JP2671744B2 - 光化学的選択効果によるウラン同位体の濃縮方法 - Google Patents
光化学的選択効果によるウラン同位体の濃縮方法Info
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- JP2671744B2 JP2671744B2 JP5088372A JP8837293A JP2671744B2 JP 2671744 B2 JP2671744 B2 JP 2671744B2 JP 5088372 A JP5088372 A JP 5088372A JP 8837293 A JP8837293 A JP 8837293A JP 2671744 B2 JP2671744 B2 JP 2671744B2
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- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D59/00—Separation of different isotopes of the same chemical element
- B01D59/34—Separation by photochemical methods
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- Biophysics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、 235Ｕ同位体の濃縮
技術に関するものであり、更に詳しくは、光化学的選択
効果によりウラン同位体を濃縮する方法に関するもので
ある。
技術に関するものであり、更に詳しくは、光化学的選択
効果によりウラン同位体を濃縮する方法に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】原子炉用の核燃料においては、 235Ｕを
濃縮したウランを使用しなければならないため、核燃料
サイクルの中ではウラン濃縮技術が重要な技術となって
いる。現在使用されているウラン濃縮技術には遠心分離
法およびガス拡散法があり、開発中の技術としてはレー
ザー法がある。
濃縮したウランを使用しなければならないため、核燃料
サイクルの中ではウラン濃縮技術が重要な技術となって
いる。現在使用されているウラン濃縮技術には遠心分離
法およびガス拡散法があり、開発中の技術としてはレー
ザー法がある。
【０００３】レーザー法は、 235Ｕと 238Ｕとの同位体
シフトによるわずかな吸収スペクトルの差を利用して軽
成分のみをレーザーによって選択的に励起させて分離す
る方法であり、ガス化したウランに波長純度の高いレー
ザー光を照射する。また、ウラン（ＶＩ）を含む分子の
ガスをディフューザー等によって膨脹冷却させて、これ
にレーザー光を照射して軽成分のみを選択的に励起する
分子レーザー法も開発されている。
シフトによるわずかな吸収スペクトルの差を利用して軽
成分のみをレーザーによって選択的に励起させて分離す
る方法であり、ガス化したウランに波長純度の高いレー
ザー光を照射する。また、ウラン（ＶＩ）を含む分子の
ガスをディフューザー等によって膨脹冷却させて、これ
にレーザー光を照射して軽成分のみを選択的に励起する
分子レーザー法も開発されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上述したレーザー法に
よる光学的ウラン濃縮法は、他の方法に比べて分離係数
が比較的大きいという利点があるが、ウランをガス化す
る必要があるため取扱いが難しく、さらには励起光源は
波長純度の高いレーザー光を使用しなければならない。
また分子レーザー法では分子を極低温に冷却しなければ
ならないという問題がある。
よる光学的ウラン濃縮法は、他の方法に比べて分離係数
が比較的大きいという利点があるが、ウランをガス化す
る必要があるため取扱いが難しく、さらには励起光源は
波長純度の高いレーザー光を使用しなければならない。
また分子レーザー法では分子を極低温に冷却しなければ
ならないという問題がある。
【０００５】そこでこの発明は、波長帯域の広い通常の
光源を使用することができ、ウランのガス化や極低温の
冷却を必要としない、光化学的なウラン同位体の濃縮方
法を提供することを目的としてなされたものである。
光源を使用することができ、ウランのガス化や極低温の
冷却を必要としない、光化学的なウラン同位体の濃縮方
法を提供することを目的としてなされたものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】すなわちこの発明は、含
酸素置換基を有するカルボン酸のウラニル化合物の粉末
を磁場中に置き、この粉末にウラニルイオンが吸収する
可視光またはそれより短波長の光を所定時間照射した
後、ウラニルイオンの還元生成物と未反応物とを分別す
ることによって、還元生成物中または未反応物中に 235
Ｕ同位体を濃縮することを特徴とする光化学的選択効果
によるウラン同位体の濃縮方法である。
酸素置換基を有するカルボン酸のウラニル化合物の粉末
を磁場中に置き、この粉末にウラニルイオンが吸収する
可視光またはそれより短波長の光を所定時間照射した
後、ウラニルイオンの還元生成物と未反応物とを分別す
ることによって、還元生成物中または未反応物中に 235
Ｕ同位体を濃縮することを特徴とする光化学的選択効果
によるウラン同位体の濃縮方法である。
【０００７】
【作用】含酸素置換基を有するカルボン酸のウラニル化
合物（以下この化合物を“ウラニル錯体”という）に、
ウラニルイオンが吸収する可視光またはそれより短波長
の光を照射する際に、ウラニル錯体を磁場の中に置くと
きは、核磁気モーメントをもつ 235Ｕ核の磁場（すなわ
ち内部磁場）と、外から加える磁場（すなわち外部磁
場）との相互の間の関係に応じて、 235Ｕを含むウラニ
ルイオンの感じる磁場を強めたり、逆に弱めたりするこ
とが可能である。その結果、光照射によるウラニルイオ
ンの還元生成物中または未反応物中に選択的に 235Ｕ同
位体を濃縮することができる。
合物（以下この化合物を“ウラニル錯体”という）に、
ウラニルイオンが吸収する可視光またはそれより短波長
の光を照射する際に、ウラニル錯体を磁場の中に置くと
きは、核磁気モーメントをもつ 235Ｕ核の磁場（すなわ
ち内部磁場）と、外から加える磁場（すなわち外部磁
場）との相互の間の関係に応じて、 235Ｕを含むウラニ
ルイオンの感じる磁場を強めたり、逆に弱めたりするこ
とが可能である。その結果、光照射によるウラニルイオ
ンの還元生成物中または未反応物中に選択的に 235Ｕ同
位体を濃縮することができる。
【０００８】この発明において光照射処理されるウラニ
ル錯体としては、例えばエトキシ酢酸ウラニル［ＵＯ2
（ＣＨ3 ＣＨ2 ＯＣＨ2 ＣＯＯ）2 ］、エトキシプロピ
オン酸ウラニル［ＵＯ2 （ＣＨ3 ＣＨ2 ＯＣＨ2 ＣＨ2
ＣＯＯ）2 ］、メトキシ酢酸ウラニル［ＵＯ2 （ＣＨ3
ＯＣＨ2 ＣＯＯ）2 ］、ヒドロキシ酢酸ウラニル［ＵＯ
2 （ＨＯＣＨ2 ＣＯＯ）2 ］等が挙げられる。
ル錯体としては、例えばエトキシ酢酸ウラニル［ＵＯ2
（ＣＨ3 ＣＨ2 ＯＣＨ2 ＣＯＯ）2 ］、エトキシプロピ
オン酸ウラニル［ＵＯ2 （ＣＨ3 ＣＨ2 ＯＣＨ2 ＣＨ2
ＣＯＯ）2 ］、メトキシ酢酸ウラニル［ＵＯ2 （ＣＨ3
ＯＣＨ2 ＣＯＯ）2 ］、ヒドロキシ酢酸ウラニル［ＵＯ
2 （ＨＯＣＨ2 ＣＯＯ）2 ］等が挙げられる。
【０００９】これらのウラニル錯体の調製に際しては、
ウラン成分の出発原料として、使用済燃料の再処理によ
って回収されたＵＯ3 （ 235Ｕ含有率：約２％）、ある
いは天然ウランの精練・転換工程で得られるＵＯ2 （Ｎ
Ｏ3 ）2 （ 235Ｕ含有率：約０．７％）を使用すること
ができる。ＵＯ3 から出発する場合にはこれをＨＮＯ3
で溶解してＵＯ2 （ＮＯ3 ）2 とする。ウラニル錯体の
調製方法としては、先ずＵＯ2 （ＮＯ3 ）2 溶液にＫＯ
Ｈを添加して、ＵＯ2 （ＯＨ）2 の沈殿を生成させる。
次いで、エトキシ酢酸、エトキシプロピオン酸、メトキ
シ酢酸、ヒドロキシ酢酸等の配位子を沈殿に直接加える
ことによって、目的とするウラニル錯体の結晶を生成さ
せる。かくして得られたウラニル錯体の結晶は固体粉末
の状態で磁場中に置かれ、光照射が施される。
ウラン成分の出発原料として、使用済燃料の再処理によ
って回収されたＵＯ3 （ 235Ｕ含有率：約２％）、ある
いは天然ウランの精練・転換工程で得られるＵＯ2 （Ｎ
Ｏ3 ）2 （ 235Ｕ含有率：約０．７％）を使用すること
ができる。ＵＯ3 から出発する場合にはこれをＨＮＯ3
で溶解してＵＯ2 （ＮＯ3 ）2 とする。ウラニル錯体の
調製方法としては、先ずＵＯ2 （ＮＯ3 ）2 溶液にＫＯ
Ｈを添加して、ＵＯ2 （ＯＨ）2 の沈殿を生成させる。
次いで、エトキシ酢酸、エトキシプロピオン酸、メトキ
シ酢酸、ヒドロキシ酢酸等の配位子を沈殿に直接加える
ことによって、目的とするウラニル錯体の結晶を生成さ
せる。かくして得られたウラニル錯体の結晶は固体粉末
の状態で磁場中に置かれ、光照射が施される。
【００１０】磁場の強さは特に限定されないが、一般的
には０．０５〜１Ｔ（磁束密度、テスラ）程度の磁場を
使用する。０．３５Ｔ程度の磁場は永久磁石によりつく
ることができるが、それ以上強さの磁場は電磁石を用い
てつくることができる。
には０．０５〜１Ｔ（磁束密度、テスラ）程度の磁場を
使用する。０．３５Ｔ程度の磁場は永久磁石によりつく
ることができるが、それ以上強さの磁場は電磁石を用い
てつくることができる。
【００１１】ウラニル錯体に照射する光は、ウラニルイ
オンが吸収する波長範囲の光であればどんな波長の光で
もよく、波長帯域の広い通常の光源を使用することがで
きる。照射時間は、ウラニル錯体の種類や光源の種類等
に応じて実験的に決めればよく、一般的には数時間〜１
０数時間程度でよい。照射時間が長過ぎると、すべての
ウラニルイオンが還元されるため好ましくない。光照射
は室温で行うことができる。
オンが吸収する波長範囲の光であればどんな波長の光で
もよく、波長帯域の広い通常の光源を使用することがで
きる。照射時間は、ウラニル錯体の種類や光源の種類等
に応じて実験的に決めればよく、一般的には数時間〜１
０数時間程度でよい。照射時間が長過ぎると、すべての
ウラニルイオンが還元されるため好ましくない。光照射
は室温で行うことができる。
【００１２】ウラニルイオンの還元生成物と未反応物と
を分別するための化学的分別操作としては、例えば溶解
度の差を利用して成分ごとに沈殿させて分離する分別沈
殿や、溶解度の差を利用して成分を別々に溶解する分別
溶解等を採用することができる。分別沈殿法を採用した
場合は、ウラニルイオンの還元生成物と未反応物との混
合物に適当な溶媒を添加すると、未反応物のみが溶媒に
溶解し、還元生成物は溶媒不溶物として分離することが
できるため、還元生成物中または未反応物中に235Ｕを
濃縮することができる。
を分別するための化学的分別操作としては、例えば溶解
度の差を利用して成分ごとに沈殿させて分離する分別沈
殿や、溶解度の差を利用して成分を別々に溶解する分別
溶解等を採用することができる。分別沈殿法を採用した
場合は、ウラニルイオンの還元生成物と未反応物との混
合物に適当な溶媒を添加すると、未反応物のみが溶媒に
溶解し、還元生成物は溶媒不溶物として分離することが
できるため、還元生成物中または未反応物中に235Ｕを
濃縮することができる。
【００１３】
【実施例】以下に実施例を挙げてこの発明を詳述する。
天然ウランの精練・転換工程で得られたＵＯ2 （Ｎ
Ｏ3 ）2 （ 235Ｕ含有率：約０．７％）からエトキシ酢
酸ウラニルを調製した。このエトキシ酢酸ウラニルの微
結晶からなる固体粉末を、直径約１０ｍｍのアルミニウ
ム箔製試料皿の上に約１ｍｍの厚さで拡げ、永久磁石に
よりつくられた磁場中に置き、中圧水銀ランプを光源と
してフィルターを通して波長４００〜５００ｎｍの可視
光を７時間照射した。照射中に試料皿上の試料を時々か
きまぜた。磁場の強さは０．０５〜０．３５Ｔの範囲で
種々に変えた。
天然ウランの精練・転換工程で得られたＵＯ2 （Ｎ
Ｏ3 ）2 （ 235Ｕ含有率：約０．７％）からエトキシ酢
酸ウラニルを調製した。このエトキシ酢酸ウラニルの微
結晶からなる固体粉末を、直径約１０ｍｍのアルミニウ
ム箔製試料皿の上に約１ｍｍの厚さで拡げ、永久磁石に
よりつくられた磁場中に置き、中圧水銀ランプを光源と
してフィルターを通して波長４００〜５００ｎｍの可視
光を７時間照射した。照射中に試料皿上の試料を時々か
きまぜた。磁場の強さは０．０５〜０．３５Ｔの範囲で
種々に変えた。
【００１４】照射後の試料をアセトン２．５ｍｌ中に入
れ、小型超音波洗浄器を用いて試料をアセトン中に分散
せしめ、次いで遠心分離器にかけて、アセトンに不溶の
還元生成物と、アセトンに可溶の未反応物とに分別し
た。本実施例においては、アセトン不溶の還元生成物中
に 235Ｕが濃縮される。不溶部分の還元生成物と可溶部
分の未反応物について、それぞれウラン同位体質量分析
計を用いて 235Ｕ／ 238Ｕ比を測定し、分離係数αを算
出した。結果を表１にまとめて示す。
れ、小型超音波洗浄器を用いて試料をアセトン中に分散
せしめ、次いで遠心分離器にかけて、アセトンに不溶の
還元生成物と、アセトンに可溶の未反応物とに分別し
た。本実施例においては、アセトン不溶の還元生成物中
に 235Ｕが濃縮される。不溶部分の還元生成物と可溶部
分の未反応物について、それぞれウラン同位体質量分析
計を用いて 235Ｕ／ 238Ｕ比を測定し、分離係数αを算
出した。結果を表１にまとめて示す。
【００１５】 表１ 磁場の強さ、Ｔ Ａ Ｂ 分離係数α 0.05 0.007271 0.007259 1.0017 0.09 0.007269 0.007257 1.0017 0.14 0.007275 0.007256 1.0026 0.20 0.007277 0.007259 1.0025 0.25 0.007269 0.007254 1.0021 0.34 0.007271 0.007250 1.0029 註） Ａ： 還元生成物の 235Ｕ／ 238Ｕ比 Ｂ： 未反応物の 235Ｕ／ 238Ｕ比 分離係数α＝Ａ／Ｂ
【００１６】
【発明の効果】以上説明したところからわかるようにこ
の発明のウラン同位体濃縮方法によれば、従来のレーザ
ー法のようにレーザー光を必要とせずに、波長帯域の広
い通常の光源が使用できる。またウランをガス化する必
要がなく、ウラニル錯体の固体粉末に光照射すればよい
から、光照射試料の取扱いも容易である。さらに従来の
分子レーザー法のように極低温に冷却する必要もなく、
室温で光照射することができる。その結果、この発明の
方法は、小規模な施設でしかも比較的簡単な操作で実施
することが可能となる。
の発明のウラン同位体濃縮方法によれば、従来のレーザ
ー法のようにレーザー光を必要とせずに、波長帯域の広
い通常の光源が使用できる。またウランをガス化する必
要がなく、ウラニル錯体の固体粉末に光照射すればよい
から、光照射試料の取扱いも容易である。さらに従来の
分子レーザー法のように極低温に冷却する必要もなく、
室温で光照射することができる。その結果、この発明の
方法は、小規模な施設でしかも比較的簡単な操作で実施
することが可能となる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭54−126700（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−118086（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−285338（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−296826（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−296828（ＪＰ，Ａ) 英国特許出願公開2201828（ＧＢ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】 含酸素置換基を有するカルボン酸のウラ
ニル化合物の粉末を磁場中に置いてこの粉末にウラニル
イオンが吸収する可視光またはそれより短波長の光を所
定時間照射した後、ウラニルイオンの還元生成物と未反
応物とを分別することによって、還元生成物中または未
反応物中に 235Ｕ同位体を濃縮することを特徴とする光
化学的選択効果によるウラン同位体の濃縮方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5088372A JP2671744B2 (ja) | 1993-04-15 | 1993-04-15 | 光化学的選択効果によるウラン同位体の濃縮方法 |
| US08/223,060 US5464512A (en) | 1993-04-15 | 1994-04-06 | Method of uranium isotope enrichment by utilizing a photochemically selective effect |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5088372A JP2671744B2 (ja) | 1993-04-15 | 1993-04-15 | 光化学的選択効果によるウラン同位体の濃縮方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06296827A JPH06296827A (ja) | 1994-10-25 |
| JP2671744B2 true JP2671744B2 (ja) | 1997-10-29 |
Family
ID=13940970
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5088372A Expired - Fee Related JP2671744B2 (ja) | 1993-04-15 | 1993-04-15 | 光化学的選択効果によるウラン同位体の濃縮方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5464512A (ja) |
| JP (1) | JP2671744B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20090134039A1 (en) * | 2007-11-28 | 2009-05-28 | Mehlin Dean Matthews | System and method for isotope selective chemical reacations |
| CN103920705B (zh) * | 2014-04-24 | 2015-06-24 | 华北电力大学 | 一种全方位联合技术修复铀污染土壤的装置和方法 |
| CN110003248B (zh) * | 2019-04-03 | 2022-09-02 | 东华理工大学 | 一种多羧酸铀酰配合物光催化剂及其制备方法 |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4661221A (en) * | 1972-07-07 | 1987-04-28 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Photochemical isotope separation |
| US3973926A (en) * | 1974-01-23 | 1976-08-10 | Advanced Technology Laboratories, Inc. | Process and equipment for the magnetic separation of isotopes |
| US3992424A (en) * | 1974-02-21 | 1976-11-16 | Massachusetts Institute Of Technology | Trifluoromethyl-substituted compounds |
| US4734177A (en) * | 1975-11-26 | 1988-03-29 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Laser isotope separation |
| US4200507A (en) * | 1976-12-03 | 1980-04-29 | General Atomic Company | Separation of uranium isotopes |
| US4439404A (en) * | 1976-12-03 | 1984-03-27 | Ga Technologies Inc. | Separation of uranium isotopes |
| US4206350A (en) * | 1978-01-31 | 1980-06-03 | Westinghouse Electric Corp. | Atomic and molecular isotope separation |
| US4567025A (en) * | 1983-07-28 | 1986-01-28 | Westinghouse Electric Corp. | Chemical separation method for uranium isotopes |
| FR2597364B1 (fr) * | 1986-04-18 | 1988-06-10 | Commissariat Energie Atomique | Dispositif de separation isotopique ou d'analyse de masses, par un champ magnetique. |
| US4704197A (en) * | 1986-11-13 | 1987-11-03 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Isotope separation using tuned laser and electron beam |
-
1993
- 1993-04-15 JP JP5088372A patent/JP2671744B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1994
- 1994-04-06 US US08/223,060 patent/US5464512A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06296827A (ja) | 1994-10-25 |
| US5464512A (en) | 1995-11-07 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |