JP2672972B2 - Semiconductor wafer inspection system - Google Patents

Semiconductor wafer inspection system

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JP2672972B2
JP2672972B2 JP63116726A JP11672688A JP2672972B2 JP 2672972 B2 JP2672972 B2 JP 2672972B2 JP 63116726 A JP63116726 A JP 63116726A JP 11672688 A JP11672688 A JP 11672688A JP 2672972 B2 JP2672972 B2 JP 2672972B2
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雅彦 杉山
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Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明は、半導体ウエハの検査装置に関する (従来の技術) 半導体の製造工程では、これら半導体が使用される温
度環境を想定し、ウエハ状態でその温度特性試験、環境
特性試験を行う必要がある。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Object of the Invention] (Field of Industrial Application) The present invention relates to a semiconductor wafer inspection apparatus (prior art). In a semiconductor manufacturing process, a temperature environment in which these semiconductors are used is assumed. However, it is necessary to perform the temperature characteristic test and the environmental characteristic test in the wafer state.

また、近年スーパーコンピュータはますます大型化、
高速化が進んでおり、半導体チップも高集積化と高速化
が要求されている。これに伴い、半導体チップ単位面積
当りの消費電力量も増加しており、発熱量も増えるた
め、コンピュータに実装される前に、各々のチップは冷
却部を有するパッケージに収納される。
Also, in recent years, supercomputers have become larger and larger,
The speeding up is progressing, and the semiconductor chips are also required to have high integration and speeding up. Along with this, the amount of power consumption per unit area of the semiconductor chip is also increasing and the amount of heat generation is also increasing. Therefore, each chip is housed in a package having a cooling unit before being mounted on a computer.

ところが、ウエハ状態では検査の過程で半導体チップ
の温度が上昇し、著しい場合には、半導体チップが焼損
する危険があった。そこで、載置体を冷却し、コンピュ
ータ実装時と同様な条件下で検査する必要が生じてい
た。
However, in the wafer state, the temperature of the semiconductor chip rises during the inspection process, and if it is significant, there is a risk of burning the semiconductor chip. Therefore, it is necessary to cool the mounting body and inspect it under the same conditions as when mounting the computer.

これらの検査を行うため、従来より載置体上に載置さ
れたウエハを冷却する機構が開発・実用化が行われてい
る。
In order to carry out these inspections, a mechanism for cooling a wafer mounted on a mounting body has been developed and put into practical use.

第5図に従来のプローブ装置のウエハを冷却する機構
を説明する。
FIG. 5 illustrates a mechanism for cooling a wafer of a conventional probe device.

上記プローブ装置(1)は、基台(2)上に平面方向
移動可能な載置体(3)と、この載置体(3)の上空部
に平行して配置されたヘッドプレート(4)と、上記載
置体(3)面を冷却させる冷却循環系(5)とから構成
されている。
The probe device (1) includes a mounting body (3) which is movable in a planar direction on a base (2), and a head plate (4) which is arranged in parallel with a space above the mounting body (3). And a cooling circulation system (5) for cooling the surface of the mounting body (3).

従って、上記プローブ装置(1)は、載置体(3)と
連通した冷却循環系(5)のポンプ(6)を駆動して循
環させて冷却する。
Therefore, the probe device (1) drives the pump (6) of the cooling circulation system (5) which communicates with the mounting body (3) to circulate and cool the pump.

そして、冷却された載置体(3)に半導体ウエハ
(7)(以降、ウエハと略記する)を載置して検査して
いる。
Then, the semiconductor wafer (7) (hereinafter abbreviated as a wafer) is mounted on the cooled mounting body (3) and inspected.

(発明が解決しようとする課題) しかしながら、従来のプローブ装置(1)では冷却さ
れたステージ(3)から放射冷却によって近傍の空気が
急激に冷される。この冷された空気は上記ステージ
(3)に結露をもたらす。
(Problem to be Solved by the Invention) However, in the conventional probe apparatus (1), the air in the vicinity is rapidly cooled by radiative cooling from the cooled stage (3). This chilled air causes condensation on the stage (3).

この結露された水滴は、さらに冷却され霜状に変化し
て載置体(3)を凍結することになる。
The condensed water droplets are further cooled and changed into a frost state to freeze the mounting body (3).

この凍結した載置体(3)にウエハ(7)を載置して
も載置体(3)と密着載置させることができず、冷却伝
導率が悪くなり設定の冷却をすることができないという
欠点があった。
Even if the wafer (7) is mounted on the frozen mounting body (3), the wafer (7) cannot be mounted in close contact with the mounting body (3), the cooling conductivity deteriorates, and the set cooling cannot be performed. There was a drawback.

また、載置体(3)に発生した霜は、載置されたウエ
ハ(7)を凝固させてしまうので、搬送の際に離脱させ
ることが困難であった。
Further, since the frost generated on the mounting body (3) solidifies the mounted wafer (7), it was difficult to separate the wafer (7) during transportation.

そこで、本発明の目的とするところは、上述した従来
の問題点に鑑みなされたもので、被検査体を載置した載
置体を所望の温度に制御して、被検査体の電気的特性を
検査することができる半導体ウエハの検査装置を提供す
ることにある。
Therefore, the object of the present invention is made in view of the above-mentioned conventional problems, by controlling the mounting body on which the inspection object is placed to a desired temperature, the electrical characteristics of the inspection object. An object of the present invention is to provide a semiconductor wafer inspection apparatus capable of inspecting a semiconductor wafer.

〔発明の構成〕[Configuration of the invention]

(課題を解決するための手段) 本発滅は、半導体ウエハの電気的特性の検査を行う半
導体ウエハの検査装置において、前記半導体ウエハを載
置する載置体と、この載置体を冷却する冷却手段と、こ
の冷却手段から供給される冷却液の流路に設けられたブ
ロックと、このブロックの表面に光を入射し、その反射
光によりブロックの表面に発生した霜を検出する検出手
段と、この検出手段で検出された信号にもとづいて予め
記憶されたプログラムにより前記冷却手段を制御する制
御手段とを具備したことを特徴とする。
(Means for Solving the Problem) In the present extermination, in a semiconductor wafer inspection apparatus that inspects the electrical characteristics of a semiconductor wafer, a mounting body on which the semiconductor wafer is mounted and the mounting body are cooled. Cooling means, a block provided in the flow path of the cooling liquid supplied from this cooling means, and a detection means for detecting light that is incident on the surface of this block and frost generated on the surface of the block by the reflected light And a control means for controlling the cooling means by a program stored in advance based on the signal detected by the detection means.

また、前記ブロックは、前記載置体より体積が小さい
ことを特徴とする。
Further, the block has a smaller volume than the mounting body described above.

したがって、本発明によれば、ブロックを載置体より
体積が小さくすることにより、載置体よりブロックが早
く冷却されて霜の発生も早いため、そのブロックの表面
に発生した霜を検出手段によって検出することにより、
載置体に霜が発生する前に冷却手段を制御できる。
Therefore, according to the present invention, by making the block smaller in volume than the mounting body, the block is cooled faster than the mounting body and frost is generated quickly, so that the frost generated on the surface of the block is detected by the detection means. By detecting
The cooling means can be controlled before frost is formed on the mounting body.

(実施例) 本発明装置を、半導体ウエハ製造工程中に、半導体ウ
エハを冷温した状態で断線、ショート、その他の電気的
検査を行う低温ウエハプローバ(以下、プローバと略記
する)に適用した一実施例について、図面を参照して説
明する。
(Embodiment) One embodiment in which the device of the present invention is applied to a low temperature wafer prober (hereinafter abbreviated as a prober) that performs disconnection, short circuit, and other electrical inspections in a state where the semiconductor wafer is cold during the semiconductor wafer manufacturing process. Examples will be described with reference to the drawings.

本実施例プローバの外観構成について第4図を参照し
て説明する。
The external structure of the prober of this embodiment will be described with reference to FIG.

上記プローバ(8)は包囲手段(9)でプローブ装置
を略気密包囲して大気と遮断した空間部に乾燥気体を流
入して、載置体を冷却して、この冷温された載置体にウ
エハを載置して、熱伝導によりこのウエハを冷温して検
査するものである。
The prober (8) substantially air-tightly surrounds the probe device by the enclosing means (9) to allow a dry gas to flow into a space that is shielded from the atmosphere to cool the mounting body, and to cool the mounting body. A wafer is placed, and the wafer is cooled and inspected by heat conduction for inspection.

上記プローバ(8)は大別して、ウエハ搬送のローダ
部(10)と、ウエハの電極にプローブカード(11)を接
触させて電気的特性の検査する検査部(12)と、ウエハ
を載置する載置部(第3図13)とから構成されている。
The prober (8) is roughly classified into a loader section (10) for wafer transfer, an inspection section (12) for inspecting electrical characteristics by bringing a probe card (11) into contact with an electrode of the wafer, and a wafer is placed thereon. It is composed of a mounting part (Fig. 3).

上記ローダ部(10)は、検査部(12)及び載置部(第
3図13)の配置構成は上記ローダ部(10)が、第3図に
示すように上記検査部(12)の側面、例えば右側面に並
列して配置している。上記載置部(13)は上記検査部
(12)の基台(14)面に2軸方向に移動可能に設けら
れ、この載置部(13)の頂面にはウエハ(15)が載置さ
れるように配置されている。
In the loader section (10), the inspection section (12) and the placing section (FIG. 3) are arranged so that the loader section (10) has a side surface of the inspection section (12) as shown in FIG. , For example, they are arranged in parallel on the right side surface. The mounting part (13) is provided on the base (14) surface of the inspection part (12) so as to be movable in two axial directions, and the wafer (15) is mounted on the top surface of the mounting part (13). It is arranged to be placed.

そして、上記ローダ部(10)は、検査部(12)の右側
面に設けられた複数枚のウエハ(15)が一定間隔を設け
て段階的に積載されたカセット(16)、例えばφ100mm
ウエハ(15)を25枚収納したカセット(16)から取出
し、回転アーム(17)によって検査部(12)側の載置部
(13)に受け渡す。
The loader section (10) is a cassette (16) in which a plurality of wafers (15) provided on the right side surface of the inspection section (12) are stacked stepwise at regular intervals, for example, φ100 mm.
25 wafers (15) are taken out from a cassette (16) containing 25 sheets and transferred by a rotating arm (17) to a mounting section (13) on the inspection section (12) side.

この受け渡しは、上記回転アーム(17)がローダ部
(10)側から、検査部(13)側に回転して、上記載置部
(13)上空に配置する。この載置部(13)の頂面に配置
した載置体(18)から突出するピンで上記、回転アーム
(17)よりウエハ(15)を授受する。
In this transfer, the rotating arm (17) rotates from the loader section (10) side to the inspection section (13) side and is placed above the placing section (13). The wafer (15) is transferred from the rotating arm (17) by a pin projecting from the mounting body (18) arranged on the top surface of the mounting portion (13).

上記検査部(12)は、敷設された基台(14)から立設
した柱に上記基台(14)と平行にヘッドプレート(19)
が覆設している。
The inspection unit (12) has a head plate (19) parallel to the base (14) on a pillar erected from the laid base (14).
Is covered.

このヘッドプレート(19)にはプローブ触針(20)
が、載置体(18)上の頂面に載置したウエハ(15)の電
極に接触する如く設けられている。
This head plate (19) has probe stylus (20)
Are provided so as to contact the electrodes of the wafer (15) mounted on the top surface of the mounting body (18).

上記載置部(13)は、上記敷設した基台(14)上に移
動手段、例えば、レールとベアリングで水平移動するよ
うに2軸駆動可能に設けられている。
The placing section (13) is provided on the laid base (14) so as to be biaxially driven so as to be horizontally moved by a moving means, for example, a rail and a bearing.

さらに、上記2軸の上部には上下動駆動可能な一軸が
設けられている。
Further, a single shaft that can be driven to move up and down is provided above the two shafts.

この一軸の上部には水平方向に周回転可能なθ回転部
が設けられている。
At the upper part of this uniaxial shaft, a θ rotating part is provided which can rotate in the horizontal direction.

ここで、θ回転部分を載置体(18)と称する。 Here, the θ rotation portion is referred to as a mounting body (18).

この載置体(18)には冷却させるための冷却循環系
(21)が設けられている。
The placing body (18) is provided with a cooling circulation system (21) for cooling.

この冷却循環系(21)は、第1図に示すように、載置
体(18)の中空部に埋設された熱交換器、例えば熱交換
ジャケット(図示せず)と、外部に設けられた冷却槽
(22)とフレシキブルチューブ(23)で配管されてい
る。
As shown in FIG. 1, the cooling circulation system (21) is provided outside with a heat exchanger, for example, a heat exchange jacket (not shown) embedded in the hollow portion of the mounting body (18). It is connected by a cooling tank (22) and a flexible tube (23).

ここで、冷却液の循環はポンプ(24)を駆動させて行
っている。
Here, the circulation of the cooling liquid is performed by driving the pump (24).

このような装置において、ウエハ(15)を冷温して、
プローブ触針(20)を接触してウエハ(15)の電気的特
性を検査するには乾燥気体を流入していても、低温冷却
にするに従って、霜が発生することがあり、このように
ウエハ(15)上に霜が発生することを防ぐために常に霜
が発生する前の冷温を感じて、霜が発生しないようにす
る手段が必要である。
In such an apparatus, the wafer (15) is cooled and heated,
In order to contact the probe stylus (20) and inspect the electrical characteristics of the wafer (15), frost may be generated as the temperature is lowered, even if a dry gas is flowing in. (15) In order to prevent the formation of frost on top, it is necessary to always feel the cold temperature before the formation of frost and prevent the formation of frost.

即ち、載置体(18)に霜が発生する冷却温度を感知し
て、乾燥気体の湿度より乾湿度にするか、冷却液を供給
しているポンプを停止させる等の手段を実施する必要が
ある。
That is, it is necessary to sense the cooling temperature at which frost is generated on the mounting body (18) and to make the dry humidity more than the humidity of the dry gas, or to implement a means such as stopping the pump supplying the cooling liquid. is there.

本実施例の特徴的構成は、上述したように載置体(1
8)より冷却する冷却部を設け、この冷却部に発生した
霜を検知したのちに冷却温度を供給しているポンプ等を
停止する等にしたことにある。
The characteristic configuration of this embodiment is that the mounting body (1
8) The cooling unit for cooling is provided, and after detecting the frost generated in this cooling unit, the pump or the like supplying the cooling temperature is stopped.

上記冷却手段は、載置体(18)より冷却される冷却部
(25)と、この冷却部(25)の頂面に発生した霜の有無
を検出する検出部と、この検出部で検出された霜情報に
基づいて、ポンプ(24)の回転停止の制御部とから構成
されている。
The cooling means includes a cooling section (25) cooled by the mounting body (18), a detection section for detecting the presence or absence of frost on the top surface of the cooling section (25), and a detection section for detecting the frost. And a control unit for stopping rotation of the pump (24) based on the frost information.

上記冷却部(25)は冷却液、例えばエチレングリコー
ルが載置体(18)を冷却する熱交換ジャケット及び容器
(26)を通過して循環して、載置体(18)より低温にな
るよう構成されている。
The cooling unit (25) circulates a cooling liquid, for example, ethylene glycol, through the heat exchange jacket and the container (26) for cooling the mounting body (18) so that the temperature becomes lower than that of the mounting body (18). It is configured.

上記冷却部(25)は、載置体(18)内部に循環される
冷却液の流量及び流速が一定であれば、冷却されるもの
の体積が小さい方が良く冷却されることを利用すると、
上記載置体(18)の体積より小さいブロック継手(25
a)を、上記載置体(18)の流量入口にニップル継手(2
5b)を介して固着し、このブロック継手(25a)を通過
して、熱交換ジャケットに送流するように設けられるこ
とになる。
If the cooling unit (25) is cooled, the smaller the volume is, the better if the flow rate and flow velocity of the cooling liquid circulated in the mounting body (18) are constant,
The block joint (25
a) into the flow inlet of the above-mentioned mounting body (18) with a nipple joint (2
It is fixed so as to pass through the block joint (25a) and is fed to the heat exchange jacket.

上記ブロック継手(25a)の直交した一端からエルボ
(25c)及びポンプ(24)を介して容器(26)内に連通
して、この容器(26)内の冷却液(27)を上記ブロック
継手(25a)及び載置体(18)を冷却するように上記ポ
ンプ(24)で循環させている。
The block joint (25a) is connected to the inside of the container (26) through the elbow (25c) and the pump (24) from the orthogonal ends of the block joint (25a), and the cooling liquid (27) in the container (26) is passed through the block joint (25). The pump (24) is circulated so as to cool the mounting plate (18) and the mounting body (18).

このポンプ(24)の駆動はCPU(28)により制御され
ている。
The drive of this pump (24) is controlled by the CPU (28).

ここで、上記ブロック継手(25a)は、上記載置体(1
8)の表面と同面に鏡面(29)を設けて霜の発生が容易
に検出可能になっている。
Here, the block joint (25a) is the mounting body (1
A mirror surface (29) is provided on the same surface as the surface of 8) so that the occurrence of frost can be easily detected.

次に、上記鏡面(29)に発生した霜を検出する検出手
段(30)について説明する。
Next, the detecting means (30) for detecting the frost generated on the mirror surface (29) will be described.

上記検出手段(30)は、上記鏡面(29)と対向してヘ
ッドプレート(19)の底面に設けられている。
The detection means (30) is provided on the bottom surface of the head plate (19) so as to face the mirror surface (29).

上記検出手段(30)は上記検出手段(30)の発光部
(31)からの照射されたビームが受光素子(32)に入射
されるように構成されている。
The detecting means (30) is configured such that the beam emitted from the light emitting section (31) of the detecting means (30) is incident on the light receiving element (32).

ここで、上記鏡面(29)に霜が無ければ鏡面(29)の
反射によって、受光素子(32)側に霜無しの信号として
CPU(28)が判断している。
Here, if there is no frost on the mirror surface (29), the light on the light receiving element (32) side is reflected by the reflection on the mirror surface (29) as a frost-free signal.
The CPU (28) is making the decision.

また、霜が、第2図に示すように、発生することによ
り鏡面(29)が霜(29a)により反射光が受光素子(3
2)に入射されないので、CPU(28)では霜(29a)有り
と判断して、冷却液を逆流しているポンプ(24)を停止
するが、または、流量の調整を行うように予めプログラ
ムに記憶させる構成になっている。
Further, as shown in FIG. 2, when the frost is generated, the mirror surface (29) causes the reflected light to be reflected by the frost (29a).
Since it is not incident on 2), the CPU (28) judges that there is frost (29a) and stops the pump (24) that is back-flowing the cooling liquid, or the program is programmed beforehand to adjust the flow rate. It is designed to be stored.

次に作用について説明する。 Next, the operation will be described.

カセット(16)から取出したウエハ(15)を、検査部
(12)側の載置体(18)に搬送して、この検査部(12)
の囲包空間に乾燥気体を流入して、上記載置体(18)の
熱交換ジャケットに冷却液、例えばエチレングリコール
を容器からポンプ(24)で循環させる。
The wafer (15) taken out from the cassette (16) is transferred to the mounting body (18) on the inspection section (12) side, and the inspection section (12) is transferred.
A dry gas is caused to flow into the enclosure space of (1), and a cooling liquid, for example, ethylene glycol, is circulated from the container by a pump (24) to the heat exchange jacket of the mounting body (18).

次に本実施例の特徴的作用について説明する。 Next, the characteristic operation of this embodiment will be described.

上記冷却液(27)は、ポンプ(24)でブロック継手
(25a)の内空部に送流され、つぎに載置体(18)内空
部の熱交換ジャケット順に送流され容器(26)内に循環
する。
The cooling liquid (27) is sent to the inner space of the block joint (25a) by the pump (24), and then to the heat exchange jacket in the inner space of the mounting body (18) in this order in the container (26). Circulate inside.

設定温に載置体(18)を冷却進行中に、上記ブロック
継手(25a)の鏡面(29)に霜が発生し始めると、この
鏡面(29)の対向面に設けられた発光部(31)のビーム
が上記霜によって受光素子(32)側に入射されなくな
る。
When frost starts to form on the mirror surface (29) of the block joint (25a) while the mounting body (18) is being cooled to the set temperature, the light emitting section (31) provided on the surface opposite the mirror surface (29). ) Beam is not incident on the light receiving element (32) side due to the frost.

すると、CPU(28)では霜が発生したと感知して、冷
却液(27)を供給しているポンプ(24)を載置体(18)
が冷却進行しないように制御して、このブロック継手
(25a)より、少し温度の高い載置体には霜が発生され
ることなくウエハ(15)を検査することが可能になる。
Then, the CPU (28) senses that frost has occurred, and mounts the pump (24) supplying the cooling liquid (27) on the mounting body (18).
It is possible to inspect the wafer (15) from the block joint (25a) without generating frost on the mounting body, which is controlled so that the cooling does not proceed.

上記では、ブロック継手(25a)と、ポンプ(24)の
間に中継ブロック(32)が配置した中継ブロック(32)
は、上記載置体(18)が平面方向に移動する際にフレシ
キブルチューブ(23)の長さを調整するものである。
In the above, the relay block (32) in which the relay block (32) is arranged between the block joint (25a) and the pump (24).
Is for adjusting the length of the flexible tube (23) when the mounting body (18) moves in the plane direction.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

本発明は、ブロックの表面に光を入射し、その反射光
によりブロックの表面に発生した霜を検出し、この検出
された信号にもとづいて予め記憶されたプログラムによ
り冷却手段を制御することにより、載置体に霜が発生す
る前に、温度制御することができるので、載置体に霜が
発生しない状態で半導体ウエハの電気的特性の検査を行
うことができる。
The present invention, by entering light on the surface of the block, detecting the frost generated on the surface of the block by the reflected light, by controlling the cooling means by a program stored in advance based on the detected signal, Since the temperature can be controlled before frost is generated on the mounting body, it is possible to inspect the electrical characteristics of the semiconductor wafer in a state where frost is not generated on the mounting body.

また、ブロックを載置体より体積が小さくすることに
より、載置体よりブロックが早く冷却されて霜の発生も
早いため、そのブロックの表面に発生した霜を検出手段
によって検出することにより、載置体に霜が発生する前
に冷却手段を制御できる。
Further, by making the block smaller in volume than the mounting body, the block is cooled faster than the mounting body and frost is generated quickly, so that the frost generated on the surface of the block is detected by the detection means, The cooling means can be controlled before the frost is generated on the placement body.

【図面の簡単な説明】 第1図は本発明低温プローブ装置の特徴的構成を説明す
るための説明図、第2図は第1図の載置体に設けたブロ
ック継手の鏡面に発生した霜の状態を説明する説明図、
第3図は第1図の全体構成の配置を説明するための説明
図、第4図は本発明低温プローブ装置を一実施例の低温
ウエハプローバの外観構成図、第5図は従来のプローブ
装置を説明する説明図である。 25a……ブロック継手、29……鏡面 29a……霜、30……検出手段 31……発光部、32……受光素子
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is an explanatory view for explaining a characteristic structure of a cryogenic probe device of the present invention, and FIG. 2 is a frost generated on a mirror surface of a block joint provided on the mounting body of FIG. Explanatory diagram for explaining the state of
FIG. 3 is an explanatory diagram for explaining the arrangement of the entire configuration of FIG. 1, FIG. 4 is an external configuration diagram of a low temperature wafer prober of one embodiment of the low temperature probe device of the present invention, and FIG. 5 is a conventional probe device. It is an explanatory view explaining. 25a …… Block joint, 29 …… Mirror surface 29a …… frost, 30 …… Detecting means 31 …… Light emitting part, 32 …… Light receiving element

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】半導体ウエハの電気的特性の検査を行う半
導体ウエハの検査装置において、 前記半導体ウエハを載置する載置体と、この載置体を冷
却する冷却手段と、この冷却手段から供給される冷却液
の流路に設けられたブロックと、このブロックの表面に
光を入射し、その反射光によりブロックの表面に発生し
た霜を検出する検出手段と、この検出手段で検出された
信号にもとづいて予め記憶されたプログラムにより前記
冷却手段を制御する制御手段とを具備したことを特徴と
する半導体ウエハの検査装置。
1. A semiconductor wafer inspection apparatus for inspecting the electrical characteristics of a semiconductor wafer, comprising: a mounting body on which the semiconductor wafer is mounted; cooling means for cooling the mounting body; and a supply from the cooling means. The block provided in the flow path of the cooling liquid to be detected, the detection means for detecting the frost generated on the surface of the block by the light incident on the surface of this block, and the signal detected by this detection means An inspection apparatus for a semiconductor wafer, comprising: a control means for controlling the cooling means by a program stored in advance based on the above.
【請求項2】前記ブロックは、前記載置体より体積が小
さいことを特徴とする請求項1記載の半導体ウエハの検
査装置。
2. The semiconductor wafer inspection apparatus according to claim 1, wherein the block has a smaller volume than the mounting body.
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