JP2690657B2 - Layout pattern generator - Google Patents

Layout pattern generator

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JP2690657B2
JP2690657B2 JP4130173A JP13017392A JP2690657B2 JP 2690657 B2 JP2690657 B2 JP 2690657B2 JP 4130173 A JP4130173 A JP 4130173A JP 13017392 A JP13017392 A JP 13017392A JP 2690657 B2 JP2690657 B2 JP 2690657B2
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JP
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data
layout pattern
value data
rectangle
truth
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伊藤  嘉浩
秀幸 深谷
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Mitsubishi Electric Corp
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、マスクR0M内蔵L
SIへROMデータを書き込むために用いられるレイア
ウトパターンを発生するレイアウトパターン発生装置に
関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a mask R0M built-in L
The present invention relates to a layout pattern generator that generates a layout pattern used for writing ROM data to SI.

【0002】[0002]

【従来の技術】通常、ROM製造に際しては、論理
「1」を書込むためにこの論理「1」を書込むのに必要
な露光用のマスクを製造しなければならず、このマスク
を製造するために真理値データよりマスク製造の座標値
を算出して出力するレイアウトパターン発生装置を必要
としている。
2. Description of the Related Art Normally, in manufacturing a ROM, an exposure mask required to write the logic "1" must be manufactured in order to write the logic "1", and this mask is manufactured. For this reason, a layout pattern generator for calculating and outputting coordinate values for mask manufacturing from the truth value data is required.

【0003】つまり、図5に示すように論理「1」の真
理値データfの右側に、論理「1」が有るか否かを順次
検索して行く場合に、論理「1」の真理値データfの右
に論理「1」の真理値データgが存在すると判定された
場合、始点f1からデータfの下部右端設定ポイントf
2を読込むことなく、データgの下部左端設定ポイント
g1を読込み、ついで上部左端設定ポイントg4を読込
み、ついで上部左端設定ポイントf4を読込み、ついで
始点f1を読込み、全5点を読込んで領域Mを設定し、
データfとgとの間隙Nを取込む処理をする。その後
に、つぎのデータgの各ポイントg1,g2,g3,g
4,g1を読込んで領域Pを設定していた。これによれ
ば、データfに対応する矩形領域,間隙Nに対応する矩
形領域,データgに対応する矩形領域を個々に読込む処
理と異なり、データfとともに間隙Nが読込めるので、
その分作業が楽となる。
That is, as shown in FIG. 5, when sequentially searching for the presence of the logic "1" on the right side of the truth value data f of the logic "1", the truth value data of the logic "1" is searched. When it is determined that the truth value data g of logic "1" exists on the right of f, the lower right end set point f of the data f from the starting point f1.
Without reading 2, the lower left setting point g1 of the data g is read, then the upper left setting point g4 is read, then the upper left setting point f4 is read, then the starting point f1 is read, all 5 points are read, and the area M is read. Set
A process for taking in the gap N between the data f and g is performed. After that, each point g1, g2, g3, g of the next data g
4, g1 was read and area P was set. According to this, unlike the process of individually reading the rectangular area corresponding to the data f, the rectangular area corresponding to the gap N, and the rectangular area corresponding to the data g, the gap N can be read together with the data f.
That makes the work easier.

【0004】図20は、従来のレイアウトパターン発生
装置をより具体的に説明するための入出力関連図であ
る。図20において、201は本装置の入力となる真理
値データ、206は出力となる補正済レイアウトパター
ンである。207は本レイアウトパターン発生装置とし
てのマスクROMレイアウトパターン補正装置である。
FIG. 20 is an input / output-related diagram for explaining the conventional layout pattern generator more specifically. In FIG. 20, reference numeral 201 denotes truth value data that is input to the apparatus, and 206 is a corrected layout pattern that is output. Reference numeral 207 is a mask ROM layout pattern correction device as the present layout pattern generation device.

【0005】図21は、従来のレイアウトパターン発生
装置の機能ブロック図である。図21において、202
は真理値データ201の読み込みを行なう真理値データ
読み込み手段、213は真理値データ201に対応する
レイアウトパターンの座標データを算出する座標データ
算出手段、214はレイアウトパターンの補正を行い補
正済レイアウトパターン206を作成するレイアウトパ
ターン補正手段、215は座標データ算出手段213で
算出された座標データを記憶する座標データ記憶部であ
る。
FIG. 21 is a functional block diagram of a conventional layout pattern generator. In FIG. 21, 202
Is a truth value data reading means for reading the truth value data 201, 213 is coordinate data calculating means for calculating the coordinate data of the layout pattern corresponding to the truth value data 201, and 214 is the corrected layout pattern 206 for correcting the layout pattern. The layout pattern correction unit 215 for creating the coordinate data is a coordinate data storage unit that stores the coordinate data calculated by the coordinate data calculation unit 213.

【0006】図22は真理値データの例であり、図23
は論理「1」の真理値データに対してのみレイアウトパ
ターンの座標を算出したレイアウトパターンの例であ
る。また図24はレイアウトパターンの補正を行った後
の補正済レイアウトパターンの例であり、図25はこの
従来のレイアウトパターン発生装置の動作を示すフロー
チャートである。
FIG. 22 shows an example of truth value data.
Is an example of a layout pattern in which the coordinates of the layout pattern are calculated only for the truth value data of logic "1". 24 is an example of a corrected layout pattern after the layout pattern is corrected, and FIG. 25 is a flow chart showing the operation of this conventional layout pattern generating apparatus.

【0007】次に図20〜図25を参照してこの従来例
の動作について説明する。最初に、真理値データ読み込
み手段202によって真理値データの読み込みを行う
(ステップN1)。真理値データとはROMデータを論
理「1」と論理「0」の2進数のデータに変換し、レイ
アウトパターン上のメモリセルアレイに対応する様に並
び換えたものである。論理「1」の真理値データに対し
てマスクROM上に作画すべき矩形の座標データを座標
データ算出手段213によって算出し、レイアウトパタ
ーンを作成する(ステップN2)。次にレイアウトパタ
ーン補正手段214はレイアウトパターンの各矩形に対
して、上下左右に隣接する矩形が有るか否かの検索を行
う(ステップN3)。隣接する矩形が有る場合、レイア
ウトパターン補正手段214はレイアウトパターンの補
正を行い補正済レイアウトパターンを作成する(ステッ
プN4)。隣接する矩形が無い場合、レイアウトパター
ンの補正を行わない。ここで、レイアウトパターンの補
正とは、隣接する矩形間にあるすき間(ギャップ)を埋
めるように矩形の座標データを算出し直すことである
(図24)。
Next, the operation of this conventional example will be described with reference to FIGS. First, the truth value data reading means 202 reads the truth value data (step N1). The truth value data is ROM data converted into binary data of logic “1” and logic “0” and rearranged so as to correspond to the memory cell array on the layout pattern. The coordinate data calculation means 213 calculates the coordinate data of the rectangle to be drawn on the mask ROM for the truth value data of logic "1", and creates a layout pattern (step N2). Next, the layout pattern correction unit 214 searches each rectangle of the layout pattern for any adjacent rectangles in the vertical and horizontal directions (step N3). If there are adjacent rectangles, the layout pattern correction means 214 corrects the layout pattern to create a corrected layout pattern (step N4). If there is no adjacent rectangle, the layout pattern is not corrected. Here, the correction of the layout pattern is to recalculate the coordinate data of the rectangle so as to fill the gap (gap) between the adjacent rectangles (FIG. 24).

【0008】図26は、従来のレイアウトパターン発生
装置の機能ブロック図である。図26において、1は本
レイアウトパターン発生装置の入力となる真理値デー
タ、4は座標値データ、12は本装置の出力となる補正
済みレイアウトパターンデータ、124は真理値データ
の読み込み手段、125は矩形(真理値データ=
「1」)の周辺に隣接する矩形が有るか検索する真理値
データ検索手段、126はレイアウトパターンの補正処
理を行いレイアウトパターンデータを作成するレイアウ
トパターン作成手段である。
FIG. 26 is a functional block diagram of a conventional layout pattern generator. In FIG. 26, 1 is truth value data which is an input to the layout pattern generator, 4 is coordinate value data, 12 is corrected layout pattern data which is an output from the apparatus, 124 is a reading means of truth value data, and 125 is Rectangle (truth value data =
"1") is a truth value data searching means for searching for adjacent rectangles, and 126 is a layout pattern creating means for performing layout pattern correction processing to create layout pattern data.

【0009】図27は、真理値データの例である。図2
8は、レイアウトパターンの処理を行った後のレイアウ
トパターンの例である。図28において、15aは光透
過パターン、15bが光しゃ断パターンであり、このパ
ターンに従って、素子に焼付けが行われる。
FIG. 27 shows an example of truth value data. FIG.
8 is an example of the layout pattern after processing the layout pattern. In FIG. 28 , 15a is a light transmission pattern and 15b is a light blocking pattern, and the element is printed according to this pattern.

【0010】図29は、従来のレイアウトパターン発生
装置の動作を示すフローチャートである。図29におい
て、最初に真理値データの読み込みを行う(ステップ1
27)。真理値データとは、マスクROM内蔵LSI内
に書き込むROMデータ(16進数)を「1」と「0」
の2進数のデータに変換し、レイアウトパターン上のメ
モリセルアレイに対応する様に並び換えたものである。
ここで、真理値データの終わりならば処理を終了する。
(ステップ128)。
FIG. 29 is a flow chart showing the operation of the conventional layout pattern generator. In FIG. 29, the truth value data is first read (step 1
27). The truth value data is ROM data (hexadecimal number) written in the mask ROM built-in LSI as “1” and “0”.
Of binary data and rearranged so as to correspond to the memory cell array on the layout pattern.
If the truth value data has ended, the process ends.
(Step 128).

【0011】読み込んだ真理値データが、矩形を発生す
るデータか否かを判定する(ステップ129)。真理値
データが矩形を発生するデータ(真理値データ=
「1」)の場合、レイアウトパターンデータの補正処理
を行うため、座標値データを算出する処理に進み、矩形
を発生しないデータ(真理値データ=「0」)の場合、
真理値データの読み込み処理に戻る。
It is determined whether the read truth value data is data that generates a rectangle (step 129). Data in which the truth value data generates a rectangle (truth value data =
In the case of “1”), the layout pattern data is corrected, and therefore the process proceeds to the process of calculating the coordinate value data.
Return to the process of reading truth value data.

【0012】矩形を発生するデータの上,右上,右側に
隣接する矩形(真理値データ=「1」が有るか検索する
(ステップ130)。上,右上,右側の全てに隣接する
矩形が有る場合、上,右上,右側の矩形の隙間が埋まる
ようにレイアウトパターンの補正処理を行い(ステップ
131)、補正済みレイアウトパターンを作成する。
上,右上,右側のいずれか1つでも隣接する矩形が無い
場合、次の検索処理を行う。ここでレイアウトパターン
の補正処理とは、隣接する矩形間にある隙間(ギャッ
プ)を埋めるように矩形の座標値データを算出すること
である(図28)。
[0012] Above the data generating the rectangle, a rectangle adjacent to the upper right and right sides of the data (true value data = "1" is searched (step 130). If there are rectangles adjacent to the upper, upper right and right sides of the rectangle. , The layout pattern is corrected so that the upper, upper right, and right rectangular gaps are filled (step 131), and the corrected layout pattern is created.
If there is no rectangle adjacent to any one of the upper, upper right and right sides, the next search processing is performed. Here, the layout pattern correction process is to calculate the coordinate value data of the rectangle so as to fill the gap between the adjacent rectangles (FIG. 28).

【0013】矩形を発生するデータの右側に隣接する矩
形が有るかどうかを検索する(ステップ132)。右側
に隣接する矩形が有る場合、右側の矩形の隙間が埋まる
ようにレイアウトパターンの補正処理を行い、(ステッ
プ133)、補正済みレイアウトパターン12を作成す
る。右側に隣接する矩形が無い場合、次の検索処理を行
う。
It is searched whether or not there is an adjacent rectangle on the right side of the data generating the rectangle (step 132). When there is an adjacent rectangle on the right side, the layout pattern is corrected so that the gap between the right side rectangles is filled (step 133), and the corrected layout pattern 12 is created. When there is no adjacent rectangle on the right side, the next search process is performed.

【0014】矩形を発生するデータの下,右下側に隣接
する矩形が有るかどうかを検索する(ステップ13
4)。下,右下側の全てに隣接する矩形が有る場合、上
側に隣接する矩形が有るかどうかを検索する(ステップ
135)。ここで、上側に隣接する矩形が有る場合、
上,下側の矩形の隙間が埋まるようにレイアウトパター
ンの補正処理を行い(ステップ136)、上側に隣接す
る矩形が無い場合、下側の矩形の隙間が埋まるようにレ
イアウトパターンの補正処理を行い(ステップ13
7)、補正済みレイアウトパターン12を作成する。
下,右下側のいずれか隣接する矩形が無ければ、次の検
索処理を行う。
It is searched whether or not there is an adjacent rectangle on the lower right side below the data for generating the rectangle (step 13).
4). If there are adjacent rectangles on all of the lower and lower right sides, it is searched whether there is an adjacent rectangle on the upper side (step 135). Here, if there is an adjacent rectangle on the upper side,
Layout pattern correction processing is performed so that the upper and lower rectangular gaps are filled (step 136), and if there is no adjacent upper rectangle, layout pattern correction processing is performed so that the lower rectangular gap is filled. (Step 13
7) The corrected layout pattern 12 is created.
If there is no adjacent rectangle on either the lower or lower right side, the next search process is performed.

【0015】矩形を発生するデータの上側に隣接する矩
形が有るかどうかを検索する(ステップ138)。上側
に隣接する矩形が有る場合、上側の矩形の隙間が埋まる
ようにレイアウトパターンの補正処理を行い(ステップ
139)、補正済みレイアウトパターンを作成する。上
側に隣接する矩形が無い場合、次の処理を行う。
It is searched whether or not there is a rectangle adjacent to the upper side of the data for generating the rectangle (step 138). If there is an adjacent rectangle on the upper side, the layout pattern is corrected so that the gap between the upper rectangles is filled (step 139) to create a corrected layout pattern. If there is no adjacent rectangle on the upper side, the following processing is performed.

【0016】矩形を発生するデータの上,右,右上,右
下,下側に隣接する矩形が無い場合、レイアウトパター
ンの補正処理を行わず、レイアウトパターンを作成する
(ステップ140)。
If there is no adjacent rectangle on the upper, right, upper right, lower right, or lower side of the data that generates a rectangle, the layout pattern is not corrected and a layout pattern is created (step 140).

【0017】以上の隣接する矩形を検索し、矩形の座標
値データを算出する処理を真理値データ1つ1つに対し
て行い真理値データの終わりまで繰り返し行う。
The process of searching the adjacent rectangles and calculating the coordinate value data of the rectangles is performed for each truth value data and repeated until the end of the truth value data.

【0018】[0018]

【発明が解決しようとする課題】従来のレイアウトパタ
ーン発生装置は以上のように構成されているので、隣接
の論理「1」のデータfとgとの間隙Nを取込むとして
も、レイアウトパターンは論理「1」の真理値データに
対応して一つ一つ座標データが作成される。つまり、個
々のデータf,gについてはやはり座標データを作成す
る処理を行わなければならない。マスクROMLSIの
ようなROM容量の膨大なものでは、論理「1」の真理
値データの一つ一つに対して座標データを作成している
とレイアウトパターンのデータ量が膨大になり処理に多
くのディスク容量を必要とし、即ち処理に使用するディ
スク容量が不足し、また、処理に時間がかかるという問
題点があった。
Since the conventional layout pattern generating device is configured as described above, the layout pattern can be obtained even if the gap N between the data f and g of the adjacent logic "1" is taken in. Coordinate data is created one by one corresponding to the truth value data of logic "1". That is, for each of the data f and g, the process of creating coordinate data must be performed. In an enormous amount of ROM capacity such as a mask ROM LSI, if coordinate data is created for each truth value data of logic “1”, the data amount of the layout pattern becomes enormous and a lot of processing is required. There is a problem that the disk capacity is required, that is, the disk capacity used for processing is insufficient and the processing takes time.

【0019】この発明は、上記のような問題点を解消す
るためになされたもので、レイアウトパターン作成時に
補正処理を考慮(補正された矩形どうしを組み合わせ、
1つの図形にする処理を考慮)した多角形でレイアウト
パターンを作成することにより、つまり、隣接の論理
「1」のデータfとgを合せた矩形の領域を、ポイント
f1,g2,g3,f4,f1と読込むことにより、レ
イアウトパターンのデータ量を削減することのできるレ
イアウトパターン発生装置を得ることを目的とする。
The present invention has been made in order to solve the above problems, and considers correction processing when creating a layout pattern (combining corrected rectangles,
By creating a layout pattern with polygons that take into consideration the process of making one figure), that is, a rectangular area in which data f and g of adjacent logic "1" are combined is defined as points f1, g2, g3, f4. , F1 is read to obtain a layout pattern generation device capable of reducing the data amount of the layout pattern.

【0020】[0020]

【課題を解決するための手段】請求項1の発明に係るレ
イアウトパターン発生装置は、レイアウトパターン上の
メモリセルアレイに対応するようにROMデータを並び
換えた論理「1」又は「0」の真理値データを読み込む
真理値データ読み込み手段202と、同じ値の真理値デ
ータを隣接するもの同志でグループ化する真理値データ
グループ化手段203と、上記グループ化した真理値デ
ータ毎にレイアウトパターン上の座標値データを算出し
てレイアウトパターンを作成する座標値データ算出手段
204とを備えたものである。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a layout pattern generating device which is a truth value of logic "1" or "0" in which ROM data is rearranged so as to correspond to a memory cell array on a layout pattern. Truth value data reading means 202 for reading data, truth value data grouping means 203 for grouping truth value data of the same value by adjacent ones, and coordinate values on the layout pattern for each of the grouped truth value data The coordinate value data calculating means 204 for calculating data to create a layout pattern is provided.

【0021】請求項2の発明に係るレイアウトパターン
発生装置は、レイアウトパターン上のメモリセルアレイ
に対応するようにROMデータを並び換えた論理「1」
の真理値データの読み込みを行なう真理値データ読み込
み手段2と、上記論理「1」の真理値データの上側方向
又は下側方向又は左側方向又は右側方向に論理「1」の
データが存在するか否かを順次判別して行き、論理
「1」のデータが存在すれば、これを同一グループとみ
なしてグループ化する真理値データグループ化手段3
と、マスク上に作画すべきレイアウトパターンの座標値
を算出する座標値データ算出手段5と、グループ化され
た論理「1」の真理値データの全体の外周を決定する外
枠座標値データ抽出手段8を含むレイアウトパターン作
成手段7とを備えたものである。
In the layout pattern generator according to the second aspect of the present invention, the logic "1" is obtained by rearranging the ROM data so as to correspond to the memory cell array on the layout pattern.
Truth value data reading means 2 for reading the truth value data and whether or not the data of the logic "1" exists in the upward direction, the downward direction, the leftward direction or the rightward direction of the truth value data of the logical "1". If there is data of logic "1", the truth value data grouping means 3 is regarded as the same group and is grouped.
A coordinate value data calculating means 5 for calculating the coordinate values of the layout pattern to be drawn on the mask, and an outer frame coordinate value data extracting means for determining the entire outer circumference of the truth value data of the grouped logic "1". And a layout pattern creating means 7 including 8.

【0022】請求項3の発明に係るレイアウトパターン
発生装置は、レイアウトパターンの補正処理においては
データのグループ化を縦方向又は横方向のみにしたもの
である。
In the layout pattern generator according to the third aspect of the present invention, in the layout pattern correction processing, data grouping is performed only in the vertical direction or the horizontal direction.

【0023】請求項4の発明に係るレイアウトパターン
発生装置は、真理値データグループ化手段3によりグル
ープ化された論理「1」の真理値データの全体の中に論
理「0」のデータが存在するか否かを判別する中抜きデ
ータ検索手段9をレイアウトパターン作成手段7に備
え、この中抜きデータ検索手段9で論理「0」のデータ
が存在すると判別されたときに上記真理値データグルー
プ化手段3により論理「0」の真理値データの上側方向
又は下側方向又は左側方向又は右側方向に論理「0」の
データが存在するか否かを順次判別して行き、論理
「0」のデータが存在すれば、これを同一グループとみ
なしてグループ化するようにし、このグループ化された
論理「0」の真理値データの全体の外周を決定する中抜
き座標値データ抽出手段10を上記レイアウトパターン
作成手段7に備えたものである。
In the layout pattern generating device according to the fourth aspect of the present invention, data of logic "0" exists in the whole truth value data of logic "1" grouped by the truth value grouping means 3. The layout pattern creating means 7 is provided with the inside-out data retrieval means 9 for determining whether or not the truth-value data grouping means is present when the inside-out data retrieval means 9 determines that data of logic "0" exists. 3, it is sequentially determined whether or not the logic “0” data exists in the upward direction, the downward direction, the leftward direction, or the rightward direction of the truth value data of the logical “0”. If they exist, they are regarded as the same group and are grouped, and the hollow coordinate value data extraction means for determining the entire outer circumference of the truth value data of this grouped logic "0". 0 is obtained with the above layout pattern creating means 7.

【0024】[0024]

【作用】請求項1の発明において、論理「1」又は
「0」の真理値データは隣接するもの同志でグループ化
され、このグループ化された真理値データ毎に座標値デ
ータが算出される。したがってレイアウトパターンのデ
ータ量が減少する。
In the invention of claim 1, the truth value data of the logic "1" or "0" is grouped by adjacent ones, and the coordinate value data is calculated for each grouped truth value data. Therefore, the data amount of the layout pattern is reduced.

【0025】請求項2の発明において、論理「1」の真
理値データは隣接するもの同志でグループ化され、この
グループ化された真理値データ毎に座標値データが算出
される。したがってレイアウトパターンのデータ量が減
少する。
According to the second aspect of the present invention, the truth value data of logic "1" are grouped by adjacent ones and the coordinate value data is calculated for each grouped truth value data. Therefore, the data amount of the layout pattern is reduced.

【0026】請求項3の発明において、レイアウトパタ
ーンの補正処理は論理「1」又は「0」のデータのグル
ープ化を縦方向又は横方向のみにする。したがってレイ
アウトパターンのデータ量が減少する。
According to the third aspect of the invention, the layout pattern correction processing groups the data of logic "1" or "0" only in the vertical or horizontal direction. Therefore, the data amount of the layout pattern is reduced.

【0027】請求項4の発明において、グループ化され
た論理「1」の真理値データの全体の中に論理「0」の
データが存在すれば、これを同一グループとみなしてグ
ループ化され、このグループ化された論理「0」の真理
値データの全体の外周が決定される。したがってレイア
ウトパターンのデータ量が減少する。
In the invention of claim 4, if data of logic "0" exists in the whole truth value data of logic "1", it is regarded as the same group and grouped. The entire circumference of the truth value data of the grouped logic "0" is determined. Therefore, the data amount of the layout pattern is reduced.

【0028】[0028]

【実施例】実施例1.図1は請求項1の発明の一実施例
に係るレイアウトパターン発生装置の機能ブロック図で
ある。図1において、図19に示す構成要素に対応する
ものには同一の符号を付し、その説明を省略する。図1
において、203は隣接した論理「1」の真理値データ
をグループ化し、グループ化済真理値データを作成する
真理値データグループ化手段、204はグループ化した
真理値データごとに座標データを算出して補正済レイア
ウトパターンデータを作成する座標データ算出手段、2
05は真理値データグループ化手段203でグループ化
した真理値データを記憶するグループ化済真理値データ
記憶部である。
[Embodiment 1] FIG. 1 is a functional block diagram of a layout pattern generator according to an embodiment of the invention of claim 1. In FIG. 1, components corresponding to those shown in FIG. 19 are designated by the same reference numerals, and their description will be omitted. FIG.
In 203, 203 is a truth value data grouping means for grouping adjacent truth value data of logic “1” to create grouped truth value data, and 204 is for calculating coordinate data for each grouped truth value data item. Coordinate data calculation means for creating corrected layout pattern data, 2
Reference numeral 05 is a grouped truth value data storage unit for storing the truth value data grouped by the truth value data grouping means 203.

【0029】図2はグループ化済真理値データの例であ
り、図3はグループ化した真理値データ毎に座標値を算
出して得られた補正済レイアウトパターンの例である。
図4はこの実施例の動作を示すフローチャートである。
FIG. 2 is an example of grouped truth value data, and FIG. 3 is an example of a corrected layout pattern obtained by calculating coordinate values for each grouped truth value data.
FIG. 4 is a flow chart showing the operation of this embodiment.

【0030】次に図1〜図4を参照してこの実施例の動
作について説明する。まず、真理値データ読み込み手段
202によって真理値データの読み込みを行なう(ステ
ップS1)。この処理は従来と同じである。次に真理値
データグループ化手段203によって論理「1」の真理
値データを隣接するもの同志でグループ化する(ステッ
プS2)。即ち真理値データグループ化手段203は論
理「1」の真理値データの上側方向又は下側方向又は左
側方向又は右側方向に論理「1」のデータが存在するか
否かを順次判別して行き、論理「1」のデータが存在す
れば、これを同一グループとみなしてグループ化する。
グループ化した真理値データの一番外側(外周部分)の
真理値データを組み合わせてレイアウトパターン上の座
標データを座標データ算出手段204によって算出する
ことにより、補正を考慮した多角形の補正済レイアウト
パターンを作成する(ステップS3)。次にグループ化
した論理「1」の真理値データ内に論理「0」の真理値
データの部分(中抜き部分)があるか否かを検索する
(ステップS4)。中抜き部分がある場合、中抜き部分
の座標データを座標データ算出手段204で算出し(ス
テップS5)、ステップS3で算出した外周部分の座標
データと中抜き部分の座標データとを合成して(ステッ
プS6)、補正済レイアウトパターンを再作成する。中
抜き部分が無い場合は中抜き部分に対する処理を行なわ
ない。
Next, the operation of this embodiment will be described with reference to FIGS. First, the truth value data reading means 202 reads the truth value data (step S1). This process is the same as the conventional one. Next, the truth value data grouping means 203 groups the truth value data of logic "1" by adjacent ones (step S2). That is, the truth value data grouping means 203 sequentially determines whether or not the logic "1" data exists in the upper direction, the lower direction, the left direction, or the right direction of the truth value data of the logic "1". If data of logic "1" exists, it is regarded as the same group and grouped.
The outermost (outer peripheral portion) truth value data of the grouped truth value data is combined and the coordinate data on the layout pattern is calculated by the coordinate data calculation means 204, whereby a polygonal corrected layout pattern in consideration of the correction. Is created (step S3). Next, it is searched whether or not the truth value data of the logic "1" (the hollow portion) is included in the truth value data of the logic "1" (step S4). When there is a hollow portion, the coordinate data of the hollow portion is calculated by the coordinate data calculating means 204 (step S5), and the coordinate data of the outer peripheral portion calculated in step S3 and the coordinate data of the hollow portion are combined ( In step S6), the corrected layout pattern is recreated. If there is no hollow portion, the hollow portion is not processed.

【0031】実施例2.図6は、請求項2,4の発明の
一実施例に係るレイアウトパターン発生装置の機能ブロ
ック図である。図6において、1は本レイアウトパター
ン発生装置の入力となる真理値データ、2はレイアウト
パターン上のメモリセルアレイに対応するようにROM
データを並び換えた論理「1」の真理値データの読み込
みを行なう真理値データ読み込み手段、3は矩形を発生
するデータ(真理値データ=「1」)を隣接するものど
うしでグループ化する、即ち論理「1」の真理値データ
の上側方向又は下側方向又は左側方向又は右側方向に論
理「1」のデータが存在するか否かを順次判別して行
き、論理「1」のデータが存在すれば、これを同一グル
ープとみなしてグループ化する真理値データグループ化
手段、4は座標値を算出するための情報を格納した座標
値データ、5はマスク上に作画すべきレイアウトパター
ンの座標値を算出する座標値データ算出手段、6は算出
した座標値データをメモリ上に格納する座標値データ記
憶部、7はグループ化した真理値データからレイアウト
パターンの補正処理を考慮して、レイアウトパターンデ
ータ(多角形)を作成するレイアウトパターン作成手段
である。レイアウトパターン作成手段7において、8は
グループ化した真理値データの外周部の頂点座標を座標
値データ記憶部6から抽出する、即ちグループ化された
論理「1」の真理値データの全体の外周を決定する外枠
座標値データ抽出手段、9はグループ化した真理値デー
タ内に矩形を発生しないデータ(真理値データ=
「0」)が有るかどうかを検索する中抜きデータ検索手
段、10は中抜きデータ検索手段9で検索した中抜きデ
ータの座標値を座標値データ記憶部6から抽出する、即
ち中抜きデータ検索手段9で論理「0」のデータが存在
すると判定されたときに真理値データグループ化手段3
により論理「0」の真理値データの上側方向又は下側方
向又は左側方向又は右側方向に論理「0」のデータが存
在するか否かを順次判別して行き、論理「0」のデータ
が存在すれば、これを同一グループとみなしてグループ
化するようにし、このグループ化された論理「0」の真
理値データの全体の外周を決定する中抜き座標値データ
抽出手段、11はレイアウトパターン作成の詳細手段を
示す外枠座標値データ抽出手段で作成したレイアウトパ
ターンデータと中抜き座標値データ抽出手段で作成した
レイアウトパターンデータを合成して一つのレイアウト
パターンデータを作成するレイアウトパターンデータ合
成手段、12はレイアウトパターンデータの発生装置の
出力となる補正済みレイアウトパターンである。
Embodiment 2 FIG. FIG. 6 is a functional block diagram of a layout pattern generation device according to an embodiment of the invention of claims 2 and 4. In FIG. 6, 1 is truth value data to be input to the layout pattern generator, and 2 is a ROM corresponding to the memory cell array on the layout pattern.
The truth value data reading means 3 for reading the truth value data of logic "1" in which the data is rearranged, the group 3 of the data generating the rectangle (truth value data = "1") by adjacent ones, that is, It is determined whether or not the data of the logic "1" exists in the upward direction, the downward direction, the leftward direction, or the rightward direction of the truth value data of the logic "1", and the data of the logic "1" exists. For example, the truth value data grouping means that regards them as the same group and groups them, 4 is the coordinate value data that stores the information for calculating the coordinate values, and 5 is the coordinate value of the layout pattern to be drawn on the mask. Coordinate value data calculating means for calculating, 6 is a coordinate value data storage unit for storing the calculated coordinate value data on a memory, and 7 is a layout pattern correction process from grouped truth value data. In view, a layout pattern generating means for generating a layout pattern data (polygon). In the layout pattern creating means 7, 8 extracts the vertex coordinates of the outer peripheral portion of the grouped truth value data from the coordinate value data storage unit 6, that is, the entire outer periphery of the grouped truth value data of logic "1". Outer frame coordinate value data extraction means for determining, 9 is data that does not generate a rectangle in the grouped truth value data (truth value data =
“0”) is searched for, and the blank data search means 10 extracts the coordinate values of the blank data searched by the blank data search means 9 from the coordinate value data storage unit 6, that is, blank data search. The truth value data grouping means 3 when the means 9 determines that the data of logic “0” exists.
It is sequentially determined whether or not the data of the logic "0" exists in the upward direction, the downward direction, the leftward direction, or the rightward direction of the truth value data of the logic "0", and the data of the logic "0" exists. If so, they are regarded as the same group and are grouped, and the hollow coordinate value data extracting means for determining the entire outer periphery of the truth value data of the grouped logic "0", 11 is for creating the layout pattern. Layout pattern data synthesizing means for synthesizing the layout pattern data created by the outer frame coordinate value data extracting means and the layout pattern data created by the hollow coordinate value data extracting means to create one layout pattern data, 12 Is a corrected layout pattern that is output from the layout pattern data generator.

【0032】図7は、グループ化した後の真理値データ
の例である。図7において、13は外枠座標値データを
抽出するレイアウトパターンデータの外周部分、14は
外中抜き座標値データを抽出するレイアウトパターンデ
ータの中抜き部分である。図8は、グループ化した真理
値データごとに座標値データを抽出して作成した補正済
みレイアウトパターンの例である。
FIG. 7 shows an example of truth value data after grouping. In FIG. 7, 13 is an outer peripheral portion of the layout pattern data for extracting the outer frame coordinate value data, and 14 is a hollow portion of the layout pattern data for extracting the outer-outer coordinate value data. FIG. 8 is an example of a corrected layout pattern created by extracting coordinate value data for each grouped truth value data.

【0033】図9は、本レイアウトパターン発生装置の
動作を示すフローチャートである。図9に従って動作を
説明する。最初に、レイアウトパターンデータ作成の前
処理としてマスク上に作画すべきレイアウトパターンの
座標値を算出し、座標値データ記憶部6に格納する(ス
テップ15)。次に真理値データの読み込みを行う(ス
テップ16)。この処理は、従来と同じである。ここ
で、読み込みが真理値データの終わりならば処理を終了
する(ステップ17)。
FIG. 9 is a flow chart showing the operation of the layout pattern generator. The operation will be described with reference to FIG. First, as a pre-process for creating layout pattern data, the coordinate values of the layout pattern to be drawn on the mask are calculated and stored in the coordinate value data storage unit 6 (step 15). Next, the truth value data is read (step 16). This process is the same as the conventional one. If the reading is the end of the truth value data, the process ends (step 17).

【0034】読み込んだ真理値データが、矩形を発生す
るデータか否かを判定する(ステップ18)。真理値デ
ータが矩形を発生するデータ(真理値データ=「1」)
の場合、隣接する真理値データ=「1」をグループ化し
ながら、グループ化した真理値データの外周部のレイア
ウトパターンを作成する外枠データ作成処理に進み、矩
形を発生しないデータ(真理値データ=「0」)の場
合、真理値データの読み込み処理に戻る。
It is determined whether the read truth value data is data that generates a rectangle (step 18). Data in which the truth value data generates a rectangle (truth value data = "1")
In the case of, the adjacent truth value data = “1” is grouped, and the process proceeds to the outer frame data creation process for creating the layout pattern of the outer periphery of the grouped truth value data, and the data that does not generate a rectangle (the truth value data = In the case of “0”), the process returns to the reading process of the truth value data.

【0035】隣接する真理値データ=「1」をグループ
化しながら、グループ化した真理値データごとにマスク
上に作画すべきレイアウトパターンの外周部分の座標値
データを座標値データ記憶部から抽出し、外枠レイアウ
トパターンデータを作成する(ステップ19)。次にグ
ループ化した真理値データ=「1」内にレイアウトパタ
ーンを発生しない真理値データ=「0」があるかどうか
を検索する(ステップ20)。
While grouping adjacent truth value data = “1”, the coordinate value data of the outer peripheral portion of the layout pattern to be drawn on the mask is extracted from the coordinate value data storage unit for each grouped truth value data. Outer frame layout pattern data is created (step 19). Then, it is searched whether or not there is truth value data "0" which does not generate a layout pattern in the grouped truth value data "1" (step 20).

【0036】レイアウトパターンを発生しないデータの
有無を示す中抜きフラグを判定する(ステップ21)。
中抜きフラグ=「1」の場合、中抜きデータを作成する
処理に進み、中抜きフラグ=「0」の場合、処理済みデ
ータの削除処理に進む。中抜きフラグ=「1」の場合、
中抜き部分の座標値データを座標値データ記憶部から抽
出し、中抜きレイアウトパターンデータを作成する(ス
テップ22)。外枠レイアウトパターンデータと中抜き
レイアウトパターンデータを合成し、一つのレイアウト
パターンデータを作成する(ステップ23)。中抜きデ
ータの作成処理は、グループ化した真理値データ内に中
抜きデータ(真理値データ=「0」)が無くなるまで繰
り返し行う。
A blanking flag indicating the presence or absence of data that does not generate a layout pattern is determined (step 21).
When the inside-out flag = “1”, the process proceeds to the process of creating inside-out data, and when the inside-out flag = “0”, the process proceeds to the process of deleting the processed data. When the hollow flag = "1",
The coordinate value data of the hollow portion is extracted from the coordinate value data storage section to create hollow layout pattern data (step 22). The outer frame layout pattern data and the blank layout pattern data are combined to create one layout pattern data (step 23). The process of creating hollow data is repeated until there is no hollow data (truth value = "0") in the grouped truth data.

【0037】他のグループ化した真理値データのレイア
ウトパターンデータ作成処理の妨げにならないようにレ
イアウトパターンデータ作成処理済みの真理値データを
削除する(ステップ24)。
The truth value data that has undergone the layout pattern data creation processing is deleted so as not to interfere with the layout pattern data creation processing for the other grouped truth value data (step 24).

【0038】以上の処理を、真理値データの終わりまで
繰り返し行う。そして、真理値データが終了すれば、本
処理が終了する。
The above processing is repeated until the end of the truth value data. Then, when the truth value data ends, this processing ends.

【0039】図10,11は本レイアウトパターン発生
装置の外枠データ作成処理の動作を示すフローチャート
である。図10,11に従って説明する。最初に、外枠
データ作成の基準となる矩形(真理値データ=「1」)
の左下の座標値データを座標値データ記憶部6から抽出
する(ステップ25)。この座標値データが外枠レイア
ウトパターンデータの始点の座標となる。基本となる矩
形に処理済みフラグを設定(真理値データ=「1」を
「2」に変更)する(ステップ26)。
10 and 11 are flow charts showing the operation of the outer frame data creation processing of this layout pattern generator. This will be described with reference to FIGS. First, the rectangle that serves as the basis for creating the outer frame data (truth value data = "1")
The coordinate value data at the lower left of is extracted from the coordinate value data storage unit 6 (step 25). This coordinate value data becomes the coordinates of the starting point of the outer frame layout pattern data. The processed flag is set on the basic rectangle (the truth value data = "1" is changed to "2") (step 26).

【0040】基本矩形の右,右下に隣接する矩形(真理
値データ=「1」)があるかどうかを検索する(ステッ
プ27)。基本矩形の右,右下に隣接する矩形がある場
合、基本矩形の右側の矩形の左下の座標を座標値データ
記憶部6から抽出し(ステップ30)、基本矩形を右下
の矩形に移動する(ステップ31)。この時、基本矩形
の右,右下の矩形に処理済みフラグを設定する(ステッ
プ32)。そして、基本矩形の下,左下に隣接する矩形
があるかどうかを検索する処理に本処理を移動する。基
本矩形の右側のみに隣接する矩形がある場合、基本矩形
を右側の矩形に移動し(ステップ28)、右側の矩形に
処理済みフラグを設定する(ステップ29)。そして、
もう一度基本矩形の右,右下に隣接する矩形があるかど
うかを検索する処理を行う。基本矩形の右,右下に隣接
する矩形が無い場合、基本矩形の右下の座標を座標値デ
ータ記憶部6から抽出する(ステップ33)。そして、
基本矩形の上,右上に隣接する矩形があるかどうかを検
索する処理に本処理を移動する。
It is searched whether or not there are adjacent rectangles (truth value data = "1") to the right and bottom of the basic rectangle (step 27). If there are adjacent rectangles on the right and lower right of the basic rectangle, the lower left coordinates of the right rectangular of the basic rectangle are extracted from the coordinate value data storage unit 6 (step 30), and the basic rectangle is moved to the lower right rectangle. (Step 31). At this time, the processed flags are set in the right and lower right rectangles of the basic rectangle (step 32). Then, this process is moved to a process for searching whether or not there is an adjacent rectangle below and below the basic rectangle. If there is a rectangle adjacent only to the right side of the basic rectangle, the basic rectangle is moved to the right side rectangle (step 28), and the processed flag is set to the right side rectangle (step 29). And
Once again, processing is performed to search whether there are adjacent rectangles on the right and bottom of the basic rectangle. If there is no rectangle adjacent to the right and lower right of the basic rectangle, the lower right coordinates of the basic rectangle are extracted from the coordinate value data storage unit 6 (step 33). And
This process moves to the process of searching for the adjacent rectangles on the upper and upper right corners of the basic rectangle.

【0041】基本矩形の下,左下に隣接する矩形がある
か検索する(ステップ34)。基本矩形の下,左下に隣
接する矩形がある場合、基本矩形の下側の矩形の左上の
座標を座標値データ記憶部6から抽出し(ステップ3
7)、基本矩形を左下の矩形に移動する(ステップ3
8)。この時、基本矩形の左,左下の矩形に処理済みフ
ラグを設定する(ステップ39)。そして、基本矩形の
左,左上に隣接する矩形があるかどうかを検索する処理
に本処理を移動する。基本矩形の下側のみに隣接する矩
形がある場合、基本矩形を下側の矩形に移動し(ステッ
プ35)、下側の矩形に処理済みフラグを設定する(ス
テップ36)。そして、もう一度基本矩形の下,左下に
隣接する矩形があるか検索する処理を行う。基本矩形の
下,左下に隣接する矩形が無い場合、基本矩形の左下の
座標を抽出する(ステップ40)。この時、抽出した座
標が始点の座標と同じかどうかを検索する(ステップ4
1)。抽出した座標と始点の座標が同じ場合、グループ
化した真理値データ内の処理済みフラグを設定した真理
値データに隣接する全ての真理値データ=「1」に処理
済みフラグを設定し(ステップ42)、処理を終了す
る。抽出した座標と始点の座標が違う場合、基本矩形の
右,右下に隣接する矩形があるかどうかを検索する処理
に本処理を移動する。
A search is made to see if there is an adjacent rectangle below and below the basic rectangle (step 34). If there are adjacent rectangles below and below the basic rectangle, the upper left coordinates of the lower rectangle of the basic rectangle are extracted from the coordinate value data storage unit 6 (step 3
7) Move the basic rectangle to the lower left rectangle (step 3)
8). At this time, the processed flags are set in the left and lower left rectangles of the basic rectangle (step 39). Then, this process is moved to a process of searching for a rectangle adjacent to the left and upper left of the basic rectangle. If there is an adjacent rectangle only under the basic rectangle, the basic rectangle is moved to the lower rectangle (step 35), and the processed flag is set in the lower rectangle (step 36). Then, a process is performed again to search for adjacent rectangles below and below the basic rectangle. If there is no adjacent rectangle below and below the basic rectangle, the lower left coordinates of the basic rectangle are extracted (step 40). At this time, it is searched whether the extracted coordinates are the same as the coordinates of the starting point (step 4).
1). When the extracted coordinates and the coordinates of the starting point are the same, the processed flag is set to all the truth value data = “1” adjacent to the truth value data set with the processed flag in the grouped truth value data (step 42). ), The processing ends. When the extracted coordinates are different from the coordinates of the start point, this process is moved to a process of searching for adjacent rectangles on the right and bottom right of the basic rectangle.

【0042】基本矩形の左,左上に隣接する矩形がある
かどうかを検索する(ステップ43)。基本矩形の左,
左上に隣接する矩形がある場合、基本矩形の左側の矩形
の右上の座標を座標値データ記憶部6から抽出し(ステ
ップ46)、基本矩形を左上の矩形に移動する(ステッ
プ47)。この時、基本矩形の左,左上の矩形に処理済
みフラグを設定する(ステップ48)。そして、基本矩
形の上,右上に隣接する矩形があるかどうかを検索する
処理に本処理を移動する。基本矩形の左側のみに隣接す
る矩形がある場合、基本矩形を左側の矩形に移動し(ス
テップ44)、左側の矩形に処理済みフラグを設定する
(ステップ45)。そして、もう一度基本矩形の左,左
上に隣接する矩形があるかどうかを検索する処理を行
う。基本矩形の左,左上に隣接する矩形が無い場合、基
本矩形の左上の座標を座標値データ記憶部から抽出する
(ステップ49)。そして、基本矩形の下,左下に隣接
する矩形があるかどうかを検索する処理に処理を移動す
る。
It is searched whether there are adjacent rectangles on the left and upper left of the basic rectangle (step 43). To the left of the basic rectangle,
If there is an adjacent rectangle on the upper left, the upper right coordinates of the rectangle on the left side of the basic rectangle are extracted from the coordinate value data storage unit 6 (step 46), and the basic rectangle is moved to the upper left rectangle (step 47). At this time, the processed flags are set in the left and upper left rectangles of the basic rectangle (step 48). Then, this process is moved to a process for searching whether or not there are adjacent rectangles above and below the basic rectangle. If there is a rectangle adjacent to the left side of the basic rectangle only, the basic rectangle is moved to the left side rectangle (step 44), and the processed flag is set in the left side rectangle (step 45). Then, the process of searching again whether there are adjacent rectangles on the left and upper left of the basic rectangle is performed. If there is no rectangle adjacent to the left and upper left of the basic rectangle, the upper left coordinates of the basic rectangle are extracted from the coordinate value data storage unit (step 49). Then, the process moves to a process for searching whether there is a rectangle adjacent to the bottom and bottom left of the basic rectangle.

【0043】基本矩形の上,右上に隣接する矩形がある
か検索する(ステップ50)。基本矩形の上,右上に隣
接する矩形がある場合、基本矩形の上側の矩形の右下の
座標を座標値データ記憶部6から抽出し(ステップ5
3)、基本矩形を右上の矩形に移動する(ステップ5
4)。この時、基本矩形の上,右上の矩形に処理済みフ
ラグを設定する(ステップ55)。そして、基本矩形の
右,右下に隣接する矩形があるかどうかを検索する処理
に本処理を移動する。基本矩形の上側のみに隣接する矩
形がある場合、基本矩形を上側の矩形に移動し(ステッ
プ51)、上側の矩形に処理済みフラグを設定する(ス
テップ52)。そして、もう一度基本矩形の上,右上に
隣接する矩形があるかどうかを検索する処理を行う。基
本矩形の上、右上に隣接する矩形が無い場合、基本矩形
の右上の座標を座標値データ記憶部から抽出する(ステ
ップ56)。そして、基本矩形の左,左上に隣接する矩
形があるかどうかを検索する処理に本処理を移動する。
It is searched whether or not there are adjacent rectangles above and below the basic rectangle (step 50). If there are adjacent rectangles on the upper and upper right corners of the basic rectangle, the lower right coordinates of the upper rectangle of the basic rectangle are extracted from the coordinate value data storage unit 6 (step 5).
3) Move the basic rectangle to the upper right rectangle (step 5)
4). At this time, the processed flags are set in the upper and upper right rectangles of the basic rectangle (step 55). Then, this process is moved to a process for searching whether or not there are adjacent rectangles on the right and lower right of the basic rectangle. If there is a rectangle adjacent only to the upper side of the basic rectangle, the basic rectangle is moved to the upper rectangle (step 51), and the processed flag is set to the upper rectangle (step 52). Then, the process of searching again for the adjacent rectangles on the upper and upper right corners of the basic rectangle is performed. If there is no rectangle adjacent to the upper right corner of the basic rectangle, the upper right coordinates of the basic rectangle are extracted from the coordinate value data storage unit (step 56). Then, this process is moved to a process of searching for a rectangle adjacent to the left and upper left of the basic rectangle.

【0044】以上の4タイプの検索処理(ステップ2
7,34,43,50)を、抽出したレイアウトパター
ンの座標が最初に抽出したレイアウトパターンの座標と
一致するまで行う。そして、座標が一致すれば処理を終
了する。
The above four types of retrieval processing (step 2)
7, 34, 43, 50) until the coordinates of the extracted layout pattern match the coordinates of the initially extracted layout pattern. Then, if the coordinates match, the process ends.

【0045】図12は、レイアウトパターン発生装置の
中抜きデータ検索処理の動作を示すフローチャートであ
る。図12に従って説明する。最初に、グループ化した
真理値データを読み込み(ステップ57)。この時、読
み込まれた真理値データの外枠にはすべて処理済みフラ
グが設定されている。ここで真理値データが終わりか否
かを検索し(ステップ58)、真理値データの終わりな
らば処理を終了する。
FIG. 12 is a flow chart showing the operation of the hollowed-out data search processing of the layout pattern generator. It will be described with reference to FIG. First, the grouped truth value data is read (step 57). At this time, the processed flags are all set in the outer frame of the read truth value data. Here, it is searched whether or not the truth value data has ended (step 58), and if the truth value data has ended, the processing ends.

【0046】同一X線分内の処理済みフラグ間に矩形を
発生しないデータ(真理値データ=「0」)があるか検
索する(ステップ59)。同一X線分内の処理済みフラ
グ間に矩形を発生しないデータがある場合、中抜きデー
タがあることを示す中抜きフラグを設定(中抜きフラグ
=「1」)する(ステップ60)。
It is searched whether there is data (truth value data = "0") that does not generate a rectangle between the processed flags in the same X-ray segment (step 59). When there is data that does not generate a rectangle between the processed flags in the same X-ray segment, a hollow flag indicating that there is hollow data is set (blank flag = "1") (step 60).

【0047】図13,14は、レイアウトパターン発生
装置の中抜きデータ作成処理の動作を示すフローチャー
トである。図13,14に従って説明する。最初に、中
抜きデータ作成の基準となる矩形(真理値データ=
「0」)の左下の矩形の右上の座標値データを座標値デ
ータ記憶部6から抽出する(ステップ61)。この座標
値データが中抜きレイアウトパターンデータの始点の座
標となる。基本となる矩形に処理済みフラグ設定(真理
値データ=「0」を「2」に変更)する(ステップ6
2)。
FIGS. 13 and 14 are flow charts showing the operation of the inside data creation processing of the layout pattern generator. This will be described with reference to FIGS. First, the rectangle (truth value data =
The coordinate value data on the upper right of the lower left rectangle of "0") is extracted from the coordinate value data storage unit 6 (step 61). This coordinate value data becomes the coordinates of the starting point of the hollow layout pattern data. The processed flag is set in the basic rectangle (truth value data = "0" is changed to "2") (step 6)
2).

【0048】基本矩形の上,左上に隣接する座標値を発
生しない矩形(真理値データ=「0」)があるかどうか
を検索する(ステップ63)。基本矩形の上,左上、ま
たは、左上のみ隣接する矩形が無い場合、基本矩形の左
側の矩形の右上の座標を座標値データ記憶部6から抽出
し(ステップ66)、基本矩形を左上の矩形に移動する
(ステップ67)。この時、基本矩形の上,左上に隣接
する矩形が無い場合、基本矩形の上,左上に処理済みフ
ラグを設定し、基本矩形の左上のみ隣接する矩形が無い
場合、基本矩形の左上に処理済みフラグを設定する(ス
テップ68)。そして、基本矩形の左,左下に隣接する
矩形があるかどうかを検索する処理に本処理を移動す
る。基本矩形の上側のみに隣接する矩形が無い場合、基
本矩形を上側の矩形に移動し(ステップ64)、上側の
矩形に処理済みフラグを設定する(ステップ65)。そ
して、もう一度基本矩形の上,左上に隣接する矩形があ
るかどうかを検索する処理を行う。基本矩形の上,左上
に隣接する矩形がある場合、基本矩形の左上の矩形の右
下の座標を座標値データ記憶部6から抽出する(ステッ
プ69)。基本矩形の右,右上に隣接する矩形があるか
どうかを検索する処理に本処理を移動する。
It is searched whether or not there is a rectangle (truth value data = "0") which does not generate the adjacent coordinate values on the upper left and the upper left of the basic rectangle (step 63). If there is no rectangle that is adjacent to the top, top left, or top left of the basic rectangle, the upper right coordinates of the left rectangle of the basic rectangle are extracted from the coordinate value data storage unit 6 (step 66), and the basic rectangle is made the upper left rectangle. Move (step 67). At this time, if there is no adjacent rectangle on the upper and upper left corners of the basic rectangle, the processed flag is set on the upper and upper left corners of the basic rectangle. If there is no adjacent rectangle on the upper left corner of the basic rectangle, the processed upper left corner is processed. A flag is set (step 68). Then, this process is moved to a process of searching for a rectangle adjacent to the left and bottom left of the basic rectangle. If there is no adjacent rectangle only above the basic rectangle, the basic rectangle is moved to the upper rectangle (step 64), and the processed flag is set in the upper rectangle (step 65). Then, the process of searching again whether there is a rectangle adjacent to the upper and upper left corners of the basic rectangle is performed. If there is a rectangle adjacent to the upper and upper left corners of the basic rectangle, the lower right coordinates of the upper left rectangle of the basic rectangle are extracted from the coordinate value data storage unit 6 (step 69). This process moves to the process of searching whether there are adjacent rectangles on the right and upper right of the basic rectangle.

【0049】基本矩形の左,左下に隣接する座標値を発
生しない矩形があるかどうかを検索する(ステップ7
0)。基本矩形の左,左下、または、左下のみ隣接する
矩形が無い場合、基本矩形の下側の矩形の左上の座標を
座標値データ記憶部6から抽出し(ステップ73)、基
本矩形を左下の矩形に移動する(ステップ74)。この
時、基本矩形の左,左下に隣接する矩形が無い場合、基
本矩形の左,左下に処理済みフラグを設定し、基本矩形
の左下のみ隣接する矩形が無い場合、基本矩形の左下に
処理済みフラグを設定する(ステップ75)。そして、
基本矩形の下,左下に隣接する矩形があるかどうかを検
索する処理に本処理を移動する。基本矩形の左側のみに
隣接する矩形が無い場合、基本矩形を左側の矩形に移動
し(ステップ71)、左側の矩形に処理済みフラグを設
定する(ステップ72)。そして、もう一度基本矩形の
左,左下に隣接する矩形があるかどうかを検索する処理
を行う。基本矩形の左,左下に隣接する矩形がある場
合、基本矩形の左下の矩形の右上の座標を座標値データ
記憶部6から抽出する(ステップ76)。この時、抽出
した座標が始点の座標と同じかどうかを検索する(ステ
ップ77)。抽出した座標と始点の座標が同じ場合、グ
ループ化した真理値データ内の処理済みフラグを設定し
た真理値データに隣接する全ての真理値データ=「0」
に処理済みフラグを設定し(ステップ78)、処理を終
了する。抽出した座標と始点の座標が違う場合、基本矩
形の上,左上に隣接する矩形があるかどうかを検索する
処理に本処理を移動する。
It is searched whether or not there is a rectangle adjacent to the left and bottom left of the basic rectangle that does not generate coordinate values (step 7).
0). When there is no rectangle adjacent to the left, the lower left, or the lower left of the basic rectangle, the upper left coordinates of the lower rectangle of the basic rectangle are extracted from the coordinate value data storage unit 6 (step 73), and the basic rectangle is the lower left rectangle. (Step 74). At this time, if there is no rectangle adjacent to the left and bottom left of the basic rectangle, the processed flag is set to the left and bottom left of the basic rectangle, and if there is no rectangle adjacent to the bottom left of the basic rectangle, it is processed to the bottom left of the basic rectangle. A flag is set (step 75). And
This process moves to the process of searching for an adjacent rectangle below and below the basic rectangle. If there is no rectangle adjacent to the left side of the basic rectangle, the basic rectangle is moved to the left side rectangle (step 71), and the processed flag is set to the left side rectangle (step 72). Then, the process of searching again whether there is a rectangle adjacent to the left and bottom left of the basic rectangle is performed. If there are adjacent rectangles on the left and bottom left of the basic rectangle, the coordinates of the upper right of the lower left rectangle of the basic rectangle are extracted from the coordinate value data storage unit 6 (step 76). At this time, it is searched whether the extracted coordinates are the same as the coordinates of the starting point (step 77). When the extracted coordinates and the coordinates of the start point are the same, all the truth value data adjacent to the truth value data in which the processed flag is set in the grouped truth value data = “0”
The processed flag is set to (step 78), and the process ends. If the extracted coordinates are different from the coordinates of the start point, this process is moved to a process of searching for a rectangle adjacent to the upper and upper left corners of the basic rectangle.

【0050】基本矩形の下,右下に隣接する座標値を発
生しない矩形があるかどうかを検索する(ステップ7
9)。基本矩形の下,右下、または、右下のみ隣接する
矩形が無い場合、基本矩形の右側の矩形の左下の座標を
座標値データ記憶部6から抽出し(ステップ82)、基
本矩形を右下の矩形に移動する(ステップ83)。この
時、基本矩形の下,右上に隣接する矩形が無い場合、基
本矩形の下,右下に処理済みフラグを設定し、基本矩形
の右下のみ隣接する矩形が無い場合、基本矩形の右下に
処理済みフラグを設定する(ステップ84)。そして、
基本矩形の右,右上に隣接する矩形があるかどうかを検
索する処理に本処理を移動する。基本矩形の下側のみに
隣接する矩形が無い場合、基本矩形を下側の矩形に移動
し(ステップ80)、上側の矩形に処理済みフラグを設
定する(ステップ81)。そして、もう一度基本矩形の
下,右下に隣接する矩形があるかどうかを検索する処理
を行う。基本矩形の下,右下に隣接する矩形がある場
合、基本矩形の右下の矩形の左上の座標を座標値データ
記憶部6から抽出する(ステップ85)。そして、基本
矩形の左,左下に隣接する矩形があるかどうかを検索す
る処理に本処理を移動する。
It is searched whether or not there is a rectangle which does not generate adjacent coordinate values below and below the basic rectangle (step 7).
9). If there is no rectangle adjacent to the bottom, bottom right, or bottom right of the basic rectangle, the coordinates of the lower left of the right rectangle of the basic rectangle are extracted from the coordinate value data storage unit 6 (step 82), and the basic rectangle is moved to the lower right. To the rectangle (step 83). At this time, if there is no rectangle adjacent to the lower or upper right of the basic rectangle, the processed flag is set to the lower or lower right of the basic rectangle. If there is no adjacent rectangle to the lower right of the basic rectangle, the lower right of the basic rectangle The processed flag is set to (step 84). And
This process moves to the process of searching whether there are adjacent rectangles on the right and upper right of the basic rectangle. If there is no adjacent rectangle only under the basic rectangle, the basic rectangle is moved to the lower rectangle (step 80), and the processed flag is set in the upper rectangle (step 81). Then, the process of searching again whether there is an adjacent rectangle under the basic rectangle or under the right rectangle is performed. If there are adjacent rectangles below and below the basic rectangle, the upper left coordinates of the lower right rectangle of the basic rectangle are extracted from the coordinate value data storage unit 6 (step 85). Then, this process is moved to a process of searching for a rectangle adjacent to the left and bottom left of the basic rectangle.

【0051】基本矩形の右,右上に隣接する座標値を発
生しない矩形があるかどうかを検索する(ステップ8
6)。基本矩形の右,右上、または、右上のみ隣接する
矩形が無い場合、基本矩形の上側の矩形の右下の座標を
座標値データ記憶部6から抽出し(ステップ89)、基
本矩形を右上の矩形に移動する(ステップ90)。この
時、基本矩形の右,右上に隣接する矩形が無い場合、基
本矩形の右,右上に処理済みフラグを設定し、基本矩形
の右上のみ隣接する矩形が無い場合、基本矩形の右上に
処理済みフラグを設定する(ステップ91)。そして、
基本矩形の上,左上に隣接する矩形があるかどうかを検
索する処理に本処理を移動する。基本矩形の右側のみに
隣接する矩形が無い場合、基本矩形を右側の矩形に移動
し(ステップ87)、右側の矩形に処理済みフラグを設
定する(ステップ88)。そして、もう一度基本矩形の
右,右上に隣接する矩形があるかどうかを検索する処理
を行う。基本矩形の右,右上に隣接する矩形がある場
合、基本矩形の右上の矩形の左下の座標を座標値データ
記憶部6から抽出する(ステップ92)。そして、基本
矩形の下,右下に隣接する矩形があるかどうかを検索す
る処理に本処理を移動する。
It is searched whether or not there are rectangles adjacent to the right and upper right of the basic rectangle that do not generate coordinate values (step 8).
6). If there is no rectangle adjacent to the right, upper right, or only the upper right of the basic rectangle, the coordinates of the lower right of the upper rectangle of the basic rectangle are extracted from the coordinate value data storage unit 6 (step 89), and the basic rectangle is the upper right rectangle. (Step 90). At this time, if there is no adjacent rectangle to the right and upper right of the basic rectangle, the processed flag is set to the right and upper right of the basic rectangle, and if there is no adjacent rectangle to the upper right of the basic rectangle, it is processed to the upper right of the basic rectangle. A flag is set (step 91). And
This process moves to the process of searching whether there is an adjacent rectangle on the upper left of the basic rectangle. If there is no rectangle adjacent to the right side of the basic rectangle, the basic rectangle is moved to the right side rectangle (step 87), and the processed flag is set in the right side rectangle (step 88). Then, the processing for searching again whether there are adjacent rectangles on the right and upper right of the basic rectangle is performed. If there are adjacent rectangles on the right and upper right of the basic rectangle, the lower left coordinates of the upper right rectangle of the basic rectangle are extracted from the coordinate value data storage unit 6 (step 92). Then, this process is moved to a process of searching whether or not there is an adjacent rectangle below and below the basic rectangle.

【0052】以上の4タイプの検索処理(ステップ6
3,70,79,86)を、抽出したレイアウトパター
ンの座標が最初に抽出したレイアウトパターンの座標と
一致するまで行う。そして、座標が一致すれば処理を終
了する。
The above four types of retrieval processing (step 6)
3, 70, 79, 86) until the coordinates of the extracted layout pattern match the coordinates of the layout pattern extracted first. Then, if the coordinates match, the process ends.

【0053】図15は、レイアウトパターン発生装置の
外枠データと中抜きデータの合成処理の動作を示すフロ
ーチャートである。図15に従って説明する。最初に、
中抜きレイアウトパターンデータ作成の始点の座標を読
み込む(ステップ93)。外枠レイアウトパターンデー
タの座標値を読み込み、中抜きレイアウトパターンデー
タの始点座標が外枠レイアウトパターンデータのどの位
置にくるかを検索する(ステップ94)。外枠データと
中抜きデータの位置が見つかれば、外枠データと中抜き
データを合成して補正処理済みレイアウトパターンデー
タを作成する(ステップ95)。
FIG. 15 is a flow chart showing the operation of a process of synthesizing outer frame data and hollow data in the layout pattern generator. It will be described with reference to FIG. At first,
The coordinates of the starting point for creating the blank layout pattern data are read (step 93). The coordinate values of the outer frame layout pattern data are read and the position of the starting point coordinate of the hollow frame layout pattern data is searched for (step 94). If the positions of the outer frame data and the hollow data are found, the outer frame data and the hollow data are combined to create the corrected layout pattern data (step 95).

【0054】図16は、ROMレイアウトパターンデー
タ作成フローの処理済みデータの削除処理の動作を示す
フローチャートである。図16に従って説明する。最初
に、レイアウトパターンデータを作成後のグループ化済
み真理値データを読み込む(ステップ96)。ここで、
真理値データが終わりか否かを判定し(ステップ9
7)、終わりならば処理を終了する。読み込んだ処理済
み真理値データが処理済み真理値データ(真理値データ
=「2」)か否かを判定し(ステップ98)、処理済み
真理値データならば真理値データをクリア(真理値デー
タ=「0」)する(ステップ99)。
FIG. 16 is a flow chart showing the operation of the deletion processing of the processed data in the ROM layout pattern data creation flow. This will be described with reference to FIG. First, the grouped truth value data after creating the layout pattern data is read (step 96). here,
It is determined whether the truth value data is over (step 9
7) If it is finished, the process is ended. It is determined whether the read processed truth value data is the processed truth value data (truth value data = “2”) (step 98). If the processed truth value data is the processed truth value data, the truth value data is cleared (truth value data = "0") (step 99).

【0055】実施例3.なお、上記実施例では、レイア
ウトパターンの補正処理を縦方向と横方向のどちらも行
う場合について説明したが、縦方向、または、横方向の
どちらか一方のみレイアウトパターンの補正処理を行っ
てもよく、この場合も上記実施例と同様の効果を奏す
る。以下、この発明の実施例3を図について説明する。
図17は、縦方向、または、横方向のどちらか一方のみ
レイアウトパターンの補正処理を行う請求項3の発明の
一実施例に係るレイアウトパターン発生装置の動作を示
すフローチャートである。図17に従って説明する。最
初に、レイアウトパターンデータ作成の前処理としてマ
スク上に作画すべきレイアウトパターンの座標値を算出
し、座標値データ記憶部に格納する(ステップ10
0)。この処理は、実施例2と同じである。
Embodiment 3 FIG. In the above embodiment, the case where the layout pattern correction process is performed in both the vertical direction and the horizontal direction has been described, but the layout pattern correction process may be performed in only one of the vertical direction and the horizontal direction. Also in this case, the same effect as that of the above-described embodiment is obtained. Hereinafter, a third embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 17 is a flowchart showing the operation of the layout pattern generating apparatus according to the third embodiment of the present invention, in which the layout pattern correction processing is performed in either the vertical direction or the horizontal direction. It will be described with reference to FIG. First, as preprocessing for creating layout pattern data, the coordinate values of the layout pattern to be drawn on the mask are calculated and stored in the coordinate value data storage unit (step 10).
0). This process is the same as in the second embodiment.

【0056】次に真理値データの読み込みを行う(ステ
ップ101)。この処理は、実施例2と同じである。こ
こで、真理値データの終わりならば処理を終了する(ス
テップ102)。読み込んだ真理値データが、矩形を発
生するデータか否かを判定する(ステップ103)。こ
の処理は、実施例2と同じである。
Next, the truth value data is read (step 101). This process is the same as in the second embodiment. If the truth value data has ended, the process ends (step 102). It is determined whether the read truth value data is data that generates a rectangle (step 103). This process is the same as in the second embodiment.

【0057】縦方向、または、横方向に隣接する真理値
データ=「1」をグループ化しながら、グループ化した
真理値データごとにマスク上に作画すべきレイアウトパ
ターンデータを作成する(ステップ104)。レイアウ
トパターンデータ作成処理済みの真理値データを削除
(真理値データ=「2」を真理値データ=「0」に変
更)する(ステップ105)。
The layout pattern data to be drawn on the mask is created for each grouped truth value data while grouping the truth value data = “1” adjacent in the vertical direction or the horizontal direction (step 104). The truth value data after the layout pattern data creation processing is deleted (the truth value data = “2” is changed to the truth value data = “0”) (step 105).

【0058】以上の処理を、真理値データの終わりまで
繰り返し行う。そして、真理値データが終了すれば処理
を終了する。
The above processing is repeated until the end of the truth value data. Then, when the truth value data ends, the processing ends.

【0059】図18は、横方向のみレイアウトパターン
の補正処理を行うレイアウトパターンデータ作成処理の
動作を示すフローチャートである。図18に従って説明
する。最初に、基準となる矩形の左下の座標を座標値デ
ータ記憶部から抽出する(ステップ106)。基本矩形
の位置を記憶する(ステップ107)。この位置が始点
の位置となる。基本となる矩形に処理済みフラグを設定
する(ステップ108)。基本矩形の右側に隣接する矩
形があるかどうかを検索する(ステップ109)。隣接
する矩形がある場合、基本矩形を右側に移動し(ステッ
プ110)、右側の矩形に処理済みフラグを設定する
(ステップ111)。そして、もう一度基本矩形の右側
に隣接する矩形があるかどうかを検索する処理を行う。
基本矩形の右側に隣接する矩形が無い場合、基本矩形の
右下の座標を座標値データ記憶部6から抽出する(ステ
ップ112)。基本矩形の右上の座標を座標値データ記
憶部6から抽出する(ステップ113)。基本矩形を始
点の位置まで移動し(ステップ114)、基本矩形の左
上の座標を座標値データ記憶部6から抽出し(ステップ
115)、処理を終了する。
FIG. 18 is a flow chart showing the operation of layout pattern data creation processing for performing layout pattern correction processing only in the horizontal direction. It will be described with reference to FIG. First, the lower left coordinate of the reference rectangle is extracted from the coordinate value data storage unit (step 106). The position of the basic rectangle is stored (step 107). This position is the position of the starting point. The processed flag is set in the basic rectangle (step 108). It is searched whether there is a rectangle adjacent to the right side of the basic rectangle (step 109). If there is an adjacent rectangle, the basic rectangle is moved to the right (step 110), and the processed flag is set in the right rectangle (step 111). Then, the process of searching again for a rectangle adjacent to the right side of the basic rectangle is performed.
If there is no rectangle adjacent to the right side of the basic rectangle, the lower right coordinates of the basic rectangle are extracted from the coordinate value data storage unit 6 (step 112). The upper right coordinates of the basic rectangle are extracted from the coordinate value data storage unit 6 (step 113). The basic rectangle is moved to the position of the starting point (step 114), the upper left coordinate of the basic rectangle is extracted from the coordinate value data storage unit 6 (step 115), and the process is ended.

【0060】図19は、縦方向のみレイアウトパターン
の補正処理を行うレイアウトパターンデータ作成処理の
動作を示すフローチャートである。図19に従って説明
する。最初に、基準となる矩形の左下の座標を座標値デ
ータ記憶部6から抽出する(ステップ116)。基準と
なる矩形の右下の座標を座標値データ記憶部6から抽出
する(ステップ117)。基本となる矩形に処理済みフ
ラグを設定する(ステップ118)。基本矩形の上側に
隣接する矩形があるかどうかを検索する(ステップ11
9)。隣接する矩形がある場合、基本矩形を上側に移動
し(ステップ122)、右側の矩形に処理済みフラグを
設定する(ステップ123)。そして、もう一度基本矩
形の右上に隣接する矩形があるかどうかを検索する処理
を行う。基本矩形の上側に隣接する矩形が無い場合、基
本矩形の右上の座標を座標値データ記憶部6から抽出す
る(ステップ120)。基本矩形の左上の座標を座標値
データ記憶部6から抽出し(ステップ121)、処理を
終了する。
FIG. 19 is a flow chart showing the operation of layout pattern data creation processing for performing layout pattern correction processing only in the vertical direction. It will be described with reference to FIG. First, the lower left coordinate of the reference rectangle is extracted from the coordinate value data storage unit 6 (step 116). The lower right coordinates of the reference rectangle are extracted from the coordinate value data storage unit 6 (step 117). A processed flag is set in the basic rectangle (step 118). It is searched whether there is a rectangle adjacent to the upper side of the basic rectangle (step 11).
9). If there is an adjacent rectangle, the basic rectangle is moved upward (step 122), and the processed flag is set in the right rectangle (step 123). Then, the process of searching again for a rectangle adjacent to the upper right corner of the basic rectangle is performed. If there is no rectangle adjacent to the upper side of the basic rectangle, the upper right coordinates of the basic rectangle are extracted from the coordinate value data storage unit 6 (step 120). The upper left coordinate of the basic rectangle is extracted from the coordinate value data storage unit 6 (step 121), and the process ends.

【0061】[0061]

【発明の効果】以上のように請求項1〜4の発明によれ
ば、同じ値の真理値データを隣接するもの同志をグルー
プ化するとともに、グループ化した真理値データ毎に座
標データを算出し、レイアウトパターンを作成するよう
に構成したので、マスクROM用のレイアウトパターン
が多角形として得ることができる。これによりレイアウ
トパターンのデータ量が削減でき、したがってこの処理
に使用するディスク容量が少なくて済み、また、処理時
間が短縮できるという効果が得られる。
As described above, according to the inventions of claims 1 to 4, the truth value data of the same value are grouped with each other, and the coordinate data is calculated for each grouped truth value data. Since the layout pattern is created, the layout pattern for the mask ROM can be obtained as a polygon. As a result, the data amount of the layout pattern can be reduced, so that the disk capacity used for this processing can be reduced and the processing time can be shortened.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】請求項1の発明の一実施例に係るレイアウトパ
ターン発生装置の機能ブロック図である。
FIG. 1 is a functional block diagram of a layout pattern generation device according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1の実施例のレイアウトパターン発生装置に
よるグループ化済の真理値データの例を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing an example of grouped truth value data by the layout pattern generator of the embodiment of FIG.

【図3】図1の本実施例のレイアウトパターン発生装置
による補正済レイアウトパターンの例を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing an example of a corrected layout pattern by the layout pattern generator of the present embodiment of FIG.

【図4】図1の実施例のレイアウトパターン発生装置の
動作を示すフローチャートである。
FIG. 4 is a flowchart showing the operation of the layout pattern generation device of the embodiment of FIG.

【図5】真理値データを検索する処理を説明するための
図である。
FIG. 5 is a diagram for explaining a process of searching for truth value data.

【図6】請求項2,4の発明の一実施例に係るレイアウ
トパターン発生装置の機能ブロック図である。
FIG. 6 is a functional block diagram of a layout pattern generation device according to an embodiment of the present invention.

【図7】図6の実施例のレイアウトパターン発生装置に
よるグループ化済の真理値データの例を示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing an example of truth value data that has already been grouped by the layout pattern generation device of the embodiment shown in FIG. 6;

【図8】図6の実施例のレイアウトパターン発生装置に
よる補正済レイアウトパターンの例を示す図である。
FIG. 8 is a diagram showing an example of a corrected layout pattern by the layout pattern generator of the embodiment of FIG.

【図9】図6の実施例のレイアウトパターン発生装置の
動作を示すフローチャートである。
9 is a flowchart showing the operation of the layout pattern generation device of the embodiment of FIG.

【図10】図6の実施例のレイアウトパターン発生装置
による外枠データ作成処理の動作を示すフローチャート
である。
10 is a flowchart showing the operation of outer frame data creation processing by the layout pattern generation device of the embodiment of FIG.

【図11】図10の続きを示すフローチャートである。11 is a flowchart showing a continuation of FIG.

【図12】図6の実施例のレイアウトパターン発生装置
による中抜きデータ検索処理の動作を示すフローチャー
トである。
FIG. 12 is a flowchart showing an operation of a hollowed-out data search process by the layout pattern generation device of the embodiment of FIG. 6;

【図13】図6の実施例のレイアウトパターン発生装置
による中抜きデータ作成処理の動作を示すフローチャー
トである。
FIG. 13 is a flowchart showing an operation of a hollowed-out data creating process by the layout pattern generating device of the embodiment of FIG.

【図14】図13の続きを示すフローチャートである。FIG. 14 is a flowchart showing a continuation of FIG.

【図15】図6の実施例のレイアウトパターン発生装置
による外枠データと中抜きデータの合成処理の動作を示
すフローチャートである。
15 is a flowchart showing an operation of a process of synthesizing outer frame data and hollowed-out data by the layout pattern generation device of the embodiment of FIG.

【図16】図6の実施例のレイアウトパターン発生装置
による処理済みデータの削除処理の動作を示すフローチ
ャートである。
16 is a flowchart showing the operation of processing for deleting processed data by the layout pattern generation device of the embodiment of FIG.

【図17】縦方向、または、横方向のどちらか一方のみ
レイアウトパターンの補正処理を行う請求項3の発明の
一実施例に係るレイアウトパターン発生装置の動作を示
すフローチャートである。
FIG. 17 is a flowchart showing the operation of the layout pattern generation device according to the embodiment of the invention of claim 3, wherein the layout pattern correction processing is performed only in either the vertical direction or the horizontal direction.

【図18】上記横方向のみレイアウトパターンの補正処
理を行うレイアウトパターン補正処理の動作を示すフロ
ーチャートである。
FIG. 18 is a flowchart showing an operation of layout pattern correction processing for performing layout pattern correction processing only in the horizontal direction.

【図19】上記縦方向のみレイアウトパターンの補正処
理を行うレイアウトパターン補正処理の動作を示すフロ
ーチャートである。
FIG. 19 is a flowchart showing an operation of layout pattern correction processing for performing layout pattern correction processing only in the vertical direction.

【図20】従来のレイアウトパターン発生装置の入出力
関連を示す図である。
FIG. 20 is a diagram showing an input / output relation of a conventional layout pattern generator.

【図21】従来のレイアウトパターン発生装置の機能ブ
ロック図である。
FIG. 21 is a functional block diagram of a conventional layout pattern generator.

【図22】レイアウトパターン発生装置の入力となる真
理値データの例を示す図である。
FIG. 22 is a diagram showing an example of truth value data which is input to the layout pattern generator.

【図23】従来のレイアウトパターン発生装置によるレ
イアウトパターンの例を示す図である。
FIG. 23 is a diagram showing an example of a layout pattern by a conventional layout pattern generator.

【図24】従来のレイアウトパターン発生装置による補
正済レイアウトパターンの例を示す図である。
FIG. 24 is a diagram showing an example of a corrected layout pattern by a conventional layout pattern generator.

【図25】従来のレイアウトパターン発生装置の動作を
示すフローチャートである。
FIG. 25 is a flowchart showing the operation of a conventional layout pattern generation device.

【図26】従来のレイアウトパターン発生装置の機能ブ
ロック図である。
FIG. 26 is a functional block diagram of a conventional layout pattern generator.

【図27】レイアウトパターン発生装置の入力となる真
理値データの例を示す図である。
FIG. 27 is a diagram showing an example of truth value data which is input to the layout pattern generator.

【図28】従来のレイアウトパターン発生装置により処
理を行った後のレイアウトパターンの例を示す図であ
る。
FIG. 28 is a diagram showing an example of a layout pattern after being processed by a conventional layout pattern generating device.

【図29】従来のレイアウトパターン発生装置の動作を
示すフローチャートである。
FIG. 29 is a flowchart showing the operation of a conventional layout pattern generation device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2,202 真理値データ読み込み手段 3,203 真理値データグループ化手段 5,204 座標値データ算出手段 7 レイアウトパターン作成手段 8 外枠座標値データ抽出手段 9 中抜きデータ検出手段 10 中抜き座標値データ抽出手段 2,202 truth value data reading means 3,203 truth value grouping means 5,204 coordinate value data calculating means 7 layout pattern creating means 8 outer frame coordinate value data extracting means 9 hollow data detecting means 10 hollow coordinate value data Extraction means

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 マスクROM内蔵の大規模集積回路へR
OMデータを書き込むために用いられるレイアウトパタ
ーンを発生するレイアウトパターン発生装置において、
レイアウトパターン上のメモリセルアレイに対応するよ
うにROMデータを並び換えた論理「1」又は「0」の
真理値データを読み込む真理値データ読み込み手段と、
同じ値の真理値データを隣接するもの同志でグループ化
する真理値データグループ化手段と、上記グループ化し
た真理値データ毎にレイアウトパターン上の座標値デー
タを算出してレイアウトパターンを作成する座標値デー
タ算出手段とを備えたことを特徴とするレイアウトパタ
ーン発生装置。
1. A large-scale integrated circuit having a mask ROM built-in
In a layout pattern generating device for generating a layout pattern used for writing OM data,
Truth value data reading means for reading truth value data of logic "1" or "0" in which ROM data is rearranged so as to correspond to the memory cell array on the layout pattern;
Truth value data grouping means for grouping truth value data of the same value by adjacent ones, and coordinate value for creating layout pattern by calculating coordinate value data on the layout pattern for each of the grouped truth value data A layout pattern generation device comprising: a data calculation means.
【請求項2】 マスクROM内蔵の大規模集積回路へR
OMデータを書き込むために用いられるレイアウトパタ
ーンを発生するレイアウトパターン発生装置において、
レイアウトパターン上のメモリセルアレイに対応するよ
うにROMデータを並び換えた論理「1」の真理値デー
タの読み込みを行なう真理値データ読み込み手段と、上
記論理「1」の真理値データの上側方向又は下側方向又
は左側方向又は右側方向に論理「1」のデータが存在す
るか否かを順次判別して行き、論理「1」のデータが存
在すれば、これを同一グループとみなしてグループ化す
る真理値データグループ化手段と、マスク上に作画すべ
きレイアウトパターンの座標値を算出する座標値データ
算出手段と、グループ化された論理「1」の真理値デー
タの全体の外周を決定する外枠座標値データ抽出手段を
含むレイアウトパターン作成手段とを備えたことを特徴
とするレイアウトパターン発生装置。
2. R for a large-scale integrated circuit with a built-in mask ROM
In a layout pattern generating device for generating a layout pattern used for writing OM data,
Truth value data reading means for reading the truth value data of the logic "1" in which ROM data is rearranged so as to correspond to the memory cell array on the layout pattern, and the above or below the truth value data of the logic "1". It is determined whether data of logical "1" exists in the lateral direction, leftward direction, or rightward direction, and if logical "1" data exists, it is regarded as the same group and the truth of grouping. Value data grouping means, coordinate value data calculating means for calculating the coordinate values of the layout pattern to be drawn on the mask, and outer frame coordinates for determining the entire outer circumference of the grouped truth data of logic "1". A layout pattern generating device comprising: a layout pattern creating means including a value data extracting means.
【請求項3】 マスクROM内蔵の大規模集積回路へR
OMデータを書き込むために用いられるレイアウトパタ
ーンを発生するレイアウトパターン発生装置において、
レイアウトパターン上のメモリセルアレイに対応するよ
うにROMデータを並び換えた論理「1」の真理値デー
タの読み込みを行なう真理値データ読み込み手段と、上
記論理「1」の真理値データの上側方向又は下側方向又
は左側方向又は右側方向に論理「1」のデータが存在す
るか否かを順次判別して行き、論理「1」のデータが存
在すれば、これを同一グループとみなしてグループ化す
る真理値データグループ化手段と、マスク上に作画すべ
きレイアウトパターンの座標値を算出する座標値データ
算出手段と、グループ化された論理「1」の真理値デー
タの全体の外周を決定する外枠座標値データ抽出手段を
含むレイアウトパターン作成手段とを備え、レイアウト
パターンの補正処理においてはデータのグループ化を縦
方向又は横方向のみにしたことを特徴とするレイアウト
パターン発生装置。
3. A large-scale integrated circuit having a mask ROM built-in R
In a layout pattern generating device for generating a layout pattern used for writing OM data,
Truth data reading means for reading the truth data of logic "1" in which ROM data is rearranged so as to correspond to the memory cell array on the layout pattern, and the above or below the truth data of logic "1". Whether or not data of logical "1" is present in the lateral direction, leftward direction, or rightward direction is sequentially determined, and if logical "1" data is present, it is regarded as the same group and is grouped into a truth. Value data grouping means, coordinate value data calculating means for calculating the coordinate values of the layout pattern to be drawn on the mask, and outer frame coordinates for determining the entire outer circumference of the grouped truth data of logic "1". A layout pattern creating unit including a value data extracting unit is provided, and in the layout pattern correction process, data grouping is performed in the vertical direction or the horizontal direction. Layout pattern generating apparatus being characterized in that the.
【請求項4】 マスクROM内蔵の大規模集積回路へR
OMデータを書き込むために用いられるレイアウトパタ
ーンを発生するレイアウトパターン発生装置において、
レイアウトパターン上のメモリセルアレイに対応するよ
うにROMデータを並び換えた論理「1」の真理値デー
タの読み込みを行なう真理値データ読み込み手段と、上
記論理「1」の真理値データの上側方向又は下側方向又
は左側方向又は右側方向に論理「1」のデータが存在す
るか否かを順次判別して行き、論理「1」のデータが存
在すれば、これを同一グループとみなしてグループ化す
る真理値データグループ化手段と、マスク上に作画すべ
きレイアウトパターンの座標値を算出する座標値データ
算出手段と、グループ化された論理「1」の真理値デー
タの全体の外周を決定する外枠座標値データ抽出手段を
含むレイアウトパターン作成手段とを備え、上記真理値
データグループ化手段によりグループ化された論理
「1」の真理値データの全体の中に論理「0」のデータ
が存在するか否かを判別する中抜きデータ検索手段を上
記レイアウトパターン作成手段に備え、この中抜きデー
タ検索手段で論理「0」のデータが存在すると判別され
たときに上記真理値データグループ化手段により論理
「0」の真理値データの上側方向又は下側方向又は左側
方向又は右側方向に論理「0」のデータが存在するか否
かを順次判別して行き、論理「0」のデータが存在すれ
ば、これを同一グループとみなしてグループ化するよう
にし、このグループ化された論理「0」の真理値データ
の全体の外周を決定する中抜き座標値データ抽出手段を
上記レイアウトパターン作成手段に備えたことを特徴と
するレイアウトパターン発生装置。
4. A large-scale integrated circuit having a mask ROM built-in R
In a layout pattern generating device for generating a layout pattern used for writing OM data,
Truth value data reading means for reading the truth value data of the logic "1" in which ROM data is rearranged so as to correspond to the memory cell array on the layout pattern, and the above or below the truth value data of the logic "1". It is determined whether data of logical "1" exists in the lateral direction, leftward direction, or rightward direction, and if logical "1" data exists, it is regarded as the same group and the truth of grouping. Value data grouping means, coordinate value data calculating means for calculating the coordinate values of the layout pattern to be drawn on the mask, and outer frame coordinates for determining the entire outer circumference of the grouped truth data of logic "1". A truth pattern data of logic "1" grouped by the truth value data grouping means, the layout pattern creating means including the value data extracting means. The layout pattern creating means is provided with a hollow data searching means for judging whether or not data of logical "0" exists in the whole, and it is judged by this hollow data searching means that data of logical "0" exists. Then, the truth value data grouping means sequentially determines whether or not the logic "0" data exists in the upper direction, the lower direction, the left direction, or the right direction of the logic "0" truth value data. If there is data of logic "0", it is regarded as the same group and grouped, and the outline coordinates of the whole truth value data of this grouped logic "0" are determined. A layout pattern generating device, characterized in that value data extracting means is provided in the layout pattern creating means.
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