JP2679489B2 - Ni stamper manufacturing method and pattern transfer method - Google Patents

Ni stamper manufacturing method and pattern transfer method

Info

Publication number
JP2679489B2
JP2679489B2 JP31971291A JP31971291A JP2679489B2 JP 2679489 B2 JP2679489 B2 JP 2679489B2 JP 31971291 A JP31971291 A JP 31971291A JP 31971291 A JP31971291 A JP 31971291A JP 2679489 B2 JP2679489 B2 JP 2679489B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
stamper
sol
gel
reinforcing material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP31971291A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH05135414A (en
Inventor
美紀子 齋藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP31971291A priority Critical patent/JP2679489B2/en
Publication of JPH05135414A publication Critical patent/JPH05135414A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2679489B2 publication Critical patent/JP2679489B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は光ディスクにおける製造
法において、特に紫外線照射により硬化可能な液状成型
樹脂を用いて微細パタ―ンを有するスタンパから複製デ
ィスクを得る方法、いわゆるフォトポリマ―(2P)法
において、微細パタ―ンを有するスタンパの製造方法に
関するものである。さらにその方法を用いてゾルゲル法
により作製する光ディスクのパタ―ン転写方法に関する
ものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing an optical disk, in particular, a method for obtaining a duplicate disk from a stamper having a fine pattern by using a liquid molding resin which can be cured by ultraviolet irradiation, so-called photopolymer (2P). The method relates to a method for manufacturing a stamper having a fine pattern. Further, the present invention relates to a pattern transfer method for an optical disc manufactured by the sol-gel method using the method.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の光ディスクにおけるNiスタンパ
の製造方法について図2を用いて説明する。微細なパタ
―ンを有するレジスト層の付いたガラス原盤にNiスパ
ッタおよび電鋳処理を施す。一定量の厚さとしたNi電
鋳膜を通常マスタ―Niスタンパ10と呼ぶ。Niスタ
ンパ10をガラス原盤から離型し、図2に示すように固
定台7の上に芯だしカラ―21を用いて位置合わせを行
いながら置く。次にスタンパ裏面の中周部に嫌気性硬化
樹脂4を一定量塗布する。この上に同じく芯出しカラ―
21を用いて位置合わせを行いながら金属の補強材5を
貼り合わせる。なお補強材の貼り合わせ面は鏡面仕上げ
処理にしておく。貼り合わせたまま放置し、樹脂を硬化
させる。このように補強材を貼りつけたNiスタンパを
用いて2P成型を行い、光ディスク基板を作製してい
た。
2. Description of the Related Art A conventional Ni stamper manufacturing method for an optical disk will be described with reference to FIG. A glass master having a resist layer having a fine pattern is subjected to Ni sputtering and electroforming. The Ni electroformed film having a certain thickness is generally called a master-Ni stamper 10. The Ni stamper 10 is released from the glass master, and is placed on the fixing base 7 while performing alignment using the centering color 21, as shown in FIG. Next, a fixed amount of the anaerobic curable resin 4 is applied to the middle part of the back surface of the stamper. This is also centered color
The metal reinforcing member 5 is attached while aligning using 21. The surface to which the reinforcing material is attached should be mirror-finished. Let it stand as it is, and cure the resin. In this way, 2P molding was performed using the Ni stamper to which the reinforcing material was attached, to manufacture the optical disk substrate.

【0003】あるいは先のマスタNiスタンパを型にし
て再度電鋳処理を行い、マスタNiスタンパとは回転方
向並びにパタ―ンの凹凸の反転したマザ―Niスタンパ
を作製する。このマザ―Niスタンパを図2に示したよ
うに補強材を貼り付け2P成型を行う。2P成型により
作製した基板をゾルゲル転写用のワ―クスタンパとし、
次のようにゾルゲル転写を行う。すなわち、ガラス基板
上にスピンコ―ト法により金属アルコレ―トとポリエチ
レングリコ―ルと塩酸とを含むアルコ―ル溶液(ゾル溶
液)を塗布し、ゾルゲル層を形成する。先程のワ―クス
タンパをこのゾルゲル面に押し当て、微細なパタ―ンを
転写する。重ね合わせたまま一次焼成を行った後、ワ―
クスタンパから離型した微細パタ―ン付きガラス基板を
更に二次焼成する。このようなプロセスを経て、光ディ
スクを作製していた。
Alternatively, the above master Ni stamper is used as a mold and subjected to electroforming again to produce a mother Ni stamper in which the direction of rotation and pattern irregularities of the master Ni stamper are reversed. The mother Ni stamper is attached with a reinforcing material as shown in FIG. 2 and 2P molding is performed. The substrate manufactured by 2P molding is used as a work stamper for sol-gel transfer,
Sol-gel transfer is performed as follows. That is, an alcohol solution (sol solution) containing a metal alcoholate, polyethylene glycol and hydrochloric acid is applied onto a glass substrate by a spin coat method to form a sol-gel layer. The work stamper is pressed against this sol-gel surface to transfer a fine pattern. After performing the primary firing while overlapping, the work
The glass substrate with a fine pattern released from the stamper is secondarily fired. An optical disc has been manufactured through such a process.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】先述したNiスタンパ
(マスタNiスタンパ、マザ―Niスタンパとも)は薄
く、平坦性よく貼りつけることが難しく、しわになった
り、反った状態で補強材に貼りつけられたりした。その
ためこのNiスタンパを用いて2P成型を行った基板に
おいては2P層の膜厚分布が悪くなったりする場合があ
り、特性の悪い光ディスクとなったりした。さらに、嫌
気性硬化樹脂を貼り合わせ用に用いているので、空気と
接触する内外周部は硬化しなかった。その為、繰り返し
使用後に内外周から劣化し、剥がれてくる場合があっ
た。また同様に先のマザ―Niスタンパを用いて2P成
型を行った基板をスタンパとしてゾルゲル転写法により
作製した光ディスク基板では2P層の膜厚分布が悪いこ
とにより、転写パタ―ンの得られない場合もあった。ま
た特にゾルゲル転写法においては先述したように、Ni
スタンパ作製の工程数が多く、しかも微細なパタ―ンを
比較的大面積にわたって何度も転写を繰り返すので、歩
留まり、コストの面で問題となる。本発明は良好な紫外
線硬化樹脂の膜厚分布、製造法の簡略化を目的とし、2
P法を用いた光ディスク、あるいはゾルゲル法を用いた
光ディスクの作製において用いられるNiスタンパの製
造方法、および該方法を用いたゾルゲル法によるパタ―
ン転写法を提供するものである。
The above-mentioned Ni stamper (both master Ni stamper and mother-Ni stamper) is thin and difficult to stick with good flatness, and sticks to the reinforcing material in a wrinkled or warped state. I was killed. Therefore, in the substrate which is 2P-molded using this Ni stamper, the film thickness distribution of the 2P layer may be deteriorated, resulting in an optical disc having poor characteristics. Furthermore, since the anaerobic curable resin is used for bonding, the inner and outer peripheral parts contacting with air were not cured. Therefore, it may deteriorate from the inner and outer circumferences after repeated use and may come off. Similarly, in the case where an optical disk substrate manufactured by the sol-gel transfer method using the substrate formed by 2P molding using the above-mentioned mother Ni stamper as a stamper has a poor film thickness distribution of the 2P layer, a transfer pattern cannot be obtained. There was also. Further, particularly in the sol-gel transfer method, as described above, Ni
Since the number of steps of stamper production is large and a fine pattern is repeatedly transferred over a relatively large area, there is a problem in terms of yield and cost. The present invention aims to simplify the manufacturing process and the film thickness distribution of a good UV curable resin.
Method for manufacturing Ni stamper used in manufacturing optical disc using P method or optical disc using sol-gel method, and pattern by sol-gel method using the method
It provides a transfer method.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明の第1は、マスタ
ライティング法により微細パタ―ンレジスト層をガラス
原盤上に形成する工程と、該レジスト層上にNi層を形
成する工程と、前記ガラス原盤上の該Ni層と補強材と
を嫌気性硬化樹脂を用いて貼り合わせる工程と、前記レ
ジスト層と前記Ni層との間を離型する工程と、前記N
i層の不用箇所を切断する工程と、前記補強材からはみ
だしている前記Ni層と前記補強材との隙間を樹脂で封
止する工程とを備えたことを特徴とする光ディスク用の
Niスタンパの製造方法である。本発明の第2は、マス
タライティング法により、微細パタ―ンの回転方向が反
時計方向であるようにパタ―ン形成されたレジスト層を
ガラス原盤に形成する工程と、該レジスト層上にNi層
を形成する工程と、前記ガラス原盤上のNi層と補強材
とを嫌気性硬化樹脂を用いて貼り合わせる工程と、前記
レジスト層と前記Ni層との間を離型する工程と、前記
Ni層の不用箇所を切断する工程と、前記補強材からは
みだしているNi層と補強材との隙間を樹脂で封止する
ことによりNiスタンパを製造する工程と、該Niスタ
ンパを用いて2P成型法によりワ―クスタンパを製造す
る工程と、ガラス基板上にスピンコ―ト法によりゾルゲ
ル溶液を塗布してゾルゲル層を形成する工程と、該ゾル
ゲル層の対向面に前記ワ―クスタンパを平面上に設置す
る工程と、前記ワ―クスタンパを前記ゾルゲル層を有し
たガラス基板に押圧し、前記ゾルゲル層に前記ワ―クス
タンパから微細パタ―ンを転写する工程と、前記ゾルゲ
ル層を固化させる工程とを備えたことを特徴とするパタ
―ン転写方法である。
The first aspect of the present invention is to provide a step of forming a fine pattern resist layer on a glass master by a master writing method, a step of forming a Ni layer on the resist layer, and the above glass. A step of adhering the Ni layer and the reinforcing material on the master using an anaerobic curable resin; a step of releasing the resist layer and the Ni layer from each other;
A Ni stamper for an optical disk, comprising: a step of cutting an unnecessary portion of the i layer; and a step of sealing a gap between the reinforcement layer and the Ni layer protruding from the reinforcement material with a resin. It is a manufacturing method. A second aspect of the present invention is a step of forming a resist layer on a glass master that is patterned by a master writing method so that the rotation direction of a fine pattern is counterclockwise, and Ni on the resist layer. A step of forming a layer, a step of adhering a Ni layer on the glass master and a reinforcing material using an anaerobic curing resin, a step of releasing the resist layer from the Ni layer, A step of cutting an unnecessary portion of the layer, a step of manufacturing a Ni stamper by sealing a gap between the Ni layer protruding from the reinforcing material and the reinforcing material with a resin, and a 2P molding method using the Ni stamper To form a work stamper, a step of applying a sol-gel solution on a glass substrate by a spin coat method to form a sol-gel layer, and a flat surface of the work stamper on the opposite surface of the sol-gel layer. The step of pressing the wax stamper against the glass substrate having the sol-gel layer to transfer a fine pattern from the wax stamper to the sol-gel layer, and the step of solidifying the sol-gel layer. It is a pattern transfer method characterized in that

【0006】[0006]

【作用】本発明によれば、従来のように薄い板厚のNi
スタンパを単一で補強材に裏打ちせずに、固く、厚みが
あり、平坦性の十分なガラス原盤上に直接形成されたN
iスタンパに裏打ちを行う。そのため補強材を貼りつけ
る際にNiスタンパがしわになったり、平坦性にかけた
りすることは起こり得ない。この結果、補強材を貼りつ
けられたNiスタンパを用いて2P成型を行った基板に
おいて、紫外線硬化樹脂層の膜厚分布は均一となり良好
なディスクが得られる。また、同様にゾルゲル転写用の
ワ―クスタンパとして、ガラス原盤上に直接形成された
Niスタンパに裏打ちを行った2P成型基板を用いる。
なおこの場合、マスタライティング工程においてグル―
ブ、ピットのような微細パタ―ンの回転方向が反時計方
向(通常のマスタNiスタンパでは時計方向)のガラス
原盤を作製する。このようにして作製したガラス原盤付
きNiスタンパに裏打ち材を貼りつけ、2P成型を行っ
た基板の紫外線硬化樹脂層の膜厚分布は均一であり、ゾ
ルゲル転写工程においてもパタ―ン転写が良好に行え
る。また、従来のようにマザ―Niスタンパではなくマ
スタNiスタンパを用いるので、工程数がより少なく、
コスト、歩留まり等の面で本発明はより有利である。
According to the present invention, Ni having a thin plate thickness as in the past is used.
A single stamper is not directly backed by a reinforcing material, but is formed directly on a glass master that is hard, thick, and has sufficient flatness.
Line the i stamper. Therefore, the Ni stamper cannot be wrinkled or flattened when the reinforcing material is attached. As a result, in the substrate that is 2P-molded using the Ni stamper to which the reinforcing material is attached, the film thickness distribution of the ultraviolet curable resin layer becomes uniform, and a good disk can be obtained. Similarly, as a work stamper for sol-gel transfer, a 2P molded substrate lined with a Ni stamper directly formed on a glass master is used.
In this case, the master writing process
A glass master disk in which a fine pattern such as a pit or a pit rotates counterclockwise (clockwise in a normal master Ni stamper) is manufactured. The backing material was attached to the Ni stamper with a glass master manufactured in this manner, and the film thickness distribution of the UV curable resin layer of the substrate subjected to 2P molding was uniform, and good pattern transfer was achieved even in the sol-gel transfer process. You can do it. Further, since the master Ni stamper is used instead of the mother Ni stamper as in the conventional case, the number of steps is smaller,
The present invention is more advantageous in terms of cost, yield and the like.

【0007】[0007]

【実施例】次に本発明の実施例について説明する。 実施例1 図1は本発明のNiスタンパの製造方法を説明するため
の断面図である。1は表面粗度の非常に小さいガラス原
盤である。2はマスタライティング法により微細パタ―
ンの形成されたレジスト層である。この上に電鋳法等に
よりNi層3を形成する。このガラス原盤付きNi層3
のNi層側の中周領域に嫌気性硬化樹脂4をディスペン
サ法により滴下する。次に鏡面研磨処理を施した金属板
よりなる補強材5を芯出し治具6を用いながらNi層3
と貼り合わせる。このとき6の芯出し治具は固定台7に
ついているセンタ―ピン8に対して位置合わせされてお
り、さらにセンタ―ピン8はガラス原盤の内径に対して
位置合わせされる。次に嫌気性硬化樹脂4を硬化させ
る。その後ガラス原盤1とレジスト層2をNi層3から
離型する。補強材5を裏打ちしたNi層3の微細パタ―
ンから回転の中心をレ―ザ光により読みとり、Ni層3
の不用箇所を切りとり、所定の内外径にする。次に
(b)に示すように補強材5からはみ出しているNi層
3の裏面部を2液性のエポキシ樹脂でシ―ルする。この
貼り合わせ処理を行ったNiスタンパを用いて2P成型
を行い、作製した光ディスク基板は、紫外線硬化樹脂層
の膜厚むらがなく、機械特性の良い複製基板が得られ
た。また繰り返し成型を行っても貼り合わせしたNiス
タンパの平坦性が悪くなることはなかった。
Next, an embodiment of the present invention will be described. Example 1 FIG. 1 is a sectional view for explaining a method for manufacturing a Ni stamper of the present invention. Reference numeral 1 is a glass master having a very small surface roughness. 2 is a fine pattern by the master writing method.
Is a resist layer on which the resin is formed. A Ni layer 3 is formed on this by an electroforming method or the like. Ni layer 3 with this glass master
The anaerobic curable resin 4 is dropped by the dispenser method in the middle area of the Ni layer side. Next, a reinforcing material 5 made of a metal plate that has been subjected to mirror polishing is applied to the Ni layer 3 while using a centering jig 6.
And paste. At this time, the centering jig 6 is aligned with the center pin 8 attached to the fixed base 7, and the center pin 8 is aligned with the inner diameter of the glass master. Next, the anaerobic curable resin 4 is cured. Then, the glass master 1 and the resist layer 2 are released from the Ni layer 3. Fine pattern of Ni layer 3 lined with reinforcing material 5
The center of rotation is read from the laser by laser light and the Ni layer 3
Cut off the unnecessary parts of to make the inside and outside diameters as specified. Next, as shown in (b), the back surface of the Ni layer 3 protruding from the reinforcing material 5 is sealed with a two-component epoxy resin. 2P molding was performed using the Ni stamper that had been subjected to this bonding process, and the manufactured optical disk substrate had a uniform thickness of the ultraviolet curable resin layer, and a duplicate substrate having good mechanical properties was obtained. Further, the flatness of the bonded Ni stamper did not deteriorate even after repeated molding.

【0008】実施例2 実施例2は本発明のゾルゲル法による光ディスクのパタ
―ン転写方法を示す。ゾルゲル法を用いた光ディスク基
板の作製法を図3を用いて説明する。ガラス基板上にテ
トラエトキシシランとポリエチレングリコ―ルと塩酸と
を含むゾルゲル溶液をスピンコ―ト法により塗布し、ゾ
ルゲル層を2000〜3000オングストロ―ム形成し
た。次に2P成型法により作製した基板をワ―クスタン
パ12とし、図3に示すように、ゾルゲル層付きガラス
基板11をロ―タリ―ポンプ(R.P.)16、ディフ
ュ―ジョンポンプ(D.P.)17により装置内を減圧
にし、減圧下で重ね合わせて押圧する。この時ワ―クス
タンパの平坦性を改善するため、ゴムマット14を用
い、油圧シリンダ20により押圧する。そのままの状態
でヒ―タプレ―ト13により100℃、10分の一次焼
成を行う。その後、ガラス基板11からワ―クスタンパ
12を離型し、ガラス基板11のみ350℃、10分の
二次焼成を行い、所望の微細パタ―ンを有するガラス基
板を得た。
Example 2 Example 2 shows a pattern transfer method for an optical disk by the sol-gel method of the present invention. A method of manufacturing an optical disc substrate using the sol-gel method will be described with reference to FIG. A sol-gel solution containing tetraethoxysilane, polyethylene glycol and hydrochloric acid was applied on a glass substrate by a spin coat method to form a sol-gel layer of 2000 to 3000 angstrom. Next, the substrate manufactured by the 2P molding method was used as the work stamper 12, and as shown in FIG. 3, the glass substrate 11 with the sol-gel layer was used as a rotary pump (RP) 16 and a diffusion pump (D. P.) 17 to reduce the pressure inside the device, and stack and press under reduced pressure. At this time, in order to improve the flatness of the work stamper, the rubber mat 14 is used and pressed by the hydraulic cylinder 20. In that state, the heater plate 13 is used to perform primary firing at 100 ° C. for 10 minutes. After that, the work stamper 12 was released from the glass substrate 11, and only the glass substrate 11 was subjected to secondary firing at 350 ° C. for 10 minutes to obtain a glass substrate having a desired fine pattern.

【0009】ここで先に示したワ―クスタンパ作製のた
めの2P成型法の微細パタ―ン作製を次に示す。ガラス
原盤上のレジスト層に回転方向を通常マスタNiスタン
パの逆である反時計方向にし、微細パタ―ンであるピッ
トの凹凸の反転したパタ―ンを作製した。つまりゾルゲ
ル法により作製した光ディスク基板において、微細パタ
―ンの回転方向は通常の逆の反時計方向となり、ピット
は凸状態になるようにパタ―ンを作製した。このガラス
原盤付きNiスタンパに実施例1に示したように補強材
を貼り付ける。この補強材を貼り付けたNiスタンパを
用いて2P成型を行い、ワ―クスタンパを作製した。こ
のワ―クスタンパを用い、ゾルゲル転写を行ったとこ
ろ、120φガラス基板全面に微細なパタ―ンを有する
ゾルゲル層を得ることができた。作製した光ディスクの
C1エラ―率も低かった。また従来のようにマザ―タイ
プのスタンパを作製する必要がないので、1工程短縮す
ることができた。
The production of the fine pattern by the 2P molding method for producing the work stamper shown above will be described below. The resist layer on the glass master was rotated counterclockwise, which is the reverse of the master Ni stamper, to produce a fine pattern in which the pit irregularities were reversed. That is, in the optical disk substrate manufactured by the sol-gel method, the pattern was manufactured such that the rotation direction of the fine pattern was the counterclockwise direction which is the usual reverse direction and the pits were in a convex state. A reinforcing material is attached to the Ni stamper with the glass master as shown in the first embodiment. 2P molding was performed using a Ni stamper to which this reinforcing material was attached, to produce a work stamper. When sol-gel transfer was performed using this work stamper, a sol-gel layer having a fine pattern could be obtained on the entire surface of the 120φ glass substrate. The C1 error rate of the manufactured optical disk was also low. Further, since it is not necessary to manufacture a mother type stamper as in the conventional case, one process can be shortened.

【0010】[0010]

【発明の効果】以上述べてきたように、本発明によるN
iスタンパの製造方法は従来の方法に比べ、平坦性の良
好なNiスタンパが得られ、これを用いて2P成型を行
った紫外線硬化樹脂層の膜厚分布は良好である。本発明
によるゾルゲル転写によるパタ―ン転写法によれば、平
坦性が良好であり、大面積ゾルゲル層へのパタ―ン転写
が可能となる。さらに工程が短縮され、歩留まり、ある
いはコストの面で有利であり、その工業上の意義は大き
い。
As described above, the N according to the present invention is
As for the manufacturing method of the i stamper, a Ni stamper having good flatness is obtained as compared with the conventional method, and the film thickness distribution of the ultraviolet curable resin layer formed by 2P molding using this is good. According to the pattern transfer method by sol-gel transfer according to the present invention, the flatness is good, and the pattern transfer to the large area sol-gel layer becomes possible. Further, the process is shortened, which is advantageous in terms of yield or cost, and its industrial significance is great.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明によるNiスタンパの製造方法の一例を
説明する断面図である。
FIG. 1 is a sectional view illustrating an example of a method for manufacturing a Ni stamper according to the present invention.

【図2】従来のNiスタンパの製造方法を示す断面図で
ある。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a conventional Ni stamper manufacturing method.

【図3】本発明によるパタ―ン転写方法の一例を説明す
る構成図である。
FIG. 3 is a configuration diagram illustrating an example of a pattern transfer method according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ガラス原盤 2 レジスト層 3 Ni層 4 嫌気性硬化樹
脂 5 補強材 6 芯出し治具 7 固定台 8 センタ―ピン 9 シ―ル剤 10 Niスタン
パ 11 ゾルゲル/ガラス基板 12 ワ―クスタ
ンパ 13 ヒ―タプレ―ト 14 ゴムマット 15 Oリング 16 R.P. 17 D.P. 18 断熱板(セ
ラミックス) 19 ベロ―ズ 20 油圧シリン
ダ 21 芯出しカラ―
1 Glass Master 2 Resist Layer 3 Ni Layer 4 Anaerobic Curing Resin 5 Reinforcing Material 6 Centering Jig 7 Fixing Stand 8 Center Pin 9 Sealing Agent 10 Ni Stamper 11 Sol-Gel / Glass Substrate 12 Work Stamper 13 Heater Plate -T 14 Rubber mat 15 O-ring 16 R. P. 17 D. P. 18 Heat Insulation Plate (Ceramics) 19 Bellows 20 Hydraulic Cylinder 21 Centering Color

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 マスタライティング法により微細パタ―
ンレジスト層をガラス原盤上に形成する工程と、該レジ
スト層上にNi層を形成する工程と、前記ガラス原盤上
の該Ni層と補強材とを嫌気性硬化樹脂を用いて貼り合
わせる工程と、前記レジスト層と前記Ni層との間を離
型する工程と、前記Ni層の不用箇所を切断する工程
と、前記補強材からはみだしている前記Ni層と前記補
強材との隙間を樹脂で封止する工程とを備えたことを特
徴とする光ディスク用のNiスタンパの製造方法。
1. A fine pattern by a master writing method.
Forming a resist layer on the glass master, forming a Ni layer on the resist layer, and bonding the Ni layer and the reinforcing material on the glass master using an anaerobic curable resin, A step of releasing the resist layer and the Ni layer from each other, a step of cutting unnecessary portions of the Ni layer, and a gap between the Ni layer protruding from the reinforcing material and the reinforcing material sealed with resin. A method for manufacturing a Ni stamper for an optical disk, which comprises a step of stopping.
【請求項2】 マスタライティング法により、微細パタ
―ンの回転方向が反時計方向であり、凹凸の反転したパ
タ―ンが形成されたレジスト層をガラス原盤に形成する
工程と、該レジスト層上にNi層を形成する工程と、前
記ガラス原盤上のNi層と補強材とを嫌気性硬化樹脂を
用いて貼り合わせる工程と、前記レジスト層と前記Ni
層との間を離型する工程と、前記Ni層の不用箇所を切
断する工程と、前記補強材からはみだしているNi層と
補強材との隙間を樹脂で封止することによりNiスタン
パを製造する工程と、該Niスタンパを用いて2P成型
法によりワ―クスタンパを製造する工程と、ガラス基板
上にスピンコ―ト法によりゾルゲル溶液を塗布してゾル
ゲル層を形成する工程と、該ゾルゲル層の対向面に前記
ワ―クスタンパを平面上に設置する工程と、前記ワ―ク
スタンパを前記ゾルゲル層を有したガラス基板に押圧
し、前記ゾルゲル層に前記ワ―クスタンパから微細パタ
―ンを転写する工程と、前記ゾルゲル層を固化させる工
程とを備えたことを特徴とするパタ―ン転写方法。
2. A step of forming a resist layer on a glass master disk in which a fine pattern is rotated in a counterclockwise direction by a master writing method and a pattern in which unevenness is reversed is formed, and a step of forming the resist layer on the resist layer. A step of forming a Ni layer on the glass substrate, a step of attaching the Ni layer on the glass master and a reinforcing material using an anaerobic curing resin, the resist layer and the Ni layer.
A Ni stamper is manufactured by releasing the layer from the mold, cutting unnecessary portions of the Ni layer, and sealing a gap between the Ni layer protruding from the reinforcing material and the reinforcing material with a resin. And a step of manufacturing a work stamper by a 2P molding method using the Ni stamper, a step of applying a sol-gel solution on a glass substrate by a spin coat method to form a sol-gel layer, and a step of forming the sol-gel layer. A step of installing the work stamper on a flat surface on the opposite surface; a step of pressing the work stamper against a glass substrate having the sol-gel layer to transfer a fine pattern from the work stamper to the sol-gel layer And a step of solidifying the sol-gel layer, which is a pattern transfer method.
JP31971291A 1991-11-08 1991-11-08 Ni stamper manufacturing method and pattern transfer method Expired - Lifetime JP2679489B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP31971291A JP2679489B2 (en) 1991-11-08 1991-11-08 Ni stamper manufacturing method and pattern transfer method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP31971291A JP2679489B2 (en) 1991-11-08 1991-11-08 Ni stamper manufacturing method and pattern transfer method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH05135414A JPH05135414A (en) 1993-06-01
JP2679489B2 true JP2679489B2 (en) 1997-11-19

Family

ID=18113337

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP31971291A Expired - Lifetime JP2679489B2 (en) 1991-11-08 1991-11-08 Ni stamper manufacturing method and pattern transfer method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2679489B2 (en)

Also Published As

Publication number Publication date
JPH05135414A (en) 1993-06-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
AU602027B2 (en) Flexible optical information recording medium and method of producing the same
US4619804A (en) Fabricating optical record media
US5174937A (en) Method for molding of substrate for information recording medium and method for preparing substrate for information recording medium
JP2679489B2 (en) Ni stamper manufacturing method and pattern transfer method
US6800224B2 (en) Production process of optical disc and optical disc produced thereby
JPH06254868A (en) Manufacture of composite precisely molded product
US5344304A (en) Mold for molding of substrate for information recording medium
JPH04370548A (en) Production of base body for optical recording disk and device for executing this method
JP2679454B2 (en) Resin stamper manufacturing method and pattern transfer method using the resin stamper
JP2001126322A (en) Method for producing substrate for information recording medium
JPH0259044B2 (en)
JPH01206007A (en) Manufacture of board for information recording medium
JP2513386B2 (en) Pattern transfer method
JPH04372741A (en) Production of 2p substrate of both side type
JPH01264644A (en) Production of optical disk substrate
JP2000266909A (en) Manufacture of microlens array
JP2612622B2 (en) Roll type stamper, method of manufacturing the same and forming roll
JPH02217234A (en) Roll-type stamper for 2p and production thereof
JPH01180328A (en) Manufacture of information recording medium
JPH02217233A (en) Production of roll-type stamper for 2p
EP0308104A2 (en) Mold for molding of substrate for information recording medium and method for preparing substrate for information recording medium
JPH03230337A (en) Method for backing stamper
JPS62189645A (en) Production of transcription mold for optical disk
JPH04339335A (en) Production of optical disk substrate and optical disk substrate
JPS62231436A (en) Optical disk substrate