JP2687306B2 - Substrate transfer device in vacuum system - Google Patents
Substrate transfer device in vacuum systemInfo
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、真空蒸着装置、分子線
エピタキシー装置、スパッタリング装置或はイオン注入
装置等の真空処理装置等において、薄膜を形成する基板
を搬送する真空系内基板搬送装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate transfer device in a vacuum system for transferring a substrate on which a thin film is formed in a vacuum processing device such as a vacuum vapor deposition device, a molecular beam epitaxy device, a sputtering device or an ion implantation device. .
【0002】[0002]
【従来の技術】例えば半導体装置を製造する場合、半導
体ウエハの上に薄膜を形成したりイオンを注入する等の
工程を各々真空中で行う。従来このような工程を順次行
って半導体装置を製造する場合、各真空装置を管状の搬
送管で連絡し、半導体ウエハ等の基板をこの搬送管内に
通して順次各真空装置に送り、それらの装置で必要な処
理工程を行うことが一般になされている。これは、基板
を各工程毎に真空系外に取り出すことなく真空中で搬送
しながら各工程を順次行うことにより、製造工程を簡略
化すると共に、その総体的な時間を短縮し、併せて大気
中での基板の汚れ等を防止できる利点がある。2. Description of the Related Art When manufacturing a semiconductor device, for example, steps such as forming a thin film on a semiconductor wafer and implanting ions are performed in vacuum. Conventionally, when manufacturing semiconductor devices by sequentially performing such steps, each vacuum device is connected by a tubular transfer tube, a substrate such as a semiconductor wafer is passed through the transfer tube and sequentially sent to each vacuum device, and those devices are connected. It is common practice to perform the necessary processing steps in. This is because the manufacturing process is simplified and the overall time is shortened by sequentially carrying out each process while transporting the substrate in vacuum without taking it out of the vacuum system for each process. There is an advantage that the inside of the substrate can be prevented from becoming dirty.
【0003】このような真空装置においては、搬送管の
途中に複数の真空装置を設置し、搬送管で搬送される基
板を各々の位置で各真空装置に導入し、所定の処理を行
った後、再び搬送管側に取り出し、次の真空装置へ送る
という手順がとられる。In such a vacuum device, a plurality of vacuum devices are installed in the middle of the transfer tube, and the substrate transferred by the transfer tube is introduced into each vacuum device at each position, and after performing a predetermined process. Then, the procedure of taking out again to the transfer tube side and sending to the next vacuum device is taken.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとしている課題】この場合、従来の
真空系内搬送装置では、その搬送管を通して搬送される
基板は一定の方向を向いているため、何れの真空装置も
搬送管の片側に設置しなければならない。そのため、真
空チェンバ等が占める空間が互いに干渉しないように各
真空装置を配置するため、各真空装置の間隔を広くとら
なければならない。これにより、搬送管が長くなり、装
置全体が大型となり、基板を長い距離搬送しなければな
らないという課題があった。In this case, in the conventional in-vacuum transfer apparatus, since the substrate transferred through the transfer tube faces a certain direction, any vacuum apparatus is installed on one side of the transfer tube. Must. Therefore, in order to arrange the vacuum devices so that the spaces occupied by the vacuum chambers or the like do not interfere with each other, it is necessary to widen the intervals between the vacuum devices. As a result, the transport tube becomes long, the entire apparatus becomes large, and the substrate has to be transported over a long distance.
【0005】さらに、各真空装置における処理によって
は、基板を上向きにして行う必要がある工程もあれば、
また基板を横向にして行う必要がある工程もある。この
ような工程が混在する場合、搬送管を通して基板を搬送
しながら、各工程を順次行うことはできないため、一旦
基板を真空系内から取り出し、別の基板ホルダーに取り
付けしなおしてから次の工程を行う必要がある。しかし
それでは、各工程間の時間が長くなり、また工程間の基
板の処理に多くの手数がかかるとうい課題がある。Further, depending on the processing in each vacuum apparatus, there are some steps that need to be performed with the substrate facing upward,
Further, there is also a step in which the substrate needs to be placed sideways. When such processes coexist, it is not possible to sequentially perform each process while transporting the substrate through the transport tube, so once the substrate is taken out of the vacuum system and reattached to another substrate holder, the next process is performed. Need to do. However, in that case, there is a problem that the time between each process becomes long and that it takes a lot of trouble to process the substrate between the processes.
【0006】本発明は、前記従来技術の課題に鑑み、搬
送管の中で搬送される基板ホルダーの向きを搬送管内で
変えることができるようにし、これにより、真空装置の
レイアウトの自由度を高め、さらに基板を異なる方向に
向けて処理すべき工程であっても、それらを搬送管で連
絡して順次連続して行うことが可能な真空系搬送装置を
提供することを目的とする。In view of the above problems of the prior art, the present invention makes it possible to change the orientation of the substrate holder transported in the transport tube within the transport tube, thereby increasing the degree of freedom in the layout of the vacuum device. Further, it is an object of the present invention to provide a vacuum-type transfer device capable of sequentially performing the steps by connecting them with a transfer tube even if the steps are to process the substrates in different directions.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明では、前記の目的
を達成するため、搬送管1に沿って移動するキャリア4
に、軸8を介して基板ホルダー9を取り付け、この軸8
の回転により、基板ホルダー9を回転可能とし、この軸
8を真空系の外部から回転できるようにしたものであ
る。According to the present invention, in order to achieve the above-mentioned object, a carrier 4 moving along a carrier pipe 1 is used.
The substrate holder 9 is attached to the
The rotation of the substrate holder 9 allows the shaft 8 to be rotated from the outside of the vacuum system.
【0008】より具体的には、真空状態とする管状の搬
送管1と、この搬送管1内に設けられたガイド3と、こ
のガイド3に沿ってスライド自在に取り付けられたキャ
リア4と、このキャリア4に取り付けられ、基板を取り
付ける基板ホルダー9と、前記キャリア4を前記ガイド
3に沿って移動させる移動手段とを備える真空系内基板
搬送装置において、基板ホルダー9を支持すると共に、
前記キャリア4に回転自在に支持された軸8、37、4
5と、この軸8、37、45に連結された回転操作部1
1、35、48と、この回転操作部11、35、48を
回転させる回転操作杆26、40、50とを備えること
を特徴とするものである。More specifically, a tubular carrier tube 1 to be in a vacuum state, a guide 3 provided in the carrier tube 1, a carrier 4 slidably mounted along the guide 3, and a carrier 4 In a substrate transfer apparatus in a vacuum system, which is attached to the carrier 4 and includes a substrate holder 9 for mounting a substrate and a moving means for moving the carrier 4 along the guide 3, while supporting the substrate holder 9,
Shafts 8 , 37, 4 rotatably supported by the carrier 4
5 and the rotary operation unit 1 connected to the shafts 8 , 37, 45
1 , 35, 48 and rotary operation rods 26 , 40, 50 for rotating the rotary operation parts 11 , 35, 48 .
【0009】例えば、ストッパー等を使用し、基板ホル
ダー9を90°或は180°の範囲で回転させる。基板
ホルダー9は、複雑を軸8の長手方向に並んで取り付け
てもよく、また軸37、45の回りに回転自在に1つだ
け基板ホルダー9を設けてもよい。さらに、軸8には、
そのストッパー15、17による回転の終端で保持され
るようにバネ23の弾力を付勢するとよい。For example, a stopper or the like is used to rotate the substrate holder 9 within a range of 90 ° or 180 °. The substrate holders 9 may be attached in a complex manner side by side in the longitudinal direction of the shaft 8, or only one substrate holder 9 may be provided rotatably around the shafts 37, 45 . Furthermore, the axis 8
The elastic force of the spring 23 may be biased so that it is held at the end of the rotation by the stoppers 15 and 17 .
【0010】[0010]
【作用】本発明による真空系内基板搬送装置では、基板
ホルダー9を支持すると共に、前記キャリア4に回転自
在に支持された軸8、37、45と、この軸8、37、
45に連結された回転操作部11と、前記回転操作部1
1、35、48を回転させる回転操作杆26、40、5
0とを備えることから、回転操作杆26、40、50に
より、回転操作部11、35、48を回転操作し、基板
ホルダー9を軸8、35、48の回りに回転し、搬送管
1内でその向きを変えることが可能になる。In the vacuum substrate transfer apparatus according to the present invention, the substrate is
Shafts 8 , 37, 45 , which support the holder 9 and are rotatably supported by the carrier 4, and the shafts 8 , 37, 37,
45, the rotary operation part 11 and the rotary operation part 1
Rotating operation rods 26 , 40, 5 for rotating 1 , 35 , 48
0 , the rotary operating rods 26 , 40, 50 rotate the rotary operating units 11 , 35, 48 to rotate the substrate holder 9 around the axes 8 , 35, 48 , and You can change the direction with.
【0011】例えば、ストッパー等を使用し、基板ホル
ダー9を90°の範囲で回転させると、基板ホルダー9
の向きを水平から垂直或はその逆に変えることができ
る。さらに基板ホルダー9を180°の範囲で回転させ
れば、基板ホルダー9の向きを反転させることができ
る。そして、軸8の回転を規制するストッパーを設け、
そのストッパーによる回転の終端で保持されるように軸
8にバネ23の弾力を付勢すると、基板ホルダー9を所
定の向きに安定して保持できる。For example, when the substrate holder 9 is rotated within a range of 90 ° using a stopper or the like, the substrate holder 9
The orientation of can be changed from horizontal to vertical or vice versa. Further, if the substrate holder 9 is rotated in the range of 180 °, the direction of the substrate holder 9 can be reversed. Then, a stopper for restricting the rotation of the shaft 8 is provided,
When the elastic force of the spring 23 is applied to the shaft 8 so that the substrate 8 is held at the end of the rotation by the stopper, the substrate holder 9 can be stably held in a predetermined direction.
【0012】[0012]
【実施例】次に、図面を参照しながら、本発明の実施例
について具体的且つ詳細に説明する。図1〜図3は、本
発明の第一の実施例を示している。これらの図におい
て、搬送管1は、基板の表面に薄膜を形成したり、或は
イオンを注入する等の各工程を行う真空チャンバを連絡
する管状の通路であり、その内部は所定の真空度に維持
される。搬送管1は、ステンレス等のような非磁性体で
作られている。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of the present invention; 1 to 3 show a first embodiment of the present invention. In these figures, the transfer tube 1 is a tubular passage that connects a vacuum chamber for performing various steps such as forming a thin film on the surface of a substrate or implanting ions, and the inside thereof has a predetermined vacuum degree. Maintained at. The carrier tube 1 is made of a non-magnetic material such as stainless steel.
【0013】この搬送管1の下部には、その長手方向に
わたってレール状のガイド3が設けられている。さら
に、この搬送管1の外表面の最上部には、やはりレール
状のガイド2が設けられている。搬送管1の内部に設け
られたガイド3の上には、キャリア4が同ガイド3に沿
ってスライド自在に設けられている。このキャリア4は
ガイド3の上に設けられ、軸受部5、5とフレーム6、
7とによる矩形の枠組みがなされている。すなわち、キ
ャリア4は、ガイド3と平行に上下に対向させて設けた
一対のフレーム7、6と、このフレーム7、6の両端
に、ガイド3の長手方向に対向させて取り付けた一対の
軸受部5、5とを備えている。A rail-shaped guide 3 is provided in the lower part of the carrier pipe 1 in the longitudinal direction thereof. Further, a rail-shaped guide 2 is provided at the uppermost portion of the outer surface of the carrier tube 1. A carrier 4 is slidably provided along the guide 3 on a guide 3 provided inside the carrier tube 1. The carrier 4 is provided on the guide 3, and the bearings 5, 5 and the frame 6,
A rectangular frame with 7 and 7 is formed. That is, the carrier 4 is provided with a pair of frames 7 and 6 provided in parallel with the guide 3 so as to face each other in the vertical direction, and a pair of bearing portions attached to both ends of the frames 7 and 6 so as to face each other in the longitudinal direction of the guide 3. 5 and 5 are provided.
【0014】軸受部5、5の下端部に車輪13、13が
回転自在に軸支され、この車輪13、13が前記ガイド
3上を走行する。また、下側のフレーム6の両側に車輪
12、12が回転自在に軸支され、この車輪12、12
がガイド3の両側を挟持している。この両側の車輪1
2、12の先端部周面はV字形の溝となっていると共
に、ガイド3の両側はこのV字形の溝に対応する山形の
峰となっており、これらが係合することにより、キャリ
ア4がガイド3に対して遊動することなく、その長手方
向に案内される。Wheels 13, 13 are rotatably supported by the lower ends of the bearings 5, 5, and the wheels 13, 13 run on the guide 3. Wheels 12, 12 are rotatably supported on both sides of the lower frame 6, and the wheels 12, 12 are rotatably supported.
Holds both sides of the guide 3. Wheels 1 on both sides
The peripheral surfaces of the tip end portions of 2 and 12 are V-shaped grooves, and both sides of the guide 3 are mountain-shaped peaks corresponding to these V-shaped grooves. Is guided in its longitudinal direction without floating with respect to the guide 3.
【0015】キャリア4の上側のフレーム7の上面の両
端には、磁石14が各々取り付けられている。他方、搬
送管1の外側上部のガイド2には、磁石駆動体19が同
ガイド2に沿ってスライド自在に取り付けられている。
すなわち、磁石駆動体19は回転自在なローラ21を有
し、このローラ21によりガイド2に沿って移動でき
る。この磁石駆動体19の下部には、前記キャリア4の
磁石14に対応して磁石20が設けられており、双方の
磁石14、20は互いに異なる極性の磁極が対向するよ
うになっている。このため、この磁石駆動体19をガイ
ド2に沿って移動させると、磁石14、20の吸引磁力
によりキャリア4が引かれ、同キャリア4がガイド3に
沿って移動する。Magnets 14 are attached to both ends of the upper surface of the upper frame 7 of the carrier 4, respectively. On the other hand, a magnet driving body 19 is slidably attached to the guide 2 on the upper outer side of the transport tube 1 along the guide 2.
That is, the magnet driving body 19 has a rotatable roller 21, and the roller 21 can move along the guide 2. A magnet 20 is provided below the magnet driving body 19 corresponding to the magnet 14 of the carrier 4, and the two magnets 14 and 20 have magnetic poles of different polarities facing each other. Therefore, when the magnet driving body 19 is moved along the guide 2, the carrier 4 is pulled by the attractive magnetic force of the magnets 14 and 20, and the carrier 4 moves along the guide 3.
【0016】前記キャリア4の軸受部5、5にわたって
軸8が架設され、その軸8の両端が軸受部5、5に回転
自在に軸支されている。この軸8には、一定の間隔でホ
ルダー受25が取り付けられている。このホルダー受2
5は、その先端に基板ホルダー9が着脱自在に取り付け
られ、この基板ホルダー9には、前面に基板(図示せ
ず)が取り付けられる。ホルダー受25とその先端に取
り付けられた基板ホルダー9とは、軸8の回転に伴い回
転する。A shaft 8 is installed over the bearing portions 5 and 5 of the carrier 4, and both ends of the shaft 8 are rotatably supported by the bearing portions 5 and 5. Holder supports 25 are attached to the shaft 8 at regular intervals. This holder receiver 2
A substrate holder 9 is detachably attached to the tip of the substrate 5 , and a substrate (not shown) is attached to the front surface of the substrate holder 9. The holder receiver 25 and the substrate holder 9 attached to the tip thereof rotate as the shaft 8 rotates.
【0017】前記軸8から180°異なる方向に各々1
本ずつのアーム16、18が突設されている。また、下
側のフレーム6には、軸8の回転に伴って前記アーム1
6、18の先端が通過する位置に各々ストッパー15、
17が取り付けられ、このストッパー15、17にアー
ム16、18の先端が当り、軸8の回転が停止されるよ
うになっている。ここで、ストッパー15、17は、基
板ホルダー9が図1において手前側、すなわち図2及び
図3において右側を向いた位置と、基板ホルダー9がそ
の反対側、すなわち、図1において背後側、図2及び図
3において左側を向いた位置とで各々アーム16、18
の先端に当り、停止するような位置に配置されている。
その間、軸8は図2及び図3において矢印で示す方向ま
たはその反対方向に回転できるようになっている。すな
わち、前記アーム16、18とストッパー15、17と
が各々当たる範囲で軸8が180°だけ回転できる。1 each in a direction different from the axis 8 by 180 °
Arms 16 and 18 for each book are projected. Further, the lower frame 6 has the arm 1 with the rotation of the shaft 8.
Stoppers 15 and 6 are provided at the positions where the tips of 6 and 18 pass.
17 is attached, and the ends of the arms 16 and 18 come into contact with the stoppers 15 and 17, so that the rotation of the shaft 8 is stopped. Here, the stoppers 15 and 17 are located at a position where the substrate holder 9 faces the front side in FIG. 1, that is, the right side in FIGS. 2 and 3, and the opposite side of the substrate holder 9, that is, the rear side in FIG. 2 and the position facing the left side in FIG.
It is placed at a position where it hits the tip of the and stops.
Meanwhile, the shaft 8 can rotate in the direction indicated by the arrow in FIGS. 2 and 3 or in the opposite direction. That is, the shaft 8 can rotate by 180 ° within a range where the arms 16 and 18 and the stoppers 15 and 17 contact each other.
【0018】軸受部5、5の外側に突出した軸8の両端
に板状の回転アーム部材10が各々取り付けられ、この
回転アーム部材10の端部に突起状の回転操作部11が
突設されている。さらに、図2に示すように、軸受部
5、5の中央から側方にバネ受突起22が突設され、こ
のバネ受突起22の先端と前記回転操作部11との間に
バネ23が係装さている。このバネ23の弾力は、回転
操作部11をバネ受突起22の先端側に引く方向に付勢
され、この弾力により、前記アーム16の先端がストッ
パ15で停止され、基板ホルダー9が図1において手前
側、すなわち図2及び図3において右側を向いた姿勢で
軸8が停止される。Plate-shaped rotary arm members 10 are attached to both ends of a shaft 8 projecting outside of the bearings 5 and 5, and a projection-shaped rotary operation portion 11 is provided at the end of the rotary arm member 10 so as to project therefrom. ing. Further, as shown in FIG. 2, a spring receiving projection 22 is provided so as to project laterally from the center of the bearings 5 and 5, and a spring 23 is engaged between the tip of the spring receiving projection 22 and the rotation operating portion 11. Dressed up. The elastic force of the spring 23 is urged in the direction of pulling the rotation operation portion 11 toward the tip end side of the spring receiving projection 22, and the elastic force causes the tip end of the arm 16 to be stopped by the stopper 15 so that the substrate holder 9 in FIG. The shaft 8 is stopped in the posture facing the front side, that is, the right side in FIGS. 2 and 3.
【0019】図2において、符号24は搬送管1に接続
された操作杆導入部であり、この操作杆導入部24は、
搬送管1の中で基板ホルダー9の向きを変える必要があ
る位置に設けられている。この操作杆導入部24の内部
に、真空系外から操作が可能な回転操作杆26があり、
この回転操作杆26で前記回転操作部11を回転し、軸
8を回転することにより、基板ホルダー9の向きが反転
する。すなわち、図2及び図3に示す位置から、回転操
作杆26の先端に回転操作部11を掛けて回転し、バネ
23の弾力に抗して軸8を矢印方向に回転する。このと
き、回転角度が90°を越えるまではバネ23の弾力が
軸8の回転に抗するよう作用するが、回転角度が90°
を越えると、バネ23の弾力が軸8をさらに回転させる
よう作用する。そして、アーム18の先端がストッパー
17に当り、軸8が180°回転したところで停止さ
れ、基板ホルダー9は、図1〜図3とは逆向き、すなわ
ち図1において背後側に、図2及び図3において左側を
向く。そして、この状態はバネ23の弾力でアーム18
の先端をストッパー17に押し当てることにより保持さ
れる。このようにして、基板ホルダー9が搬送管1内で
180°反転することができ、このような操作と動作
は、軸8を逆回転するときも同様である。In FIG. 2, reference numeral 24 is an operating rod introducing portion connected to the conveying pipe 1, and this operating rod introducing portion 24 is
It is provided at a position in the transfer tube 1 where it is necessary to change the direction of the substrate holder 9. Inside the operating rod introducing portion 24, there is a rotary operating rod 26 that can be operated from outside the vacuum system,
The direction of the substrate holder 9 is reversed by rotating the rotating operation unit 11 with the rotating operation rod 26 and rotating the shaft 8. That is, from the position shown in FIG. 2 and FIG. 3, the rotation operation part 11 is hung on the tip of the rotation operation rod 26 to rotate, and the shaft 8 is rotated in the arrow direction against the elasticity of the spring 23. At this time, the elastic force of the spring 23 acts against the rotation of the shaft 8 until the rotation angle exceeds 90 °, but the rotation angle is 90 °.
Beyond 0, the elastic force of the spring 23 acts to rotate the shaft 8 further. Then, the tip of the arm 18 hits the stopper 17 and is stopped when the shaft 8 rotates by 180 °, and the substrate holder 9 faces in the opposite direction to that of FIGS. 1 to 3, that is, in the rear side of FIG. At 3 turn left. Then, in this state, the elasticity of the spring 23 causes the arm 18 to move.
It is held by pressing the tip of the stopper against the stopper 17. In this way, the substrate holder 9 can be turned over 180 ° in the transfer tube 1, and such operations and operations are the same when the shaft 8 is rotated in the reverse direction.
【0020】次に、図4〜図6に示された本発明の第二
の実施例について説明する。この実施例においても、搬
送管1の下部の長手方向にわたってレール状のガイド3
が設けられている。さらに、この搬送管1の外表面の最
上部には、やはりレール状のガイド2が設けられてい
る。搬送管1の内部に設けられたガイド3の上には、キ
ャリア4が同ガイド3に沿ってスライド自在に設けられ
ている。Next, a second embodiment of the present invention shown in FIGS. 4 to 6 will be described. Also in this embodiment, the rail-shaped guide 3 is provided in the lower portion of the carrier pipe 1 over the longitudinal direction.
Is provided. Further, a rail-shaped guide 2 is provided at the uppermost portion of the outer surface of the carrier tube 1. A carrier 4 is slidably provided along the guide 3 on a guide 3 provided inside the carrier tube 1.
【0021】キャリア4のフレーム31の両端部に車輪
13、13が回転自在に軸支され、この車輪13、13
が前記ガイド3上を走行する。また、フレーム31の両
側に車輪12、12が回転自在に軸支され、この車輪が
ガイド3の両側を挟持している。この点は、前記の実施
例と基本的に同様である。キャリア4のフレーム31の
上に支柱32が立設され、この支柱32の上端にフレー
ム31と平行に磁石支持部材33が設けられ、この磁石
支持部材33の上に磁石14が取り付けられている。Wheels 13, 13 are rotatably supported by both ends of a frame 31 of the carrier 4, and the wheels 13, 13 are rotatably supported.
Runs on the guide 3. Wheels 12, 12 are rotatably supported on both sides of the frame 31, and the wheels sandwich both sides of the guide 3. This point is basically the same as the above-mentioned embodiment. A column 32 is erected on the frame 31 of the carrier 4, a magnet support member 33 is provided on the upper end of the column 32 in parallel with the frame 31, and the magnet 14 is mounted on the magnet support member 33.
【0022】他方、搬送管1の外側上部のガイド2に
は、ローラ21により磁石駆動体19が同ガイド2に沿
ってスライド自在に取り付けられている。この磁石駆動
体19の下部には、前記キャリア4の磁石14に対応
し、対向する磁極が互いに逆極性となるようて磁石20
が設けられている。従って、この磁石駆動体19をガイ
ド2に沿って移動させると、磁石14、20の吸引磁力
により、キャリア4が引かれ、同キャリア4がガイド3
に沿って移動する。On the other hand, a magnet driving member 19 is slidably attached to the guide 2 on the upper outer side of the conveying pipe 1 by a roller 21 along the guide 2. A magnet 20 is provided below the magnet driver 19 so as to correspond to the magnet 14 of the carrier 4 and have opposite magnetic poles.
Is provided. Therefore, when the magnet driving body 19 is moved along the guide 2, the attractive magnetic force of the magnets 14 and 20 pulls the carrier 4, and the carrier 4 is guided by the guide 3.
Move along.
【0023】図5に示されたように、キャリア4の一端
部に軸受39が設けられると共に、ホルダーベース34
の一端から下方に突設されたブラケット38に貫通状態
で固定された軸37がこの軸受39に回転自在に支持さ
れている。これにより、前記ホルダーベース34が軸3
7を中心としてキャリア4の一端部に回転自在に支持さ
れており、その回転可能な範囲は、ホルダーベース34
がキャリア4のフレーム31と平行な姿勢から垂直な姿
勢となる90°の範囲である。As shown in FIG. 5, a bearing 39 is provided at one end of the carrier 4 and a holder base 34 is provided.
A shaft 37 fixed in a penetrating state to a bracket 38 protruding downward from one end of the bearing is rotatably supported by the bearing 39. As a result, the holder base 34 is attached to the shaft 3
7 is rotatably supported on one end of the carrier 4 about the center of which the holder base 34 is rotatable.
Is a range of 90 ° from the posture parallel to the frame 31 of the carrier 4 to the posture vertical.
【0024】前記軸受39から突出した軸37の端部
に、中央に溝を有する側面コ字形の回転操作部35が設
けられている。搬送管1の基板ホルダー9を回転する必
要のある位置に操作杆導入部41が設けられ、この操作
杆導入部41の内部に、外部から回転操作が可能な回転
操作杆40が配置されている。この回転操作杆40は、
前記回転操作部34の中心の溝に挿入できるような偏平
な先端部を有し、この先端部を前記回転操作部35の溝
の中に差込み、回転することによりホルダーベース34
が回転される。At the end of the shaft 37 projecting from the bearing 39, a side-U-shaped rotary operation portion 35 having a groove at the center is provided. An operating rod introducing portion 41 is provided at a position where the substrate holder 9 of the transfer tube 1 needs to be rotated, and inside the operating rod introducing portion 41, a rotary operating rod 40 that can be rotated from the outside is arranged. . This rotation operating rod 40
The holder base 34 has a flat tip portion that can be inserted into the central groove of the rotation operation portion 34, and the tip end portion is inserted into the groove of the rotation operation portion 35 and rotated.
Is rotated.
【0025】このホルダーベース34の上には蟻溝状の
ガイド37が設けられ、このガイド37にホルダー受2
5が嵌め込まれている。符号36は、ガイド37により
ホルダー受25をホルダーベース34に取り付けたり取
り外すために使用するトランスファーロッド接続用のネ
ジ継手である。ホルダー受25に基板ホルダー9が着脱
自在に取り付けられるのは、前記の実施例と同じであ
る。A dovetail-shaped guide 37 is provided on the holder base 34, and the holder 37 is mounted on the guide 37.
5 is fitted. Reference numeral 36 is a screw joint for connecting the transfer rod, which is used for attaching and detaching the holder receiver 25 to the holder base 34 by the guide 37. The substrate holder 9 is detachably attached to the holder receiver 25 as in the above-described embodiment.
【0026】前記回転操作杆40によるホルダーベース
34の回転により、基板ホルダー9は、図4に実線で示
す位置、すなわち図5に示す位置から、図4に二点鎖線
で示す位置、すなわち、図6に示す位置に回転される。
さらにその逆にも回転される。これにより、基板ホルダ
9は、キャリア4のフレーム31と平行な位置から垂直
な位置へ、或はその逆へとその向きを変えることができ
る。Due to the rotation of the holder base 34 by the rotating operating rod 40, the substrate holder 9 is moved from the position shown by the solid line in FIG. 4, that is, the position shown in FIG. 5 to the position shown by the chain double-dashed line in FIG. It is rotated to the position shown in FIG.
Furthermore, it is rotated in the opposite way. As a result, the substrate holder 9 can change its direction from a position parallel to the frame 31 of the carrier 4 to a vertical position or vice versa.
【0027】次に、図7に示した第三の実施例について
説明すると、この実施例でも、搬送管1の内部に設けら
れたガイド3の上に、キャリア4が同ガイド3に沿って
スライド自在に設けられている。また、キャリア4の上
側のフレーム46に磁石14が設けられ、この磁石14
がガイド2に沿って移動する磁石駆動体19の磁石20
と対応し、この磁石駆動体19をガイド2に沿って移動
させると、磁石14、20の吸引磁力により、キャリア
4が引かれ、ガイド3に沿って移動することも、基本的
には前記実施例と同じである。Next, the third embodiment shown in FIG. 7 will be described. Also in this embodiment, the carrier 4 slides on the guide 3 provided inside the carrier tube 1 along the guide 3. It is provided freely. The magnet 14 is provided on the upper frame 46 of the carrier 4.
The magnet 20 of the magnet driver 19 that moves along the guide 2
Correspondingly, when this magnet driving body 19 is moved along the guide 2, the carrier 4 is pulled by the attractive magnetic force of the magnets 14 and 20, and the carrier 4 is also moved along the guide 3. Same as the example.
【0028】キャリア4の上下のフレーム46、47は
軸受けとなっていると共に、このフレーム46、47に
垂直に軸35が回転自在に支持されている。この軸45
にホルダー受25が取り付けられ、このホルダー受25
に基板ホルダー9が着脱自在に取り付けられる。The upper and lower frames 46 and 47 of the carrier 4 serve as bearings, and the shaft 35 is rotatably supported perpendicularly to the frames 46 and 47. This axis 45
Holder holder 25 is attached to this holder holder 25
The substrate holder 9 is detachably attached to the.
【0029】軸45の下端部が回転操作部48として、
下方のフレーム47から突出している。他方、搬送管1
の基板ホルダー9を回転する必要のある位置の下方に操
作杆導入部51が設けられ、この操作杆導入部51の内
部に、外部から回転操作が可能な回転操作杆50が配置
されている。この回転操作杆50は、前記回転操作部4
8が挿入できるような溝を有するコ字形の先端部を有
し、この先端部の溝に前記回転操作部48を嵌め込み、
回転することにより、軸45が回転され、基板ホルダー
9の向きが変えられる。The lower end portion of the shaft 45 serves as a rotation operation portion 48,
It projects from the lower frame 47. On the other hand, the carrier tube 1
An operating rod introducing portion 51 is provided below the position where the substrate holder 9 needs to be rotated, and inside the operating rod introducing portion 51, a rotating operating rod 50 that can be rotated from the outside is arranged. The rotary operation rod 50 is the rotary operation unit 4 described above.
8 has a U-shaped tip portion having a groove into which 8 can be inserted, and the rotation operating portion 48 is fitted into the groove of the tip portion,
By rotating, the shaft 45 is rotated and the orientation of the substrate holder 9 is changed.
【0030】[0030]
【発明の効果】以上説明した通り、本発明によれば、搬
送管の中で搬送される基板ホルダーの向きを搬送管内で
変えることができるので、搬送管の片側にのみ真空装置
を配置する必要が無くなり、搬送管の両側の真空装置を
任意に配置することが可能となる。これにより、真空装
置のレイアウトの自由度が高まり、装置を全体的に小形
化できる。さらに、基板を異なる方向に向けて処理すべ
き工程であって、それらを搬送管で連絡して順次連続し
て行うことも可能になるので、各工程が連続して行える
ようになり、生産性の工場が図れる。As described above, according to the present invention, since the direction of the substrate holder transported in the transport tube can be changed within the transport tube, it is necessary to dispose the vacuum device only on one side of the transport tube. Thus, the vacuum devices on both sides of the transfer tube can be arranged arbitrarily. As a result, the degree of freedom in the layout of the vacuum device is increased, and the device can be downsized as a whole. Furthermore, since it is a process in which the substrate should be processed in different directions, and it is possible to connect them with a transfer pipe and perform them in succession in sequence, each process can be performed continuously and productivity is improved. Can build a factory.
【図1】本発明の第一の実施例による真空系内基板搬送
装置の一部を縦に断面した側面図である。FIG. 1 is a side view in which a part of a substrate transfer apparatus in a vacuum system according to a first embodiment of the present invention is vertically sectioned.
【図2】同第一の実施例による真空系内基板搬送装置の
一部を縦に断面した正面図である。FIG. 2 is a vertical cross-sectional front view of a part of the substrate transfer apparatus in a vacuum system according to the first embodiment.
【図3】同第一の実施例による真空系内基板搬送装置の
中間部を縦に断面した正面図である。FIG. 3 is a vertical cross-sectional front view of an intermediate portion of the vacuum system substrate transfer apparatus according to the first embodiment.
【図4】本発明の第二の実施例による真空系内基板搬送
装置の一部を縦に断面した側面図である。FIG. 4 is a side view in which a portion of a substrate transfer apparatus in a vacuum system according to a second embodiment of the present invention is vertically sectioned.
【図5】同第二の実施例による真空系内基板搬送装置の
一部を縦に断面した正面図である。FIG. 5 is a vertical cross-sectional front view of a part of the vacuum system substrate transfer apparatus according to the second embodiment.
【図6】同第二の実施例による真空系内基板搬送装置の
基板ホルダーが回転した状態の一部を縦に断面した要部
正面図である。FIG. 6 is a front view of a main part of a vertical cross-section of a part of a state where a substrate holder of a substrate transfer apparatus in a vacuum system according to the second embodiment is rotated.
【図7】本発明の第三の実施例による真空系内基板搬送
装置の一部を縦に断面した正面図である。FIG. 7 is a vertical cross-sectional front view of a part of a vacuum system substrate transfer apparatus according to a third embodiment of the present invention.
1 搬送管 2 ガイド 3 ガイド 4 キャリア 9 基板ホルダー 8 軸 11 回転操作部 15 ストッパー 16 ストッパー 23 バネ 25 回転操作杆 1 Transport Pipe 2 Guide 3 Guide 4 Carrier 9 Substrate Holder 8 Axis 11 Rotation Operation Part 15 Stopper 16 Stopper 23 Spring 25 Rotation Operation Rod
Claims (4)
(1)と、この搬送管(1)内に設けられたガイド
(3)と、このガイド(3)に沿ってスライド自在に取
り付けられたキャリア(4)と、このキャリア(4)に
取り付けられ、基板を取り付ける基板ホルダー(9)
と、前記キャリア(4)を前記ガイド(4)に沿って移
動させる移動手段とを備える真空系内基板搬送装置にお
いて、基板ホルダー(9)を支持すると共に、前記キャ
リア(4)に回転自在に支持された軸(8)、(3
7)、(45)と、この軸(8)、(37)、(45)
に連結された回転操作部(11)、(35)、(48)
と、この回転操作部(11)、(35)、(48)を回
転させる回転操作杆(26)、(40)、(50)とを
備えることを特徴とする真空系内基板搬送装置。1. A tubular carrier tube having a vacuum inside.
(1)And this carrier pipe(1)Guide provided inside
(3)And this guide(3)Can be freely slid along
Attached career(4)And this career(4)To
Substrate holder that is attached and attaches the substrate(9)
And the carrier(4)The guide(4)Moved along
In a substrate transfer device in a vacuum system equipped with a moving means for moving
Board holder(9)Support the
rear(4)Rotatably supported on the shaft(8), (3
7), (45)And this axis(8), (37), (45)
ToConnected rotary operation unit(11), (35), (48)
And this rotation operation part(11), (35), (48)Times
Rotating rod for rolling(26), (40), (50)And
An apparatus for transferring a substrate in a vacuum system, comprising:
は、その回転を180°の範囲に規制する2つのストッ
パー(15)、(17)が備えられていることを特徴と
する真空系内基板搬送装置。Wherein Oite to claim 1, wherein the shaft (8) has two stoppers for restricting the rotation in the range of 180 ° (15), and characterized in that is provided with (17) Vacuum system substrate transfer device.
方のストッパー(15)、(17)により規制される同
軸(8)の回転の終端方向にバネ(23)の弾力が付勢
されていることを特徴とする真空系内基板搬送装置。3. A claim 2, both stopper to said shaft (8) (15), resilient biasing (17) the spring in the end direction of the rotation of the coaxial (8) which is regulated by (23) A substrate transfer apparatus in a vacuum system characterized by being provided.
(1)と、この搬送管(1)内に設けられたガイド
(3)と、このガイド(3)に沿ってスライド自在に取
り付けられたキャリア(4)と、このキャリア(4)に
取り付けられ、基板を取り付ける基板ホルダー(9)
と、前記キャリア(4)を前記ガイド(4)に沿って移
動させる移動手段とを備える真空系内基板搬送装置にお
いて、前記キャリア(4)に回転自在に支持された軸
(37)と、基板ホルダー(9)を支持すると共に、前
記軸(37)の回りに90゜の範囲で回転するホルダー
ベース(34)と、前記軸(37)に連結された回転操
作部(35)と、この回転操作部(35)を回転させる
回転操作杆(40)とを備えることを特徴とする真空系
内基板搬送装置。4. A tubular carrier tube having a vacuum inside.
(1) and a guide provided in the carrier pipe (1)
(3) and slide it along this guide (3).
Attached carrier (4) and this carrier (4)
Substrate holder for mounting and mounting substrates (9)
And transfer the carrier (4) along the guide (4).
In a substrate transfer device in a vacuum system equipped with a moving means for moving
And a shaft rotatably supported by the carrier (4).
(37) and supporting the substrate holder (9),
Holder that rotates within 90 ° around the spindle (37)
A rotary operation connected to the base (34) and the shaft (37).
Rotate the work part (35) and the rotation operation part (35)
A substrate transfer device in a vacuum system, comprising: a rotating operation rod (40) .
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12680294A JP2687306B2 (en) | 1994-05-16 | 1994-05-16 | Substrate transfer device in vacuum system |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12680294A JP2687306B2 (en) | 1994-05-16 | 1994-05-16 | Substrate transfer device in vacuum system |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07312387A JPH07312387A (en) | 1995-11-28 |
JP2687306B2 true JP2687306B2 (en) | 1997-12-08 |
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JP4471708B2 (en) * | 2004-03-31 | 2010-06-02 | キヤノンアネルバ株式会社 | Substrate transfer device |
JP4745447B2 (en) * | 2010-02-04 | 2011-08-10 | キヤノンアネルバ株式会社 | Substrate transfer apparatus and vacuum processing apparatus |
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- 1994-05-16 JP JP12680294A patent/JP2687306B2/en not_active Expired - Fee Related
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