JP2693265B2 - Manufacturing method of thick film thermal head - Google Patents

Manufacturing method of thick film thermal head

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JP2693265B2 JP2320015A JP32001590A JP2693265B2 JP 2693265 B2 JP2693265 B2 JP 2693265B2 JP 2320015 A JP2320015 A JP 2320015A JP 32001590 A JP32001590 A JP 32001590A JP 2693265 B2 JP2693265 B2 JP 2693265B2
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Description

【発明の詳細な説明】 (イ)産業上の利用分野 この発明は、厚膜サーマルヘッドの製造方法に関す
る。
The present invention relates to a method for manufacturing a thick film thermal head.

(ロ)従来の技術 一般に、よく知られた厚膜サーマルヘッドは、第2図
に示すように、セラミック基板1上にグレーズ層2を形
成し、このグレーズ層2の上面に電極パターン導体(共
通電極用)3と、電極パターン導体(個別電極用)4を
形成し、これら電極パターン導体3、4の端部を含み、
両電極パターン電極3、4に跨がり、上面を覆い、抵抗
体層5を形成し、さらに、これら電極パターン導体3、
4及び抵抗体層5を覆ってオーバコートガラス層6が印
刷、焼成されて製造される。この種のサーマルヘッドの
製造は、従来、オーバコートガラスが紙キズ、スティッ
キング等の関係より表面を滑らかにする必要があるとこ
ろから、オーバコートの軟化点が、焼成温度より数10℃
低いものが使用されている。
(B) Conventional Technology Generally, in a well-known thick film thermal head, as shown in FIG. 2, a glaze layer 2 is formed on a ceramic substrate 1, and an electrode pattern conductor (common (For electrodes) 3 and electrode pattern conductors (for individual electrodes) 4 are formed, and the end portions of these electrode pattern conductors 3 and 4 are included,
A resistor layer 5 is formed by straddling both the electrode pattern electrodes 3 and 4 and covering the upper surface thereof.
The overcoat glass layer 6 is manufactured by printing and firing so as to cover 4 and the resistor layer 5. In the manufacture of this type of thermal head, the softening point of the overcoat is several tens of degrees Celsius higher than the firing temperature because the surface of the overcoat needs to be smoother due to paper scratches, sticking, etc.
The lower ones are used.

(ハ)発明が解決しようとする課題 上記した従来の厚膜サーマルヘッドの製造方法では、
オーバコートガラスの軟化点を焼成温度より、低くして
いるため、電気化学的腐食を防止しにくいという問題が
あった。ここで、電気化学的腐食とは、ヘッド表面に結
語などにより付着した水分と、紙に含まれる塩素が共通
電極に流れる電流と相互作用をおこし、オーバコートガ
ラス下層の導体である金が腐食、断線するという破壊で
ある。次表は、電気化学的腐食を加速的に行ったテスト
の結果である。
(C) Problems to be Solved by the Invention In the conventional method for manufacturing a thick film thermal head described above,
Since the softening point of the overcoat glass is set lower than the firing temperature, it is difficult to prevent electrochemical corrosion. Here, the electrochemical corrosion is caused by the interaction between the water attached to the head surface due to a concluding remark, the chlorine contained in the paper and the current flowing through the common electrode, and the gold that is the conductor of the lower layer of the overcoat glass is corroded. It is the destruction of breaking the wire. The following table shows the results of tests that accelerated electrochemical corrosion.

この電気化学的腐食が生じる原因としては、焼成温度
と軟化点の関係より、第2図に示すように、コートガラ
ス6の内部に気泡8が存在し出し気泡8が成長をはじめ
るが、この気泡8が完全に抜けきらない為、オーバコー
トガラス6内に空洞がある状態となる。オーバコートガ
ラス6表面に何らかの理由でキズが入ると水分と塩素
は、そこからオーバコートガラス6内部へ侵入し、空洞
8をつたって導体に達し腐食すると思われる。
As a cause of the electrochemical corrosion, due to the relationship between the firing temperature and the softening point, as shown in FIG. 2, the bubbles 8 exist inside the coated glass 6 and the bubbles 8 start to grow. Since 8 cannot be completely removed, there is a cavity in the overcoat glass 6. If the surface of the overcoat glass 6 is scratched for some reason, it is considered that moisture and chlorine penetrate into the inside of the overcoat glass 6 and reach the conductor through the cavity 8 to corrode.

この発明は、上記問題点に着目してなされたものであ
って、気泡をなくし、電気化学的腐食の発生を防止し得
るサーマルヘッドを製造し得る製造方法を提供すること
を目的としている。
The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to provide a manufacturing method capable of manufacturing a thermal head capable of eliminating bubbles and preventing the occurrence of electrochemical corrosion.

(ニ)課題を解決するための手段及び作用 この発明の厚膜サーマルヘッドの製造方法は、絶縁基
板上に、電極パターン導体を形成し、この電極パターン
導体の一部を含んで抵抗体層で覆い、この抵抗体層及び
電極パターン導体を覆い、ガラスコート層を印刷し、焼
成する製造方法において、前記ガラスコート層を焼成す
る際にガラスの軟化点より低い温度で焼成するようにし
ている。
(D) Means and Actions for Solving the Problems A method for manufacturing a thick film thermal head according to the present invention is such that an electrode pattern conductor is formed on an insulating substrate, and a part of the electrode pattern conductor is included to form a resistor layer. In the manufacturing method of covering, covering the resistor layer and the electrode pattern conductor, printing the glass coat layer, and baking the glass coat layer, the glass coat layer is baked at a temperature lower than the softening point of the glass.

この厚膜サーマルヘッドの製造方法によれば、ガラス
が軟化する温度よりも低い温度でオーバコートガラスが
焼成されるので、ガラス内部の気泡が成長しない。その
ため、ガラス内に大きな空洞ができない。これにより、
水分や塩素が下地の電極パターン導体に達しにくくな
る。
According to this method for manufacturing a thick film thermal head, since the overcoat glass is fired at a temperature lower than the temperature at which the glass softens, bubbles inside the glass do not grow. Therefore, a large cavity cannot be formed in the glass. This allows
It becomes difficult for water and chlorine to reach the underlying electrode pattern conductor.

(ホ)実施例 以上、実施例により、この発明をさらに詳細に説明す
る。
(E) Embodiments The present invention will be described in more detail with reference to embodiments.

第1図は、この発明の実施例によって製造された厚膜
サーマルヘッドの断面図である。
FIG. 1 is a sectional view of a thick film thermal head manufactured according to an embodiment of the present invention.

この厚膜サーマルヘットは、セラミック等の絶縁基板
1上にグレーズ層2が形成され、このグレーズ層2の上
面に共通電極用の電極パターン導体3と、個別電極用の
電極パターン導体4が形成され、これら共通電極用の電
極パターン導体3の端部3aと個別電極用の電極パターン
導体4の端部4aを覆い、これら電極パターン導体3、4
に直交する方向に帯状の抵抗体層5が形成され、さらに
これら電極パターン導体3、4及び抵抗膜層5を覆い、
オーバコードガラス層6が形成されている。この厚膜サ
ーマルヘッドの基本構造は、従来のものと特に変わると
ころはない。
In this thick film thermal head, a glaze layer 2 is formed on an insulating substrate 1 made of ceramic or the like, and an electrode pattern conductor 3 for a common electrode and an electrode pattern conductor 4 for an individual electrode are formed on the upper surface of the glaze layer 2. , The end portions 3a of the electrode pattern conductor 3 for these common electrodes and the end portions 4a of the electrode pattern conductor 4 for individual electrodes are covered,
A strip-shaped resistor layer 5 is formed in a direction orthogonal to the above, and further covers these electrode pattern conductors 3 and 4 and the resistive film layer 5,
An overcode glass layer 6 is formed. The basic structure of this thick film thermal head is not different from the conventional structure.

本発明の特徴とするところは、オーバコートガラス層
6として、軟化点が焼成温度よりも高いガラスを使用
し、電極パターン導体3、4及び抵抗体層5を覆い、印
刷し、焼成することである。
A feature of the present invention is that glass having a softening point higher than the firing temperature is used as the overcoat glass layer 6, and the electrode pattern conductors 3 and 4 and the resistor layer 5 are covered, printed, and fired. is there.

この製造方法では、焼成温度が軟化点よりも低く設定
してあるので、焼成時にガラス内部の気泡は成長しな
い。そのため、オーバコートガラス層6には空洞ができ
ず、外部より電極パターン導体3、4に水分や塩素が到
達せず、電気化学的腐食が非常に起こりにくい。
In this manufacturing method, since the firing temperature is set lower than the softening point, bubbles inside the glass do not grow during firing. Therefore, no cavity is formed in the overcoat glass layer 6, moisture or chlorine does not reach the electrode pattern conductors 3 and 4 from the outside, and electrochemical corrosion is extremely unlikely to occur.

(ヘ)発明の効果 この発明によれば、オーバコートガラス層を焼成する
際にガラスの軟化点より低い温度で焼成するので、焼成
時にはガラス内部の気泡の成長が始まっておらず、した
がって電気化学的腐食がほとんど発生しないという効果
がある。
(F) Effect of the Invention According to the present invention, since the overcoat glass layer is fired at a temperature lower than the softening point of the glass when it is fired, the growth of bubbles inside the glass does not start at the time of firing. This has the effect that almost no physical corrosion occurs.

次表は、軟化点が焼成温度よりも高いものを使用した
時の加速試験の結果を示している。もっとも良いもの
は、従来品に対し、5倍の効果を示している。
The following table shows the results of the acceleration test when the one having a softening point higher than the firing temperature was used. The best one shows a 5 times higher effect than the conventional product.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は、この発明の実施によって製造された厚膜サー
マルヘッドの断面図、第2図は、従来の方法で製造され
た厚膜サーマルヘッドの断面図である。 1:絶縁基板、2:グレーズ層、 3:共通電極パターン導体、 4:個別電極パターン導体、 5:抵抗体層、6:オーバコートガラス層。
FIG. 1 is a sectional view of a thick film thermal head manufactured by implementing the present invention, and FIG. 2 is a sectional view of a thick film thermal head manufactured by a conventional method. 1: Insulating substrate, 2: Glaze layer, 3: Common electrode pattern conductor, 4: Individual electrode pattern conductor, 5: Resistor layer, 6: Overcoat glass layer.

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】絶縁基板上に、電極パターン導体を形成
し、この電極パターン導体の一部を含んで抵抗体層で覆
い、この抵抗体層及び電極パターン導体を覆い、ガラス
コート層を印刷し、焼成する厚膜サーマルヘッドの製造
方法において、 前記ガラスコート層を焼成する際にガラスの軟化点より
低い温度で焼成するようにしたことを特徴とする厚膜サ
ーマルヘッドの製造方法。
1. An electrode pattern conductor is formed on an insulating substrate, the electrode pattern conductor is partially covered with a resistor layer, the resistor layer and the electrode pattern conductor are covered, and a glass coat layer is printed. In the method for manufacturing a thick film thermal head, the method for manufacturing a thick film thermal head is characterized in that the glass coating layer is baked at a temperature lower than the softening point of the glass.
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