JP2674421B2 - No-clean cream solder - Google Patents

No-clean cream solder

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JP2674421B2
JP2674421B2 JP13323792A JP13323792A JP2674421B2 JP 2674421 B2 JP2674421 B2 JP 2674421B2 JP 13323792 A JP13323792 A JP 13323792A JP 13323792 A JP13323792 A JP 13323792A JP 2674421 B2 JP2674421 B2 JP 2674421B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、リフロー半田付け工程
に利用し、電子部品実装後の洗浄を不要にするとともに
印刷性、リフロー性及び信頼性が向上する無洗浄クリー
ム半田に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a non-cleaning cream solder which is used in a reflow soldering process and which eliminates the need for cleaning after mounting electronic components and improves printability, reflowability and reliability.

【0002】[0002]

【従来の技術】近時、プリント配線基板などの洗浄に使
用しているフロンの全廃対策が急務である。
2. Description of the Related Art Recently, there is an urgent need to take measures against the total abolition of CFCs used for cleaning printed wiring boards and the like.

【0003】次に、このように洗浄を必要とする従来の
リフロー半田付け工程について説明する。
Next, a conventional reflow soldering process which requires such cleaning will be described.

【0004】図2は従来のリフロー半田付け工程を示し
ている。図2おいて、この例は、クリーム半田印刷工程
21、接着剤塗布工程22、部品搭載工程23、リフロ
ー工程24、外観検査工程25、洗浄工程26、電気検
査工程27からなる。
FIG. 2 shows a conventional reflow soldering process. In FIG. 2, this example includes a cream solder printing step 21, an adhesive applying step 22, a component mounting step 23, a reflow step 24, an appearance inspection step 25, a cleaning step 26, and an electrical inspection step 27.

【0005】さらに、これらの工程を詳細に説明する。
クリーム半田印刷工程21では、クリーム半田をスクリ
ーン印刷によりプリント回路基板に供給する。続いて、
接着剤塗布工程22では、裏面リフロー時に落下の恐れ
のある部品のマウント部に接着剤を塗布する。部品搭載
工程23では、各部品をマウント機等により搭載する。
リフロー工程24では、赤外線、熱風等の種々の熱源に
より加熱してクリーム半田を溶融し、硬化させて接合す
る。外観検査工程25では、半田接合部にブリッジ、未
半田部、部品ズレ、半田ボール等の異常を目視し、又は
検査機を用いて外観検査を行う。洗浄工程26では、フ
ラックス残渣をフロン、トリクロロエタン等の溶剤を用
いて洗浄する。続いて、電気検査工程27では接続導
通、回路機能等の電気的検査を行う。
Further, these steps will be described in detail.
In the solder paste printing step 21, the solder paste is supplied to the printed circuit board by screen printing. continue,
In the adhesive application step 22, the adhesive is applied to the mount portion of the component that may drop during the back surface reflow. In the component mounting step 23, each component is mounted by a mount machine or the like.
In the reflow step 24, the cream solder is melted by being heated by various heat sources such as infrared rays and hot air, and is cured to be bonded. In the visual inspection step 25, visual inspection is performed by visually observing abnormalities such as bridges, unsoldered portions, component deviations, and solder balls at the solder joints, or by using an inspection machine. In the cleaning step 26, the flux residue is cleaned using a solvent such as freon and trichloroethane. Subsequently, in an electrical inspection step 27, electrical inspection of connection continuity, circuit function and the like is performed.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来のリフロー半田付け工程では、半田付け後に半田付け
箇所及びランド等に相互の絶縁性を損なうフラックス残
渣が残留する。このため、フラックス残渣を除去する洗
浄工程26が必要となっている。
However, in the above-described conventional reflow soldering process, flux residue that impairs mutual insulation remains at the soldering points and lands after soldering. Therefore, the cleaning process 26 for removing the flux residue is required.

【0007】この洗浄には、(1)塩素系炭化水素(フ
ロン、トリクロロエタン等)洗浄、(2)アルコール洗
浄、(3)ケン化剤洗浄、(4)水洗浄、(5)準水系
溶剤洗浄が知られている。
As the cleaning, (1) chlorine-based hydrocarbon (fluorocarbon, trichloroethane, etc.) cleaning, (2) alcohol cleaning, (3) saponifying agent cleaning, (4) water cleaning, (5) semi-aqueous solvent cleaning It has been known.

【0008】このそれぞれの洗浄にあって、(1)塩素
系炭化水素洗浄では、成層圏のオゾンを破壊するためモ
ントリオール議定書により世界的に全廃することが義務
付けられているため利用不可能である。(2)アルコー
ル洗浄では、フラックス残渣の疎水成分(ロジン等有機
成分)に対する洗浄力が弱く、又引火性を有するため防
曝対策が必要となる。(3)ケン化剤洗浄及び(5)準
水系溶剤洗浄では、フラックス残渣の親水成分(活性
剤、イオン成分)、疎水成分共に洗浄力は有しているも
のの水処理装置が必要となる。(4)水洗浄ではクリー
ム半田剤を水溶性に変えなければならず、また水処理装
置が必要となる。このように洗浄はいずれも問題があっ
た。
In each of these cleanings, (1) chlorine-based hydrocarbon cleaning cannot be used because it is obliged to abolish ozone in the stratosphere globally based on the Montreal Protocol. (2) In alcohol cleaning, since the flux residue has a weak cleaning power for hydrophobic components (organic components such as rosin) and has flammability, it is necessary to take anti-exposure measures. In (3) saponification agent cleaning and (5) quasi-aqueous solvent cleaning, a water treatment device is required although both hydrophilic components (activator and ionic components) and hydrophobic components of the flux residue have cleaning power. (4) In water washing, the cream soldering agent must be made water-soluble, and a water treatment device is required. As described above, cleaning has problems.

【0009】本発明は、このような従来の技術における
問題を解決するものであり、洗浄を不要にしてリフロー
半田付けを実現し、かつ、印刷性、リフロー性及び信頼
性を向上できる優れた無洗浄クリーム半田の提供を目的
とする。
The present invention solves the problems in the prior art as described above, and realizes reflow soldering without the need for cleaning, and is excellent in printability, reflowability and reliability. The purpose is to provide cleaning cream solder.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の無洗浄クリーム半田は、金属成分としてS
n、Pb、Agを62:36:2で含有する粒径30μ
m以上のSn/Pb/Ag合金をクリーム半田全重量の
88〜92重量%含有し、活性剤としてエチルアミン塩
酸塩、ジエチルアミン塩酸塩、ジメチルアミン塩酸塩、
トリメチルアミン塩酸塩、ジクロヘキシルアミン塩酸
塩、ジエチルアミン臭化水素酸塩、ジクロヘキシルアミ
ン臭化水素酸塩、n−プロピルアミン塩酸塩、ジ−n−
プロピルアミン塩酸塩、トリ−n−プロピルアミン塩酸
塩のうち単体あるいは複数を、フラックス全重量100
%に対して、0.01重量%以上、0.06重量%未満
含有し、かつ、フマル酸、酒石酸、ステアリン酸、タル
トロン酸、グルタミン酸、イソリンゴ酸、フタル酸、ク
エン酸のうち単体あるいは複数を、フラックス全重量を
100%に対して0.10重量%以上、0.60重量%
未満含有し、ロジンを50重量%以上含有し、金属成分
とフラックスとでクリーム半田が構成され、この両者を
合わせて100重量%となる。
In order to achieve the above object, the non-cleaning cream solder of the present invention contains S as a metal component.
Particle size 30μ containing n, Pb and Ag at 62: 36: 2
88 to 92% by weight of the total weight of the cream solder containing Sn / Pb / Ag alloy of m or more, and ethylamine hydrochloride, diethylamine hydrochloride, dimethylamine hydrochloride as an activator,
Trimethylamine hydrochloride, diclohexylamine hydrochloride, diethylamine hydrobromide, diclohexylamine hydrobromide, n-propylamine hydrochloride, di-n-
Propylamine hydrochloride, tri-n-propylamine hydrochloride, a single or a plurality of flux total weight 100
%, 0.01 wt% or more and less than 0.06 wt%, and fumaric acid, tartaric acid, stearic acid, tartronic acid, glutamic acid, isomalic acid, phthalic acid, citric acid, or a plurality of them. , 100% of total flux, 0.10% by weight or more, 0.60% by weight
Less than 50 wt% or more of rosin, and the cream solder is composed of the metal component and the flux, and the total amount of both is 100 wt%.

【0011】[0011]

【作用】このような構成により、本発明の無洗浄クリー
ム半田は、洗浄を不要にしてリフロー半田付けを実現
し、かつ、印刷性にダレ及びにじみが発生せず高印刷性
と、半田ボールを阻止して良好なリフロー性及びリフロ
ー時の高信頼性が得られる。
With such a structure, the non-cleaning cream solder of the present invention realizes reflow soldering without cleaning, has high printability without sagging or bleeding in printability, and has a high solderability. Good flowability and high reliability during reflow can be obtained by blocking.

【0012】[0012]

【実施例】以下、本発明の無洗浄クリーム半田の実施例
を図面に基づいて詳細に説明する。図1は実施例に係る
リフロー半田付け工程を示している。図1において、こ
の例はクリーム半田印刷工程11、接着剤塗布工程1
2、部品搭載工程13、リフロー工程14、外観検査工
程15、電気検査工程16からなる。
Embodiments of the non-cleaning cream solder of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. FIG. 1 shows a reflow soldering process according to the embodiment. In FIG. 1, this example shows a cream solder printing step 11, an adhesive application step 1
2, component mounting process 13, reflow process 14, appearance inspection process 15, and electrical inspection process 16.

【0013】さらに、これらの工程及びクリーム半田を
詳細に説明する。
Further, these steps and cream solder will be described in detail.

【0014】[0014]

【表1】 [Table 1]

【0015】[0015]

【表2】 [Table 2]

【0016】この(表1)及び(表2)は、クリーム半
田の実施例及び比較例1、2、3、4、5、6、7にお
けるそれぞれのクリーム半田成分と、この実施例及び比
較例1〜7に対する印刷性、リフロー性、信頼性の結果
を示している。
These (Table 1) and (Table 2) show the cream solder components in Examples and Comparative Examples 1, 2, 3, 4, 5, 6, and 7 of cream solder, and this Example and Comparative Example. The results of printability, reflowability, and reliability for 1 to 7 are shown.

【0017】(表1)及び(表2)において、クリーム
半田は、実施例の項目に示すようにSn、Pb、Agを
重量比62:36:2で含有する粒径37〜63μmの
Sn/Pb/Ag合金をクリーム半田全重量の90重量
%含有し、また、フラックス全重量100%に対して活
性剤として、ジエチルアミン塩酸塩単体を0.03重量
%及びフタル酸を0.30重量%含有し、ロジンを60
重量%含有した成分としている。
In (Table 1) and (Table 2), the cream solder contained Sn, Pb, and Ag in a weight ratio of 62: 36: 2, and had a particle size of 37 to 63 μm. 90% by weight of Pb / Ag alloy based on the total weight of cream solder, and 0.03% by weight of diethylamine hydrochloride alone and 0.30% by weight of phthalic acid as an activator with respect to 100% by weight of the total flux. And then 60 rosin
It is a component containing wt%.

【0018】また、同金属成分、同ロジンを含有する比
較例1〜7における活性剤、活性剤量は(表1)及び
(表2)に示す通りである。
Further, the activators and the amount of activators in Comparative Examples 1 to 7 containing the same metal component and the same rosin are as shown in (Table 1) and (Table 2).

【0019】次に、この成分のクリーム半田をリフロー
半田付け工程及び比較例1〜7ともに説明する。
Next, the reflow soldering process of this component cream solder and Comparative Examples 1 to 7 will be described.

【0020】クリーム半田印刷工程11では、(表1)
及び(表2)の実施例の成分のクリーム半田を、スクリ
ーン印刷により部品実装用プリント回路基板及び櫛形電
極基板(JIS2型)にそれぞれ供給する。この際、印
刷直後のクリーム半田状態を観察し、印刷用のスクリー
ン版であるメタルマスクの開口面積に対し、印刷された
クリーム半田面積が20%以上広がっているパターン、
及び20%欠けているパターンの発生率をそれぞれ求め
た。
In the solder paste printing step 11, (Table 1)
And the cream solder of the components of the examples of (Table 2) are respectively supplied by screen printing to a component mounting printed circuit board and a comb-shaped electrode board (JIS2 type). At this time, observing the cream solder state immediately after printing, a pattern in which the printed cream solder area spreads by 20% or more with respect to the opening area of the metal mask which is the screen plate for printing,
And the occurrence rates of patterns lacking 20% were obtained.

【0021】接着剤塗布工程12では、裏面リフロー時
に落下の恐れのある部品のマウント部に接着剤を塗布し
た。
In the adhesive application step 12, the adhesive is applied to the mount portion of the component which may be dropped during the back surface reflow.

【0022】続いて 部品搭載工程13では、0.65
mmピッチ100ピンQFP(フラットパッケージ)1
0個などの各部品をマウント機により搭載した。
Subsequently, in the component mounting step 13, 0.65
mm pitch 100-pin QFP (flat package) 1
Each component such as 0 was mounted by a mount machine.

【0023】さらにリフロー工程14では、熱風式のリ
フロー炉により加熱して半田を溶融し、硬化させて接合
した。
Further, in the reflow step 14, the solder is melted by heating in a hot-air type reflow furnace, and the solder is hardened and joined.

【0024】その後、外観検査工程15では、0.65
mmピッチQFPのリード線の半田接合部にブリッジ、
未半田部及び半田ボール等の発生を観察した。この際、
半田ブリッジは全リード間に対する発生率をカウント
し、未半田部は全リード接合部に対する発生率をカウン
トした。さらに半田ボールは任意10箇所のリード間に
発生する半田ボール数をカウントし、その平均値をそれ
ぞれ求めた。
Then, in the visual inspection step 15, 0.65
Bridge to the solder joint of the lead wire of mm pitch QFP,
Occurrence of unsoldered parts and solder balls was observed. On this occasion,
The solder bridge counts the occurrence rate for all leads, and the unsoldered part counts the occurrence rate for all lead joints. Furthermore, the number of solder balls generated between 10 arbitrary leads was counted, and the average value was calculated.

【0025】ここで比較例1のみ従来方法である洗浄を
行う。この洗浄工程では、5%エタノールを含むフロン
113により煮沸してベイパー洗浄を行う。
Here, only the comparative example 1 is washed by the conventional method. In this cleaning step, vapor cleaning is performed by boiling with Freon 113 containing 5% ethanol.

【0026】最後に電気検査工程16では、上記実装基
板についてヒートサイクル試験を行う。条件は−40℃
で30分間放置後、1分以内に+85℃へ昇温し、30
分間放置し、再び−40℃へ降温する。このサイクルを
1000回繰り返す。試験後QFPリード剥離強度をボ
ンドテスターにより測定する。
Finally, in the electrical inspection step 16, a heat cycle test is conducted on the mounting board. Conditions are -40 ℃
After leaving it for 30 minutes, raise the temperature to + 85 ° C within 1 minute, and
Let stand for a minute and then lower the temperature again to -40 ° C. This cycle is repeated 1000 times. After the test, the QFP lead peel strength is measured with a bond tester.

【0027】櫛形電極基板については電圧印加耐湿性試
験を行った。この条件は60℃、90%RH、DC16
Vを印加して1000時間放置を行うものである。試験
後対抗電極間の絶縁抵抗を測定する。
The comb-shaped electrode substrate was subjected to a voltage application humidity resistance test. This condition is 60 ℃, 90% RH, DC16
V is applied and left for 1000 hours. After the test, measure the insulation resistance between the counter electrodes.

【0028】印刷性、リフロー性、信頼性の結果は、
(表1)及び(表2)中の項目に示すように優れた効果
が得られている。
The results of printability, reflowability and reliability are
As shown in the items in (Table 1) and (Table 2), excellent effects are obtained.

【0029】以上のように本実施例によれば、クリーム
半田金属成分の微粒径をカットし、37μm以上にし、
かつ、含有率を適量であるクリーム半田全重量の90重
量%にすることにより印刷時のダレが抑制できる。すな
わち、(表1)及び(表2)に示すようにメタルマスク
の開口面積に対し、印刷されたクリーム半田面積が20
%以上広がっているパターンの発生率が0%であった。
As described above, according to this embodiment, the fine particle diameter of the cream solder metal component is cut to 37 μm or more,
In addition, when the content is 90% by weight of the total weight of the cream solder, which is an appropriate amount, the sagging at the time of printing can be suppressed. That is, as shown in (Table 1) and (Table 2), the printed cream solder area is 20 times the opening area of the metal mask.
The rate of occurrence of patterns that spread by more than 0.1% was 0%.

【0030】さらに、リフロー時の半田ボールの発生が
抑制される。すなわち、ICリード間平均発生数が10
個以下であった。
Furthermore, generation of solder balls during reflow is suppressed. That is, the average number of occurrences between IC leads is 10
Or less.

【0031】また、活性剤にハロゲン化物(ジエチルア
ミン塩酸塩等)を適量(0.01重量%以上、0.06
重量%未満)と、有機酸(フタル酸等)を適量(0.1
0重量%以上、0.60重量%未満)含有し、さらにロ
ジンを一定量(50重量%以上)含有することにより、
加熱時の金属成分及び基板ランド酸化を加え、半田ボー
ルの発生を抑制し、かつ、絶縁性を保持している。すな
わち、櫛形電極基板による電圧印加耐湿性試験、すなわ
ち、60℃、90%RH、DC16V印加、1000時
間放置試験後対抗電極間の絶縁抵抗が1×1012Ω以上
であった。
Further, an appropriate amount (0.01% by weight or more, 0.06% by weight) of a halide (diethylamine hydrochloride, etc.) is used as the activator.
And less than 0.1% by weight of organic acid (phthalic acid, etc.)
0% by weight or more and less than 0.60% by weight), and by further containing a fixed amount (50% by weight or more) of rosin,
By adding metal components and substrate land oxidation during heating, generation of solder balls is suppressed and insulation is maintained. That is, the insulation resistance between the opposing electrodes was 1 × 10 12 Ω or more after the voltage application humidity resistance test using the comb-shaped electrode substrate, that is, after the test at 60 ° C., 90% RH, DC16V application, 1000 hours standing.

【0032】濡れ性・半田接合強度を保持している。す
なわち、ヒートサイクル試験における−40℃で30分
間放置、+85℃で30分間放置のサイクルを1000
回繰り返した後のQFPリード線の剥離強度が0.7k
g以上であった。
Maintains wettability and solder joint strength. That is, 1000 cycles of the cycle of 30 minutes at −40 ° C. and 30 minutes at + 85 ° C. in the heat cycle test were used.
The peel strength of the QFP lead wire after 0.7 times is 0.7k
It was more than g.

【0033】[0033]

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の無洗浄クリーム半田は、金属成分としてSn、Pb、
Agを62:36:2で含有する粒径30μm以上のS
n/Pb/Ag合金をクリーム半田全重量の88〜92
重量%含有し、活性剤としてエチルアミン塩酸塩、ジエ
チルアミン塩酸塩、ジメチルアミン塩酸塩、トリメチル
アミン塩酸塩、ジクロヘキシルアミン塩酸塩、ジエチル
アミン臭化水素酸塩、ジクロヘキシルアミン臭化水素酸
塩、n−プロピルアミン塩酸塩、ジ−n−プロピルアミ
ン塩酸塩、トリ−n−プロピルアミン塩酸塩のうち単体
あるいは複数を、フラックス全重量100%に対して、
0.01重量%以上、0.06重量%未満含有し、か
つ、フマル酸、酒石酸、ステアリン酸、タルトロン酸、
グルタミン酸、イソリンゴ酸、フタル酸、クエン酸のう
ち単体あるいは複数を、フラックス全重量を100%に
対して0.10重量%以上、0.60重量%未満含有
し、ロジンを50重量%以上含有するようにしているた
め、洗浄を不要にしてリフロー半田付けを実現し、か
つ、クリーム半田の印刷時にダレ及びにじみが発生せず
高印刷性を確保できるとともに、リフロー半田付け時に
半田ボールの発生を阻止して良好なリフロー性及びリフ
ロー時の高信頼性が得られるという効果を有する。
As is apparent from the above description, the non-cleaning cream solder of the present invention contains Sn, Pb, and
S containing Ag of 62: 36: 2 and having a particle size of 30 μm or more
n / Pb / Ag alloy 88-92 of the total weight of cream solder
% By weight, activator ethylamine hydrochloride, diethylamine hydrochloride, dimethylamine hydrochloride, trimethylamine hydrochloride, dichlorhexylamine hydrochloride, diethylamine hydrobromide, diclohexylamine hydrobromide, n-propyl Amine hydrochloride, di-n-propylamine hydrochloride, tri-n-propylamine hydrochloride, a single substance or a plurality thereof, with respect to 100% of the total flux,
0.01 wt% or more and less than 0.06 wt%, and fumaric acid, tartaric acid, stearic acid, tartronic acid,
Glutamic acid, isomalic acid, phthalic acid, and citric acid are contained alone or in plural, and the total flux weight is 100%, 0.10 wt% or more and less than 0.60 wt%, and rosin is 50 wt% or more. Therefore, it is possible to realize reflow soldering without cleaning, and to ensure high printability without sagging or bleeding when printing cream solder , and at the time of reflow soldering.
This has the effect of preventing the generation of solder balls and obtaining good reflowability and high reliability during reflow.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の無洗浄クリーム半田の実施例に係るリ
フロー半田付け工程を示す流れ図
FIG. 1 is a flowchart showing a reflow soldering process according to an embodiment of a non-cleaning cream solder of the present invention.

【図2】従来のリフロー半田付け工程を示す流れ図FIG. 2 is a flowchart showing a conventional reflow soldering process.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 クリーム半田印刷工程 12 接着剤塗布工程 13 部品搭載工程 14 リフロー工程 15 外観検査工程 16 電気検査工程 11 Cream Solder Printing Process 12 Adhesive Application Process 13 Component Mounting Process 14 Reflow Process 15 Appearance Inspection Process 16 Electrical Inspection Process

フロントページの続き (56)参考文献 特開 平2−290693(JP,A) 特開 平4−66291(JP,A) 特開 平4−94891(JP,A) 特開 平4−100692(JP,A) 特開 昭55−81097(JP,A) 特開 平6−170581(JP,A) 特開 平6−262386(JP,A) 特開 昭55−54298(JP,A) 特公 平6−75796(JP,B2) 特公 平3−67795(JP,B2) 竹本正ら監訳 「ソルダリング イン エレクトロニクス」 (昭61−8− 30)、日刊工業新聞社、第160−164頁Continuation of the front page (56) Reference JP-A-2-290693 (JP, A) JP-A-4-66291 (JP, A) JP-A-4-94891 (JP, A) JP-A-4-100692 (JP , A) JP-A-55-81097 (JP, A) JP-A-6-170581 (JP, A) JP-A-6-262386 (JP, A) JP-A-55-54298 (JP, A) JP-B 6-75796 (JP, B2) Japanese Patent Publication 3-67795 (JP, B2) Translated by Masatake Takemoto et al. "Soldering in Electronics" (Sho 61-8-30), Nikkan Kogyo Shimbun, pp. 160-164

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 金属成分としてSn、Pb、Agを
2:36:2で含有する粒径30μm以上のSn/Pb
/Ag合金をクリーム半田全重量の88〜92重量%含
有し、活性剤としてエチルアミン塩酸塩、ジエチルアミ
ン塩酸塩、ジメチルアミン塩酸塩、トリメチルアミン塩
酸塩、ジクロヘキシルアミン塩酸塩、ジエチルアミン臭
化水素酸塩、ジクロヘキシルアミン臭化水素酸塩、n−
プロピルアミン塩酸塩、ジ−n−プロピルアミン塩酸
塩、トリ−n−プロピルアミン塩酸塩のうち単体あるい
は複数を、フラックス全重量100%に対して、0.0
1重量%以上、0.06重量%未満含有し、かつ、フマ
ル酸、酒石酸、ステアリン酸、タルトロン酸、グルタミ
ン酸、イソリンゴ酸、フタル酸、クエン酸のうち単体あ
るいは複数を、フラックス全重量100%に対して0.
10重量%以上、0.60重量%未満含有し、ロジンを
50重量%以上含有することを特徴とする無洗浄クリー
ム半田。
1. Sn, Pb, and Ag as metal components are 6
Sn / Pb with a particle size of 30 μm or more contained at 2: 36: 2
/ Ag alloy is contained in an amount of 88 to 92% by weight based on the total weight of the cream solder, and ethylamine hydrochloride, diethylamine hydrochloride, dimethylamine hydrochloride, trimethylamine hydrochloride, diclohexylamine hydrochloride, diethylamine hydrobromide, Dichlorohexylamine hydrobromide, n-
Propylamine hydrochloride, di-n-propylamine hydrochloride, tri-n-propylamine hydrochloride alone or in a plurality, 0.0% to 100% of the total flux.
Contains 1% by weight or more and less than 0.06% by weight, and uses fumaric acid, tartaric acid, stearic acid, tartronic acid, glutamic acid, isomalic acid, phthalic acid, or citric acid as a single or a plurality of fluxes to a total weight of 100%. On the other hand, 0.
A non-cleaning cream solder containing 10% by weight or more and less than 0.60% by weight and 50% by weight or more of rosin.
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