JP2662934B2 - Stereolithography simple mold and its manufacturing method - Google Patents

Stereolithography simple mold and its manufacturing method

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JP2662934B2
JP2662934B2 JP6023492A JP2349294A JP2662934B2 JP 2662934 B2 JP2662934 B2 JP 2662934B2 JP 6023492 A JP6023492 A JP 6023492A JP 2349294 A JP2349294 A JP 2349294A JP 2662934 B2 JP2662934 B2 JP 2662934B2
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mold
photocurable resin
stereolithography
particles
whiskers
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高邦 上野
順一 田村
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、試作品の製作等に用い
られる簡易型及びその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a simplified type used for producing a prototype and the like and a method for manufacturing the same.

【0002】なお、ここでいう光造形には、光(可視光
線、レーザ光線、紫外線等)硬化樹脂に光を当てて固化
させることにより所定の形の物を得る、狭義の光造形の
他、電子線、X線、高エネルギー粒子線等の反応性エネ
ルギーに応答して硬化する適当な流体媒質を用いる造形
システムを含む。さらには、反応性化学物質に応答して
硬化するような流体媒質に、該反応性化学物質の小単位
を正確に位置決めして投射する手法を用いる造形システ
ムをも含む。また、マスクを介してそのようなエネルギ
ーや物質を投射するいわゆるリソグラフィー手法を用い
る造形システムを含む。
[0002] The stereolithography referred to here includes, in addition to stereolithography in a narrow sense, an object having a predetermined shape obtained by irradiating light (visible light, laser light, ultraviolet light, etc.) with a resin to solidify the resin. Includes modeling systems that use a suitable fluid medium that cures in response to reactive energy, such as electron beams, x-rays, high energy particle beams, and the like. Furthermore, the present invention also includes a shaping system that uses a technique of accurately positioning and projecting a small unit of the reactive chemical substance onto a fluid medium which hardens in response to the reactive chemical substance. It also includes modeling systems that use so-called lithographic techniques to project such energy and materials through a mask.

【0003】[0003]

【従来の技術】製品マスタモデルを光造形する方法は公
知である(特開昭56−144478、特公平2−48
422等)。また、このモデルを用いて、樹脂モールデ
ィング法等により型(簡易型等)を作成することも公知
である。
2. Description of the Related Art A method of stereolithography of a product master model is known (Japanese Patent Application Laid-Open No. 56-144478, Japanese Patent Publication No. 2-48).
422). It is also known to use this model to create a mold (such as a simplified mold) by a resin molding method or the like.

【0004】樹脂モールディング法による従来の型作成
工程を、図2を参照しつつ説明する。図2(A)は、モ
デル101と見切り治具103とを合わせようとしてい
る状態を、図2(B)は両者が合わさった状態を示す。
このモデル101は、光造形されたものである。見切り
治具103は、機械加工・手仕上げ等により成形された
ものである。
[0004] A conventional mold making process by a resin molding method will be described with reference to FIG. FIG. 2A shows a state in which the model 101 and the parting jig 103 are being combined, and FIG. 2B shows a state in which the two are combined.
This model 101 is formed by stereolithography. The parting jig 103 is formed by machining, hand finishing, or the like.

【0005】次いで、図2(C)、(D)に示すよう
に、合わされたモデル101と見切り治具103との回
りをワク105(アクリル板等)で囲み、モデル101
のパーティング面111及び見切り治具103のパーテ
ィング面131上に、樹脂モールディング法(アルミ粉
添加エポキシ樹脂等)によりキャビティ型107を形成
・固化する。次いで、図2(E)に示すようにワクを外
して、上下反転させ、見切り治具103を外す。その
後、コア型、キャビティ型住置合せ用のドリル穴(ダボ
穴175)をキャビティ型107のパーティング面17
1上にあける。
Next, as shown in FIGS. 2C and 2D, the periphery of the fitted model 101 and the parting jig 103 is surrounded by a wax 105 (an acrylic plate or the like).
The cavity mold 107 is formed and solidified on the parting surface 111 and the parting surface 131 of the parting jig 103 by a resin molding method (epoxy resin added with aluminum powder). Next, as shown in FIG. 2 (E), the waist is removed, and the part is turned upside down, and the parting jig 103 is removed. After that, a drill hole (a dowel hole 175) for alignment of the core mold and the cavity mold is formed on the parting surface 17 of the cavity mold 107.
Open on top of 1.

【0006】次いで、図F、Gに示されているように、
モデル101とキャビティ型107とが合わさったもの
の回りをワク105を立て、モデル101の内面11
5、パーティング面111に離型剤を塗布した上に、樹
脂モールディング法によりコア型108を形成・固化す
る。次いで、コア型108とキャビティ型107とを分
離してモデル101を取外し、図2(H)に示されてい
るように、両型を合わせた後、拘束治具109で拘束し
た後に熱処理して型が完成する。
Next, as shown in FIGS. F and G,
An arm 105 is set around the combination of the model 101 and the cavity mold 107, and the inner surface 11 of the model 101 is
5. After applying a release agent to the parting surface 111, a core mold 108 is formed and solidified by a resin molding method. Then, the core mold 108 and the cavity mold 107 are separated from each other, the model 101 is removed, and as shown in FIG. The mold is completed.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】上記従来技術の型作成
工程では、光造形されるのはマスターモデルのみであっ
た。型は、モデルを転写するプロセス(上述の樹脂モー
ルディングの他、石膏鋳込み、溶射デポジット等)を経
て、作られていた。というのは、従来は、光硬化樹脂は
あまり硬く(強く)ないので、型そのものを光造形プロ
セスで作ることはできないと思われていたからである。
In the above-described conventional mold making process, only the master model is optically formed. The mold has been manufactured through a process of transferring a model (in addition to the resin molding described above, plaster casting, thermal spray deposit, etc.). This is because conventionally, since the photocurable resin was not so hard (strong), it was thought that the mold itself could not be produced by the photolithography process.

【0008】上述のように、従来の簡易型は転写プロセ
スを経て作られていたため、次のような問題があった。 マスターモデルが必要でその作成に手間がかかって
いた。 マスターモデルから転写して型を作る際に、転写に
伴い寸法・形状精度が悪くなっていた。
[0008] As described above, the conventional simple type is made through a transfer process, and thus has the following problems. A master model was needed and it took time to create it. When transferring from the master model to make a mold, the dimensional and shape accuracy became worse with the transfer.

【0009】 マスターモデルの転写に手間がかかっ
ていた。 マスターモデルの転写には、熟練者の特別な技能を
要していた。特別な技能とは、例えばパ−ティング面の
決定や、見切り治具の作成、樹脂の温度管理、混合・脱
泡などである。 マスターモデル作成と転写作業のため型製作工程が
長くなっていた。
[0009] It took time to transfer the master model. The transfer of the master model required the special skills of a skilled person. The special skills include, for example, determination of a parting surface, creation of a parting jig, temperature control of resin, mixing and defoaming. The mold making process was long due to master model creation and transfer work.

【0010】本発明は、低工数・低コストで作成でき、
短納期かつ精度の高い簡易型、及び、その製造方法を提
供することを目的とする。
The present invention can be manufactured with low man-hours and low cost,
It is an object of the present invention to provide a simple type with a short delivery time and high accuracy, and a method for manufacturing the same.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明者は、従来の技術
常識、すなわち「光造形プロセスによって作れるのはマ
スターモデルであって、型そのものではない」という考
え方を打ち破る、新しい技術的基本概念を生み出すに至
り、本発明を完成させた。
Means for Solving the Problems The present inventor has developed a new technical basic concept that breaks the conventional technical common sense, that is, the idea that "a master model can be created by an optical molding process, not a mold itself". And completed the present invention.

【0012】本発明の光造形簡易型は、光硬化された光
硬化樹脂と、この光硬化樹脂中に分散配合された無機材
料強化粒子及びウイスカーと、から構成されており、上
記無機材料強化粒子の平均粒径が3〜70μmであり、
その配合率が5〜65容量%であり、上記ウイスカー
が、径0.3〜1μm、長さ10〜70μm、アスペク
ト比10〜100であり、その配合率が5〜30容量%
であり、無機材料強化粒子及びウイスカーの合計配合率
が10〜70容量%である、ことを特徴とする。ここ
で、粒子は主に熱伝導率と表面硬度の向上に、ウイスカ
ーは主に表面硬度と曲げ弾性率の向上に寄与する。
The simplified stereolithographic mold of the present invention comprises a photocured photocurable resin, and inorganic material-reinforced particles and whiskers dispersed and mixed in the photocurable resin. Has an average particle size of 3 to 70 μm,
The compounding ratio is 5 to 65% by volume, and the whisker has a diameter of 0.3 to 1 μm, a length of 10 to 70 μm, an aspect ratio of 10 to 100, and a compounding ratio of 5 to 30% by volume.
Wherein the total blending ratio of the inorganic material-reinforced particles and the whiskers is 10 to 70% by volume. Here, the particles mainly contribute to the improvement of the thermal conductivity and the surface hardness, and the whiskers mainly contribute to the improvement of the surface hardness and the flexural modulus.

【0013】[0013]

【作用】本発明の光造形簡易型は、従来の光造形プロセ
スにおける絶対的な常識とは異なり、型そのものが基本
的に光硬化樹脂によって構成されている。そのため、い
わゆるCAD・CAMシステムと連携としうる光造形プ
ロセスによって、簡易型を直接的に(モデル無しに)作
ることができる。したがって、従来技術(モデル作成→
転写)による型の有する上述の問題点を解決することが
できる。
The stereolithography simple mold of the present invention differs from the absolute common sense in the conventional stereolithography process, and the mold itself is basically made of a photocurable resin. Therefore, a simplified model can be directly (without a model) created by a stereolithography process that can be linked to a so-called CAD / CAM system. Therefore, the conventional technology (model creation →
(Transfer) can solve the above-mentioned problems of the mold.

【0014】本発明の光造形簡易型は、上記簡易型を構
成する材料が、ロックウェル表面硬度M−30以上、及
び、曲げ弾性率400kg/mm2 以上、であることが
望ましい。この程度の機械的特性を有していれば、比較
的低負荷しか受けない簡易型としては十分である。その
ような簡易型の一例としては、アルミ板プレス型、プラ
スチック射出成形型、発泡成形型、RIM(Reaction I
njection Molding)成形型、真空注型型を挙げることが
できる。さらに、型の耐久性や成形精度を上げるために
は、硬度はM−50以上、曲げ弾性率は600Kg/mm2
上が好ましい。
In the stereolithography simplified type of the present invention, it is desirable that the material forming the simplified type has a Rockwell surface hardness of M-30 or more and a flexural modulus of 400 kg / mm 2 or more. With such mechanical properties, it is sufficient for a simplified type that can receive relatively low load. Examples of such simple molds include an aluminum plate press mold, a plastic injection mold, a foam mold, and a RIM (Reaction I).
njection Molding) molding molds and vacuum casting molds. Further, in order to increase the durability and molding accuracy of the mold, the hardness is preferably M-50 or more, and the flexural modulus is preferably 600 kg / mm 2 or more.

【0015】本発明の光造形簡易型は、上記簡易型を構
成する材料が、熱伝導率0.3kcal/m・Hr・℃以上である
ことが望ましい。特に射出成形型等のように、型内から
外へ熱を逃がしてやる必要のある型においては、このよ
うな熱伝導率特性を簡易型に付与することが望ましい。
さらに、成形速度を速くするためには、熱伝導率は0.
4Kcal/m・Hr・℃以上であることが好ましい。
In the stereolithography simplified type of the present invention, it is desirable that the material constituting the simplified type has a thermal conductivity of 0.3 kcal / m · Hr · ° C. or more. In particular, in a mold such as an injection molding mold that needs to release heat from the inside to the outside, it is desirable to provide such a thermal conductivity characteristic to a simple mold.
Further, in order to increase the molding speed, the thermal conductivity is set to 0.1.
It is preferably at least 4 Kcal / m · Hr · ° C.

【0016】本発明の簡易型中に分散配合する上記強化
粒子は、無機材料粒子であり、その粒子の平均粒径が3
〜70μmであり、その粒子の配合率が5〜70容量%
としてよい。
[0016] The reinforcing particles dispersed formulated into easy easy type of the present invention are inorganic material particles, the average particle size of the particles is 3
And the compounding ratio of the particles is 5 to 70% by volume.
It may be.

【0017】[0017]

【0018】上記強化粒子の平均粒径が3〜70μmが
好ましい理由を説明する。平均粒径が3μm未満の場合
には、強化粒子の配合された未硬化の光硬化樹脂の粘度
が高くなりすぎるため、造形(層形成)が困難になる。
平均粒径が70μmを超えると、硬化のための照射エネ
ルギー(光等)が散乱して、造形の精度が低下する。
The reason why the average particle size of the reinforcing particles is preferably 3 to 70 μm will be described. When the average particle size is less than 3 μm, the viscosity of the uncured photocurable resin containing the reinforcing particles becomes too high, so that shaping (layer formation) becomes difficult.
When the average particle size exceeds 70 μm, irradiation energy (light or the like) for curing is scattered, and the accuracy of modeling is reduced.

【0019】上記強化粒子の平均粒径は、さらに好まし
くは10〜60μm、最も好ましくは15〜50μmで
ある。その理由は、その範囲において、造形性と精度の
バランスが良いからである。
The average particle size of the reinforcing particles is more preferably from 10 to 60 μm, and most preferably from 15 to 50 μm. The reason is that, in that range, the balance between the formability and the accuracy is good.

【0020】上記強化粒子の配合率が5〜70容量%
(光硬化樹脂と強化粒子の合計体積に対して)が好まし
い理由について説明する。5%未満では、曲げ弾性率が
400kg/mm2 に達せず、また熱伝導率も低い。70%
を超えると、未硬化段階の配合物の粘度が高くなり過ぎ
るため、造形が困難になる。なお、未硬化配合後におけ
る配合物(樹脂+粒子)の粘度は5,000 〜100,000 CP
Sであることが、製造上好ましい。
The compounding ratio of the reinforcing particles is 5 to 70% by volume.
The reason why (based on the total volume of the photocurable resin and the reinforcing particles) is preferable will be described. If it is less than 5%, the flexural modulus will not reach 400 kg / mm 2 and the thermal conductivity will be low. 70%
If it exceeds 3, the viscosity of the compound in the uncured stage becomes too high, so that molding becomes difficult. The viscosity of the compound (resin + particles) after the uncured compounding is 5,000 to 100,000 CP.
S is preferable for production.

【0021】強化粒子の配合割合は、さらに好ましく
は、20〜65%、最も好ましくは30〜60%であ
る。その範囲において、機械的特性と造形性のバランス
が良いからである。
The mixing ratio of the reinforcing particles is more preferably from 20 to 65%, and most preferably from 30 to 60%. This is because, in that range, the balance between mechanical properties and formability is good.

【0022】本発明の光造形簡易型における強化粒子の
その他の性質について説明する。透光性はあった方が良
い。しかし必須の条件ではない。硬化用エネルギ線は、
粒子の裏側へも反射等により、回り込むからである。粒
子の形状は、滑らかな球状に近い方が良い。配合物の流
動性が良くなるからである。
Other properties of the reinforcing particles in the stereolithography simplified type of the present invention will be described. It is better to have translucency. However, it is not a required condition. The energy beam for curing is
This is because the particles also wrap around to the back side of the particles due to reflection or the like. The shape of the particles is preferably closer to a smooth sphere. This is because the fluidity of the blend is improved.

【0023】[0023]

【0024】無機系の強化粒子の例としては、ガラスビ
ーズ、タルク粒子、SiO2粒を挙げることができる。
Examples of the inorganic reinforcing particles include glass beads, talc particles, and SiO 2 particles.

【0025】本発明の光造形簡易型においては,上記強
化粒子と共に、径0.3〜1μm、長さ10〜70μ
m、アスペクト比10〜100のウィスカーが、上記光
硬化樹脂中に、5〜30容量%分散配合されていること
としてもよい。
In the stereolithography simplified type of the present invention, a diameter of 0.3 to 1 μm and a length of 10 to 70 μm together with the reinforcing particles are used.
m, whiskers having an aspect ratio of 10 to 100 may be dispersed and blended in the photocurable resin in an amount of 5 to 30% by volume.

【0026】[0026]

【0027】本発明に使用されるウイスカーは、ホウ酸
アルミニウム系化合物、水酸化硫酸マグネシウム系化合
物、酸化アルミニウム、酸化チタン系化合物及び酸化珪
素系化合物の少なくとも1種以上からなることが好まし
い。さらに、好ましくはホウ酸アルミニウム系化合物、
水酸化硫酸マグネシウム系化合物、酸化アルミニウム及
び酸化チタン系化合物である。
The whiskers used in the present invention are preferably made of at least one of aluminum borate compounds, magnesium hydroxide sulfate compounds, aluminum oxide, titanium oxide compounds and silicon oxide compounds. Further, preferably, an aluminum borate-based compound,
It is a magnesium hydroxide-based compound, an aluminum oxide and a titanium oxide-based compound.

【0028】本発明に使用されるウイスカーの径(また
は幅)は、0.3μm〜1μmの範囲が好適であり、さ
らに好ましくは0.3μm〜0.7μmである。また、
長さは、10μm〜70μmの範囲が好適であり、さら
に好ましくは20μm〜50μmである。また、アスペ
クト比は10〜100の範囲が好適であり、さらに好ま
しくは20〜70である。
The diameter (or width) of the whiskers used in the present invention is preferably in the range of 0.3 μm to 1 μm, more preferably 0.3 μm to 0.7 μm. Also,
The length is preferably in the range of 10 μm to 70 μm, more preferably 20 μm to 50 μm. The aspect ratio is preferably in the range of 10 to 100, and more preferably 20 to 70.

【0029】本発明に用いられるウイスカーのアスペク
ト比が10より小さい時は、ウイスカーを添加した場合
の本発明の効果、すなわち特段の機械的強度の向上効果
が得られず、樹脂の粘度がいたずらに上昇するのみであ
って好ましくない。また反面、ウイスカーのアスペクト
比が大きくなれば機械的強度の向上及び体積収縮率の低
下効果は期待されるが、アスペクト比が100を超える
ほどに大きくなると樹脂の粘度が高くなり過ぎたり、あ
るいは樹脂の流体弾性が高くなり造形操作が困難になる
ばかりでなく同時にウイスカーの長さが長くなり、造形
物の側面精度が低下するので、アスペクト比の大きさに
は限界があり、好ましくはアスペクト比は100以下、
更に好ましくは70以下である。
When the aspect ratio of the whisker used in the present invention is smaller than 10, the effect of the present invention when the whisker is added, that is, the special effect of improving the mechanical strength is not obtained, and the viscosity of the resin is unnecessarily increased. It is only unfavorable because it only rises. On the other hand, if the aspect ratio of the whisker increases, the effect of improving the mechanical strength and decreasing the volume shrinkage is expected, but if the aspect ratio exceeds 100, the viscosity of the resin becomes too high, or the resin becomes too high. Not only the fluid elasticity becomes high and the shaping operation becomes difficult, but also the length of the whisker becomes longer and the side precision of the shaped object is reduced, so the size of the aspect ratio is limited, and the aspect ratio is preferably 100 or less,
More preferably, it is 70 or less.

【0030】本発明に使用されるウイスカーの液状光硬
化性樹脂に対する配合割合は、5〜30容量%が好適で
ある。さらに、好ましくは7〜20容量%である。この
ウイスカーの配合割合が、5容量%より少ない場合には
本発明の効果が十分発現されず、一方その配合割合が、
30容量%を超える場合には、光学的立体造形用樹脂組
成物の粘度が高くなり過ぎ、使用上困難をきたすばかり
でなく光の浸透が阻害され、造形に困難を伴う。
The mixing ratio of the whiskers to the liquid photocurable resin used in the present invention is preferably 5 to 30% by volume. Further, it is preferably 7 to 20% by volume. When the mixing ratio of the whisker is less than 5% by volume, the effect of the present invention is not sufficiently exhibited, while the mixing ratio is
If it exceeds 30% by volume, the viscosity of the resin composition for optical three-dimensional modeling becomes too high, which causes not only difficulty in use but also impairs the penetration of light and involves difficulty in modeling.

【0031】無機材料粒子及びウイスカーを使用する場
合においては、強化粒子の配合率が30〜50%、ウイ
スカーの配合率が10〜20%、両者合計配合率が40
〜60%であることが、より好ましい。この範囲におい
て、機械的特性と造形性のバランスが良いからである。
When using inorganic material particles and whiskers, the compounding ratio of the reinforcing particles is 30 to 50%, the compounding ratio of the whiskers is 10 to 20%, and the total compounding ratio of both is 40 to 40%.
More preferably, it is 60%. This is because, in this range, the balance between mechanical properties and formability is good.

【0032】本発明に用いられる液状光硬化樹脂は、重
合性のビニル系化合物、エポキシ系化合物等のいずれで
もよく、単官能性化合物、多官能性化合物のいずれのモ
ノマー及びまたはオリゴマーが用いられる。これらの単
官能性化合物、多官能性化合物は、特に限定されるもの
ではなく、以下に液状光硬化性樹脂の代表的なものを挙
げる。
The liquid photocurable resin used in the present invention may be any of a polymerizable vinyl compound and an epoxy compound, and any monomer or oligomer of a monofunctional compound or a polyfunctional compound is used. These monofunctional compounds and polyfunctional compounds are not particularly limited, and typical examples of the liquid photocurable resin are given below.

【0033】〔重合性のビニル系化合物〕 1) 単官能性化合物としては、イソボルニルアクリレー
ト、イソボルニルメタクリレート、ジンクロペンテニル
アクリレート、ボルニルアクリレート、ボルニルメタク
リレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒ
ドロキシプロピルアクリレート、プロピレングリコール
アクリレート、ビニルピロリドン、アクリルアミド、酢
酸ビニル、スチレン等が挙げられる。
[Polymerizable vinyl compound] 1) Monofunctional compounds include isobornyl acrylate, isobornyl methacrylate, zinclopentenyl acrylate, bornyl acrylate, bornyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, and 2-hydroxyethyl acrylate. Examples include hydroxypropyl acrylate, propylene glycol acrylate, vinyl pyrrolidone, acrylamide, vinyl acetate, styrene and the like.

【0034】2) 多官能性化合物としては、トリメチロ
ールプロパントリアクリレート、EO変性トリメチロー
ルプロパントリアクリレート、エチレングリコールジア
クリレート、テトラエチレングリコールジアクリレー
ト、ポリエチレングリコールジアクリレート、1,4−
ブタンジオールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオ
ールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリ
レート、ジシクロペンテニルジアクリレート、ポリエス
テルジアクリレート、ジアリルフタレート等が挙げられ
る。
2) Polyfunctional compounds include trimethylolpropane triacrylate, EO-modified trimethylolpropane triacrylate, ethylene glycol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, 1,4-
Butanediol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, dicyclopentenyl diacrylate, polyester diacrylate, diallyl phthalate and the like.

【0035】かかる単官能性化合物及び/又は多官能性
化合物を1種類以上を単独または混合物の形で使用する
ことができる。
One or more of such monofunctional compounds and / or polyfunctional compounds can be used alone or in the form of a mixture.

【0036】本発明に使用されるビニル系化合物の重合
開始剤としては、光重合開始剤及び熱重合開始剤が用い
られるが、光重合開始剤としては、2,2−ジメトキシ
−2−フェニルアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロ
ヘキシルフェニルケトン、アセトフェノン、ベンゾフェ
ノン、キサントン、フルオレノン、ベズアルデヒド、フ
ルオレン、アントレキノン、トリフェニルアミン、カル
バゾール、3−メチルアセトフェノン、ミヒラーケトン
等が代表的なものとして挙げることができるが、これら
に限定されるものではなく、又これらの開始剤は1種ま
たは2種以上を組み合わせて使用することもできる。さ
らに必要に応じてアミン系化合物等の増感剤を併用する
ことも可能である。
As the polymerization initiator of the vinyl compound used in the present invention, a photopolymerization initiator and a thermal polymerization initiator are used. As the photopolymerization initiator, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone is used. , 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, acetophenone, benzophenone, xanthone, fluorenone, bezaldehyde, fluorene, anthrequinone, triphenylamine, carbazole, 3-methylacetophenone, Michler's ketone, and the like. However, these initiators can be used alone or in combination of two or more. If necessary, a sensitizer such as an amine compound can be used in combination.

【0037】また熱重合開始剤としては、ベンゾイルパ
ーオキサイド、t−ブチルパーオキシベンゾエート、ジ
クミルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカ
ーボネート、t−ブチルパーオキサイド、アゾビスイソ
ブチロニトリル等が代表的なものとして挙げられること
ができる。本発明に使用される重合開始剤又は熱重合開
始剤の使用量は、ビニル系化合物に対してそれぞれ0.
1〜10重量%である。
Typical thermal polymerization initiators include benzoyl peroxide, t-butylperoxybenzoate, dicumyl peroxide, diisopropylperoxydicarbonate, t-butyl peroxide, azobisisobutyronitrile and the like. Can be mentioned. The amount of the polymerization initiator or the thermal polymerization initiator used in the present invention is preferably 0.1 to 0.1 parts per vinyl compound.
1 to 10% by weight.

【0038】〔エポキシ系化合物〕この代表的な例とし
ては、水素添加ビスフェノールAジグリシジルエーテ
ル、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−
エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、2−(3,
4−エポキシシクロヘキシル−5,5−スピロ−3,4
−エポキシ)シクロヘキサン−m−ジオキサン、ビス
(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート
等が挙げられる。これらのエポキシ系化合物を用いる場
合には、トリフェニルズルホニウムヘキサフルオロアン
チモネード等のエネルギー活性カチオン開始剤が用いら
れる。
[Epoxy Compounds] Typical examples thereof include hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-
Epoxycyclohexanecarboxylate, 2- (3,
4-epoxycyclohexyl-5,5-spiro-3,4
-Epoxy) cyclohexane-m-dioxane, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate and the like. When these epoxy compounds are used, an energy-active cation initiator such as triphenylzulphonium hexafluoroantimonade is used.

【0039】本発明に用いられる液状光硬化性樹脂に
は、必要に応じて、レベリング剤、界面活性剤、有機高
分子化合物、有機可塑剤、前記以外の有機ビーズ等の充
填剤、及び前記以外のガラスビーズ等の無機充填剤等を
配合してもよい。本発明の樹脂組成物としては、前記ビ
ニル系化合物、エポキシ系化合物を単独にあるいは併用
混合して使用してもよく、さらに必要に応じて他の成分
を配合してもよいが、各成分の混合方法は特に限定され
るものではない。
The liquid photocurable resin used in the present invention may contain, if necessary, a leveling agent, a surfactant, an organic polymer compound, an organic plasticizer, a filler such as organic beads other than those described above, and a filler other than the above. And inorganic fillers such as glass beads. As the resin composition of the present invention, the vinyl-based compound and the epoxy-based compound may be used alone or in combination of two or more, and if necessary, other components may be blended. The mixing method is not particularly limited.

【0040】本発明の光造形簡易型の上記強化粒子又は
ウィスカーは、アミノシラン、エポキシシラン、アクリ
ルシランの少なくとも1種以上のシランカップリング剤
で表面処理したものであることが好ましい。このような
シランカップリング剤で使用した強化粒子やウイスカー
を用いるときは、特段機械的強度の優れた好ましい簡易
型が得られる。
The reinforcing particles or whiskers of the stereolithography type according to the present invention are preferably surface-treated with at least one silane coupling agent of aminosilane, epoxysilane and acrylic silane. When reinforced particles or whiskers used in such a silane coupling agent are used, a preferable simple type having particularly excellent mechanical strength can be obtained.

【0041】このシランカップリング剤の種類は、用い
られる液状光硬化性樹脂によって適当に選択することが
好ましい。例えば、液状光硬化性樹脂としてビニル系不
飽和化合物を用いる場合には、アクリルシラン系シラン
カップリング剤が最も好ましい。また、液状光硬化性樹
脂としてエポキシ系化合物を用いる場合には、エポキシ
シラン系シランカップリング剤を用いるのが最も効果的
である。
It is preferable that the type of the silane coupling agent is appropriately selected depending on the liquid photocurable resin to be used. For example, when a vinyl-based unsaturated compound is used as the liquid photocurable resin, an acrylic silane-based silane coupling agent is most preferable. When an epoxy-based compound is used as the liquid photocurable resin, it is most effective to use an epoxysilane-based silane coupling agent.

【0042】本発明の光造形簡易型の製造方法は、型の
形状データを構築する工程と、未硬化の光硬化樹脂を段
階的に配置する工程と、上記型の形状データを用いて選
択された部位にある光硬化樹脂層を選択的に露光する工
程と、を含むことを特徴とする。
In the method of manufacturing a stereolithography simplified mold according to the present invention, a step of constructing the shape data of the mold, a step of arranging the uncured photocurable resin in a stepwise manner, and a step of selecting using the shape data of the mold. Selectively exposing the photocurable resin layer at the site where the photocurable resin layer is located.

【0043】上記の型データ構築工程は、いわゆるCA
Dシステムを用いて行われることが好ましい。未硬化の
光硬化樹脂(強化粒子が分散配合された物を含む)を階
層的に配置する方法としては、流動性の光硬化樹脂を薄
く流し込む方法(特開平3-227222、 特開平2-212131参
照)やシート状の光硬化樹脂を重ねる方法を採用でき
る。その他、同一出願人に係る特願平5−25620
5、特願平6−5519に記載されている方法も採用で
きる。
The above type data construction step is performed by a so-called CA
It is preferably performed using a D system. As a method of hierarchically arranging uncured photocurable resin (including a material in which reinforcing particles are dispersed and blended), a method of thinly pouring a flowable photocurable resin (JP-A-3-227222, JP-A-2-212131) And a method of stacking a sheet-like photocurable resin. In addition, Japanese Patent Application No. 5-25620 pertaining to the same applicant.
5. The method described in Japanese Patent Application No. 6-5519 can also be employed.

【0044】光硬化樹脂層を選択的に露光する方法とし
ては、レーザ走査法やマスク法を採用できる。露光する
際の光硬化樹脂層厚は、特に限定されるものではない
が、75μm〜0.5mm程度の範囲内で、型の形状精度
や生産性を考慮して選択できる。
As a method for selectively exposing the photocurable resin layer, a laser scanning method or a mask method can be employed. The thickness of the photocurable resin layer at the time of exposure is not particularly limited, but can be selected in the range of about 75 μm to 0.5 mm in consideration of the shape accuracy and productivity of the mold.

【0045】[0045]

【実施例】実施例1(強化粒子・ウイスカー入り) 以下、本発明の実施例を説明する。図1は、本発明の一
実施例に係る射出成形用の光造形簡易型の構造を示す図
である。(A)はコア型の平面図、(B)はコア・キャ
ビティ型の断面図である。
EXAMPLES Example 1 (with reinforcing particles and whiskers) Examples of the present invention will be described below. FIG. 1 is a view showing a structure of a simplified optical molding type for injection molding according to one embodiment of the present invention. (A) is a plan view of a core mold, and (B) is a cross-sectional view of a core cavity mold.

【0046】この簡易型は、プラスチック射出成形用の
型である。コア型1の下面中央部には、コア部11が設
けられている。また、キャビティ型3の上面中央部に
は、キャビティ部31が設けられている。コア部11と
キャビティ部31には、図の右側から、ゲート13、3
3が入っていおり、このゲート13、33からプラスチ
ックが射出される。コア型1、キャビティ型3の四角に
は位置決め用のピン穴15、35が開けられている。こ
の穴15、35には、位置決めピン(鋼製、図示され
ず)が通される。
This simple mold is a mold for plastic injection molding. A core portion 11 is provided at the center of the lower surface of the core mold 1. A cavity 31 is provided at the center of the upper surface of the cavity mold 3. The gates 13 and 3 are provided on the core 11 and the cavity 31 from the right side of the figure.
The plastic is injected from the gates 13 and 33. Pin holes 15 and 35 for positioning are formed in squares of the core mold 1 and the cavity mold 3. Positioning pins (steel, not shown) are passed through the holes 15 and 35.

【0047】次に、図1の光造形簡易型の製造工程を説
明する。 (1) 設計:三次元CADシステムを用いて型を設計し
た。なお、用いたCADシステムは、設計された三次元
の型について、光造形装置に入力するためのSTLデー
タを作成することができるものである。
Next, a description will be given of a manufacturing process of the optical molding simplified type shown in FIG. (1) Design: The mold was designed using a three-dimensional CAD system. The CAD system used is capable of creating STL data to be input to the optical forming apparatus for the designed three-dimensional mold.

【0048】(2) 光硬化樹脂と強化粒子の配合: (2・1)光硬化樹脂の合成例 (ウレタンアクリレートオリゴマーの合成)攪拌後、冷
却管及び側管付き滴下ロートを備えた5リットルの三口
フラスコにイソホロンヂイソシアナートを3量化したI
PDIターポリマー(住友バイエル社製;ディスモジュ
ールZ−4372)1023gとジブチルスズラウレー
ト0.076gを仕込み、オイルバスで内温を65℃に
する。
(2) Mixing of photo-curing resin and reinforcing particles: (2.1) Example of synthesizing photo-curing resin (Synthesis of urethane acrylate oligomer) After stirring, 5 liter of a cooling tube and a dropping funnel with a side tube were provided. Trimerized isophorone diisocyanate in a three-necked flask
1023 g of PDI terpolymer (manufactured by Sumitomo Bayer; Dismodule Z-4372) and 0.076 g of dibutyltin laurate are charged, and the internal temperature is adjusted to 65 ° C. in an oil bath.

【0049】予め50℃度に保温した側管付き滴下ロー
トにポリネオペンチレンアジペート(旭電化社製;アデ
カニューエースY9−10)420.1gを仕込む。系
内全体を減圧にし、窒素ガスで常圧に戻す操作を繰り返
し、脱気および窒素置換を行う。系内全体を常圧にし、
窒素雰囲気中フラスコ内容物の温度を65℃に保ちなが
ら内容物を攪拌しながら滴下ロートより1時間をかけて
ポリネオペンチレンアジペートを滴下する。滴下後更に
1時間内容物を65℃に保ち攪拌下反応を継続する。
420.1 g of polyneopentylene adipate (Adeka New Ace Y9-10, manufactured by Asahi Denka Co., Ltd.) is charged into a dropping funnel with a side tube which is kept at 50 ° C. in advance. The operation of reducing the pressure in the entire system and returning to normal pressure with nitrogen gas is repeated to perform degassing and nitrogen replacement. Make the whole system normal pressure,
In a nitrogen atmosphere, while maintaining the temperature of the contents of the flask at 65 ° C. and stirring the contents, polyneopenthylene adipate is added dropwise from the dropping funnel over 1 hour. After the addition, the content is maintained at 65 ° C. for another hour, and the reaction is continued with stirring.

【0050】フラスコ内容物の温度を50℃に冷却した
後、滴下ロートに2−ヒドロキシエチルアクリレート2
54.5gにメチルヒドロキノン0.90gを均質に溶
解混合した液を仕込み、フラスコ内容物の温度が55℃
と越えない範囲で素早く滴下し、その後2時間攪拌下、
反応を継続する。得られたウレタンアクリレートオリゴ
マーを内容物が暖かい内にフラスコより取り出す。ここ
で得られたウレタンアクリレートオリゴマーはIR及び
元素分析の結果以下の構造式であることを確認した。
After cooling the temperature of the contents of the flask to 50 ° C., 2-hydroxyethyl acrylate 2 was added to the dropping funnel.
A liquid obtained by uniformly dissolving and mixing 0.90 g of methylhydroquinone in 54.5 g was charged, and the temperature of the contents of the flask was 55 ° C.
Drop quickly within the range that does not exceed
Continue the reaction. The resulting urethane acrylate oligomer is taken out of the flask while the contents are warm. As a result of IR and elemental analysis, it was confirmed that the obtained urethane acrylate oligomer had the following structural formula.

【0051】[0051]

【化1】 Embedded image

【0052】ここでnは平均値が4であり、またRは以
下の基を表す。
Here, n has an average value of 4, and R represents the following groups.

【0053】[0053]

【化2】 Embedded image

【0054】(2・2)光学的造形用組成物の調合 攪拌機、冷却管及び側管付き滴下ロートを備えた5リッ
トルの三口フラスコに合成例で合成したウレタンアクリ
レート1320g、ポリエチレングリコール200ジア
クリレート(ソマール社製;サートマーSR259)1
080g及びエトキシ変性トリメチロールプロパントリ
アクリレート(ソマール社製;サートマーSR454)
480gを仕込み、減圧脱気窒素置換した。内容物を5
0℃に加熱し、約1時間攪拌混合した。
(2.2) Preparation of Optical Molding Composition In a 5-liter three-necked flask equipped with a stirrer, a cooling tube and a dropping funnel equipped with a side tube, 1320 g of urethane acrylate synthesized in the synthesis example, polyethylene glycol 200 diacrylate ( Sartmar SR259) 1
080 g and ethoxy-modified trimethylolpropane triacrylate (manufactured by Somar; Sartomer SR454)
480 g was charged and the atmosphere was replaced by degassing under reduced pressure. 5 contents
The mixture was heated to 0 ° C. and stirred and mixed for about 1 hour.

【0055】紫外線カットした環境下、2,2−ヂメト
キシ−2−フェニルアセトフェノン(チバカイギー社
製;イルガキュア−651)120gを添加し、完全溶
解するまで混合攪拌する。得られた樹脂組成物に、レベ
リング剤としてスーパーダインV201(竹本油脂社
製)14g、及び、アクリルシランカップリング剤で処
理したホウ酸アルミニウムウイスカー(アルボレックY
S−4;四国化成工業社製)1600gを添加し、5時
間室温攪拌、脱泡した。これにアクリルシランカップリ
ング剤で処理した、平均粒径30μmのガラスビーズ5
333g(東芝バロティーニ社製 GP−731C)を
添加し、さらに室温で攪拌脱泡した。得られた、光造形
用樹脂組成物の粘土は25℃において40、000cpsであ
った。
In an environment where ultraviolet rays are cut off, 120 g of 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone (Irgacure 651 manufactured by Ciba Kaigie Co., Ltd.) is added, and the mixture is stirred until completely dissolved. 14 g of Superdyne V201 (manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd.) as a leveling agent and aluminum borate whisker (Arbolex Y) treated with an acrylic silane coupling agent were added to the obtained resin composition.
S-4; Shikoku Chemical Industry Co., Ltd.) (1600 g) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 5 hours and defoamed. Glass beads 5 having an average particle size of 30 μm treated with an acrylic silane coupling agent
333 g (GP-731C manufactured by Toshiba Barotini) was added, and the mixture was further degassed by stirring at room temperature. The resulting clay of the stereolithography resin composition had a viscosity of 40,000 cps at 25 ° C.

【0056】(3) 積層及び選択露光:本出願人の出願に
係る特願平6−5519の方法(塗付→レーザ走査露
光)により、光硬化樹脂積層と選択露光を行い型を造形
した。この際の諸条件は以下のとおりであった。 光硬化樹脂層厚:0.15mm 露光条件:アルゴンレーザ(波長368μm)、レーザ
パワー350mW、走査速度6m/sec
(3) Lamination and Selective Exposure: Photocurable resin lamination and selective exposure were performed by the method of Japanese Patent Application No. 6-5519 filed by the present applicant (coating → laser scanning exposure) to form a mold. Various conditions at this time were as follows. Photocurable resin layer thickness: 0.15 mm Exposure conditions: argon laser (wavelength 368 μm), laser power 350 mW, scanning speed 6 m / sec

【0057】(4) 二次硬化:造形した型を、イソプロピ
ルアルコールで洗浄した後、紫外線(メタルハライドラ
ンプ、4KW)を10分間照射した。
(4) Secondary curing: After the formed mold was washed with isopropyl alcohol, it was irradiated with ultraviolet rays (metal halide lamp, 4 KW) for 10 minutes.

【0058】(5) 機械的性質チェック:型の一部よりテ
ストピースを採取して型材の機械的性質をチェックした
ところ以下のとおりであった。 ロックウエル表面硬度:M−60 曲げ弾性率:692Kg/mm2 熱伝導率:0.43Kcal/m・Hr・℃
(5) Mechanical Property Check: A test piece was taken from a part of the mold to check the mechanical properties of the mold. The results were as follows. Rockwell surface hardness: M-60 Flexural modulus: 692 kg / mm 2 Thermal conductivity: 0.43 kcal / m · Hr · ° C

【0059】(6) 機械加工:押し出しピン、ゲート孔等
を機械加工した。
(6) Machining: Extrusion pins, gate holes, etc. were machined.

【0060】(7) ダイセット組立:光造形簡易型をダイ
セットに組立て、射出成形機にセットした。
(7) Die set assembling: An optical molding simple mold was assembled into a die set and set in an injection molding machine.

【0061】(8) 射出成形:光造形簡易型を用いてAB
S樹脂製品を50個射出成形した。成形条件は、温度1
70℃、圧力95Kgf/cm2 とした。この時点で型の損傷
・変形は見られず、100個程度の成形は可能と判断さ
れた。また、成形品のバリも無かった。寸法精度も、図
寸30mmに対して±0.1mm程度であった。全体とし
て、簡易型としては満足のいくものであった。なお、上
記各工程は、1週間以内に十分に行えるものであった。
(8) Injection molding: AB using a stereolithography simple mold
50 S resin products were injection molded. The molding condition is temperature 1
The temperature was 70 ° C. and the pressure was 95 kgf / cm 2 . At this point, no damage or deformation of the mold was observed, and it was judged that molding of about 100 pieces was possible. Also, there were no burrs on the molded product. The dimensional accuracy was also about ± 0.1 mm with respect to the figure dimension of 30 mm. Overall, the simplified version was satisfactory. Each of the above steps could be performed sufficiently within one week.

【0062】[0062]

【0063】[0063]

【0064】[0064]

【0065】[0065]

【0066】上述の実施例中で述べた型材料の他、本出
願と同一出願人の特願平5−196691および特願平
5−196692に記載されている材料も、本発明の簡
易型作成に用いられる。
In addition to the mold materials described in the above embodiments, the materials described in Japanese Patent Application Nos. Hei 5-196669 and Hei 5-196692 of the same applicant as the present application are also used for the simplified mold making of the present invention. Used for

【0067】[0067]

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の光造形簡易型及びその製造方法は以下の効果を発揮す
る。 マスターモデル作成の手間や、それを転写して型を
作る手間が係らないので、低工数・低コストの型が得ら
れる。また、納期も短い。 転写工程無く製造可能なので、型の寸法・形状精度
が良い。 型としての耐久性、生産性も、簡易型レベルとして
は満足できる。
As is clear from the above description, the stereolithography simplified type of the present invention and the manufacturing method thereof exhibit the following effects. Since there is no need to create a master model or to transfer and create a mold, a mold with low man-hours and low cost can be obtained. Also, the delivery date is short. Since it can be manufactured without a transfer process, the dimensional and shape accuracy of the mold is good. The durability and productivity as a mold can be satisfied as a simple mold level.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例に係る射出成形の光造形簡易
型の構造を示す図である。
FIG. 1 is a view showing a structure of a simplified optical molding type of injection molding according to an embodiment of the present invention.

【図2】従来のモデル転写式簡易型製造工程を示す図で
ある。
FIG. 2 is a view showing a conventional model transfer type simplified manufacturing process.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 コア型 13、33 ゲート 3 キャビティ型 15、33 位置き
めピン穴 11 コア部 31 キャビティ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Core mold 13, 33 Gate 3 Cavity mold 15, 33 Positioning pin hole 11 Core part 31 Cavity part

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 光硬化された光硬化樹脂と、この光硬化
樹脂中に分散配合された無機材料強化粒子及びウイスカ
ーと、から構成されており、上記無機材料強化粒子の平
均粒径が3〜70μmであり、その配合率が5〜65容
量%であり、上記ウイスカーが、径0.3〜1μm、長
さ10〜70μm、アスペクト比10〜100であり、
その配合率が5〜30容量%であり、無機材料強化粒子
及びウイスカーの合計配合率が10〜70容量%であ
る、ことを特徴とする光造形簡易型。
1. A photocurable resin comprising: a photocurable resin; and inorganic material-reinforced particles and whiskers dispersed and mixed in the photocurable resin, wherein the inorganic material-reinforced particles have an average particle size of 3 to 3. 70 μm, the compounding ratio is 5 to 65% by volume, and the whisker has a diameter of 0.3 to 1 μm, a length of 10 to 70 μm, and an aspect ratio of 10 to 100,
The stereolithography simple type, wherein the compounding ratio is 5 to 30% by volume, and the total compounding ratio of the inorganic material-reinforced particles and the whiskers is 10 to 70% by volume.
【請求項2】 上記強化粒子又はウィスカーが、アミノ
シラン、エポキシシラン、アクリルシランの少なくとも
1種以上のシランカップリング剤で表面処理されたもの
である請求項記載の光造形簡易型。
Wherein the reinforcing particles or whiskers, aminosilane, epoxysilane, claim 1 stereolithography simplified according those which are surface treated with at least one or more kinds of silane coupling agents of acrylic silanes.
【請求項3】 型の形状データを構築する工程と、未硬
化の光硬化樹脂を階層的に配置する工程と、上記型の形
状データを用いて選択された部位にある光硬化樹脂層を
選択的に露光する工程と、を含むことを特徴とする請求
項1又は2記載の光造形簡易型の製造方法。
3. A step of constructing the shape data of the mold, a step of arranging the uncured photocurable resin in a hierarchical manner, and selecting the photocurable resin layer at the site selected using the shape data of the mold. 3. The method of manufacturing a stereolithography simple type according to claim 1, further comprising:
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