination with a transparent plastic film and a thermoplastic or light or thermosetting transparent organic polymer film blended or coated on the surface with a near-infrared absorber, or Al can be directly applied to the film surface blended or coated with the absorber. The contained ZnO can be used after being formed into a film, and its use mode can be variously selected.

更に、具体的な熱線遮蔽材料の使用法としては、熱線
遮蔽ガラスとしての用途があげられる。この場合、エチ
レン−ビニルアセテート共重合体等の透明有機高分子フ
ィルム中に近赤外線吸収剤を配合してなる少なくとも2
層の中間材層間に第III族又は第IV族金属元素含有ZnOを
製膜した透明プラスチックを介装した積層体を作成し、
かつこの積層体を2枚のガラス板体間に介在させて一体
化し、必要により中間層を硬化することにより熱線遮蔽
ガラスを製造することが好適である。
Further, as a specific method of using the heat ray shielding material, there is a use as a heat ray shielding glass. In this case, a transparent organic polymer film such as an ethylene-vinyl acetate copolymer or the like is blended with a near-infrared absorbing agent.
Create a laminate with a transparent plastic interposed between the intermediate material layers of the layer containing a Group III or Group IV metal element-containing ZnO,
In addition, it is preferable that the laminated body is interposed between two glass plates to be integrated, and the intermediate layer is cured as necessary to produce a heat ray shielding glass.

以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体的に説明
する。
Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples.

〔実施例1〕 (a)近赤外線吸収剤添加有機高分子フィルムの作製 市販のエチレン−ビニルアセテート共重合体(EVA)
(ビニルアセテート26%)100重量部に有機過酸化物と
してジクミルパーオキサイド1重量部及びシランカップ
リング剤としてγ−メタクリロキシプロピルトリメトキ
シシラン0.3重量部を配合し、V型ミキサーで均一に分
散させた後、プラスチック用押出し機(80℃〜100℃設
定)で0.4mm厚のEVAシートを押し出した。
[Example 1] (a) Preparation of organic polymer film containing near-infrared absorbing agent Commercially available ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA)
(Vinyl acetate 26%) 100 parts by weight of 1 part by weight of dicumyl peroxide as an organic peroxide and 0.3 part by weight of γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane as a silane coupling agent are mixed uniformly with a V-type mixer. After that, a 0.4 mm thick EVA sheet was extruded by an extruder for plastic (set at 80 ° C. to 100 ° C.).

このEVAシート100重量部について、ゴム練り用ロール
で温度設定80℃〜85℃にて上記(4)式の近赤外線吸収
剤(日本化薬社製,IRG−002)を0.25重量部配合した。
With respect to 100 parts by weight of this EVA sheet, 0.25 parts by weight of a near-infrared absorbing agent of the above formula (4) (IRG-002, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) was blended with a rubber kneading roll at a temperature setting of 80 to 85 ° C.

次いで、上記吸収剤を配合したEVAをポリエチレンテ
レフタレートフィルム間にはさんで、90℃設定のプレス
を使用して0.3mmのシート(以下、シートSと呼ぶ)を
作製した。これを150℃のオーブン中に20分間入れて硬
化させた後、放冷し、室温になった後にポリエチレンテ
レフタレートフィルムを剥離した。一方、標準用として
近赤外線吸収剤を入れないEVAシート(以下、シートR
と呼ぶ)を使用し、上記と同様にして0.3mmシートを作
製した。
Next, a 0.3 mm sheet (hereinafter, referred to as sheet S) was prepared by sandwiching the EVA containing the above absorbent between polyethylene terephthalate films and using a press set at 90 ° C. This was placed in an oven at 150 ° C. for 20 minutes to be cured, and then allowed to cool. After reaching room temperature, the polyethylene terephthalate film was peeled off. On the other hand, an EVA sheet without a near-infrared absorber as a standard (hereinafter referred to as sheet R)
) And a 0.3 mm sheet was produced in the same manner as above.

(b)Al含有ZnO膜の作製 マグネトロンスパッタ装置により、直径10cmの円形で
Al2O3を3.4Al/Zn原子%含有するZnO焼結ターゲットを用
い、アルゴンガス流量50cc/分,圧力5m Torrの条件下に
500V×0.5Aの直流でスパッタを行った。この場合、基板
はターゲットの端にターゲットに垂直に配置し、上記シ
ートSを貼り付け、特に加温しないで実施し、シートS
表面に厚さ4000Åの膜を形成した。
(B) Preparation of Al-containing ZnO film A magnetron sputtering device was used to form a circular shape with a diameter of 10 cm.
Using a ZnO sintered target containing 3.4Al / Zn atomic% of Al 2 O 3 under argon gas flow rate of 50cc / min and pressure of 5mTorr
Sputtering was performed with a direct current of 500 V × 0.5 A. In this case, the substrate is disposed at the end of the target vertically to the target, the sheet S is attached thereto, and the process is performed without particularly heating.
A 4,000 mm thick film was formed on the surface.

同様にしてシートR表面にも4000ÅのAl含有ZnO膜を
形成した。
Similarly, a 4000 ° Al-containing ZnO film was formed on the surface of the sheet R.

これらの膜につき、三菱油化(株)製の四端子法表面
抵抗計Loresta MPC−TESTERで体積固有抵抗を測定した
ところ、両者共約5×10-4Ωcmであった。
The volume resistivity of these films was measured using a four-probe method surface resistance meter Loresta MPC-TESTER manufactured by Mitsubishi Yuka Co., Ltd., and it was found to be about 5 × 10 −4 Ωcm in both cases.

(c)光学的透過率の測定 次に、上で得られた各熱線吸収材料の光学特性を調べ
るため、島津マルチパーパス自動分光光度計MPS−5000
を用い、可視域及び近赤外域の透過率を測定した。
(C) Measurement of optical transmittance Next, in order to examine the optical characteristics of each heat ray absorbing material obtained above, a Shimadzu multi-purpose automatic spectrophotometer MPS-5000 was used.
Was used to measure the transmittance in the visible and near infrared regions.

結果を第1図(可視域)及び第2図(近赤外域)に示
す。
The results are shown in FIG. 1 (visible range) and FIG. 2 (near infrared range).

なお、図中A(一点鎖線)はシートR上にAl含有ZnO
をコーティングしたもの(従って、Al含有ZnOのみのも
の,比較例)、B(破線)はシートSのみのもの(従っ
て、近赤外線吸収剤のみのもの,比較例)、C(実線)
はシートSにAl含有ZnOをコーティングしたもの(従っ
て、Al含有ZnOと近赤外線吸収剤とを併用したもの,実
施例)の可視光透過スペクトルである。また、D(点
線)は市販の熱線反射膜で、表面にAgを蒸着したもので
ある(比較例)。
In the figure, A (dashed line) indicates the Zn-containing ZnO on the sheet R.
(Therefore, only Al-containing ZnO, comparative example), B (broken line) indicates the sheet S only (accordingly, near infrared absorbing agent only, comparative example), C (solid line)
Is a visible light transmission spectrum of a sheet S coated with Al-containing ZnO (accordingly, a combination of Al-containing ZnO and a near-infrared absorbing agent, Example). Further, D (dotted line) is a commercially available heat ray reflective film having Ag deposited on the surface (comparative example).

第1,2図の結果から、本発明に係るAl含有ZnO膜と近赤
外線吸収剤とを併用した熱線遮蔽材料は優れた可視光透
過性を有すると共に、近赤外線を効果的に遮蔽し得るこ
とが認められた。
From the results of FIGS. 1 and 2, it can be seen that the heat ray shielding material using the Al-containing ZnO film and the near-infrared absorber according to the present invention has excellent visible light transmittance and can effectively shield near-infrared rays. Was observed.

〔実施例2〕 (a)近赤外線吸収剤添加有機高分子フィルムの作製 実施例1と同様にしてフィルム作製を行ったが、硬化
剤には有機過酸化物の代わりに光増感剤のベンゾイルイ
ソプロピルエーテルを1重量部使用した。また、近赤外
線吸収剤としては、上記(1)式の吸収剤(富士写真フ
ィルム(株)製IRF−905)、(3)式の吸収剤(三井東
圧ファイン(株)製PA−1001)、(4)式の吸収剤(日
本化薬(株)製IRG−002及びIRG−003)をそれぞれ使用
し、各0.25重量部を添加してシートを作製した。
Example 2 (a) Preparation of Near-Infrared Absorber-Added Organic Polymer Film A film was prepared in the same manner as in Example 1, except that the curing agent was benzoyl as a photosensitizer instead of organic peroxide. 1 part by weight of isopropyl ether was used. As the near-infrared absorbing agent, the absorbing agent of the above formula (1) (IRF-905 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) and the absorbing agent of the formula (3) (PA-1001 manufactured by Mitsui Toatsu Fine Co., Ltd.) Each of the absorbents of formulas (4) (IRG-002 and IRG-003 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) was used, and 0.25 parts by weight of each was added to prepare a sheet.

なお、この段階では硬化は行わず、後述するように合
わせガラスを作製後、UV照射を行って硬化した。
It should be noted that curing was not performed at this stage, but a laminated glass was prepared as described later, and then cured by UV irradiation.

(b)Al含有ZnO膜の作製 100μm厚のポリエチレンテレフタレートフィルム上
に実施例1と同様の方法で約3000ÅのZnO膜を形成し
た。この時、体積固有抵抗は7×10-4Ωcmであった。
(B) Preparation of Al-containing ZnO film A ZnO film of about 3000 ° was formed on a 100 μm-thick polyethylene terephthalate film in the same manner as in Example 1. At this time, the volume resistivity was 7 × 10 −4 Ωcm.

(c)熱線遮蔽合わせガラスの作製 (a)で作製した2枚の吸収剤入りEVAシートの間に
(b)で作製したAl含有ZnO膜コーティングしたポリエ
チレンテレフタレートフィルムをはさみ込み、更にこの
積層体を予め洗浄乾燥した2枚の3mm厚フロートガラス
間にはさみ、ゴム袋に入れて100℃の温度で15分間真空
脱泡した(この状態で完全に気泡のない積層物とな
る)。これを直ちに4KWUV照射装置にて距離15cmで片面3
0秒ずつ合計1分間紫外線を照射し、実施例の熱線遮蔽
合わせガラスを製造した。
(C) Preparation of heat-shielding laminated glass The polyethylene terephthalate film coated with Al-containing ZnO film prepared in (b) is sandwiched between the two EVA sheets containing the absorbent prepared in (a), and the laminated body is further laminated. It was sandwiched between two 3 mm-thick float glasses that had been washed and dried in advance, placed in a rubber bag, and degassed under vacuum at a temperature of 100 ° C. for 15 minutes (in this state, a laminate completely free of bubbles). Immediately apply this with a 4KWUV irradiation device at a distance of 15 cm on one side 3
Ultraviolet rays were irradiated for 0 seconds each for a total of 1 minute to produce a heat ray shielding laminated glass of the example.

なお、標準用として近赤外線吸収剤を添加しないEVA
シートにAl含有ZnO膜コーティングしたポリエチレンテ
レフタレートフィルムをはさみ込んで合わせた合わせガ
ラスを作製した(比較例)。
EVA without added near infrared absorber as standard
A laminated glass was prepared by sandwiching a sheet with a polyethylene terephthalate film coated with an Al-containing ZnO film (comparative example).

更に、比較のため、市販熱線反射膜をやはり近赤外線
吸収剤が添加されていないEVAシートにはさみ込み、合
わせガラスを作製した(比較例)。
Further, for comparison, a commercially available heat ray reflective film was sandwiched between EVA sheets to which a near-infrared ray absorbent was not added, to produce a laminated glass (Comparative Example).

(d)太陽光エネルギー遮蔽効果測定 上記各熱線遮蔽合わせガラスを用い、米込ライカー社
製波長別光エネルギー分析装置LI−1800Cにより、上記
合わせガラスによる太陽光の遮蔽効果を測定した。
(D) Measurement of Solar Energy Shielding Effect Using each of the above-mentioned heat ray shielding laminated glasses, the sunlight shielding effect of the laminated glass was measured by a wavelength-based light energy analyzer LI-1800C manufactured by Leiger U.S.A.

この場合、まず太陽光を直接装置に入射し、300nm〜1
100nmの光エネルギーの総放射熱量を求めた。
In this case, first, sunlight is directly incident on the device,
The total radiant heat of 100 nm light energy was determined.

次に、(c)で作製した各合わせガラスを使い、太陽
光を各々の合わせガラス中を透過させた後、装置に入射
し、総放射熱量を求めた。結果を第1表に示す。
Next, using each laminated glass prepared in (c), sunlight was transmitted through each of the laminated glasses, and thereafter, was incident on the device, and the total radiant heat was determined. The results are shown in Table 1.

上表からわかる通り、No.1の太陽光オリジナルに対比
してNo.6の透明導電膜Al含有ZnOのみを用いた合わせガ
ラスでは約20%がカットされるだけであるが、これに近
赤外線吸収剤を併用することで約50%がカットされるこ
とがわかる。これは、Agをコーティングした可視光透過
率の悪いNo.7の市販品を用いた合わせガラスの遮蔽性に
匹敵するものである。
As can be seen from the above table, the laminated glass using only No. 6 transparent conductive film Al-containing ZnO compared to the No. 1 sunlight original only cuts about 20%, but this is due to the near infrared It can be seen that about 50% is cut by using the absorbent together. This is comparable to the shielding properties of a laminated glass using a commercially available Ag-coated No. 7 commercial product with poor visible light transmittance.

〔実施例3〕 実施例2で作製した各種熱線遮蔽合わせガラスを用
い、白熱電球からのエネルギーに対する遮蔽効果を測定
した。測定は、野崎産業(株)製光エネルギー絶対測定
装置により、装置の入射口の直前に合わせガラスサンプ
ルを置き、そこから50cm離れたところに100V×60W白熱
電球光源を置き、光を照射して行った。また、測定波長
は300nm〜30μmで、この領域の総放射熱量を求めた。
結果を第2表に示す。
[Example 3] The shielding effect against the energy from the incandescent lamp was measured using various heat ray shielding laminated glasses produced in Example 2. The measurement was performed using a light energy absolute measurement device manufactured by Nozaki Sangyo Co., Ltd., and a laminated glass sample was placed just before the entrance of the device, and a 100 V × 60 W incandescent light source was placed 50 cm away from the sample and irradiated with light. went. The measurement wavelength was 300 nm to 30 μm, and the total radiant heat in this region was determined.
The results are shown in Table 2.

なお、表において白熱電球オリジナルは合わせガラス
を開かずに光を直接入射して測定した結果である。
In the table, the results of the incandescent light bulb original are measured by directly entering light without opening the laminated glass.

太陽光と異なり、白熱電球は近赤外線・中遠赤外線の
放射が中心なので、No.6の透明導電膜であるAl含有ZnO
膜だけを用いた合わせガラスでも70%がカットされる
が、これを更に近赤外線吸収剤と併用することで、約90
%のカットが可能となることが第2表の結果から認めら
れた。
Unlike sunlight, incandescent light bulbs mainly emit near-infrared and mid-far infrared rays, so the No. 6 transparent conductive film Al-containing ZnO
70% is cut even with laminated glass using only the film, but by using this together with near-infrared absorbers,
It was confirmed from the results in Table 2 that the cut in% was possible.

次に参考例を示す。 Next, a reference example will be described.

〔参考例〕(Reference example)

マグネトロンスパッタ装置により、直径10cmの円形状
でAl2O3を3.4Al/Zn原子%を含有するZnO焼結ターゲット
を用い、圧力5m Torrの条件下に500V×0.5Aの直流で3
〜30分間スパッタを行ない、透明ポリエチレンテレフタ
レート(PET)基板(100mm×100mm×100μm)上に第3
表に示す膜厚のAlを含有するZnO膜からなる熱線遮蔽材
料を形成した。この場合、基板はターゲットの端にター
ゲットに対し垂直に配置し、加熱及びプレスパッタを行
なうことなく製膜を実施した。
The magnetron sputtering device, using ZnO sintered target containing 3.4Al / Zn atomic% of Al 2 O 3 in a circular shape having a diameter of 10 cm, under conditions of pressure 5 m Torr at DC 500V × 0.5A 3
Sputtering for ~ 30 minutes, 3rd on a transparent polyethylene terephthalate (PET) substrate (100mm x 100mm x 100μm)
A heat ray shielding material made of a ZnO film containing Al having a film thickness shown in the table was formed. In this case, the substrate was placed perpendicular to the target at the end of the target, and a film was formed without performing heating and pre-sputtering.

次いで、得られた各熱線遮蔽材料につき光学的測定を
行なった。即ち、島津マルチパーパス自動分光光度計MP
S−5000を用いて400〜800nmの可視光領域及び800〜2500
nmの近赤外領域の透過率を測定し、また2.5〜30μmの
中・遠赤外領域については日本分光赤外分光光度計A−
3と正反射測定装置RF−11を用いて反射率を測定した。
結果を第3表〜第5表に示す。
Next, an optical measurement was performed on each of the obtained heat ray shielding materials. That is, Shimadzu multipurpose automatic spectrophotometer MP
400-800 nm visible light region and 800-2500 using S-5000
The transmittance in the near-infrared region of 2.5 nm was measured.
3, and the reflectance was measured using a regular reflection measuring device RF-11.
The results are shown in Tables 3 to 5.

第3〜5表の結果から、Al含有ZnO膜からなる熱線遮
蔽材料は、光学特性、特に赤外領域における光学特性が
膜厚依存性を示し、膜厚を2000Å以上、特に3000Å以上
にすることにより、中・遠赤外線を効果的に遮蔽すると
共に、近赤外線も可視域にかなり近い波長のものを遮蔽
することが認められ、またこの場合、膜厚を厚くしても
可視光を良好に透過させ、色づき等の問題もないことが
知見された。
From the results of Tables 3 to 5, the heat ray shielding material composed of the Al-containing ZnO film shows that the optical properties, particularly the optical properties in the infrared region, show the film thickness dependence, and the film thickness is made 2000 mm or more, especially 3000 mm or more. Is effective in blocking mid- and far-infrared rays, and it is recognized that near-infrared rays also have a wavelength that is quite close to the visible range. In this case, even if the film thickness is increased, visible light is transmitted well. It was found that there was no problem such as coloring.

次に、各熱線遮蔽材料から10mm×10mmのサンプルを切
り出し、BIORAD社製HALLMEASUREMENT SYSTEM HL200の装
置を使用し、ファンデルパウ(van der Pauw)法により
各熱線遮蔽材料の体積固有抵抗ρ及び移動度μを測定し
た。結果を第6表に示す。
Next, a sample of 10 mm × 10 mm was cut out from each heat ray shielding material, and the volume resistivity ρ and the mobility μ of each heat ray shielding material were determined by a van der Pauw method using an apparatus of HALLMEASUREMENT SYSTEM HL200 manufactured by BIORAD. It was measured. The results are shown in Table 6.

また、各熱線遮蔽材料の電子密度Nを測定し、その値
よりプラズマ波長λpを算出した。この場合、電子の有
効質量としてはm*=0.4及びm*=1.0の2つの場合に
ついて算出した。結果を第7表に示す。
Further, the electron density N of each heat ray shielding material was measured, and the plasma wavelength λp was calculated from the measured value. In this case, the effective mass of electrons was calculated for two cases of m * = 0.4 and m * = 1.0. The results are shown in Table 7.

第6,7表の結果から明らかなように、Al含有ZnO膜から
なる熱線遮蔽材料の体積固有抵抗は大きな膜厚依存性を
有し、体積固有抵抗の変化に伴い移動度も変化すると共
に、電子密度も膜厚依存性を有し、膜厚が2000Å以上に
なると体積固有抵抗が非常に小さくなり、移動度が大き
くなること、また電子密度も大きくなり、それにつれて
プラズマ波長も約5μ前後から約1μ前後へと大きくシ
フトしていることがわかる。
As is clear from the results of Tables 6 and 7, the volume resistivity of the heat ray shielding material composed of the Al-containing ZnO film has a large thickness dependency, and the mobility changes with the change of the volume resistivity, The electron density also depends on the film thickness. When the film thickness exceeds 2000 mm, the volume resistivity becomes very small, the mobility becomes large, and the electron density becomes large. It can be seen that there is a large shift to about 1 μ.

従って、上述した光学特性の結果から認められるよう
に、従来の予期に反して膜厚と電子密度とは正の相関関
係を有し、膜厚が大きくなると電子密度が増大し、しか
も体積固有抵抗が減少し、これにより2000Å以上の膜厚
とすることによって熱線遮蔽効果が顕著に増大すること
が知見された。
Therefore, as can be seen from the results of the optical characteristics described above, contrary to the conventional expectation, the film thickness and the electron density have a positive correlation, and the electron density increases as the film thickness increases, and the volume resistivity increases. It was found that the heat ray shielding effect was significantly increased by setting the film thickness to 2000 mm or more.

発明の効果 本発明に係る熱線遮蔽材料は、可視光の高透過性と熱
線の高遮蔽性とを兼備し、このため熱線遮蔽ガラスにな
どに好適に用いられると共に、得られた熱線遮蔽ガラス
は優れた可視光透過性と熱線遮蔽性効果を発揮する。
Effects of the Invention The heat ray shielding material according to the present invention has both high transparency of visible light and high heat ray shielding property, and thus is suitably used for a heat ray shielding glass and the like, and the obtained heat ray shielding glass is Exhibits excellent visible light transmission and heat ray shielding effects.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は各種熱線遮蔽材料の可視域の透過率を示すグラ
フ、第2図は同材料の近赤外域の透過率を示すグラフで
ある、第3図は本発明の熱線遮蔽ガラスの一実施例を示
す断面図、第4図は本発明の熱線遮蔽ガラスの他の実施
例を示す断面図である。 1……ガラス材又は透明プラスチック材 2……第III族又は第IV族元素含有酸化亜鉛膜 3……近赤外線吸収剤が配合された透明有機高分子フィ
ルム 3′……透明有機高分子フィルム 3″……近赤外線吸収剤層 4……ガラス板体
FIG. 1 is a graph showing the transmittance of various heat ray shielding materials in the visible region, FIG. 2 is a graph showing the transmittance of the material in the near infrared region, and FIG. 3 is an embodiment of the heat ray shielding glass of the present invention. FIG. 4 is a cross-sectional view showing another example of the heat ray shielding glass of the present invention. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Glass material or transparent plastic material 2 ... Zinc oxide film containing group III or IV element 3 ... Transparent organic polymer film containing near-infrared absorbing agent 3 '... Transparent organic polymer film 3 "... Near-infrared absorbing layer 4 ... Glass plate

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】第III族元素及び第IV族元素から選ばれる
1種又は2種以上の金属元素を亜鉛に対して0.1〜10原
子%含有した酸化亜鉛膜が形成されたガラス材又は透明
プラスチック材の両側に近赤外線吸収剤が配合され又は
表面に塗布された熱可塑性又は光もしくは熱硬化性透明
有機高分子フィルムを配置すると共に、これらフィルム
の外側にそれぞれガラス板体を配置してなることを特徴
とする熱線遮蔽材料。
1. A glass material or a transparent plastic on which a zinc oxide film containing one or more metal elements selected from Group III elements and Group IV elements in an amount of 0.1 to 10 atomic% with respect to zinc is formed. A thermoplastic or light- or thermosetting transparent organic polymer film with a near-infrared absorber mixed or coated on the surface on both sides of the material, and a glass plate body placed on the outside of each of these films A heat ray shielding material characterized by the following.
【請求項2】請求項1記載の熱線遮蔽材料からなる熱線
遮蔽ガラス。
2. A heat ray shielding glass comprising the heat ray shielding material according to claim 1.
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